CN113678032A - 具有高可见光反射和中性色的制品 - Google Patents
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- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/002—Heaters using a particular layout for the resistive material or resistive elements
- H05B2203/005—Heaters using a particular layout for the resistive material or resistive elements using multiple resistive elements or resistive zones isolated from each other
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/013—Heaters using resistive films or coatings
Abstract
涂覆制品包括基材和在至少一部分基材上方施加的功能涂层。功能涂层包括：第一介电层、第一金属性层、第一底漆层、第二介电层、第二金属性层、第二底漆层、第三介电层、和任选的最外保护涂层。涂覆制品，其中RgL*值为至少35且不大于55。涂覆制品具有金属性层的总组合厚度为至少10纳米且不大于30纳米。
Description
相关申请的交叉引用
本申请享有并要求2020年2月14日提交的美国临时申请号62/976,645和2019年3月28日提交的美国临时申请号62/825,326的优先权，其公开内容通过引用并入。
发明背景
发明领域
本发明通常涉及车辆透明物，例如车辆风挡，并且在一种特定实施方案中，涉及具有高可见光反射和中性色的风挡。
技术考虑
在汽车市场中，车辆造型受到很大重视。车辆看起来的方式对于车辆销售可与车辆的机械可靠性或安全等级一样重要。因此，汽车制造商竭尽全力来增强车辆造型。这些造型增强包括为消费者提供更多颜色选择，并且还提供具有金属片的颜色以提供具有“光致变色效果”的车辆。
虽然这些造型增强通常已经被消费者很好地接受，但目前的问题在于即使使用新的车辆漆面，汽车透明物(例如但不限于风挡、侧窗、后窗、天窗和遮阳顶)仍然通常是灰色或有中性色的。虽然提供日光控制性质，但是这些常规透明物对车辆造型的增强很小。
在非汽车领域，已知提供其中颜色由基材和涂层之间的干涉效应产生的涂覆制品。如本领域技术人员将理解的，术语“干涉效应”是指电磁波振幅随距离或时间的变化，由电磁辐射(例如可见光)的波的叠加引起。这些波可为光学薄膜涂层中一个或多个层的界面处反射或传输的结果。例如，美国专利号6,164,777公开了塑料隐形眼镜，其具有由交替的不同折射率的材料制成的干涉涂层。美国专利号5,923,471公开了“热镜”用于具有氧化锆和氧化硅交替层的加热灯。美国专利申请公开号2003/0031842A1公开了具有图案化外观的制品，所述图案化外观由在一个或多个通常透明的薄膜涂层之间可目视观察的对比度提供。在美国专利号5,619,059、4,902,581和5,112,693和瑞士专利号339575中讨论了干涉涂层和涂覆制品的其它实例。
虽然这些公开的涂层适合于它们的预期目的，但是在尝试将干涉涂层合并至汽车透明物中必须解决许多其它考虑。例如，在美国，政府法规要求所有风挡必须具有至少70％的光(可见)透光率(LTA)。在欧洲，所要求的最小LTA为75％。干涉涂层的存在可不利地影响透明物的透光率。
将有利的是提供制备美观的并可用于增强车辆造型的汽车透明物的方法。还将有利的是提供汽车透明物，所述汽车透明物提供使透明物的颜色与车辆的油漆颜色协调或匹配的机会。另外将有利的是如果这样的透明物还满足政府对汽车透明物的要求。
发明概述
本发明涉及涂覆制品。涂覆制品具有基材和在基材上方的功能涂层。涂层具有位于至少一部分基材上方的第一介电层。第一金属性层位于至少一部分第一介电层上方。第一底漆层位于至少一部分第一金属性层上方。第二介电层位于至少一部分第一底漆层上方。第二金属性层位于至少一部分第二介电层上方。第二底漆层位于至少一部分第二金属性层上方。第三介电层位于至少一部分第二底漆层上方。任选的最外保护层位于至少一部分第三介电层或功能涂层上方。涂覆制品具有至少35且不大于55的RgL*值。
在另一实施方案中，本发明涉及涂覆制品。涂覆制品具有基材和在基材上方的功能涂层。涂层具有位于至少一部分基材上方的第一介电层。第一金属性层位于至少一部分第一介电层上方。第一底漆层位于至少一部分第一金属性层上方。第二介电层位于至少一部分第一底漆层上方。第二金属性层位于至少一部分第二介电层上方。第二底漆层位于至少一部分第二金属性层上方。第三介电层位于至少一部分第二底漆层上方。任选的最外保护层位于至少一部分第三介电层或功能涂层上方。金属性层的总组合厚度为至少10nm且不大于30nm。
附图简要描述
将参考以下附图描述本发明，其中相同的附图标记始终表示相同的部分。
图1是非限制性风挡的横截面图(未按比例)。
图2是根据本发明的非限制性涂层的横截面图(未按比例)。
图3是根据本发明的非限制性涂层的横截面图(未按比例)。
发明描述
如本文使用的，空间或方向术语，例如“左”、“右”、“内”、“外”、“上”、“下”等是指本发明如附图所示。然而，应理解本发明可采取各种供选择的取向，并因此这样的术语不应被视为限制性的。此外，如本文使用的，在说明书和权利要求书中使用的所有表示尺寸、物理特性、加工参数、成分的量、反应条件等的数值应理解为在所有情况下都由术语“约”修饰。因此，除非指出相反情况，否则以下说明书和权利要求书中列出的数值可取决于由本发明寻求获得的所需性质而改变。至少，且不作为限制等同原则应用于权利要求范围的尝试，每个数值至少应该根据所报告的有效数字的数值和通过应用普通四舍五入技术来解释。此外，本文公开的所有范围应理解为包括开始和结束范围值和其中包含的任何及所有子范围。例如，“1至10”的所述范围应被认为包括在最小值为1和最大值为10之间的任何及所有子范围(并包括最小值为1和最大值为10)；即以最小值为1或更大开始并以最大值为10或更小结束的所有子范围，例如1至3.3、4.7至7.5、5.5至10等。此外，如本文使用的，术语“在...上方形成的”、“在...上方沉积的”或“在...上方提供的”意指在表面上但不必与表面接触而形成的、沉积的或提供的。例如，“在基材上方形成的”涂层不排除位于形成的涂层和基材之间的具有相同或不同组成的一个或多个其它涂层或膜的存在。如本文使用的，术语“聚合物”或“聚合物的”包括低聚物、均聚物、共聚物和三元共聚物，例如由两种或更多种类型的单体或聚合物形成的聚合物。术语“可见区域”或“可见光”是指波长在380纳米(nm)至800nm范围内的电磁辐射。术语“红外区域”或“红外辐射”是指波长在大于800nm至100,000nm范围内的电磁辐射。术语“紫外区域”或“紫外辐射”意指波长在300nm至小于380nm范围内的电磁能量。本文的可见(光)透射率(LTA)值(Y,x,y)是可使用C.I.E.(1976)标准光源“A”用2度观察角(与美国联邦标准一致)在380nm至770nm的波长范围内使用可从Perkin-Elmer商购得到的λ9分光光度计或可从BYK-Gardner商购得到的TCS分光光度计确定的那些。使用光源“D65”用10°观察角(如在汽车领域中常规的)来测定反射颜色值L*、a*、b*(是否R1或R2)。
