CN113787744B - 一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法 - Google Patents

Abstract

本发明属于光电技术领域，尤其是一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，针对现有的光学反射膜反射率较低的问题，现提出如下方案，其包括以下步骤：S1、母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统；S2、干燥后进入熔融挤出系统进行成型；S3、成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理；S4、电晕处理后的薄膜使用正面涂层装置进行正面涂层，同时还进行反面涂层，本发明取代了之前的双相泡孔结构，不仅增加了泡孔的数量，还进一步改善了纳微材料与聚酯界面相容性，提升了泡孔在基体中的分散性，从而能有效增加光线进入薄膜后折射和反射的次数，使反射膜的反射率达到了99%以上。

Description

一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法

技术领域

本发明涉及光电技术领域，尤其涉及一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法。

背景技术

发射膜是LCD背光源模组构成材料的一部分，位于背光膜组的底部，其作用是将透过挡光板漏到下面的光线再反射回去，重新回到面板侧，从而达到减少光损失，增加光亮度的作用。而白色反射膜表面呈微细的凹凸结构，使光线发生多个方向的反射，也就是扩散反射，扩散反射是白色反射膜主要的反射方式。对白色反射膜而言，光线除表面散射外，同时一部分光线折射进入薄膜介质中，薄膜内部由于有大量的填料和/或微泡，光线遇到这些异物又会发生反射，折射和再反射，尤其是微泡内介质的折射率1.0，光线在微泡的内表面将发生反射，及较大角度的折射。所有这些复杂的内部结构，都很好地阻止了光线不能顺利透过薄膜介质，进而改变光路反射回薄膜表面。

现有技术中，光学反射膜反射率较低，因此我们提出了一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，用来解决上述问题。

发明内容

本发明的目的是为了解决光学反射膜反射率较低的缺点，而提出的一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，包括以下步骤：

S1、母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统；

S2、干燥后进入熔融挤出系统进行成型；

S3、成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理；

S4、电晕处理后的薄膜使用正面涂层装置进行正面涂层，同时还进行反面涂层；

S5、涂层后的基膜热风干燥，干燥后再涂覆保护膜层；

S6、涂覆保护膜层后的基膜再进行固化，使低分子量的涂层迅速转变成高分子量的涂层，最后基膜经过测厚、在线检测后收卷包装。

优选的，所述正面涂层装置包括涂布压辊、刮刀、上分流器、流液管道、容器、液位传感器、过滤网、电磁阀、机架、流量传感器、涂布辊、橡胶辊，涂布压辊和涂布辊之间设有聚酯薄膜，涂布辊、橡胶辊、上分流器、容器、涂布压辊安装在机架上，流液导管与容器连接，电磁阀安装在流液管道上，液位传感器与过滤网安装于容器内，所述反面涂层时需要用到逗号涂布刮刀、下分流器和下橡胶辊，所述上分流器底部排列着大小均匀的小孔，上分流器与流量传感器连接，且上分流器与刮刀和涂布辊相连，所述下分流器与下涂布压辊和下橡胶辊相连，所述涂布辊、橡胶辊、上分流器、涂布压辊连接在一起，所述基膜热风干燥在涂布机烘道内进行，涂布机烘道包括导向轮、温度传感器、热风干燥装置、紫外线UV固化装置、横拉系统，导向轮和横拉系统上设有涂层基膜，温度传感器设于热风干燥装置上。

优选的，所述母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统，干燥系统设置温度为140-160℃，干燥后进入熔融挤出系统，该系统各区域设置温度为140-255℃，其中机头设置温度为255℃，成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理，电晕处理设置电压范围在10000-21000V之间，输出功率范围10-60kW，频率调节范围10-25kHz，极间隙控制在1.5-3mm。

优选的，所述涂层时需要用到涂布液，涂布液的配方如下：聚酯丙烯酸酯水溶体30份、纳米硅溶液20份、流平剂15份、光引发剂15份、发光粒子10份、乙醇7份、PH调节剂3份，所述发光粒子为荧光粉、镁粒子、铜粒子、银粒子、铝粒子、铬粒子、钯粒子中的一种或几种。

