CN113835300A - 双面曝光设备及曝光装置 - Google Patents

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CN113835300A
CN113835300A CN202010577840.XA CN202010577840A CN113835300A CN 113835300 A CN113835300 A CN 113835300A CN 202010577840 A CN202010577840 A CN 202010577840A CN 113835300 A CN113835300 A CN 113835300A
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China
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阮文兴
吕俊贤
尹作均
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Zhisheng Technology Guangzhou Co Ltd
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
    • G03F7/2032—Simultaneous exposure of the front side and the backside

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明涉及一种双面曝光设备及曝光装置。所述双面曝光设备包含曝光装置以及对应于所述曝光装置设置的输送装置，所述曝光装置包含曝光腔室、传输机构以及两个台框。所述曝光腔室包含有间隔设置的上曝光机构与下曝光机构，所述传输机构分别位于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外，两个所述台框安装于所述传输机构且每个所述台框的相反两侧分别设置有两个底片。所述输送装置包含入料模块、出料模块以及移载模块。所述出料模块沿产线方向与所述入料模块间隔设置。通过所述上曝光机构、所述下曝光机构、以及所述传输机构，所述台框仅需在单一腔室内外移动，使原有曝光时间缩短为至少一半。

Description

双面曝光设备及曝光装置
技术领域
本发明涉及一种曝光设备，特别是涉及一种双面曝光设备及曝光装置。
背景技术
现有的曝光设备是将对位装置与曝光装置安置于不同的区域，例如是将曝光装置设置于工作腔室内，而将对位装置设置于工作腔室外，且现有的曝光设备单次仅能对一印刷电路板的单面进行曝光。因此，现有的曝光设备是先通过对位装置进行台框及工件的对位作业，而后才将台框及工件移动至工作腔室内并对印刷电路板的单面进行曝光。
然而，若要对印刷电路板进行双面曝光，由于现有的曝光设备一次仅能曝光单面印刷电路板，导致现有的曝光设备需要进行多次的对位以及曝光作业。是以，现有的曝光设备构造及其运作方式已无形中降低整体制程的作业效率。于是，本发明人认为上述缺陷可改善，乃特潜心研究并配合科学原理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本发明。
发明内容
本发明实施例在于提供一种双面曝光设备及曝光装置，其用以改善现有的曝光设备需要进行多次的对位以及曝光作业的问题。
本发明的其中一个实施例公开一种双面曝光设备，其包括一曝光装置，所述曝光装置包含有：一曝光腔室，其内包含有：间隔设置的一上曝光机构与一下曝光机构；一传输机构，其分别位在所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外；及两个台框，安装于所述传输机构。