如本文使用的，术语“膜”是指具有期望或选择的涂层组成的涂层区域。“层”可包含一个或多个“膜”，并且“涂层”或“涂层堆叠体”可包含一个或多个“层”。术语“金属”和“金属氧化物”分别包括硅和二氧化硅，以及传统上认可的金属和金属氧化物，即使硅常规上可能不被认为是金属。除非有相反指示，否则厚度值是几何厚度值。另外，本文提到的所有文献，例如但不限于授权专利和专利申请，被认为是“通过引用并入”其全部内容。
本发明的讨论可将一些特征描述为在一些限制内“特别地”或“优选地”(例如，在一些限制内“优选地”、“更优选地”或“最优选地”)。应理解本发明不限于这些特定或优选的限制，而是包括公开内容的整个范围。
在图1中说明包括本发明特征的非限制性透明物10(例如汽车风挡)。透明物10可具有任何期望的可见光、红外辐射或紫外辐射透射率和反射率。例如，透明物10可具有任何期望量例如大于0％至100％、大于70％的可见光透射率。对于在美国的风挡和前侧窗区域而言，可见光透射率典型地大于或等于70％。对于隐私区域例如后座侧窗和后窗而言，可见光透射率可小于风挡的可见光透射率，例如小于70％。
如在图1中看出，透明物10包括具有面对车辆外部的第一主表面即外主表面14(1号表面)和相对的第二或内主表面16(2号表面)的第一片或第一基材12。透明物10还包括具有外(第一)主表面22(4号表面)和内(第二)主表面20(3号表面)的第二片或第二基材18。片表面的这种编号与汽车领域中的常规实践一致。可以任何合适的方式例如通过常规的中间层24来将第一和第二片12、18结合在一起。虽然没有要求，但是可在以任何期望方式层叠期间和/或之后将常规的边缘密封剂施加至层叠透明物10的周长。可在片12、18中至少一个的表面上，例如围绕第一片12的内主表面16的周长提供装饰带例如不透明、半透明或有色的遮蔽带26例如陶瓷带。可在片12、18之一的至少一部分上方，例如在2号表面16或3号表面20上方形成涂层30。
在图1中说明的非限制性实施方案中，汇流条组件包括第一或底部汇流条96和在外片12的内表面16上形成并通过汇流条与汇流条距离分开的第二或顶部汇流条98。汇流条96、98与涂层电接触。在本发明的一个非限制性实施方案中，汇流条96、98可至少部分位于装饰带26上或完全位于装饰带26上，如图1中显示。
在本发明的广泛实践中，透明物10的片12、18可具有相同或不同的材料。片12、18可包括具有任何期望特性的任何期望的材料。例如，片12、18中一个或多个可对可见光透明或半透明。“透明的”意指具有大于0％至100％的可见光透射率。或者，一个或多个片12、18可为半透明的。“半透明的”意指允许电磁能量(例如可见光)通过，但是发散这种能量使得与观察者相对侧上的物体不是清晰可见的。合适材料的实例但不限于塑料基材(例如丙烯酸类聚合物，例如聚丙烯酸酯；聚甲基丙烯酸烷基酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丙酯等；聚氨酯；聚碳酸酯；聚对苯二甲酸烷基酯，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等；含聚硅氧烷的聚合物；或用于制备这些的任何单体的共聚物，或它们的任何混合物)；陶瓷基材；玻璃基材；或以上任何的混合物或组合。例如，片12、18中一个或多个可包括常规的钠钙硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或含铅玻璃。玻璃可为透明玻璃。“透明玻璃”意指未着色或无色玻璃。或者，玻璃可为着色的或以其它方式有色的玻璃。玻璃可为退火或热处理的玻璃。如本文使用的，术语“热处理的”意指回火的或至少部分回火的。玻璃可具有任何类型(例如常规浮法玻璃)，并且可为具有任何光学性质(例如任何值的可见透射率、紫外透射率、红外透射率和/或总太阳能透射率)的任何组成。“浮法玻璃”意指通过常规浮法工艺形成的玻璃，其中将熔融玻璃沉积在熔融金属浴上并受控地冷却以形成浮法玻璃带。然后根据期望来切割和/或成型和/或热处理所述带。在美国专利号4,466,562和4,671,155中公开了浮法玻璃工艺的实例。第一和第二片12、18可为例如透明浮法玻璃或者可为着色的或有色玻璃，或者一片12、18可为透明玻璃而另一片12、18为有色玻璃。虽然不限制本发明，但是适合于第一片12和/或第二片18的玻璃的实例描述于美国专利号4,746,347；4,792,536；5,030,593；5,030,594；5,240,886；5,385,872和5,393,593中。第一和第二片12、18可具有任何期望的尺寸(例如长度、宽度、形状或厚度)。在一种示例性汽车透明物10中，第一和第二片12、18每个可为1mm至10mm厚，例如1mm至5mm厚，或1.5mm至2.5mm，或1.8mm至2.3mm。在一种非限制性实施方案中，第一片12和/或第二片18每个可具有在550nm的参考波长下大于90％、例如大于91％的可见光透射率。第一片12和/或第二片18的玻璃组成可具有大于0重量百分比(重量％)至0.2重量％范围内的总铁含量和/或在0.3至0.6范围内的氧化还原比。
在一种非限制性实施方案中，片12、18中一个或两个可具有在550nm的参考波长下的高可见光透射率。“高可见光透射率”意指在550nm下可见光透射率大于或等于85％，例如大于或等于87％，例如大于或等于90％，例如大于或等于91％，例如大于或等于92％，以对于2mm-25mm片厚度的玻璃而言5.5mm当量厚度。对于实践本发明特别可用的玻璃公开在美国专利号5,030,593和5,030,594中。
中间层24可具有任何期望的材料并可包括一个或多个层或片。中间层24可为聚合物的或塑料材料，例如聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、增塑聚氯乙烯、或多层热塑性材料，包括聚对苯二甲酸乙二醇酯等。合适的中间层材料例如但不认为是限制性的公开在美国专利号4,287,107和3,762,988中。中间层24还可为如例如在美国专利号5,796,055中描述的声音吸收或衰减材料。中间层24可具有在其上提供或在其中并入的日光控制涂层，或可包括有色材料以减小太阳能透射率。
涂层30沉积在玻璃片12、18之一的主表面的至少一部分上方例如外侧玻璃片12的内表面16或内玻璃片18的内表面20上(图1)。涂层30可包括位于顺序施加在玻璃片12、18之一的至少一部分上方的介电层之间的两个金属性膜。涂层30可为热和/或辐射反射涂层或日光控制涂层并可具有一个或多个具有相同或不同组成和/或功能的涂层或膜。涂层30可为包括两个金属性层的多层涂层。在美国专利号5,653,903和5,028,759中公开了用于制备可加热窗的导电涂层的实例。在美国专利号4,898,789、5,821,001、4,716,086、4,610,771、4,902,580、4,716,086、4,806,220、4,898,790、4,834,857、4,948,677、5,059,295和5,028,759而且美国专利申请公开号09/058440中找到可在本发明的实践中使用的日光控制涂层的实例。
