CN113857012B - 一种便于空气排除的光照处理系统 - Google Patents

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    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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    • B05D3/06Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
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Abstract

本发明属于半导体生产行业,尤其涉及一种便于空气排除的光照处理系统,所述便于空气排除的光照处理系统包括输送装置、罩壳以及控制模块;所述罩壳设置于输送装置的上方,所述罩壳内沿输送装置的输送方向依次设置有第一风帘、第二风帘以及灯箱,所述第一风帘与所述第二风帘之间、第二风帘与所述灯箱之间均设置有用于检测气体成份的传感器;所述控制模块用于根据传感器的检测结果控制所述第二风帘的气量。本发明通过设置第一风帘以及第二风帘,并设置了传感器,可以通过检测风帘后侧的空气的成份或者含量控制后续后帘的风量,从而更有效地排除空气,使光照反应更为稳定可靠。

Description

一种便于空气排除的光照处理系统
技术领域
本发明属于半导体生产行业,尤其涉及一种便于空气排除的光照处理系统。
背景技术
在半导体行业、显示模组生产行业以及高档木地板生产行业,需要用到光照处理以实现粘合固化或者进行表面处理等。
光照处理通常采用具有高能量的光波,利用光波照射产生的能量使被照射对象发生化学反应。此时,需要隔绝空气,以防止空气中的活性气体参与反应,生成非目标物质。
现有技术中,通常仅仅依靠灯箱通入惰性气体形成气氛保护,这种方式的可靠性不高,无法充分地排净反应区域内的空气,需要解决。
发明内容
本发明实施例的目的在于提供一种便于空气排除的光照处理系统,旨在解决现有技术空气排除不够彻底的问题。
本发明实施例是这样实现的,一种便于空气排除的光照处理系统,所述便于空气排除的光照处理系统包括输送装置、罩壳以及控制模块;
所述罩壳设置于输送装置的上方,所述罩壳内沿输送装置的输送方向依次设置有第一风帘、第二风帘以及灯箱,所述第一风帘与所述第二风帘之间、第二风帘与所述灯箱之间均设置有用于检测气体成份的传感器;
所述控制模块用于根据传感器的检测结果控制所述第二风帘的气量。
本发明实施例提供的便于空气排除的光照处理系统通过设置第一风帘以及第二风帘,并在第一风帘与第二风帘之间设置了传感器,可以通过检测风帘后侧的空气的成份或者含量控制后续后帘的风量,从而更有效地排除空气,使光照反应更为稳定可靠。
附图说明
图1为本发明实施例提供的便于空气排除的光照处理系统的正视结构示意图;
图2为本发明实施例提供的便于空气排除的光照处理系统的俯视结构示意图;
图3为本发明实施例提供的便于空气排除的照射装置的结构图;
图4为本发明实施例中便于空气排除的照射装置的隔层俯视图。
图中:1-灯箱,21-第一风帘,22-第二风帘,23-第三风帘,3-输送装置,4-传感器,5-外壳,6-壳体,7-进气管,8-隔层,9-出气口,10-康达孔,11-灯管,12-固定块。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
以下结合具体实施例对本发明的具体实现进行详细描述。
如图1-2所示,本发明实施例提供了一种便于空气排除的光照处理系统,包括输送装置3、罩壳以及控制模块;
所述罩壳设置于输送装置3的上方,所述罩壳内沿输送装置3的输送方向依次设置有第一风帘21、第二风帘22以及灯箱1,所述第一风帘21与所述第二风帘22之间、第二风帘22与所述灯箱1之间均设置有用于检测气体成份的传感器4;
所述控制模块用于根据传感器4的检测结果控制所述第二风帘22的气量。
在本发明实施例中,罩壳设置于输送装置3上方,输送装置3穿过罩壳;作为进一步的优先方案,罩壳采用封闭式结构,两端设置有容输送装置3穿过的开口。输送装置3具体可以是传送带等。
