CN113856972A - 一种uv全息镭射专版定位膜压机涂布装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，包括镭射膜涂布装置，镭射膜涂布装置包括传输机、涂布机体、引导机构、压轮整平机构、膜面除尘器和非接触表面干燥器，传输机包括输送机体和安装于输送机体中部的涂布箱，涂布箱的内部安装有对称安装有两组转动辊，涂布机体安装于两组转动辊之间，涂布机体由L型机架、涂料容器、输料管、泵和涂布头组成，涂布通气安装于L型机架的正下方且通过输料管与泵相连接，泵的出料口通过管道与涂布头相连接，涂布头安装于L型机架的下端，引导机构由两组引导轮组成。本发明设计的镭射膜涂布装置具有高集成、自动化程度和智能化程度高的优点，保证镭射膜膜面的涂布效率和效果。

Description

一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置
技术领域
本发明涉及涂布设备技术领域，具体为一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置。
背景技术
镭射膜一般采用计算机点阵光刻技术、3D真彩色全息技术、多重与动态成像技术等，从产品成分构成上划分，镭射薄膜产品可以大致分为OPP镭射膜、PET镭射膜和PVC镭射膜三种，然后利用复合、烫印、转移等方式使商品包装表面获得某种激光镭射效果，镭射膜在生产的过程中需要通过涂布机对镭射膜的表面进行涂布处理，涂布机主要用于薄膜、纸张等的表面涂布工艺生产，此机是将成卷的基材涂上一层特定功能的胶、涂料或油墨等，并烘干后收卷，它采用专用的多功能涂布头，能实现多种形式的表面涂布产生，涂布机的收放卷均配置全速自动接膜机构，PLC程序张力闭环自动控制。
然而，现有的用于镭射膜用涂布装置在使用的过程中存在以下的问题：(1)镭射膜在传输的过程中膜的表面有时会出现褶皱或者不齐整的情况，直接进行涂布容易在膜的表面产生细小的涂布缺失，影响产品的质量；(2)现有的镭射膜用涂布装置的结构较为简单，在涂布过程中对于膜表面的处理效果较差，并且设备的自动化和智能化程度不高。为此，需要设计相应的技术方案解决存在的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，解决了镭射膜在传输的过程中膜的表面有时会出现褶皱或者不齐整的情况，直接进行涂布容易在膜的表面产生细小的涂布缺失，影响产品的质量，这一技术问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，包括镭射膜涂布装置，所述镭射膜涂布装置包括传输机、涂布机体、引导机构、压轮整平机构、膜面除尘器和非接触表面干燥器，所述传输机包括输送机体和安装于输送机体中部的涂布箱，所述涂布箱的内部安装有对称安装有两组转动辊，所述涂布机体安装于两组转动辊之间，所述涂布机体由L型机架、涂料容器、输料管、泵和涂布头组成，所述涂布通气安装于L型机架的正下方且通过输料管与泵相连接，所述泵的出料口通过管道与涂布头相连接，所述涂布头安装于L型机架的下端，所述引导机构由两组引导轮组成，两组所述引导轮分别位于涂布头的两侧且上端与涂布机体相连接，所述压轮整平机构安装于泵的一侧且配合位于右侧的所述涂布头使用，所述膜面除尘器安装于压轮整平机构的上方，所述非接触表面干燥器安装于L型机架的左下角且底面与涂布头的末端齐平。
作为本发明的一种优选实施方式，所述引导轮包括对称设置的两组支撑板和安装于两组支撑板之间的主辊，所述主辊的表面呈平滑状结构。
作为本发明的一种优选实施方式，所述压轮整平机构由顶板、挤压弹簧、转动板、连接杆和压辊组成，所述顶板安装于泵的上端且下方通过挤压弹簧与转动板相连接，所述转动板的内端与泵转动连接且外端与连接杆相连接，所述连接杆呈倾斜状设置且末端与压辊相连接。
作为本发明的一种优选实施方式，所述压辊位于引导轮的正上方且与引导轮之间形成有导膜槽口，所述导膜槽口的的高度等于镭射膜的厚度。
作为本发明的一种优选实施方式，所述膜面除尘器包括风机和配合风机使用的清洁喷头，所述风机安装于L型机架的左下角且位于非接触表面干燥器的上方，所述风机通过输气管连接有集气盒，所述集气盒内嵌于转动板内且通过输气管与清洁喷头相连接，所述清洁喷头安装于转动板的下方且出气口正对导膜槽口。
作为本发明的一种优选实施方式，所述非接触表面干燥器包括配电箱和通过线路与配电箱相连接的双层烘干板，所述双层烘干板位于镭射膜的正上方。
作为本发明的一种优选实施方式，所述双层烘干板包括安装于配电箱底部的隔热板和位于隔热板下方的电加热板，所述隔热板的下端与电加热板之间对称安装有两组调节螺栓。
作为本发明的一种优选实施方式，所述电加热板的下表面呈平滑状结构且与镭射膜的上表面形成有间隙。
与现有技术相比，本发明的有益效果如下：
