CN113758420A - 掩模版辅助静态图像测量装置及掩模版静态图像测量系统 - Google Patents

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Abstract

本发明属于尺寸测量技术领域,尤其涉及一种掩模版辅助静态图像测量装置及掩模版静态图像测量系统,其中,掩模版辅助静态图像测量装置包括:载物台,包括由透光材料制成并用于支撑掩模版的支撑结构;光源组件,包括左侧平行光源板、右侧平行光源板、前侧平行光源板、后侧平行光源板和底面平行光源板;反射吸光结构,设于掩模版的四周。本发明通过一次图像静态图像获取测量,即可自动计算并测量出掩模版的外形尺寸、掩模版上的掩模图形到掩模版外边缘的距离,测量速度快、效率高,且属于无接触测量,不会划伤掩模版外表面。

Description

掩模版辅助静态图像测量装置及掩模版静态图像测量系统
技术领域
本发明属于尺寸测量技术领域,尤其涉及一种掩模版辅助静态图像测量装置及掩模版静态图像测量系统。
背景技术
对掩模版的外形尺寸、掩模版上的掩模图形到掩模版外边缘的距离的测量,目前是通过机械分段定点或通过机械移动进行测量的,而通过机械卡尺测量需要触碰掩模版,会划伤掩模版外表面,机械移动测量会有机械移动的偏差
此外,为获取掩模版的外形尺寸、掩模版上的掩模图形到掩模版外边缘的距离的数据,需要进行多次机械聚焦测量,这导致极大地增加测量时间,聚焦时造成的边缘聚焦位移偏差,导致测量效率较低。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足,提供了一种掩模版辅助静态图像测量装置及掩模版静态图像测量系统,其旨在通过机械卡尺或机械移动测量容易划伤掩模版外表面以及测量效率低的问题。
本发明提供一种掩模版辅助静态图像测量装置,其特征在于,包括:
载物台,包括由透光材料制成并用于支撑掩模版的支撑结构;
光源组件,包括左侧平行光源板、右侧平行光源板、前侧平行光源板、后侧平行光源板和底面平行光源板,所述左侧平行光源板朝左前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,所述右侧平行光源板朝右前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,所述前侧平行光源板朝前前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,所述后侧平行光源板朝后前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,所述左侧平行光源板、所述右侧平行光源板、所述前侧平行光源板和所述后侧平行光源板的下侧板边均位于所述掩模版的下方,所述左侧平行光源板、所述右侧平行光源板、所述前侧平行光源板和所述后侧平行光源板的上侧板边的水平位高于所述掩模版的水平位,所述底面平行光源板水平设置,并位于所述左侧平行光源板、所述右侧平行光源板、所述前侧平行光源板和所述后侧平行光源板的下侧板边围合形成的空间内;
反射吸光结构,设于所述掩模版的四周,并与所述掩模版间隔设置。
可选地,所述支撑结构具有分别左右设置的左支撑面和右支撑面,所述左支撑面朝右且朝上设置,所述右支撑面朝左且朝上设置。
可选地,所述支撑结构还具有连接所述左支撑面和所述右支撑面的支撑底面。
可选地,所述支撑结构还具有分别前后设置的前支撑面和后支撑面,所述前支撑面朝后且朝上设置,所述后支撑面朝前且朝上设置,所述前支撑面和所述后支撑面之间的距离小于所述左支撑面和所述右支撑面之间的距离。
可选地,所述载物台还包括标尺结构,所述标尺结构在上下方向上与所述支撑结构避让设置,所述标尺结构包括第一标尺和第二标尺,所述第一标尺和所述第二标尺位于同一水平面,所述第一标尺用于通过在在第一方向上间隔设置的刻度线来标识出物件在所述第一方向上的长度,所述第二标尺用于通过在在第二方向上间隔设置的刻度线来标识出物件在所述第二方向上的长度,其中,所述第一方向与所述第二方向相互垂直。
可选地,所述反射吸光结构的上侧水平位高于所述掩模版对于的板边的上侧的水平位。