合适的涂层30的非限制性实例通常包括一个或多个抗反射涂覆膜，其包含对可见光透明的介电或抗反射材料，例如金属氧化物或金属合金的氧化物。涂层30还可包括两个金属性层，包含反射材料例如贵金属例如银或金、或合金、混合物或它们的组合物，并且涂层30还可包含底漆层或阻隔膜，例如钛或钛铝合金，如本领域已知的位于金属反射层上方和/或任选地在金属反射层下。涂层30可具有一个金属性层；或可具有至少两个金属性层。例如，涂层30由两个金属性层组成。在一种非限制性实施方案中，金属性层中一个或多个可包含银。
对于底漆层而言合适材料的非限制性实例包括锌、铝、钒、钨、钽、铌、锆、锰、铬、锡、镍、锗、镁、钼、银、硅碳、铝掺杂的银、铝锌、钒锌、钨钽、钛铌、锆铌、钨铌、铝铌、铝钛、钨钛、钽钛、锌钛、铝银、锌锡、铟锌、银锌、它们的混合物、它们的组合或它们的任何合金。底漆层还可采用任何的以上列表材料的金属、氧化物、低氧化物、氮化物和/或低氮化物的形式。至少一部分的底漆层是氧化物或氮化物。在一些实施方案中，在100％氩环境中沉积底漆层。在一些实施方案中，一部分的底漆层是通过在具有特定流动速率以形成80％N2与余量为氩的气氛的氮(N2)气氛中溅射金属或金属合金而形成的氮化物。流动速率是对气氛中N2的量的近似值，但是本领域普通技术人员将认识到额外的N2可泄漏至涂覆腔中，因为涂覆腔没有与外部环境气密密封。在一些实施方案中，一部分的底漆层是通过在具有特定流动速率以形成3％至7％O2与余量为氩的气氛的氧(O2)气氛中溅射金属或金属合金而形成的低氧化物。流动速率是对气氛中氧(O2)的量的近似值，但是本领域普通技术人员将认识到额外的O2可泄漏至涂覆腔中，因为涂覆腔没有与外部环境气密密封。底漆材料的化学结构由元素x的重量百分比(重量％)表示。对于一些组成，组成中材料之一的下限可为“大于0”。当下限大于零(>0)时，材料的重量％不等于零但可为大于0直至上限的重量％的任何重量％。由于与大气物质反应，在加热层之前或之后组成可改变。这些反应可改变在组成的材料之间分布的重量％。可在表1中发现底漆层的非限制性实例的组成，其中在加热之前是BH和在加热之后是AH。一些材料可仅具有唯一的BH或AH测量结果，这归因于该测量对于最终组成更重要。
表1用作底漆层的金属合金的金属的组成
可通过任何常规的方法例如但不限于常规的化学气相沉积(CVD)和/或物理气相沉积(PVD)方法沉积涂层30。CVD工艺的实例包括喷雾热解。PVD工艺的实例包括电子束蒸发和真空溅射，例如磁控溅射气相沉积(MSVD)。也可使用其它涂覆方法，例如但不限于溶胶-凝胶沉积。在一种非限制性实施方案中，可通过MSVD沉积涂层30。MSVD涂覆装置和方法的实例将被本领域普通技术人员很好地理解并且描述于例如美国专利号4,379,040；4,861,669；4,898,789；4,898,790；4,900,633；4,920,006；4,938,857；5,328,768和5,492,750中。在MSVD方法中，可通过在含有氧的气氛中溅射含金属或金属合金的阴极来沉积金属或金属合金的氧化物从而在基材的表面上沉积金属氧化物或金属合金氧化物膜。在一种实施方案中，涂层30沉积在全部或基本上全部表面上方，即没有沉积形成离散的涂覆区域。至少一个涂层30可沉积在平的基材上方并且然后可以任何常规方式例如通过加热将基材弯曲成型。或者，至少一个涂层30可沉积在弯曲的表面上方，即已经弯曲或成型的基材。
本发明涉及涂层堆叠体，其具有足够厚的总银以提供可见光反射率在8％至50％的范围内，优选8％至30％，更优选8％至20％，最优选9％至18％和RgL*为35至55，优选42至54，更优选46至53，或最优选50至52从而产生中性颜色。
在本发明的一种非限制性实践中，涂层提供不大于50％的可见光反射率。例如，不大于30％，例如不大于20％，例如不大于18％。如本领域技术人员将理解的，对于层叠制品而言，反射率典型地相对于层叠制品的外部反射率定义。“外部反射率”意指外表面(1号表面14)的反射率，其中在内表面例如2号表面16或3号表面20上提供涂层30。
在本发明的一种非限制性实践中，涂层30提供8度下外部反射L*(Rg8L*)具有35至55的范围，优选40至54，更优选46至53，或最优选50至52。在本发明的一种非限制性实践中，涂层30提供8度下在颜色空间内外部反射颜色为a*(Rg8a*)在0至-10的范围内。例如，在-1至-8的范围内，优选-1.2至-7.0，更优选-1.5至-6.8，或最优选-1.7至-5.0。在本发明的一种非限制性实践中，涂层30提供8度下外部反射b*(Rg8b*)在1至-20的范围内。例如，在0至-19的范围内，优选-2.0至-10，更优选-10至-20，或最优选-15至-19。
如本领域技术人员将理解的，物体并且特别是玻璃的颜色是高度主观的。观察到的颜色将取决于光照条件和观察者的偏好。为了在定量基础上评价颜色，已开发了几种色序系统。一种这样的用于指定由国际照明委员会(CIE)采用的颜色的方法使用主波长(DW)和激发纯度(Pe)。可通过从该颜色的所谓三刺激值X、Y、Z计算颜色坐标x和y来确定对于给定颜色的这两种规格的数值。然后将颜色坐标绘制在1931CIE色度图上，并且与CIE标准光源C的坐标数值比较，如CIE出版号15.2中所确定的。这种比较提供图上的颜色空间位置，以确定玻璃颜色的激发纯度和主波长。
在另一色序系统中，颜色是根据色调和亮度规定的。这种系统通常称作CIELAB颜色系统。色调区分颜色例如红、黄、绿和蓝。亮度或值区分明亮或暗淡的程度。从三色刺激值(X、Y、Z)计算这些特性的数值(其被确定为L*、a*和b*)。L*表示颜色的明亮或暗淡并代表颜色驻留的亮度平面。a*表示颜色在红(+a*)绿(-a*)轴上的位置。b*表示在黄(+b*)蓝(-b*)轴上的颜色位置。当CIELAB系统的直角坐标转换成圆柱极坐标时，所得的颜色系统称为CIELCH颜色系统，其在亮度(L*)和色调角(H°)和色度(C*)方面规定颜色。L*表示如在CIELAB系统中的颜色的明亮或暗淡。色度、或饱和度或强度区分颜色强度或透明度(即鲜艳度相对钝度)并且是从颜色空间的中心至所测量颜色的矢量距离。颜色的色度越低即它的强度越小，颜色越接近所谓的中性色。相对于CIELAB系统，C*＝(a*2+b*2)1/2。色调角区分颜色例如红、黄、绿和蓝并且是从红(+a*)轴逆时针测量的从a*,b*坐标延伸通过CIELCH颜色空间的中心的矢量的角的量度。
应理解颜色可在任何这些颜色系统中表征并且本领域技术人员可从所观察玻璃或复合透明物的透射率曲线计算等效DW和Pe值，L*、a*、b*值和L*、C*、H°值。在美国专利号5,792,559中给出颜色计算的详细讨论。在本文件中，使用CIELAB系统(L*a*b*)表征颜色。然而，应理解这仅是为了简化讨论并且公开的颜色可通过任何常规系统例如以上讨论的那些限定。
图2和3中显示适合于本发明的示例性非限制性涂层30。这种示例性涂层30包括位于介电层之间的两个金属性层。它包括位于至少一部分的基材主表面(例如第一片12的2号表面16或第二片18的3号表面20)上方或与至少一部分的基材主表面直接接触的基底层或第一介电层40。第一金属性层48位于至少一部分第一介电层40上方或与至少一部分第一介电层40直接接触。第一底漆层50位于至少一部分第一金属性层48上方或与至少一部分第一金属性层48直接接触。第二介电层60位于第一底漆层50上方或与第一底漆层50直接接触。第二金属性层70位于至少一部分第二介电层60上方或与至少一部分第二介电层60直接接触。第二底漆层72可位于第二金属性层70上方或与第二金属性层70直接接触。第三介电层80位于第二底漆层72上方或与第二底漆层72直接接触。最外保护层100可位于第三介电层80上方或与第三介电层80直接接触。
