CN113952106A - 一种控制蜡饼厚度的灌注方法 - Google Patents
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Abstract
一种控制蜡饼厚度的灌注方法，即蜡块在熔蜡箱内先熔化为液态、经循环泵进入内循环管路，控制单元控制电磁阀的开合，电磁阀打开后，蜡液经蜡液分流装置灌注至蜡盘。电磁阀的开合，可实现间歇式蜡液灌注，以控制蜡饼厚度。
Description
技术领域
本发明具体涉及医疗器械技术领域，具体来说特别涉及一种控制蜡饼厚度的灌注方法。
背景技术
现代医疗中，蜡饼疗法是一种常见的理疗手段。通过温热包裹效应，有止痛，消肿，消炎等疗效，还可以治疗关节炎、风湿痛等多种疾病，或用于皮肤保养美容。
在进行治疗的过程中首先需将石蜡溶解，然后通过蜡液分流装置制成温度适宜、厚度均匀的蜡饼，同时可以制作5-30块蜡饼。
目前蜡液灌注一般采用若干个电磁阀控制，高压蜡液通过蜡液分配装置一次性灌注到每个蜡盘系统中。
这种蜡液灌注方法存在以下缺陷：
（1）蜡饼厚度不均匀，极易出现蜡饼高温溏心现象，极易烫伤患者或操作者；
（2）控制软件编写复杂（控制若干个电磁阀一次性灌注，极易造成蜡液溢盘现象）；
（3）蜡饼生产效率低（不合格蜡饼需返回熔蜡箱熔化后重复制蜡饼过程，消耗更多的时间，影响效率）；
（4）蜡饼制作时间长（蜡液灌注后制作温度适宜的蜡饼过程中，冷却需要消耗大量时间）。
发明内容
本发明的目的是在于提供一种控制蜡饼厚度的灌注方法。
熔蜡箱1可将蜡块熔化为蜡液，控制单元2可控制电磁阀4的开合，循环泵3可为蜡液灌注提供动力，电磁阀4可调节灌注蜡液的时间及灌注蜡液的总质量，蜡液分流装置5可将蜡液均匀分流到每个蜡盘系统，蜡盘系统6可用于灌注蜡液制作蜡饼的容器。
本发明主要有以下特点：
（1）间歇式可控厚度的蜡液灌注方法可使蜡饼厚度均匀，避免出现蜡饼高温溏心现象，造成烫伤患者或操作者；
（2）由单片机或PLC控制单元控制电磁阀开合，实现多次间歇式蜡液灌注，间歇时间可设定，软件控制简单；
（3）可避免厚度不合格蜡饼需返回熔蜡箱熔化后重复制蜡饼过程，消耗更多的时间，影响效率，提高蜡饼生产效率；
（4）蜡饼生产时间短（间歇式蜡液灌注的方法，可控制多次灌注，间歇时间内利于蜡饼冷却到适宜温度）。
附图说明
图1为本发明的立体视图。
附图标记：1、熔蜡箱；2、控制单元；3、循环泵；4、电磁阀；5、蜡液分流装置；6、蜡盘系统。
具体实施方式
本发明公开了一种控制蜡饼厚度的灌注方法，本领域技术人员可以借鉴本文内容，适当改进工艺参数。需要特别指出的是，所有类似的替换和改动对本领域技术人员来说是显而易见的，它们都被视为包括在本发明，并且相关领域技术人员明显能在不脱离本发明内容、精神和范围的基础上对本文所述内容进行改动或适当变更与组合，来实现和应用本发明技术。
在本发明中，除非另有说明，否则本文中使用的科学和技术名词具有本领域技术人员所通常理解的含义。
参考图1，该一种控制蜡饼厚度的灌注方法，主要由熔蜡箱1、控制单元2、循环泵3、电磁阀4、蜡液分流装置5、蜡盘系统6构成。其中，熔蜡箱1可将蜡块熔化为蜡液，控制单元2可控制电磁阀4的开合，循环泵3可为蜡液灌注提供动力，电磁阀4可调节灌注蜡液的时间及灌注蜡液的总质量，蜡液分流装置5可将蜡液均匀分流到蜡盘系统6的每个蜡盘中，蜡盘系统6为蜡盘的集合，蜡盘为灌注蜡液制作蜡饼的容器。
蜡盘系统6中可放置多个蜡盘。蜡液分流装置5的数量可根据蜡盘数量进行逐一匹配，即蜡液分流装置5的数量与蜡盘数量一致。
启动间歇式可控制蜡盘系统蜡液灌注厚度的蜡疗机后，将发生以下现象：
（1）蜡块在熔蜡箱1内熔化至蜡液状态；
（2）蜡液经循环泵3进入管路内循环，循环泵3为蜡液循环和灌注提供动力；
（3）电磁阀4为常闭状态，控制单元2控制电磁阀4开启，管路内循环的蜡液经蜡液分流装置5灌注到蜡盘系统6的蜡盘内；
（4）控制单元2控制电磁阀4开合，根据蜡饼厚度要求，实现一次或多次间歇式蜡液灌注，间歇时间可设定值为0.1秒至1800秒，设定为0.1秒至1800秒内的某一定值；
（5）控制单元2控制电磁阀4开合，根据蜡饼厚度要求，实现一次或多次间歇式蜡液灌注，每次灌注厚度可控制在1mm至40mm，设定为1mm至40mm内的某一定值；
（6）控制单元2控制电磁阀4开合，根据蜡饼厚度要求，设置总灌注厚度，总灌注厚度在2mm至40mm，可设定为2mm至40mm内的某一定值。
本实施方法中的1-6步骤，可以根据所需的蜡饼厚度及温度，对控制单元2的参数设定进行调整，实现一次或多次间歇式蜡液灌注，控制蜡饼的厚度，并且在灌注的间歇时间内利于蜡饼冷却到适宜温度。相比较目前较普遍采用的一次性灌注，蜡液厚度不好控制及厚度过大、冷却时间长、易出现溏心等缺陷，本发明可有效控制蜡饼厚度、缩短制作蜡饼的时间，整体提升制作蜡饼的质量，提高制作蜡饼的效率。
以上所述的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施方式而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种控制蜡饼厚度的灌注方法，即蜡块在熔蜡箱内先熔化为液态、经循环泵进入内循环管路，控制单元控制电磁阀的开合，电磁阀打开后，蜡液经蜡液分流装置灌注至蜡盘，电磁阀的开合，可实现间歇式蜡液灌注，以控制蜡饼厚度。
2.根据权利要求1所述的控制单元，可为单片机或PLC。
3.根据权利要求1所述的控制单元，可设置间歇时间、每次灌注厚度、总灌注厚度。
4.根据权利要求3所述的间歇时间，可设定值为0.1秒至1800秒，可设定为0.1秒至1800秒内的某一定值。
5.根据权利要求3所述的每次灌注厚度，可设定值在1mm至40mm，可设定为1mm至40mm内的某一定值，实现多次间歇式蜡液灌注。
6.根据权利要求3所述的总灌注厚度，可设定值在2mm至40mm，可设定为2mm至40mm内的某一定值。
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