其中，每个所述台框能通过所述传输机构而于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外反复地移动，并且两个所述台框分别位于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外；其中，每个所述台框的相反两侧分别设置有两个底片；以及一输送装置，对应于所述曝光装置设置，并且所述输送装置包含有：一入料模块，用以供一待曝光电路板位于一预定位置上；一出料模块，沿一产线方向与所述入料模块间隔设置，并且所述入料模块与所述出料模块之间定义有一移载区域；其中，位于所述曝光腔室之外的所述台框位在所述移载区域；及一移载模块，用以将位于所述预定位置的所述待曝光电路板移动至位于所述移载区域的所述台框的两个所述底片之间；其中，所述传输机构能将位于所述移载区域且设置有所述待曝光电路板的所述台框传输至所述上曝光机构与所述下曝光机构之间，以使所述待曝光电路板能够被所述上曝光机构与所述下曝光机构同步进行曝光作业。
优选地，每个所述台框包含有一固定框体及枢接于所述固定框体的一活动框体；于每个所述台框中，所述固定框体与所述活动框体分别安装两个所述底片，并且所述固定框体与所述活动框体用以放置所述待曝光电路板。
优选地，于每个所述台框中，所述固定框体包含有位于相反侧的一第一侧边与一第二侧边，所述固定框体的所述第一侧边枢接于所述活动框体，并且所述固定框体于所述第二侧边设置有用来插接于所述活动框体的多个导引件。
优选地，每个所述台框能通过所述传输机构而沿一作业方向反复地移动，并且所述作业方向垂直所述产线方向，以使所述作业方向与所述产线方向共同构成一T字形动线。
优选地，所述传输机构包含有相互平行的两个轨道组，并且每个所述轨道组分别位在所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外，而两个所述台框分别安装于两个所述轨道组。
优选地，所述移载模块能用来沿着垂直所述作业方向与所述产线方向的一高度方向来吸取所述待曝光电路板，并且所述移载模块能用来沿着所述产线方向而将所述待曝光电路板移动至位于所述移载区域的所述台框。
优选地，所述入料模块包含有平行地排列的多个抛光滚筒及用来驱动多个所述抛光滚筒的一磁力驱动机构，每个所述抛光滚筒的长轴方向垂直于所述产线方向，并且多个所述抛光滚筒能通过所述磁力驱动机构的驱动而用以传输所述待曝光电路板。
优选地，所述入料模块包含有邻近所述移载区域的一前靠整板机构及一沿着所述产线方向设置的一侧靠整板机构，并且多个所述抛光滚筒用来移动所述待曝光电路板以致抵靠于所述前靠整板机构与所述侧靠整板机构而位在所述预定位置。
本发明的其中一个实施例公开一种曝光装置，其包括：一曝光腔室，其内包含有间隔设置的一上曝光机构与一下曝光机构；一传输机构，其分别位在所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外；以及两个台框，安装于所述传输机构；其中，每个所述台框能通过所述传输机构而于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外反复地移动；每个所述台框的相反两侧分别设置有两个底片，并且每个所述台框于两个所述底片之间用以供一待曝光电路板设置；其中，当任一个所述台框位于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间时，其内的所述待曝光电路板能够被所述上曝光机构与所述下曝光机构同步进行曝光作业。
优选地，所述传输机构包含有相互平行的两个轨道组，并且每个所述轨道组分别位在所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外，而两个所述台框分别安装于两个所述轨道组。
本发明的其中一有益效果在于，本发明所提供的双面曝光设备及曝光装置能通过“所述曝光腔室的所述上曝光机构以及所述下曝光机构同时对所述待曝光电路板进行双面曝光”以及“借由所述传输机构将两个台框轮流送进所述曝光腔室中”的技术方案，使所述台框仅需于单一腔室内外移动，并使原有曝光时间缩短为至少一半，同时有效降低能源使用量，并且有效减少两次曝光的间隔时间，大量提升曝光制程的效率。
为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与图式，然而所提供的图式仅用于提供参考与说明，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