介电层可包含抗反射材料和/或介电材料(例如但不限于金属氧化物、金属合金的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物)的一个或多个膜。第一介电层40可对可见光透明。对于第一介电层40而言合适金属氧化物的实例包括钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、镁、镓、钒、铝、硅、它们的合金、它们的混合物或它们的组合的氧化物。这些金属氧化物可具有少量的其它材料例如在氧化铋中的锰、在氧化铟中的锡等。或者，可使用氧化物或金属合金或金属混合物，例如含锌和锡的氧化物(例如锡酸锌)、铟-锡合金的氧化物、硅氮化物、硅铝氮化物、或铝氮化物。此外，可使用掺杂的金属氧化物，例如铝掺杂的氧化锌、锑掺杂的氧化锡、镍或硼掺杂的氧化硅、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锡或它们的混合物。在一种非限制性实施方案中，第一介电层的第一膜42可为在至少一部分的基材(例如第一片12的2号表面16或第二片18的3号表面20)上方形成的锌/锡合金氧化物。可通过MSVD从可包含采用10重量％至90重量％锌和90重量％至10重量％锡的比例的锌和锡的锌和锡的阴极获得锌/锡合金氧化物。可在第一介电层的第一膜42中存在的一种合适的金属合金氧化物是锡酸锌。“锡酸锌”意指ZnxSn1-xO2-x(式1)的组成，其中“x”在大于0至小于1的范围内变化。例如，“x”可大于0并且可为在大于0至小于1之间的任何分数或小数。例如，x＝2/3时，式1是Zn2/3Sn1/3O4/3，其更常见被描述为Zn2SnO4。含锡酸锌的膜具有在膜中占主要量的式1的一种或多种形式。
第一介电层的第二膜44在第一介电层的至少一部分第一膜42上方形成并可包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的混合物或组合。在一种非限制性实施方案中，第一介电层的第二膜44可为含锌膜，例如氧化锌。可由包括其它材料以改进阴极溅射特性的锌阴极来沉积氧化锌膜。例如，锌阴极可包括少量(例如小于10重量％，例如大于0至5重量％)的锡以改进溅射。在该情况下，所得的氧化锌膜将包括小百分比的氧化锡，例如0至小于10重量％氧化锡，例如0至5重量％氧化锡。从具有95重量％锌和5重量％锡、或优选90重量％锌和10重量％锡的锌/锡阴极溅射的氧化物层被称作氧化锌膜。阴极中少量的锡(例如小于10重量％)据信在第一介电层的主要含氧化锌的第二膜44中形成少量的氧化锡。
在示例性非限制性实施方案中，第二膜44是由以下至少一种组成的膜：铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡。从包括其它材料以改进阴极溅射特性的锌阴极沉积铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡膜。例如，铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡膜可包括少量(例如小于10重量％、例如大于0至5重量％)的锡以改进溅射。在该情况下，所得的铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡膜将包括小百分比的氧化锡，例如0重量％至小于10重量％氧化锡，例如0重量％至5重量％氧化锡。
一种非限制性实施方案是其中第一介电层的第一膜42是锡酸锌和第一介电层的第二膜44包含在第一介电层的至少一部分第一膜42上方的氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡。
第一介电层40可具有总厚度在10nm至55nm、优选20nm至53nm、更优选25nm至50nm、最优选29nm至48nm的范围内。
在一种非限制性实施方案中，第一介电层40包含与第一金属性层48直接接触的第一籽晶(seed)膜，其未在图中描述。籽晶膜可包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。在一种非限制性实施方案中，籽晶膜可包含铝锌、钒锌、锌、银锌、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜可包含镓锌、铟锌、铟锡、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。可在表2中找到籽晶膜的非限制性实例的组成。在一些实施方案中，一部分的籽晶膜是在具有特定流动速率以形成1％至70％O2与余量为氩的气氛的O2气氛中形成的。流动速率是对气氛中O2的量的近似值，但是本领域普通技术人员将认识到额外的O2可泄漏至涂覆腔中，因为涂覆腔没有与外部环境气密密封。在一种实施方案中，籽晶膜包含VxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含AlxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含GaxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含InxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含SnxIn1-x氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含在氧/氩气环境中沉积的Ag。在另一实施方案中，籽晶膜包含AlxAg1-x。在一种非限制性实施方案中，第一介电层的第二膜44是籽晶膜。在一些实施方案中，第一介电层40包含第一膜42、第二膜44和籽晶膜。籽晶膜可具有总厚度在0.5nm至10nm、优选0.75nm至8nm、更优选0.9nm至6nm的范围内。
表2用作籽晶膜的金属合金的金属的组成
第一金属性层48可沉积在至少一部分第一介电层40上方。第一金属性层48可包括反射金属例如但不限于金属性金、银、它们的混合物、它们的合金或它们的组合。在一种实施方案中，第一金属性层48包含金属性银层。第一金属性层48可具有总厚度在5nm至20nm、优选7.5nm至15nm、更优选9nm至14nm、最优选9.7至13.3nm的范围内。