优选的，所述涂布液配置方法如下：在容器中，搅拌下加入聚酯丙烯酸酯水溶液30份、纳米硅溶液20份、乙醇7份，搅拌10分钟后，再滴加PH调节剂，使酯丙烯酸酯溶液PH=8.5-9.5之间，搅拌下再加入流平剂10份、光引发剂10份，再次滴加PH调节剂，使得PH=8.5-9.5之间，再搅拌5分钟，加入发光粒子后搅拌5分钟，即制得聚酯涂布液。

优选的，涂层后的基膜热风干燥，热风温度控制在85-110℃。

优选的，所述母料与辅料比例为90：10，母料分子量为2.1-3.2万，相对密度1.35-1.38，透光率≥88%，吸水率≤0.58%，母料用PET树脂，辅料用三氧化二铝、氧化锌、硫酸钡、氧化膜、滑石粉中的一种或几种，

优选的，所述正面涂层具体步骤如下：生产线运行，电晕后的聚酯薄膜按设定的速度运行，涂布速度为18-20m/min，按配比混合后搅拌制成的涂布液注入容器中，涂布液达到一定的液位后，液位传感器发出信号，安装在流液管道上的电磁阀打开，涂布液经过过滤网、流液管道进入上分流器，上分流器排列着大小均匀的小孔，分流器的流液大小均匀有流量传感器控制，上分流器均匀地把涂布液喷涂布辊上，在运行的聚酯薄膜上，刮刀采用气动和微调机构来调节和控制刮刀位置，涂布辊与聚酯薄膜运行的方向相同，而涂布压辊的运转方向与聚酯薄膜的前进方向相反，涂布液经过涂布压辊后，在薄膜表面形成涂布层，涂布层的厚度经过流量传感器控制。

与现有技术相比，本发明的优点在于：

本发明取代了之前的双相泡孔结构，不仅增加了泡孔的数量，还进一步改善了纳微材料与聚酯界面相容性，提升了泡孔在基体中的分散性，从而能有效增加光线进入薄膜后折射和反射的次数，使反射膜的反射率达到了99%以上，与传统的同类型产品反射率指标相比具有一定的优势。

附图说明

图1为一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法的正面涂层装置的结构图；

图2为正面涂层装置的A-A剖面图；

图3为一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法的反面涂层示意图；

图4为涂布机烘道结构；

图5为反射膜增加微泡粒子图；

图6为反射膜增加金属粒子图；

图7为微棱镜型反光膜结构图。

图中：1涂布压辊、2聚酯薄膜、3刮刀、4上分流器、5流液管道、6容器、7液位传感器、8过滤网、9电磁阀、10机架、11流量传感器、12涂布辊、13橡胶辊、14导向轮、15涂层基膜、16温度传感器、17热风干燥装置、18紫外线UV固化装置、19横拉系统、20逗号涂布刮刀、21下分流器、22下橡胶辊、23下涂布压辊、201微泡介质、202金属镀层、211反射膜。

实施方式

下面将结合本实施例中的附图，对本实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实施例一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-7，一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，包括以下步骤：

S1、母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统；

S2、干燥后进入熔融挤出系统进行成型；

S3、成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理，电晕处理使薄膜张力大大提高利于润湿，而且表面粗糙度也大大提高；

S4、电晕处理后的薄膜使用正面涂层装置进行正面涂层，同时还进行反面涂层，下分流器21均匀地把涂布液喷涂布辊上，逗号涂布刮刀20使涂布液均匀附着在基膜上，下橡胶辊22使涂层平整光滑、厚度均匀，这时在运行中的涂布辊12在反面涂布中起到了压辊的作用，在涂布过程中实施检测涂层厚度，通过自动调整涂布辊的包角，增大或减小涂布辊与薄膜的接触面积，或通过调整涂布辊的转速，来调整涂层厚度；同时也可以检测涂布表观质量，在涂布生产中，由于涂布辊部分位置未能将涂布液转移到薄膜，造成漏涂以及其它表观质量，可以采用辅助电位器稍作修正，其次是控制涂布张力，来实现涂层质量上的控制，提高涂布效率；