图1为本发明实施例的双面曝光设备的立体示意图。
图2为本发明实施例的曝光装置的立体示意图。
图3为本发明实施例的传输机构的立体示意图。
图4为本发明实施例的台框的立体示意图。
图5为本发明实施例的入料模块的立体示意图。
图6为本发明实施例的移载模块的俯视示意图(未绘示线性马达)。
图7为本发明实施例的移载模块准备移动待曝光电路板的前视示意图。
图8为本发明实施例的出料模块的部分分解示意图。
具体实施方式
以下是通过特定的具体实施例来说明本发明所公开有关“双面曝光设备及曝光装置”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本发明的优点与效果。本发明可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不背离本发明的构思下进行各种修改与变更。另外，本发明的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘，事先声明。以下的实施方式将进一步详细说明本发明的相关技术内容，但所公开的内容并非用以限制本发明的保护范围。另外，本文中所使用的术语“或”，应视实际情况可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。
请参阅图1至图8所示，其为本发明的实施例，需先说明的是，本实施例对应附图所提及的相关数量与外形，仅用来具体地说明本发明的实施方式，以便于了解本发明的内容，而非用来局限本发明的保护范围。
如图1及图2所示，本发明实施例公开一种双面曝光设备100，其包括一曝光装置1以及配合所述曝光装置1的一输送装置2。需额外说明的是，所述曝光装置1于本实施例中是以搭配于上述输送装置2来说明，但在本发明未绘示的其他实施例中，所述曝光装置1也可以是单独地应用(如：售卖)或是搭配其他装置使用。
所述曝光装置1包含有一曝光腔室11、一传输机构12、及两个台框13。其中，所述曝光腔室11的内部包含有间隔设置的一上曝光机构111与一下曝光机构112。所述上曝光机构111与所述下曝光机构112于本实施例中各包含多个可发出紫外光的发光二极管(未绘示)，其可对一底片200(如：图4)进行扫描式曝光，并借由其照度进行智能化侦测补偿，使所述发光二极管的光照能量可以保持高均匀度，但本发明不以此为限。
所述上曝光机构111与所述下曝光机构112设置于所述曝光腔室11内，所述上曝光机构111与所述下曝光机构112之间有一间隔空间113，所述间隔空间113为开放式空间且可容纳两个所述台框13(为方便说明，图1及图2中的两个所述台框13分别位于所述间隔空间113的内部与外部)以及所述传输机构12。其中，所述上曝光机构111与所述下曝光机构112的结构于本实施例中大致相同，但本发明并不以此为限。举例来说，在本发明其他未绘示的实施例中，所述上曝光机构111与所述下曝光机构112的结构也可以并不相同。
如图1以及图3所示，所述传输机构12分别位在所述上曝光机构111与所述下曝光机构112之间及所述曝光腔室11之外；也就是说，所述传输机构12的一部分位于所述上曝光机构111与所述下曝光机构112之间，而所述传输机构12的另一部分位于所述曝光腔室11之外。所述传输机构12包含有相互平行的两个轨道组121、122、多个滑块123(为方便说明，图3仅绘制一个所述滑块123)、以及一动力传动装置124。每个所述轨道组121、122是由间隔且相互平行的两条轨道组成。两个所述轨道组121、122的一部分分别位在所述上曝光机构111与所述下曝光机构112之间，并且两个所述轨道组121、122的另一部分位在所述曝光腔室11之外。为方便描述两个轨道组121、122的结构，于本实施例中，两个轨道组121、122被定义为一上轨道组121以及一下轨道组122以方便说明。
所述上轨道组121与所述下轨道组122设置于所述间隔空间113中相对于所述上曝光机构111与下曝光机构112的左右两侧，而所述上轨道组121位于所述下轨道组122的上方，所述上轨道组121相对于所述下轨道组122更加邻近于所述间隔空间113的左右两侧。所述上轨道组121与所述下轨道组122各具有一延伸部1211、1221，并且每个所述延伸部1211、1221位于所述间隔空间113外。