本发明还提供一种掩模版静态图像测量系统,包括如上所述掩模版辅助静态图像测量装置以及用于通过影像测量掩模版的影像测量仪。
可选地,所述影像测量仪设有至少两个摄像装置,两所述摄像装置位于所述载物台上方。
基于本发明,首先,由于光源组件能够使得掩模版各处受到的光照均匀,也即是掩模版上各掩模图形对应的区域的亮度是一致,掩模版上的其他区域则是另一种亮度,且是一致,如此,影像测量仪能够根据获得影像准确地测算出各掩模图形的尺寸及位置,其次,在此需要先说明的是,掩模版外周的尺寸边角放大在放大时,例如100倍时,并不是一个齐边,原因是原材料在现有的加工技术条件下,会出现粗糙不齐的边缘,如直接测量,难以到达预定的测量精度,而在本发明中,通过反射吸光结构,减少或消除反射、折射光线对掩模版边缘成像的影响,如此,在影像测量仪获取的影像中,掩模版的外边缘清晰、锐利,与外周对比度高,有利于影像测量仪能够根据获得影像准确地测算出各掩模图形的尺寸及位置。
由上可知,通过一次图像静态图像获取测量,即可自动计算并测量出掩模版的外形尺寸、掩模版上的掩模图形到掩模版外边缘的距离,测量速度快、效率高,且属于无接触测量,不会划伤掩模版外表面。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是掩模版的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的掩模版静态图像测量系统的结构示意图;
图3是本发明实施例提供的支撑结构的俯视图;
图4是本发明实施例中掩模版与发射吸光结构之间的位置关系示意图。
附图标号说明:
Figure BDA0003253272660000031
Figure BDA0003253272660000041
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
请参阅图2,本发明实施例提供一种掩模版静态图像测量系统,用于测量掩模版100的外形尺寸、掩模版100上的掩模图形101到掩模版100外边缘的距离,即图1中X1、X2、X3、X4、X5、X6、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5和Y6。
在需要说明的是,掩模版100是呈矩形的,掩模版100上的掩模图形101也是呈矩形的,且掩模版100的四边在设计上是分别与掩模图形101的四个边平行。
具体地,请参阅图2至4,该掩模版静态图像测量系统包括掩模版辅助静态图像测量装置以及用于通过影像测量掩模版100的影像测量仪220。
其中,掩模版辅助静态图像测量装置包括载物台211、光源组件212以及反射吸光结构213。
载物台211包括由透光材料制成并用于支撑掩模版100的支撑结构2111,该支撑结构2111可以由玻璃制成,也可以由亚力克制成。
光源组件212包括左侧平行光源板2121、右侧平行光源板2122、前侧平行光源板、后侧平行光源板和底面平行光源板2123,左侧平行光源板2121朝左前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,右侧平行光源板2122朝右前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,前侧平行光源板朝前前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,后侧平行光源板朝后前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,左侧平行光源板2121、右侧平行光源板2122、前侧平行光源板和后侧平行光源板的下侧板边均位于掩模版100的下方,左侧平行光源板2121、右侧平行光源板2122、前侧平行光源板和后侧平行光源板的上侧板边的水平位高于掩模版100的水平位,底面平行光源板2123水平设置,并位于左侧平行光源板2121、右侧平行光源板2122、前侧平行光源板和后侧平行光源板的下侧板边围合形成的空间内。其中,左侧平行光源板2121、右侧平行光源板2122、前侧平行光源板和后侧平行光源板与底面平行光源板2123之间的角度均为120度。基于此,该光源组件212能够使得掩模版100各处受到的光照以及掩模版100和反射吸光结构(采用喷沙工艺,使表面细微粗糙,微粒吸光)213之间的区间受到的光照是较为均匀的。