S5、涂层后的基膜热风干燥，干燥后再涂覆保护膜层；

S6、涂覆保护膜层后的基膜再进行固化，使低分子量的涂层迅速转变成高分子量的涂层，最后基膜经过测厚、在线检测后收卷包装。

本实施例中，正面涂层装置包括涂布压辊1、刮刀3、上分流器4、流液管道5、容器6、液位传感器7、过滤网8、电磁阀9、机架10、流量传感器11、涂布辊12、橡胶辊13，涂布压辊1和涂布辊12之间设有聚酯薄膜2，涂布辊12、橡胶辊13、上分流器4、容器6、涂布压辊1安装在机架10上，流液导管5与容器6连接，电磁阀9安装在流液管道5上，液位传感器7与过滤网8安装于容器6内，反面涂层时需要用到逗号涂布刮刀20、下分流器21和下橡胶辊22，上分流器4底部排列着大小均匀的小孔，上分流器4与流量传感器11连接，且上分流器4与刮刀3和涂布辊12相连，下分流器21与下涂布压辊23和下橡胶辊22相连，涂布辊12、橡胶辊13、上分流器4、涂布压辊1连接在一起，基膜热风干燥在涂布机烘道内进行，涂布机烘道包括导向轮14、温度传感器16、热风干燥装置17、紫外线UV固化装置18、横拉系统19，导向轮14和横拉系统19上设有涂层基膜15，温度传感器16设于热风干燥装置17上，刮刀3采用气动和微调机构来调节和控制刮刀位置，具有涂布量控制和刮胶精度高，涂布均匀的作用，橡胶辊13起到涂布后使涂层平整光滑、厚度均匀的作用。

本实施例中，所述母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统，干燥系统设置温度为140-160℃，干燥后进入熔融挤出系统，该系统各区域设置温度为140-255℃，其中机头设置温度为255℃，成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理，电晕处理设置电压范围在10000-21000V之间，输出功率范围10-60kW，频率调节范围10-25kHz，极间隙控制在1.5-3mm。

本实施例中，所述涂层时需要用到涂布液，涂布液的配方如下：聚酯丙烯酸酯水溶体30份、纳米硅溶液20份、流平剂15份、光引发剂15份、发光粒子10份、乙醇7份、PH调节剂3份，所述发光粒子为荧光粉、镁粒子、铜粒子、银粒子、铝粒子、铬粒子、钯粒子中的一种或几种，发光粒子涂膜后暴露于空气中，在各种环境下反射率会逐渐降低，因此在涂布基膜后，须再涂覆一层保护膜层，其保护膜层材料为乙醇与膜保护层材料，其质量比为5:1。其保护膜层材料为氟化镁、二氧化硅、氧化铝、碳酸钙、润滑油中的一种或几种。

干燥后再涂覆保护膜层，涂覆保护膜层后的基膜再进入紫外线UV固化装置，使低分子量的涂层迅速转变成高分子量的涂层；

技术指标：

厚度≤100um、拉伸强度（MD≥130MPa、TD≥130MPa）、断裂拉伸率（MD≥80%、TD≥80%）、热收缩率（85℃、30min,MD≤0.3%、TD≤0.2-0.3）、反射率≥99%。

本实施例中，所述涂布液配置方法如下：在容器中，搅拌下加入聚酯丙烯酸酯水溶液30份、纳米硅溶液20份、乙醇7份，搅拌10分钟后，再滴加PH调节剂，使酯丙烯酸酯溶液PH=8.5-9.5之间，搅拌下再加入流平剂10份、光引发剂10份，再次滴加PH调节剂，使得PH=8.5-9.5之间，再搅拌5分钟，加入发光粒子后搅拌5分钟，即制得聚酯涂布液。

本实施例中，涂层后的基膜热风干燥，热风温度控制在85-110℃。

本实施例中，所述母料与辅料比例为90：10，母料分子量为2.1-3.2万，相对密度1.35-1.38，透光率≥88%，吸水率≤0.58%，母料用PET树脂，辅料用三氧化二铝、氧化锌、硫酸钡、氧化膜、滑石粉中的一种或几种，