在本发明实施例中,风帘是将风机的出风口连接条状的风嘴实现的,经过风嘴后,吹出的风形成帘幕状,用于隔离风帘前后的空气流动。在本发明实施例中,第一风帘21可选地设置于罩壳的入口处,用于阻止外部空气进入到罩壳内;第二风帘22设置于罩壳内部,在该位置,罩壳开设有通槽,第二风帘22吹出的风通过该通槽吹向外界,第二风帘22可以将罩壳内部分为前后两个区域,由于第二风帘22的存在,前后两个区域之间的空气不相互流通,同时外界空气也无法通过通槽进入到罩壳内部,使罩壳内部形成一个相对外界空气较为封闭的区域。相对于仅设置一个风帘,本发明进一步减少了第一风帘21与第二风帘22之间的区域的空气含量,同时也减少了零件通过该区域时将空气带入光照区域的问题,实现了空气的二级排除。进一步地,本发明通过检测经过第一风帘21之后的气体的成份及其含量,控制第二风帘22(或者第一风帘21和第二风帘22)的风量,从而使空气排除更为彻底有效。其中,气体成份以及含量的检测属于现有技术,本发明实施例对此不再赘述。
在本发明实施例中,需要说明的是,图1、2仅仅示出了各结构的大致位置关系,并代表各个部分的之间的真实连接关系,具体以说明书的描述为准。
本发明实施例提供的便于空气排除的光照处理系统通过设置第一风帘21以及第二风帘22,并在第一风帘21与第二风帘22之间设置了传感器4,可以通过检测风帘后侧的空气的成份或者含量控制后续后帘的风量,从而更有效地排除空气,使光照反应更为稳定可靠。
在本发明一个实施例中,还包括第三风帘23,所述第三风帘23设置于罩壳内,位于所述灯箱1之后。
在本发明实施例中,作为另一种可选的具体实现方式,第三风帘23设置于罩壳的出口位置,用于阻止空气从罩壳的出口进入到罩壳内部。
在本发明一个实施例中,所述传感器4沿所述输送装置3的宽度方向设置有若干个。
在本发明实施例中,将传感器4沿输送装置3的宽度方向设置若干个,可以实现多点检测,多点检测之后,可以根据多点检测的平均值确定出风量控制,也可以根据多点检测的最高值进行风量控制。
在本发明一个实施例中,所述灯箱1包括外壳5以及设置于外壳5内的隔层8;
所述隔层8将所述外壳5内的空间划分为第一腔室以及第二腔室;
所述第一腔室内设置有壳体6,所述壳体6与所述隔层8之间形成缓存腔,所述缓存腔设置有进气口,进气口通过进气管7与气源连接;所述隔层8上设置有连通缓存腔与第二腔室的出气口9和康达孔10;
所述第二腔室与外界连通,第二腔室内设置有灯管11。
在本发明实施例中,外壳5可以设置为箱式结构,可以参考图3所示,图3所示为装置的横向截面。外壳5的还应包括一个开放端,即图3所示的下侧。在外壳5内,设置有隔层8,隔层8的顶面位于外壳5高度方向的中部,壳体6设置于隔层8的顶面上,与隔层8的顶面密封连接。壳体6与隔层8之间形成缓存腔,惰性气体进入缓存腔之后,将缓存腔内的空气排出,使缓存腔内充满惰性气体。
在本发明实施例中,如图3所示,缓存腔设置有进气口,用于将惰性气体通入缓存腔内;缓存腔通过设置于隔层8上的出气口9以及康达孔10进入到第二腔室,设置康达孔10利用康达效应,便于缓存腔内的空气更快排出。
在本明实施例中,灯箱1通入惰性气体的量可以根据第二风帘22与灯箱1之间的传感器4的检测结构进行调控。
本发明实施例提供的便于空气排除的照射装置通过设置第一腔室以及第二腔室,并在第一腔室内设置缓存腔,可以减小外界环境对缓存腔的影响,便于排空缓存腔内的空气,减少了惰性气体的使用,减少了空气排空的耗时,高效可靠。
在本发明一个实施例中,所述壳体6内壁呈圆弧形,所述隔层8在所述缓存腔内的壁面为平面;
所述出气口9呈细长的狭缝,所述出气口9位于所述缓存腔的对称中心位置;
所述第二腔室的内壁为弧形面,所述出气口9位于弧形面的对称面上。
在本发明实施例中,将壳体6内壁设置为圆弧形,可以减小缓存腔内的边角,使空气更易于排出;将隔层8设置为平面,可以引导空气进入康达孔10以及出气口9。缓存腔内的空气可以由上而下,沿着壳体6的弧形壁面向下流动,并从两侧向中心汇集,而后从出气口9排出;将出气口9设置为狭缝形,可以使空气在如图所示的平面区域内流动,减少空气在图所示深度方向的流动,从而使空气更快地排出,减少惰性气体的使用量。
在本发明实施例中,第二腔室的内壁为弧形面,该弧形面在图所示的深度方向上延伸,形成柱状弧形面,出气口9的中心面与该弧形面的对称面重合。惰性气体从出气口9进入到第二腔室后,沿着第二腔室的弧形面从两侧向外界流动,使灯管11处于惰性气体的围绕之中,形成气体保护。
如图4所示,在本发明一个实施例中,所述康达孔10设置有两排,分别位于所述出气口9的两侧;