反射吸光结构213设于掩模版100的四周,并与掩模版100间隔设置。
基于本发明,首先,由于光源组件212能够使得掩模版100各处受到的光照均匀,也即是掩模版100上各掩模图形101对应的区域的亮度是一致,掩模版100上的其他区域则是另一种亮度,且是一致,如此,影像测量仪220能够根据获得影像准确地测算出各掩模图形101的尺寸及位置,其次,在此需要先说明的是,掩模版100外周的尺寸边角放大在放大时,例如100倍时,并不是一个齐边,原因是原材料在现有的加工技术条件下,会出现粗糙不齐的边缘,如直接测量,难以到达预定的测量精度,而在本发明中,通过反射吸光结构213,减少或消除反射、折射光线对掩模版100边缘成像的影响,如此,在影像测量仪220获取的影像中,掩模版100的外边缘清晰、锐利,与外周对比度高,有利于影像测量仪220能够根据获得影像准确地测算出各掩模图形101的尺寸及位置。
由上可知,通过一次图像静态图像获取测量,即可自动计算并测量出掩模版100的外形尺寸、掩模版100上的掩模图形101到掩模版100外边缘的距离,测量速度快、效率高,且属于无接触测量,不会划伤掩模版100外表面。
请参阅图2和图3,在本实施例中,支撑结构2111具有分别左右设置的左支撑面2111和右支撑面21112,左支撑面2111朝右且朝上设置,右支撑面21112朝左且朝上设置。基于此,首先,在防止掩模版100的过程中,只需使一对相对设置的两边分别地抵接到左支撑面2111和右支撑面21112即可,无需精准放置,其次,该支撑结构2111可以放置多种尺寸类型的掩模版100,如此,增加了支撑结构2111通用性。
请参阅图2和图3,在本实施例中,支撑结构2111还具有连接左支撑面2111和右支撑面21112的支撑底面21113。基于此,在掩模版100的一侧板边向下滑落时,支撑底面21113可以承托掩模版100,避免掩模版100从支撑结构2111脱落。
请参阅图3,在本实施例中,支撑结构2111还具有分别前后设置的前支撑面21114和后支撑面21115,前支撑面21114朝后且朝上设置,后支撑面21115朝前且朝上设置,前支撑面21114和后支撑面21115之间的距离小于左支撑面2111和右支撑面21112之间的距离。基于此,当掩模版100不适合搭放于左支撑面2111和右支撑面21112,而还可以选择搭放到前支撑面21114和后支撑面21115,如此,增加了支撑结构2111通用性。
请参阅图2和图3,在本实施例中,载物台211还包括标尺结构2112,标尺结构2112在上下方向上与支撑结构2111避让设置,标尺结构2112包括第一标尺21121和第二标尺21122,第一标尺21121和第二标尺21122位于同一水平面,第一标尺21121用于通过在在第一方向上间隔设置的刻度线来标识出物件在第一方向上的长度,第二标尺21122用于通过在在第二方向上间隔设置的刻度线来标识出物件在第二方向上的长度,其中,第一方向与第二方向相互垂直设置。在具体使用过程中,可以通过第一标尺21121和第二标尺21122,便于操作人员宏观了解掩模版放置情况,以及外观尺寸的大概范围。
请参阅图4,在本实施例中,反射吸光结构213的上侧水平位高于掩模版100对于的板边的上侧的水平位,如此,即使有光线射入到掩模版100的侧边,光线经掩模版100的侧边反射之后,也会被反射吸光结构213,避免这些光线影响影像测量仪220成像质量,从而有利于提高测量精度。
在此需要说明的是,反射吸光结构213可以通过外部结构件悬空设于掩模版100的周侧。
具体地,在本实施例中,反射吸光结构213朝向掩模版100的侧面平行与上下方向,反射吸光结构213呈板片状。
在本实施例中,影像测量仪220至少设有两个摄像装置221,各摄像装置221位于载物台211上方。在此需要说明的是,影像测量仪220能够对各各摄像装置221采集的图像自动拼图并实时无缝合并为一张完整的图像。
基于此结构设计,至少两个摄像装置221有有利于避免出现摄像盲区,以及解决单个摄像装置221摄像范围较小以及图像畸变的问题。
请参阅图2,在本实施例中,影像测量仪220设有两个摄像装置221。