多个所述滑块123分别设置于所述上轨道组121与所述下轨道组122上。多个所述滑块123可在所述上轨道组121以及所述下轨道组122上滑动，而多个所述滑块123的数量于本实施例中为双数且至少有四个以上，但本发明不受限于此。
所述动力传动装置124相较于所述上轨道组121与所述下轨道组122，其更加邻近所述间隔空间113的左右两侧的其中一侧(为方便说明，图3中的所述动力传动装置124是设置于所述间隔空间113左侧)，所述动力传动装置124用以提供动力使所述滑块123移动。其中，所述动力传动装置124例如是一线性马达1241、一皮带1242、及两个时规皮带轮1243(图3中仅示出一个所述时规皮带轮1243)。
如图4所示，每个所述台框13包含有一固定框体131、一活动框体132、一开框机构133、以及一板偏侦测装置。所述固定框体131通过所述开框机构133枢接于所述活动框体132，所述对位模块与所述板偏侦测装置设置于所述固定框体131上，所述对位模块为CCD影像对位系统，但本发明不限于此。所述板偏侦测装置可有效避免曝光时所述待曝光电路板300偏离位置造成电路板退洗的状况。需要说明的是，为方便描述所述台框13的其他组件，所述板偏侦测装置于图4中并未绘示。
所述固定框体131包含有位于相反侧的一第一侧边1311与一第二侧边1312、及连接所述第一侧边1311和所述第二侧边1312且彼此相互平行的一第三侧边1313与一第四侧边1314。所述固定框体131的所述第一侧边1311枢接于所述活动框体132，而本实施例是以所述开框机构133同时连接于所述固定框体131的所述第一侧边1311与所述活动框体132。所述固定框体131于所述第二侧边1312设置有用来插接于所述活动框体132的多个导引件1315，所述导引件1315采用压缩弹簧线性衬套式导椎组，可有效提高重复作业时的精准度。其中，所述导引件1315的数量于本实施例中为两个，但本发明并不以此为限。
进一步地说，于每个所述台框13中，所述固定框体131与所述活动框体132各安装一个所述底片200，并且所述固定框体131与所述活动框体132之间可放置一待曝光电路板300。此外，所述台框13采用斜开框以提升操作人员更换或清洁所述底片200的便利性。也就是说，当所述台框13处于开启状态时，所述活动框体132相对于所述固定框体131立起，当所述台框13处于关闭状态时，所述固定框体131可与所述活动框体132彼此相合紧贴。进一步地说，当所述固定框体131与所述活动框体132放置所述待曝光电路板300时，两个所述底片200位于所述待曝光电路板300的相对两侧。所述多个导引件1315插接于所述活动框体132，使所述固定框体131与所述活动框体132相互对位且较不容易因外力而被轻易打开。
如图1所示，两个所述台框13安装于所述传输机构12上。具体来说，两个所述台框13分别安装于所述上轨道组121以及所述下轨道组122上的多个所述滑块123。更详细地说，一个所述台框13的所述第三侧边1313与所述第四侧边1314分别安装在所述传输机构12的所述上轨道组121的两条间隔且相互平行的所述轨道上的多个所述滑块123，另一个所述台框13的所述第三侧边1313与所述第四侧边1314分别安装在所述传输机构12的所述下轨道组122的两条间隔且相互平行的所述轨道上的多个所述滑块123，但本发明不以此为限。
每个所述台框13能通过所述传输机构12而于所述上曝光机构111与所述下曝光机构112之间(也就是，间隔空间113)及所述曝光腔室11之外反复地移动，并且两个所述台框13分别位于所述上曝光机构111与所述下曝光机构112之间(也就是，间隔空间113)及所述曝光腔室11之外。所述动力传动装置124可被驱动来带动位于所述上轨道组121与下轨道组122上的多个所述滑块123，而位于多个所述滑块123上的两个所述台框13则可依设计需求于所述间隔空间113与所述曝光腔室11外反复地移动。