第一底漆层50可沉积在至少一部分第一金属性层48上方。第一底漆层50可为氧捕获材料，例如钛，其可在沉积工艺过程中牺牲以防止在溅射工艺或随后的加热工艺过程中第一金属性层48的降解或氧化。可选择氧捕获材料以在第一金属性层48的材料之前氧化。对于底漆层而言合适材料的实例包括锌、铝、钒、钨、钽、铌、锆、锰、铬、锡、镍、锗、镁、钼、银、硅碳、铝掺杂的银、铝锌、钒锌、钨钽、钛铌、锆铌、钨铌、铝铌、铝钛、钨钛、钽钛、锌钛、铝银、锌锡、铟锌、银锌、它们的混合物、它们的组合或它们的任何合金，其中底漆沉积为金属并随后被氧化。可在表1中找到对于第一底漆层50而言合适材料的实例。至少一部分底漆层是氮化物或氧化物。如果银锌、锌、氧化银锌、钛、氧化铝锌、氧化铟锌、氧化镓锌或氧化钒锌用作第一底漆层50，它将优选在下面的金属性层的氧化之前氧化。在一种实施方案中，第一底漆层50是钛。在另一实施方案中，第一底漆层50包含银锌。在另一实施方案中，第一底漆层50包含锌。在另一实施方案中，第一底漆层50包含AgxZn1-x。在另一实施方案中，第一底漆层50包含AgxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含AlxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含InxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含GaxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含VxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含AlxTi1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含AlxNb1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含AlxNb1-x氮化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含WxNb1-x氮化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含WxTi1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含TixTa1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含TixNb1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含TixNb1-x氮化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含NbxZr1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含TaxW1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含WxNb1-x氧化物。在另一实施方案中，第一底漆层50包含ZnxTi1-x氧化物。第一底漆层50具有总厚度在0.5nm至10nm、优选1.0nm至5.0nm、更优选1.0至2.5nm的范围内。
第二介电层60可沉积在至少一部分第一金属性层48或任选的第一底漆层50上方。第二介电层60可包括以上关于第一介电层讨论的一种或多种材料。在图2的说明的非限制性实例中，第二介电层60包括沉积在第一金属性层48或任选的第一底漆层50上方的第二介电层的第一膜62。第二介电层的第一膜62包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。在一种实施方案中，第二介电层的第一膜62包含氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第一膜62包含铝掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第一膜62包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第一膜62包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第一膜62包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第二介电层的第一膜62包含钒掺杂的氧化锌。
第二介电层的第二膜64可沉积在第二介电层的至少一部分第一膜62上方。第二介电层的第二膜64包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。在一种非限制性实施方案中，第二介电层的第二膜64是锡酸锌。
第二介电层的第三膜66可沉积在第二介电层的至少一部分第二膜64上方。第二介电层的第三膜66可包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第二介电层的第三膜66可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种实施方案中，第二介电层的第三膜66包含氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第三膜66包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第三膜66包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第二介电层的第三膜66包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第二介电层的第三膜66包含钒掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第一介电层40或第二介电层60包含氮化硅膜。
一种非限制性实施方案是其中第二介电层的第一膜62包含氧化锌，第二介电层的第二膜64包含锡酸锌，和第二介电层的第三膜66包含在至少一部分第二介电层的第二膜44上方的氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡。
第二介电层60可具有总厚度在50nm至150nm、优选75nm至125nm、更优选90nm至110nm、最优选93nm至100nm的范围内。
在一种非限制性实施方案中，第二介电层60包含位于与第二金属性层70直接接触的籽晶膜。籽晶膜可包括以上关于第一介电层的籽晶膜和表2讨论的一种或多种材料。籽晶膜可包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。在一种非限制性实施方案中，籽晶膜可包含铝锌、钒锌、锌、银锌、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜可包含镓锌、铟锌、铟锡、它们的金属、它们的合金、它们的氧化物、或它们的低氧化物。在一种实施方案中，籽晶膜包含VxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含AlxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含GaxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含InxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含SnxIn1-x氧化物。在另一实施方案中，籽晶膜包含在氧/氩气环境中沉积的Ag。在另一实施方案中，籽晶膜包含AlxAg1-x。在一些实施方案中，第二介电层60具有第一膜62、第二膜64和籽晶膜。在一些实施方案中，第二介电层60具有第一膜62、第二膜64、第三膜66和籽晶膜。籽晶膜可具有总厚度在0.5nm至10nm、优选0.75nm至8nm、更优选0.9nm至6nm的范围内。