本实施例中，所述正面涂层具体步骤如下：生产线运行，电晕后的聚酯薄膜2按设定的速度运行。涂布速度为18-20m/min，按配比混合后搅拌制成的涂布液注入容器6中，涂布液达到一定的液位后，液位传感器7发出信号，安装在流液管道5上的电磁阀9打开，涂布液经过过滤网8、流液管道5进入上分流器4，上分流器4排列着大小均匀的小孔，分流器的流液大小均匀有流量传感器11控制，上分流器4均匀地把涂布液喷涂布辊12上，在运行的聚酯薄膜2上，刮刀3采用气动和微调机构来调节和控制刮刀位置，具有涂布量控制和刮胶精度高，涂布均匀的作用，橡胶辊13起到涂布后使涂层平整光滑、厚度均匀的作用，涂布辊12与聚酯薄膜2运行的方向相同，而涂布压辊1的运转方向与与薄膜的前进方向相反，涂布液经过涂布压辊1后，在薄膜表面形成涂布层，涂布层的厚度经过流量传感器11控制，涂层后的基膜进入热风干燥装置17，温度传感器16控制热风干燥装置17的温度，热风温度控制在85-110℃，干燥后再涂覆保护膜层，涂覆保护膜层后的基膜再进入紫外线UV固化装置18，使低分子量的涂层迅速转变成高分子量的涂层。

本实施例中，采用帘式涂布+接触刮刀式的涂布方法，采用一正一反的规格进行精密涂层，下层涂布采用逗号涂布辊（是刃刮刀与辊刮刀的组合）的涂布方式，涂层厚度容易调节，能够涂布高粘度的胶液，对涂层的均匀度主要在于该逗号涂布辊的全跳动、圆柱度和刃口直线度，逗号刮刀在初始阶段，其全跳动、圆柱度和刃口直线度通常能够得到保证，主要适用于胶液乱度大和单位面积涂布量大的涂布方式。

参照图5、6，在反射膜用基膜上镀层于微泡粒子，虽发生反射，但造成散射损耗，造成散射损耗的原因是多种多样的，首要的问题就是薄膜的成核和生长机理引起膜层微观结构的不均匀，从而会产生散射，借助于电子显微镜观察基膜断面的微观结构，其呈现非常明显的柱状，膜层内部充满空隙，而面变得凹凸不平，此外，基片表面的粗糙度及其缺陷，还有蒸发源喷溅的粒子、膜层中的微尘、裂纹和针孔等因素相互交叉构成复杂的散射模型，可以断定，散射是降低薄膜反射率的一个重要因素，

在202中把反射膜用基膜上涂覆于一层金属粒子，这样就取代了之前的双相泡孔结构，不仅增加了反射能量，还进一步改善了纳微材料与聚酯界面相容性，提升了粒子在基体中的分散性，从而能有效增加光线进入薄膜后折射和反射的次数，使反射膜的反射率达到了99%以上，有效提高了反射率。

一般金属粒子都具有较大的消光系数，当光束由空气入射到金属表面时，进入金属内的光振幅迅速衰减，使得进入金属内部的光能相应减少，而反射光能增加，消光系数越大，光振幅衰减越迅速，进入金属内部的光能越少，反射率越高，光学性质较稳定的那些金属作为金属膜材料，最常见的是铝粒子和银粒子，还有一些特种的膜材料如金、铜、铬、铂等，但由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能，所以必须用电介质膜加以保护，但金属反射膜的优点是制备工艺简单，工作的波长范围宽；缺点是光损大，反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高，可以在膜的外侧加镀金属粒子，组成金属反射膜。

在基膜上涂覆铝粒子

反射膜是用于把入射光能量大部分或几乎全部反射的光学元件，在有些光学系统中，要光学元件具有较高的反射本领，例如，激光器的反射镜要求对某种频率的单色光的反射率在90％以上。为了增强反射能量，常在玻璃表面镀一层高反射率的透明薄膜，利用其上下表面反射光的光程差满足干涉相长的条件，使反射光增强，金属膜有很高的反射率，吸收率也较高，而介质膜的不但反射率可以较高，还有较小的吸收率。

铝粒子具有很高反射率的材料，大约在波长0.80-0.90μm处反射率出现一极小值，其值为86%，铝膜对基板的附着力比较强、机械强度和化学稳定性也比较好，所以广泛用作反射膜，新沉积的铝膜暴露于常温大气后，表面立即形成一层非晶的高透明的氧化铝膜，这种膜既是碱性氧化物，又是酸性氧化物，是典型的两性氧化物，更是一种高硬度的化合物，这种涂膜在短时间内氧化物迅速生长到15-20，然后缓慢生长，一个月后达到50左右。对缓慢蒸发的铝膜，氧化物的厚度可以达到90um以上，氧化物的存在使铝膜的反射率下降，特别是波长小于200nm的区域，为此要用氟化镁膜作保护层，在可见光区，通常用SiO作为初始材料，蒸发得到硅的氧化物薄膜作为铝膜的保护膜，最佳的制备铝膜的条件：高纯铝(99.99%)；高真空中快速蒸发(80--100nm/s)；基板温度低于50℃，从涂层铝粒子膜的反射原理看，涂铝基膜具有吸热功能，尤其在建筑物热量交换中表现为三种方式：传导热+对流热，辐射热。据有关材料显示：金属膜有很高的反射率，吸收率也较高，而介质膜的不但反射率可以较高，还有较小的吸收率