当所述双面曝光设备100进行曝光时，一个所述台框13将会被送进所述间隔空间113中并借由所述上曝光机构111与所述下曝光机构112进行双面曝光，另一个所述台框13则位于所述上轨道组121或所述下轨道组122的所述延伸部1211、1221，以等待前一个所述台框13曝光结束并移出后，立即进入所述间隔空间113进行双面曝光。
如图1所示，所述输送装置2邻近设置于所述曝光装置1，所述输送装置2包含有一入料模块21、一出料模块22、以及一移载模块23。所述出料模块22沿一产线方向P与所述入料模块21间隔设置。更详细地说，所述输送装置2由左至右依次分别为所述入料模块21以及所述出料模块22，且上述由左而右的顺序方向同时也为所述输送装置2的所述产线方向P，所述移载模块23则位于所述入料模块21与所述出料模块22远离所述曝光装置1的一侧。但本发明并不以此为限，所述入料模块21与所述出料模块22的位置顺序可以依需求进行调整。
如图1及图3所示，所述入料模块21与所述出料模块22之间定义有一移载区域A。其中，位于所述曝光腔室11之外的所述台框13位在所述移载区域A。更详细地说，当所述台框13经由所述传输机构12的所述上轨道组121或所述下轨道组122从所述曝光腔室11移出时，所述台框将被移动至所述上轨道组121或所述下轨道组122的所述延伸部1211、1221并被设置于所述移载区域A。也就是说，所述延伸部1211、1221位于所述移载区域A。
如图5所示，所述入料模块21用以供所述待曝光电路板300(图未示)位于一预定位置B上。所述入料模块21包含有平行地排列的多个抛光滚筒211及用来驱动多个所述抛光滚筒211的一磁力驱动机构(图未绘)。所述抛光滚筒211具有一长轴方向L。此外，所述抛光滚筒211由不锈钢制成且经抛光处理，因此所述抛光滚筒211容易清洁，能有效防止所述待曝光电路板300经过所述入料模块21时被油膜或灰尘反沾导致后续解析不良的问题。于本实施例中，多个所述抛光滚筒211形成一传输路径T，所述传输路径T的长度为950～1100公厘(mm)，但本发明并不以此为限；也就是说，所述传输路径T的长度可依需求进行调整。
所述磁力驱动机构包含多个磁力环(图未绘)。借由所述磁力驱动机构的驱动，多个所述抛光滚筒211可被用以传输所述待曝光电路板300。更详细地说，当所述磁力驱动机构通电产生磁力时，多个所述磁力环被磁力驱动并开始滚动，同时一并带动多个所述抛光滚筒211滚动，因此，所述待曝光电路板300被多个所述抛光滚筒211滚动而沿所述产线方向P移动。所述入料模块21借由所述磁力环取代传统时规皮带带动皮带轮的设计，使所述待曝光电路板300在输送时不会接触到从传统时规皮带产生的尘源。
如图1及图5所示，所述入料模块21还包含有邻近所述移载区域A的一前靠整板机构212(如图7所示，所述前靠整板机构212位于所述移载区域A的左侧)及沿着所述产线方向P设置的一侧靠整板机构213。更详细地说，所述前靠整板机构212包含有多个凸柱且被平行间隔地邻近设置于所述入料模块21中相对靠近所述移载区域A的所述抛光滚筒211旁。所述侧靠整板机构213也同样包含有多个凸柱，且其被平行间隔地邻近设置于多个所述抛光滚筒211沿所述长轴方向L的两端旁。具体来说，以两个所述抛光滚筒211以及一个所述侧靠整板机构213的凸柱为例，所述凸柱设置于两个所述抛光滚筒211的相对接近的两端之间，并且上述两端分别属于不同的两个所述抛光滚筒211。
当所述待曝光电路板300于多个所述抛光滚筒211上移动时，所述待曝光电路板300抵靠于所述前靠整板机构212与所述侧靠整板机构213而被定位在所述预定位置B。也就是说，所述待曝光电路板300可借由所述前靠整板机构212与所述侧靠整板机构213精准定位以利下一制程进行。
如图6所示，所述移载模块23主要具有一线性马达(图未示)以及一移载吸盘231。所述线性马达提供动力以驱动所述移载模块23，所述移载吸盘231可进行上下移动的升降作业并吸取所述待曝光电路板300。其中，所述移载吸盘231于本实施例中可适用于10公厘(mm)×12公厘(mm)～24.5公厘(mm)×32公厘(mm)区间任何尺寸的印刷电路板，但本发明不以此为限。为方便说明，所述线性马达于图6中并未绘示，以方便理解。