第二金属性层70可沉积在至少一部分第二介电层60上方。第二金属性层70可包括以上关于第一金属性层48描述的反射材料的任一种或多种。在一种非限制性实施方案中，第二金属性层70包含银。第二金属性层70可具有总厚度在5nm至20nm、优选5nm至15nm、更优选7.5nm至12.5nm、最优选7.5nm至10.3nm的范围内。
第二底漆层72可沉积在至少一部分第二金属性层70上方。第二底漆层72可为以上关于第一底漆层50和表1描述的任何材料。在一种非限制性实施方案中，第二底漆层72包含钛。在另一实施方案中，第二底漆层72包含银锌。在另一实施方案中，第二底漆层72包含锌。在另一实施方案中，第二底漆层72包含AgxZn1-x。在另一实施方案中，第二底漆层72包含AgxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含AlxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含InxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含GaxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含VxZn1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含AlxTi1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含AlxNb1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含AlxNb1-x氮化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含WxNb1-x氮化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含WxTi1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含TixTa1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含TixNb1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含TixNb1-x氮化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含NbxZr1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含TaxW1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含WxNb1-x氧化物。在另一实施方案中，第二底漆层72包含ZnxTi1-x氧化物。第二底漆层72具有总厚度在0.5nm至10nm、优选1.0nm至5nm、更优选1.0nm至2.5nm的范围内。
第三介电层80可沉积在至少一部分第二金属性层70或第二底漆层72上方。第三介电层80还可包括以上关于第一和第二介电层讨论的一种或多种材料。在一种非限制性实施方案中，第三介电层80包含第三介电层的第一膜82。第三介电层的第一膜82包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。在一种实施方案中，第三介电层的第一膜82包含氧化锌。在另一非限制性实施方案中，第三介电层的第一膜82包含锡酸锌。在另一实施方案中，第三介电层的第一膜82包含铝掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第一膜82包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第一膜82包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第一膜82包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第三介电层的第一膜82包含钒掺杂的氧化锌。
第三介电层的第二膜84可沉积在第三介电层的至少一部分第一膜82上方。第三介电层的第二膜84包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第三介电层的第二膜84可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种实施方案中，第三介电层的第二膜84包含氧化锌。在一种实施方案中，第三介电层的第二膜84包含锡酸锌。在另一实施方案中，第三介电层的第二膜84包含氮化硅或氮氧化硅。在另一实施方案中，第三介电层的第二膜84包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第二膜84包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第二膜84包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第三介电层的第二膜84包含钒掺杂的氧化锌。
第三介电层的任选的第三膜可沉积在第三介电层的至少一部分第二膜84上方。第三介电层的任选的第三膜包含选自以下的金属的氧化物、氮化物、氧氮化物、或它们的混合物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、硅、镁、镓、钒、铝、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。第三介电层的第三膜可包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、或它们的混合物。在一种非限制性实施方案中，第三介电层的任选的第三膜包含氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第三膜包含铟掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第三膜包含镓掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的第三膜包含铟掺杂的氧化锡。在另一实施方案中，第三介电层的第三膜包含钒掺杂的氧化锌。在另一实施方案中，第三介电层的任选的第三膜包含氮化硅或氮氧化硅。在另一实施方案中，第三介电层的任选的第三膜包含氧化钛。
一种非限制性实施方案是其中第三介电层的第一膜82包含氧化锌或锡酸锌和第三介电层的第二膜84包含在第三介电层的至少一部分第一膜82上方的氧化锌、锡酸锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡。
第三介电层80可具有总厚度在20nm至75nm、优选25nm至50nm、更优选30nm至45nm、最优选36nm至41nm的范围内。