以上仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种掩模版辅助静态图像测量装置,其特征在于,包括:
载物台,包括由透光材料制成并用于支撑掩模版的支撑结构;
光源组件,包括左侧平行光源板、右侧平行光源板、前侧平行光源板、后侧平行光源板和底面平行光源板,所述左侧平行光源板朝左前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,所述右侧平行光源板朝右前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,所述前侧平行光源板朝前前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,所述后侧平行光源板朝后前朝上倾斜设置,并与水平面呈60度夹角,所述左侧平行光源板、所述右侧平行光源板、所述前侧平行光源板和所述后侧平行光源板的下侧板边均位于所述掩模版的下方,所述左侧平行光源板、所述右侧平行光源板、所述前侧平行光源板和所述后侧平行光源板的上侧板边的水平位高于所述掩模版的水平位,所述底面平行光源板水平设置,并位于所述左侧平行光源板、所述右侧平行光源板、所述前侧平行光源板和所述后侧平行光源板的下侧板边围合形成的空间内;
反射吸光结构,设于所述掩模版的四周,并与所述掩模版间隔设置。
2.如权利要求1所述的掩模版辅助静态图像测量装置,其特征在于,所述支撑结构具有分别左右设置的左支撑面和右支撑面,所述左支撑面朝右且朝上设置,所述右支撑面朝左且朝上设置。
3.如权利要求2所述的掩模版辅助静态图像测量装置,其特征在于,所述支撑结构还具有连接所述左支撑面和所述右支撑面的支撑底面。
4.如权利要求2所述的掩模版辅助静态图像测量装置,其特征在于,所述支撑结构还具有分别前后设置的前支撑面和后支撑面,所述前支撑面朝后且朝上设置,所述后支撑面朝前且朝上设置,所述前支撑面和所述后支撑面之间的距离小于所述左支撑面和所述右支撑面之间的距离。
5.如权利要求3所述的掩模版辅助静态图像测量装置,其特征在于,所述载物台还包括标尺结构,所述标尺结构在上下方向上与所述支撑结构避让设置,所述标尺结构包括第一标尺和第二标尺,所述第一标尺和所述第二标尺位于同一水平面,所述第一标尺用于通过在在第一方向上间隔设置的刻度线来标识出物件在所述第一方向上的长度,所述第二标尺用于通过在在第二方向上间隔设置的刻度线来标识出物件在所述第二方向上的长度,其中,所述第一方向与所述第二方向相互垂直。
6.如权利要求1所述的掩模版辅助静态图像测量装置,其特征在于,所述反射吸光结构的上侧水平位高于所述掩模版对于的板边的上侧的水平位。
7.一种掩模版静态图像测量系统,其特征在于,包括如权利要求1至6中任意一项所述掩模版辅助静态图像测量装置以及用于通过影像测量掩模版的影像测量仪。
8.如权利要求7所述的掩模版静态图像测量系统,其特征在于,所述影像测量仪设有至少两个摄像装置,各所述摄像装置位于所述载物台上方。
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Address after: 518000 The first floor of plant 4 #, Shengzuozhi Science and Technology Industrial Park, north of Xinyu Road, Shajing Street, Bao'an District, Shenzhen, Guangdong

Patentee after: Shenzhen Longtu Optical Mask Co.,Ltd.

Address before: 518000 The first floor of plant 4 #, Shengzuozhi Science and Technology Industrial Park, north of Xinyu Road, Shajing Street, Bao'an District, Shenzhen, Guangdong

Patentee before: SHENZHEN LONGTU PHOTOMASK CO.,LTD.