如图1及图7所示，所述移载模块23用以将位于所述预定位置B的所述待曝光电路板300(图未示)移动至位于所述移载区域A的所述台框13的两个所述底片200(图未示)之间。更详细地说，所述移载模块23沿着垂直所述作业方向W与所述产线方向P的一高度方向H来吸取所述待曝光电路板300。其中，所述作业方向W垂直所述产线方向P。更详细地说，所述作业方向W与Y轴方向平行，所述产线方向P与X轴方向平行，所述高度方向H与Z轴方向平行。其中，所述X轴方向、所述Y轴方向、以及所述Z轴方向彼此相互垂直。具体来说，所述移载模块23的所述移载吸盘231将位于所述预定位置B的所述待曝光电路板300吸起后，所述移载模块23就沿所述产线方向P将所述移载吸盘231移动至所述移载区域A，并将所述待曝光电路板300置入所述台框13中。
当所述待曝光电路板300置于所述台框13中后，所述台框13的所述固定框体131与所述活动框体132相合固定，所述台框13随后被送入所述间隔空间113中进行双面曝光。曝光结束后，所述台框133被所述传输机构112移动至所述移载区域A并打开，所述移载模块23会将已曝光电路板从所述台框13中取出并将其移动到所述出料模块22，而后所述移载模块23则再回到所述预定位置B等待吸取下一片所述待曝光电路板300。已相合固定的每个所述台框13能通过所述传输机构12而沿所述作业方向W反复地移动，以使所述作业方向W与所述产线方向P共同构成一T字形动线。
如图8所示，所述出料模块22主要具有一支撑板221、多个转动轴222、以及多个滚轮223。需要说明的是，由于所述出料模块22并非本发明的改良处，所以于图8中仅绘示上述主要组件以方便说明。所述支撑板221具有多个开孔2211且所述支撑板221相对设置于多个所述转动轴222上方，多个所述转动轴222为长条滚筒，且所述单一转动轴222穿过多个所述滚轮223的中心线，所述滚轮223为橡皮材质且其尺寸略小于所述支撑板221的所述开孔2211，但本发明并不以此为限；举例来说，在本发明未绘示的其他实施例中，所述滚轮223也可以由其他具有弹性的材料制成。
多个所述转动轴222彼此间隔平行并设置于所述支撑板221下方，每个所述转动轴222的长轴方向于本实施例中平行于任一个所述抛光滚筒211的长轴方向L。多个所述滚轮223分别对应设置于所述支撑板221的多个所述开孔2211中。当所述滚轮223经由所述转动轴222转动而滚动时，位于所述出料模块22上的待移动对象(如：已曝光的电路板)会被所述滚轮223带动并沿所述产线方向P移动。
[实施例的有益效果]
本发明的其中一有益效果在于，本发明所提供的双面曝光设备及曝光装置能通过“所述曝光腔室的所述上曝光机构以及所述下曝光机构同时对所述待曝光电路板进行双面曝光”以及“借由所述传输机构将两个台框轮流送进所述曝光腔室中”的技术方案，使所述台框仅需于单一腔室内外移动，并使原有曝光时间缩短为至少一半，同时有效降低能源使用量，并且有效减少两次曝光的间隔时间，大量提升曝光制程的效率。
更进一步来说，现有的曝光设备在进行电路板曝光的制程中，由于一次仅能曝光单面电路板，导致现有的曝光设备需要进行多次的对位以及曝光作业。因此产生现有曝光设备作业效率低落的问题。为解决上述问题，本发明所提供的双面曝光设备及曝光装置通过在所述入料模块中设置所述前靠整板机构以及所述侧靠整板机构，使所述待曝光电路板位于所述预定位置，而后所述移载模块就能精准吸取所述待曝光电路板，有效解决多次对位的问题。
以上所公开的内容仅为本发明的优选可行实施例，并非因此局限本发明的申请专利范围，所以凡是运用本发明说明书及图式内容所做的等效技术变化，均包含于本发明的申请专利范围内。

Claims (10)

1.一种双面曝光设备，其特征在于，所述双面曝光设备包括：
曝光装置，包含有：
曝光腔室，其内包含有间隔设置的上曝光机构与下曝光机构；
传输机构，其分别位于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外；及
两个台框，安装于所述传输机构；其中，每个所述台框能通过所述传输机构而在所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外反复地移动，并且两个所述台框分别位于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外；其中，每个所述台框的相反两侧分别设置有两个底片；以及