1.本发明设计了一种专门用于镭射膜进行表层涂布的涂布装置，该涂布装置包括传输机、涂布机体、引导机构、压轮整平机构、膜面除尘器和非接触表面干燥器，通过传输机对镭射膜进行传到处理，并通过引导机构将镭射膜引导至涂布机体的正下方并在引导的过程中利用压轮整平机构以及膜面除尘器对镭射膜的表面进行整平以及除尘处理，保证膜面的齐整度和清洁度，利用涂布机体底部的涂布头对膜面进行涂布处理，避免在涂布的过程中膜面出现死角的可能性，提高产品的合格率，最后利用非接触表面干燥器对涂布层进行烘干处理，以完成成品的制作，此外将引导机构、压轮整平机构、膜面除尘器和非接触表面干燥器集成于涂布机体上，可以提高装置的集成度，提高镭射膜涂布的效率。
2.本发明设计的镭射膜涂布装置具有高集成、自动化程度和智能化程度高的优点，保证镭射膜膜面的涂布效率和效果。
附图说明
图1为本发明的整体结构图；
图2为本发明所述镭射膜涂布装置结构图；
图3为本发明所述喷涂头结构图；
图4为本发明的局部A结构图；
图5为本发明所述局部B结构图。
图中:1、传输机；2、涂布机体；3、引导机构；4、压轮整平机构；5、膜面除尘器；6、非接触表面干燥器；7、输送机体；8、涂布箱；9、转动辊；10、L型机架；11、涂料容器；12、输料管；13、泵；14、涂布头；15、引导轮；16、支撑板；17、主辊；18、顶板；19、挤压弹簧；20、转动板；21、连接杆；22、压辊；23、导膜槽口；24、风机；25、清洁喷头；26、集气盒；27、配电箱；28、隔热板；29、电加热板；30、调节螺栓。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-5，本发明提供一种技术方案：一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，包括镭射膜涂布装置，镭射膜涂布装置包括传输机1、涂布机体2、引导机构3、压轮整平机构4、膜面除尘器5和非接触表面干燥器6，传输机1包括输送机体7和安装于输送机体7中部的涂布箱8，涂布箱8的内部安装有对称安装有两组转动辊9，涂布机体2安装于两组转动辊9之间，涂布机体2由L型机架10、涂料容器11、输料管12、泵13和涂布头14组成，涂布通气安装于L型机架10的正下方且通过输料管12与泵13相连接，泵13的出料口通过管道与涂布头14相连接，涂布头14安装于L型机架10的下端，涂布头14的下端呈倒V型结构，如图4所示，引导机构3由两组引导轮15组成，两组引导轮15分别位于涂布头14的两侧且上端与涂布机体2相连接，压轮整平机构4安装于泵13的一侧且配合位于右侧的涂布头14使用，膜面除尘器5安装于压轮整平机构4的上方，非接触表面干燥器6安装于L型机架10的左下角且底面与涂布头14的末端齐平。
引导轮15包括对称设置的两组支撑板16和安装于两组支撑板16之间的主辊17，主辊17的表面呈平滑状结构。
实施例2，如图5，本实施例的技术方案为安装在上述镭射膜涂布装置上的压轮整平机构4，压轮整平机构4由顶板18、挤压弹簧19、转动板20、连接杆21和压辊22组成，顶板18安装于泵13的上端且下方通过挤压弹簧19与转动板20相连接，转动板20的内端与泵13转动连接且外端与连接杆21相连接，连接杆21呈倾斜状设置且末端与压辊22相连接，通过挤压弹簧19挤压转动板20，转动板20抵触压辊22并通过压辊22对下方的镭射膜进行整平处理。
压辊22位于引导轮15的正上方且与引导轮15之间形成有导膜槽口23，导膜槽口23的的高度等于镭射膜的厚度，通过压辊22对镭射膜进行整平处理。
实施例3，如图1，本实施例的技术方案为安装在上述镭射膜涂布装置上的膜面除尘器5，膜面除尘器5包括风机24和配合风机24使用的清洁喷头25，风机24安装于L型机架10的左下角且位于非接触表面干燥器6的上方，风机24通过输气管连接有集气盒26，集气盒26内嵌于转动板20内且通过输气管与清洁喷头25相连接，清洁喷头25安装于转动板20的下方且出气口正对导膜槽口23，通过风机24将气流引导至集气箱26并通过集气箱26将气流引导至清洁喷头25上，通过清洁喷头25对下方的镭射膜的表面进行清洁处理。
实施例4，如图1，本实施例的技术方案为安装在上述镭射膜涂布装置上的非接触表面干燥器6，非接触表面干燥器6包括配电箱27和通过线路与配电箱27相连接的双层烘干板，双层烘干板位于镭射膜的正上方，通过配电箱27供电双层烘干板，并通过双层烘干板通电烘干镭射膜。
双层烘干板包括安装于配电箱27底部的隔热板28和位于隔热板28下方的电加热板29，隔热板28的下端与电加热板29之间对称安装有两组调节螺栓30，通过隔热板28减小电加热板29的热量影响到上方的设备。
具体地，电加热板29的下表面呈平滑状结构且与镭射膜的上表面形成有间隙，避免电加热板29与镭射膜直接接触，可以有效的避免热量过大而损坏镭射膜。