在基膜上涂覆银粒子

在各种反射源情况看，尤其在可见光及红外波段内，银膜的反射率是所有已知材料中最高的。在可见光区和红外区，反射率分别达到95%和99%左右，但是，银膜的附着力差，机械强度和化学稳定性差，所以主要用于短期使用的零件。银膜在紫外区的反射率很低，在波长400nm开始下降，到300nm附近降到4%左右，当银膜暴露于空气中时反射率会逐渐降低，主要原因是表面形成的氧化银和硫化银，因此要在银膜上镀保护膜，保护层能适合各种环境下防止银膜氧化和降级。

参照图6，微棱镜反光膜应该属于增光膜，它可以把光线沿着入射光线的反方向反射回来，具有很高的逆反射性能，在TFT-LCD背光模块中能够提高整个背光系统发光效率的薄膜或薄片，利用增亮膜特殊的棱镜结构，通过折射、全反射、光积累等光学原理，可以使各方向的光线向中心视角集中，进而提升LCD面板的亮度和控制可视角度。微棱镜型反光膜的反光基本原理虽然简单,但制造技术却涉及材料学、光学、精密机械制造等多学科、高技术领域。但传统的棱镜型逆反光材料主要存在以下缺点：

(1)有效入射角小,当入射角大于20°时,由于全内反射现象消失,反光亮度几乎丧失殆尽。

(2)观察角小,即人在远处可以看到逆反射光,近处反而不行。

(3)由于反射单元的三侧面性质使逆向反射光锥有不合要求的不对称形状,结果从不同的扫描角来观察时,有不同的逆反射亮度。

解决这些问题的方法主要是依靠逆反射单元结构和阵列的设计,如变换3个平面的夹角大小,使其有一定分布,或将单元阵列按一定的规律排布，增加聚酯界面相容性，提升泡孔在基体中的分散性，有效增加光线进入薄膜后折射和反射的次数，使反射膜的反射率达到了99%以上。

反射膜，反射膜是LCD背光源模组构成材料的一部分，位于背光模组的最底部，在导光板的下面，其作用是将透过导光板漏到下面的光线再反射回去，重新回到面板侧，从而达到减少光损失。增加光亮度的作用。

在研发高反射率的聚酯基膜中，需要特殊的粒子结构与导光板的印刷点相匹配，不但能反射光，而且还要使反射光比较均匀，在产品的配方设计方面，利用超重力技术和微纳包裹技术相结合，通过超高分散技术创制出以有机与无机微纳材料为核、耐高温树脂为壳的具有椭球体泡孔结构的复合母料，继而成功研发出多相泡孔结构，取代了之前的双相泡孔结构，不仅增加了泡孔的数量，还进一步改善了纳微材料与聚酯界面相容性，提升了泡孔在基体中的分散性，从而能有效增加光线进入薄膜后折射和反射的次数，使反射膜的反射率达到了99%以上，与传统国际巨头的同类型产品反射率指标相比具有一定的优势。

以上所述，仅为本实施例较佳的具体实施方式，但本实施例的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实施例揭露的技术范围内，根据本实施例的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实施例的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统；