输送装置，对应于所述曝光装置设置，并且所述输送装置包含有：
入料模块，用以供待曝光电路板位于预定位置上；
出料模块，沿产线方向与所述入料模块间隔设置，并且所述入料模块与所述出料模块之间定义有移载区域；其中，位于所述曝光腔室之外的所述台框位于所述移载区域；及
移载模块，用以将位于所述预定位置的所述待曝光电路板移动至位于所述移载区域的所述台框的两个所述底片之间；
其中，所述传输机构能将位于所述移载区域且设置有所述待曝光电路板的所述台框传输至所述上曝光机构与所述下曝光机构之间，以使所述待曝光电路板能够被所述上曝光机构与所述下曝光机构同步进行曝光作业。
2.根据权利要求1所述的双面曝光设备，其特征在于，每个所述台框包含有固定框体及枢接于所述固定框体的活动框体；在每个所述台框中，所述固定框体与所述活动框体分别安装两个所述底片，并且所述固定框体与所述活动框体用以放置所述待曝光电路板。
3.根据权利要求2所述的双面曝光设备，其特征在于，在每个所述台框中，所述固定框体包含有位于相反侧的第一侧边与第二侧边，所述固定框体的所述第一侧边枢接于所述活动框体，并且所述固定框体在所述第二侧边设置有用来插接于所述活动框体的多个导引件。
4.根据权利要求1所述的双面曝光设备，其特征在于，每个所述台框能通过所述传输机构而沿作业方向反复地移动，并且所述作业方向垂直所述产线方向，以使所述作业方向与所述产线方向共同构成T字形动线。
5.根据权利要求4所述的双面曝光设备，其特征在于，所述传输机构包含有相互平行的两个轨道组，并且每个所述轨道组分别位于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外，而两个所述台框分别安装于两个所述轨道组。
6.根据权利要求4所述的双面曝光设备，其特征在于，所述移载模块能用来沿着垂直所述作业方向与所述产线方向的高度方向来吸取所述待曝光电路板，并且所述移载模块能用来沿着所述产线方向而将所述待曝光电路板移动至位于所述移载区域的所述台框。
7.根据权利要求1所述的双面曝光设备，其特征在于，所述入料模块包含有平行地排列的多个抛光滚筒及用来驱动多个所述抛光滚筒的磁力驱动机构，每个所述抛光滚筒的长轴方向垂直于所述产线方向，并且多个所述抛光滚筒能通过所述磁力驱动机构的驱动而用以传输所述待曝光电路板。
8.根据权利要求7所述的双面曝光设备，其特征在于，所述入料模块包含有邻近所述移载区域的前靠整板机构及沿着所述产线方向设置的侧靠整板机构，并且多个所述抛光滚筒用来移动所述待曝光电路板以致抵靠于所述前靠整板机构与所述侧靠整板机构而位于所述预定位置。
9.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包括：
曝光腔室，其内包含有间隔设置的上曝光机构与下曝光机构；
传输机构，其分别位于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外；以及
两个台框，安装于所述传输机构；其中，每个所述台框能通过所述传输机构而在所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外反复地移动；每个所述台框的相反两侧分别设置有两个底片，并且每个所述台框于两个所述底片之间用以供待曝光电路板设置；
其中，当任一个所述台框位于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间时，其内的所述待曝光电路板能够被所述上曝光机构与所述下曝光机构同步进行曝光作业。
10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，所述传输机构包含有相互平行的两个轨道组，并且每个所述轨道组分别位于所述上曝光机构与所述下曝光机构之间及所述曝光腔室之外，而两个所述台框分别安装于两个所述轨道组。
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