所述康达孔10的顶部边缘设置有一圈高于隔层8表面的凸起,该凸起的外缘与隔层8表面相切,内缘与康达孔10内壁面相切。
在本发明实施例中,空气在隔层8顶部(即缓存腔底部)由两侧向中部流动过程中,设置康达孔10可以便于空气更均匀地排出。进一步地,康达孔10的底部与第二腔室连通,与第二腔室的壁面之间设置有倒角,从而使康达孔10的内壁与第二腔室壁面相切连接。
在本发明一个实施例中,所述进气口设置于进气管7上,进气管7沿缓存腔的深度方向设置,进气管7的轴线与缓存腔顶部的距离处处相等;
所述进气口设置为狭缝状,位于所述进气管7的顶部,背向所述出气口9。
在本发明实施例中,通过进气管7进气,可以使进入缓存腔的气体更为均匀,同时也便于惰性气体将缓存腔内的空气均匀的排出。
在本发明一个实施例中,位于所述第一腔室内、缓存腔的外侧,设置有加热装置,用于缓存腔内气体的预热。
在本发明实施例中,设置加热装置可以对惰性气体进行预热,从而减小惰性气体对灯管11能量的吸收;将加热装置设置于缓存腔之外,可以减少缓存腔内的死角,便于空气的排出。
在本发明一个实施例中,所述灯管11为圆管状结构,所述灯管11的轴线位于所述第二腔室的对称面上;
由内向外,第二腔室的内壁面与灯管11轴线的距离逐渐增大。
在本发明实施例中,这种设置可以减少惰性气体的使用量,灯管11的顶部外界空气较难进入,第二腔室的内壁面与灯管11轴线的距离逐较小,可以增加气体的流动速度,减小气体的停留,使更多的气体主要处于灯管11下侧,用于隔离外界空气与灯管11。并且,这种设置,可以利用气体的流动自动形成围绕灯管11的气氛,便于灯管11照射区域的保护。
在本发明一个实施例中,所述外壳5上设置有固定块12,所述固定块12与升降装置连接。
在本发明实施例中,装置通过固定块12安装固定,固定块12上可以设置连接孔用于与升降装置连接固定。升降装置具体可以为升降气缸,升降油缸等,通过升降,可以使灯管11以及惰性气体形成的气氛更靠近产品;当产品需要向前传送时,使升降装置上升,不影响产品的移动。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种便于空气排除的光照处理系统,其特征在于,所述便于空气排除的光照处理系统包括输送装置、罩壳以及控制模块;
所述罩壳设置于输送装置的上方,所述罩壳内沿输送装置的输送方向依次设置有第一风帘、第二风帘以及灯箱,所述第一风帘与所述第二风帘之间、第二风帘与所述灯箱之间均设置有用于检测气体成份的传感器;
所述控制模块用于根据传感器的检测结果控制所述第二风帘的气量;
所述灯箱包括外壳以及设置于外壳内的隔层;
所述隔层将所述外壳内的空间划分为第一腔室以及第二腔室;
所述第一腔室内设置有壳体,所述壳体与所述隔层之间形成缓存腔,所述缓存腔设置有进气口,进气口通过进气管与气源连接;所述隔层上设置有连通缓存腔与第二腔室的出气口和康达孔;
所述第二腔室与外界连通,第二腔室内设置有灯管;
所述壳体内壁呈圆弧形,所述隔层在所述缓存腔内的壁面为平面;
所述出气口呈细长的狭缝,所述出气口位于所述缓存腔的对称中心位置;
所述第二腔室的内壁为弧形面,所述出气口位于弧形面的对称面上;
所述康达孔设置有两排,分别位于所述出气口的两侧;
所述康达孔的顶部边缘设置有一圈高于隔层表面的凸起,该凸起的外缘与隔层表面相切,内缘与康达孔内壁面相切;
所述进气口设置于进气管上,进气管沿缓存腔的深度方向设置,进气管的轴线与缓存腔顶部的距离处处相等;
所述进气口设置为狭缝状,位于所述进气管的顶部,背向所述出气口;
所述灯管为圆管状结构,所述灯管的轴线位于所述第二腔室的对称面上;
由内向外,第二腔室的内壁面与灯管轴线的距离逐渐增大。
2.根据权利要求1所述的便于空气排除的光照处理系统,其特征在于,还包括第三风帘,所述第三风帘设置于罩壳内,位于所述灯箱之后。
3.根据权利要求1所述的便于空气排除的光照处理系统,其特征在于,所述传感器沿所述输送装置的宽度方向设置有若干个。
4.根据权利要求1所述的便于空气排除的光照处理系统,其特征在于,位于所述第一腔室内、缓存腔的外侧,设置有加热装置,用于缓存腔内气体的预热。
5.根据权利要求1所述的便于空气排除的光照处理系统,其特征在于,所述外壳上设置有固定块,所述固定块与升降装置连接。
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