在使用时：本发明设计了一种专门用于镭射膜进行表层涂布的涂布装置，该涂布装置包括传输机1、涂布机体2、引导机构3、压轮整平机构4、膜面除尘器5和非接触表面干燥器6，通过传输机1对镭射膜进行传到处理，并通过引导机构3将镭射膜引导至涂布机体2的正下方并在引导的过程中利用压轮整平机构4以及膜面除尘器5对镭射膜的表面进行整平以及除尘处理，保证膜面的齐整度和清洁度，利用涂布机体2底部的涂布头14对膜面进行涂布处理，避免在涂布的过程中膜面出现死角的可能性，提高产品的合格率，最后利用非接触表面干燥器6对涂布层进行烘干处理，以完成成品的制作，此外将引导机构3、压轮整平机构4、膜面除尘器5和非接触表面干燥器6集成于涂布机体2上，可以提高装置的集成度，提高镭射膜涂布的效率。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，包括镭射膜涂布装置，其特征在于：所述镭射膜涂布装置包括传输机(1)、涂布机体(2)、引导机构(3)、压轮整平机构(4)、膜面除尘器(5)和非接触表面干燥器(6)，所述传输机(1)包括输送机体(7)和安装于输送机体(7)中部的涂布箱(8)，所述涂布箱(8)的内部安装有对称安装有两组转动辊(9)，所述涂布机体(2)安装于两组转动辊(9)之间，所述涂布机体(2)由L型机架(10)、涂料容器(11)、输料管(12)、泵(13)和涂布头(14)组成，所述涂布通气安装于L型机架(10)的正下方且通过输料管(12)与泵(13)相连接，所述泵(13)的出料口通过管道与涂布头(14)相连接，所述涂布头(14)安装于L型机架(10)的下端，所述引导机构(3)由两组引导轮(15)组成，两组所述引导轮(15)分别位于涂布头(14)的两侧且上端与涂布机体(2)相连接，所述压轮整平机构(4)安装于泵(13)的一侧且配合位于右侧的所述涂布头(14)使用，所述膜面除尘器(5)安装于压轮整平机构(4)的上方，所述非接触表面干燥器(6)安装于L型机架(10)的左下角且底面与涂布头(14)的末端齐平。
2.根据权利要求1所述的一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，其特征在于：所述引导轮(15)包括对称设置的两组支撑板(16)和安装于两组支撑板(16)之间的主辊(17)，所述主辊(17)的表面呈平滑状结构。
3.根据权利要求1所述的一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，其特征在于：所述压轮整平机构(4)由顶板(18)、挤压弹簧(19)、转动板(20)、连接杆(21)和压辊(22)组成，所述顶板(18)安装于泵(13)的上端且下方通过挤压弹簧(19)与转动板(20)相连接，所述转动板(20)的内端与泵(13)转动连接且外端与连接杆(21)相连接，所述连接杆(21)呈倾斜状设置且末端与压辊(22)相连接。
4.根据权利要求2所述的一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，其特征在于：所述压辊(22)位于引导轮(15)的正上方且与引导轮(15)之间形成有导膜槽口(23)，所述导膜槽口(23)的的高度等于镭射膜的厚度。
5.根据权利要求1所述的一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，其特征在于：所述膜面除尘器(5)包括风机(24)和配合风机(24)使用的清洁喷头(25)，所述风机(24)安装于L型机架(10)的左下角且位于非接触表面干燥器(6)的上方，所述风机(24)通过输气管连接有集气盒(26)，所述集气盒(26)内嵌于转动板(20)内且通过输气管与清洁喷头(25)相连接，所述清洁喷头(25)安装于转动板(20)的下方且出气口正对导膜槽口(23)。
6.根据权利要求5所述的一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，其特征在于：所述非接触表面干燥器(6)包括配电箱(27)和通过线路与配电箱(27)相连接的双层烘干板，所述双层烘干板位于镭射膜的正上方。
7.根据权利要求6所述的一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，其特征在于：所述双层烘干板包括安装于配电箱(27)底部的隔热板(28)和位于隔热板(28)下方的电加热板(29)，所述隔热板(28)的下端与电加热板(29)之间对称安装有两组调节螺栓(30)。
8.根据权利要求7所述的一种UV全息镭射专版定位膜压机涂布装置，其特征在于：所述电加热板(29)的下表面呈平滑状结构且与镭射膜的上表面形成有间隙。
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
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RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20211231

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