在一种非限制性实施方案中，涂覆制品包含第一和第二金属性层48、70。在涂覆制品中没有额外的金属性层。金属性层可包括仅银或仅银和金。
每个金属性层具有厚度。在一种非限制性实施方案中，金属性层的总组合厚度在10nm至30nm、优选12nm至25nm、最优选15nm至22nm、最优选16nm至18nm的范围内。
涂层可包括最外保护层100，其例如在图2中显示的非限制性实施方案中沉积在至少一部分第三介电层80上方从而帮助保护下面的层例如金属性层免于加工期间的机械和化学侵蚀。最外保护层100可为氧阻隔涂层以防止或减小环境氧穿过至涂层30的下面的层中，例如在加热或共混过程中。最外保护层100可具有任何期望的材料或材料的混合物并可由一个或多个保护膜组成。在一种示例性实施方案中，最外保护层100可包括单层，其包含一种或多种金属氧化物材料，例如但不限于铝、硅或它们的混合物的氧化物。例如，最外保护涂层100可为单个涂层，包含在0重量％至100重量％氧化铝和/或100重量％至0重量％氧化硅、例如5重量％至95重量％氧化铝和95重量％至5重量％氧化硅、例如10重量％至90重量％氧化铝和90重量％至10重量％氧化硅、例如15重量％至90重量％氧化铝和85重量％至10重量％氧化硅、例如50重量％至75重量％氧化铝和50重量％至25重量％氧化硅、例如50重量％至70重量％氧化铝和50重量％至30重量％氧化硅、例如35重量％至100重量％氧化铝和65重量％至0重量％氧化硅、例如70重量％至90重量％氧化铝和30重量％至10重量％氧化硅、例如75重量％至85重量％氧化铝和25重量％至15重量％氧化硅、例如88重量％氧化铝和12重量％氧化硅、例如65重量％至75重量％氧化铝和35重量％至25重量％氧化硅、例如70重量％氧化铝和30重量％氧化硅、例如60重量％至小于75重量％氧化铝和大于25重量％至40重量％氧化硅的范围内。还可存在其它材料例如铝、铬、铪、钇、镍、硼、磷、钛、锆和/或它们的氧化物从而调节最外保护层100的折射率。在一种非限制性实施方案中，最外保护层100的折射率可在1至3、例如1至2、例如1.4至2、例如1.4至1.8的范围内。
在一种非限制性实施方案中，保护层100是组合氧化硅和氧化铝涂层。可从两个阴极(例如一个硅和一个铝)或从含有硅和铝两者的单个阴极溅射最外保护层100。这种硅铝氧化物最外保护层100可写作SixAl1-xO(1.5+x)/2，其中x可从大于0至小于1变化。在一种示例性实施方案中，最外保护层100包含15重量％氧化铝和85重量％氧化硅。在另一实施方案中，最外保护涂层100包含SiO2、Al2O3、SiAlO、它们的合金和它们的混合物。
在一种非限制性实施方案中，最外保护层100可由氮化硅(Si3N4)、氧氮化硅(SiON)、氮化硅铝(SiAlN)、氧氮化硅铝(SiAlON)、它们的混合物和/或它们的合金组成，并且其可向涂覆制品提供提高的耐久性。最外保护层100可由与具有优异导电性以改进硅的溅射的其它材料一起沉积的氮化硅形成。例如，在沉积期间，硅阴极可包括少量(例如至多20重量％，至多15重量％，至多10重量％，或至多5重量％)的铝以改进溅射。在该情况下，所得的氮化硅层将包括小百分比的铝，例如至多15重量％铝，例如至多10重量％铝，例如至多5重量％铝。由具有至多10重量％铝(添加以增强阴极的传导率)的硅阴极沉积的涂层在本文被称作“氮化硅”层，即使可存在少量的铝。阴极中少量的铝(例如小于或等于15重量％，例如小于或等于10重量％，例如小于或等于5重量％)据信在主要是氮化硅的最外保护层100中形成氮化铝。最外保护层100可在氮气氛中形成；然而，应理解在最外保护层100的沉积期间气氛中可存在其它气体例如氧。
在另一非限制性实施方案中，最外保护层100可为包含第一保护膜和在至少一部分第一保护膜上方形成的第二保护膜的多层涂层。第一保护膜可包含氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锆、氧化锡、它们的混合物、或它们的合金。在一种具体的非限制性实施方案中，第一保护膜可包含氧化铝或包含氧化铝和氧化硅的合金。例如，第一保护膜可包含氧化硅/氧化铝混合物，其具有大于5重量％氧化铝，例如大于10重量％氧化铝，例如大于15重量％氧化铝，例如50重量％至70重量％氧化铝，例如在60重量％至100重量％氧化铝和40重量％至0重量％氧化硅的范围内，例如60重量％氧化铝和40重量％氧化硅。在另一实例中，第一保护膜可包含锡酸锌。在另一实例中，第一保护膜可包含氧化锆。
第二保护膜可包含例如金属氧化物或金属氮化物。第二保护膜可为氧化钛、氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化锡、它们的混合物、或它们的合金。例如，第二保护膜可包含具有40-60重量％氧化铝和60-40重量％氧化钛，45-55重量％氧化铝和55-45重量％氧化钛，48-52重量％氧化铝和52-48重量％氧化钛，49-51重量％氧化铝和51-49重量％氧化钛，或50重量％氧化铝和50重量％氧化钛的氧化钛/氧化铝混合物。第二保护膜的实例可包括钛铝氧化物(TiAlO)。第二保护膜的另一示例是氧化硅/氧化铝混合物，其具有大于40重量％氧化硅，例如大于50重量％氧化硅，例如大于60重量％氧化硅，例如大于70重量％氧化硅，例如大于80重量％氧化硅，例如在80重量％至90重量％氧化硅和10重量％至20重量％氧化铝的范围内，例如85重量％氧化硅和15重量％氧化铝。
在非限制性实例中，最外保护层100可包括在至少一部分第二保护膜上方形成的额外的第三保护膜。第三保护膜可为用于形成第一和第二保护膜的任何材料。第三保护膜例如可包含氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锆、氧化锡、或它们的混合物。例如，第三保护膜可包含氧化硅和氧化铝的混合物。在另一实例中，第三保护膜包含氧化铝和氧化钛。在另一实例中，第三保护膜包含氧化锆。
最外保护层100是涂覆制品的最外层。此外，最外保护层100可具有不均匀的厚度。“不均匀的厚度”意指最外保护层100的厚度可在给定的单位面积上变化，例如最外保护层100可具有高和低点或区域。合适的保护层的非限制性实例描述在美国专利申请号10/007,382、10/133,805、10/397,001、10/422,095和10/422,096中。
最外保护层100可具有总厚度在20nm至120nm、优选25nm至110nm、更优选30nm至100nm、最优选35nm至90nm的范围内。
在以下编号的条款中进一步描述本发明：
条款1.涂覆制品，包含基材；在至少一部分基材上方施加的功能涂层，该功能涂层包含在至少一部分基材上方的第一介电层；在至少一部分第一介电层上方的第一金属性层；在至少一部分第一金属性层上方的第一底漆层；在至少一部分第一底漆层上方的第二介电层；在至少一部分第二介电层上方的第二金属性层；在至少一部分第二金属性层上方的第二底漆层；和在至少一部分第二底漆层上方的第三介电层；其中涂覆制品具有RgL*值为至少35且不大于55。
条款2.条款1的涂覆制品，其中RgL*值为至少42。
条款3.条款1的涂覆制品，其中RgL*值不大于52。
条款4.任何前述条款的涂覆制品，其中至少一个金属性层包含银、金、它们的混合物、或它们的合金中的至少一种。