S2、干燥后进入熔融挤出系统进行成型；

S3、成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理；

S4、电晕处理后的薄膜使用正面涂层装置进行正面涂层，同时还进行反面涂层；

S5、涂层后的基膜热风干燥，干燥后再涂覆保护膜层；

S6、涂覆保护膜层后的基膜再进行固化，使低分子量的涂层迅速转变成高分子量的涂层，最后基膜经过测厚、在线检测后收卷包装；

所述正面涂层装置包括涂布压辊（1）、刮刀（3）、上分流器（4）、流液管道（5）、容器（6）、液位传感器（7）、过滤网（8）、电磁阀（9）、机架（10）、流量传感器（11）、涂布辊（12）、橡胶辊（13），涂布压辊（1）和涂布辊（12）之间设有聚酯薄膜（2），涂布辊（12）、橡胶辊（13）、上分流器（4）、容器（6）、涂布压辊（1）安装在机架（10）上，流液导管（5）与容器（6）连接，电磁阀（9）安装在流液管道（5）上，液位传感器（7）与过滤网（8）安装于容器（6）内，所述反面涂层时需要用到逗号涂布刮刀（20）、下分流器（21）和下橡胶辊（22），所述上分流器（4）底部排列着大小均匀的小孔，上分流器（4）与流量传感器（11）连接，且上分流器（4）与刮刀（3）和涂布辊（12）相连，所述下分流器（21）与下涂布压辊（23）和下橡胶辊（22）相连，所述涂布辊（12）、橡胶辊（13）、上分流器（4）、涂布压辊（1）连接在一起，所述基膜热风干燥在涂布机烘道内进行，涂布机烘道包括导向轮（14）、温度传感器（16）、热风干燥装置（17）、紫外线UV固化装置（18）、横拉系统（19），导向轮（14）和横拉系统（19）上设有涂层基膜（15），温度传感器（16）设于热风干燥装置（17）上。

2.根据权利要求1所述的一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，其特征在于，所述母料和辅料称重混合后，进入结晶干燥系统，干燥系统设置温度为140℃，干燥后进入熔融挤出系统，该系统各区域设置温度为140-255℃，其中机头设置温度为255℃，成型的基膜经预热、拉伸、定型、冷却进行纵向拉伸后进行电晕处理，电晕处理设置电压范围在10000-21000V之间，输出功率范围10-60kW，频率调节范围10-25kHz，极间隙控制在1.5-3mm。

3.根据权利要求1所述的一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，其特征在于，涂层时需要用到涂布液，涂布液的配方如下：聚酯丙烯酸酯水溶体30份、纳米硅溶液20份、流平剂15份、光引发剂15份、发光粒子10份、乙醇7份、PH调节剂3份，所述发光粒子为荧光粉、镁粒子、铜粒子、银粒子、铝粒子、铬粒子、钯粒子中的一种或几种。

4.根据权利要求3所述的一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，其特征在于，所述涂布液配置方法如下：在容器中，搅拌下加入聚酯丙烯酸酯水溶液30份、纳米硅溶液20份、乙醇7份，搅拌10分钟后，再滴加PH调节剂，使酯丙烯酸酯溶液PH=8.5-9.5之间，搅拌下再加入流平剂10份、光引发剂10份，再次滴加PH调节剂，使得PH=8.5-9.5之间，再搅拌5分钟，加入发光粒子后搅拌5分钟，即制得聚酯涂布液。

5.根据权利要求1所述的一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，其特征在于，涂层后的基膜热风干燥，热风温度控制在85-110℃。

6.根据权利要求1所述的一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，其特征在于，所述母料与辅料比例为90：10，母料分子量为2.1-3.2万，相对密度1.35-1.38，透光率≥88%，吸水率≤0.58%，母料用PET树脂，辅料用三氧化二铝、氧化锌、硫酸钡、氧化膜、滑石粉中的一种或几种。

7.根据权利要求1所述的一种具有高反射率的聚酯基膜的制程方法，其特征在于，正面涂层具体步骤如下：生产线运行，电晕后的聚酯薄膜（2）按设定的速度运行，涂布速度为18-20m/min，按配比混合后搅拌制成的涂布液注入容器（6）中，涂布液达到一定的液位后，液位传感器（7）发出信号，安装在流液管道（5）上的电磁阀（9）打开，涂布液经过过滤网（8）、流液管道（5）进入上分流器（4），上分流器（4）排列着大小均匀的小孔，分流器的流液大小均匀有流量传感器（11）控制，上分流器（4）均匀地把涂布液喷涂布辊（12）上，在运行的聚酯薄膜（2）上，刮刀（3）采用气动和微调机构来调节和控制刮刀位置，涂布辊（12）与聚酯薄膜（2）运行的方向相同，而涂布压辊（1）的运转方向与聚酯薄膜（2）的前进方向相反，涂布液经过涂布压辊（1）后，在薄膜表面形成涂布层，涂布层的厚度经过流量传感器（11）控制。