条款5.任何前述条款的涂覆制品，其中至少一个金属性层包含金属性银。
条款6.任何前述条款的涂覆制品，其中第一金属性层包含5nm至20nm、优选7.5nm至15nm、更优选9nm至14nm、最优选9.7nm至13.3nm的总厚度。
条款7.任何前述条款的涂覆制品，其中第二金属性层包含5nm至20nm、优选5nm至15nm、更优选7.5nm至12.5nm、最优选7.5nm至10.3nm的总厚度。
条款8.条款1的涂覆制品，其中至少一个介电层包含锡酸锌、氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌、或铟掺杂的氧化锡、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。
条款9.条款1的涂覆制品，其中第一介电层包含在至少一部分基材上方的包含锡酸锌的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的合金、它们的混合物或它们的组合的第二膜。
条款10.条款9的涂覆制品，其中第二膜包含铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌、或铟掺杂的氧化锡、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。
条款11.条款8至10的涂覆制品，其中第一介电层包含10nm至55nm、优选20至53nm、更优选25至50nm、最优选29至48nm的总厚度。
条款12.任何前述条款的涂覆制品，其中第一介电层包含与第一金属性层直接接触的籽晶膜，其中籽晶膜包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。
条款13.任何前述条款的涂覆制品，其中第二介电层包含在至少一部分第一底漆层上方的包含氧化锌的第一膜，在至少一部分第一膜上方的包含锡酸锌的第二膜，和在至少一部分第二膜上方的包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的合金、它们的混合物或它们的组合的第三膜。
条款14.条款13的涂覆制品，其中第二介电层包含50nm至150nm、优选75nm至125nm、更优选90nm至110nm、最优选93nm至100nm的总厚度。
条款15.任何前述条款的涂覆制品，其中第二介电层包含与第二金属性层直接接触的籽晶膜，其中籽晶膜包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。
条款16.任何前述条款的涂覆制品，其中第三介电层包含在至少一部分第二底漆层上方的包含氧化锌或锡酸锌的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含氧化锌、锡酸锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的合金、它们的混合物或它们的组合的第二膜。
条款17.条款16的涂覆制品，其中第三介电层包含20nm至75nm、优选25nm至50nm、更优选30nm至45nm、最优选36nm至41nm的总厚度。
条款18.任何前述条款的涂覆制品，还包含最外保护涂层，所述最外保护涂层包含保护层，其中保护层包含以下至少一种：Si3N4、SiAlN、SiAlON、氧化钛、氧化铝、氧化硅、氧化锆、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。
条款19.条款18的涂覆制品，其中保护层包含20nm至120nm、优选25m至110nm、更优选30nm至100nm、最优选35nm至90nm的总厚度。
条款20.任一条款18至19的涂覆制品，其中保护层包含第一保护膜和在至少一部分第一保护膜上方形成的第二保护膜。
条款21.任一条款18至20的涂覆制品，其中保护层包含硅铝氧化物、钛铝氧化物、它们的混合物或它们的组合。
条款22.任何前述条款的涂覆制品，其中第一底漆层或第二底漆层中至少一个选自以下：锌、铝、钒、钨、钽、铌、锆、锰、铬、锡、镍、锗、镁、钼、银、硅碳、铝掺杂的银、铝锌、钒锌、钨钽、钛铌、锆铌、钨铌、铝铌、铝钛、钨钛、钽钛、锌钛、铝银、锌锡、铟锌、银锌、它们的混合物、它们的组合或它们的任何合金，并且其中底漆沉积为金属并随后被氧化。
条款23.条款22的涂覆制品，其中第一底漆层包含0.5nm至10nm、优选1.0nm至5nm、更优选1.0nm至2.5nm的总厚度。
条款24.条款22的涂覆制品，其中第二底漆层包含0.5nm至5nm、优选1nm至2.5nm、更优选1.5nm至2.5nm的总厚度。
条款25.涂覆制品，包含基材；在至少一部分基材上方施加的功能涂层，该功能涂层包含在至少一部分基材上方的第一介电层；在至少一部分第一介电层上方的第一金属性层；在至少一部分第一金属性层上方的第一底漆层；在至少一部分第一底漆层上方的第二介电层；在至少一部分第二介电层上方的第二金属性层；在至少一部分第二金属性层上方的第二底漆层；和在至少一部分第二底漆层上方的第三介电层，其中金属性层的总组合厚度为至少10纳米且不大于30纳米。
条款26.条款25的涂覆制品，其中金属性层的总组合厚度不大于22纳米。
条款27.条款26的涂覆制品，其中金属性层的总组合厚度不大于18纳米。
条款28.任一条款25至27的涂覆制品，其中至少一个金属性层包含银、金、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合中的至少一种。
条款29.任一条款25至28的涂覆制品，其中至少一个金属性层包含金属性银。
条款30.条款25的涂覆制品，其中至少一个介电层包含锡酸锌、氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌、或铟掺杂的氧化锡、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。
条款31.任一条款25至30的涂覆制品，其中第一介电层包含在至少一部分基材上方的包含锡酸锌、氧化锌、氮化硅或它们的混合物的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含氧化锌、锡酸锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的合金、它们的混合物或它们的组合的第二膜。
条款32.任一条款25至31的涂覆制品，其中第一介电层包含与第一金属性层直接接触的籽晶膜，其中籽晶膜包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。
条款33.任一条款25至31的涂覆制品，其中第二介电层包含在至少一部分第一底漆层上方的包含氧化锌的第一膜，在至少一部分第一膜上方的包含锡酸锌的第二膜，和在至少一部分第二膜上方的包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的合金、它们的混合物或它们的组合的第三膜。
条款34.条款25至33的涂覆制品，其中第二介电层包含与第二金属性层直接接触的籽晶膜，其中籽晶膜包含铝、铝银、铝锌、锌、锌锡、锗、镍、镁、碳化硅、氮化铝、铟锌、钒锌、镓锌、铟锡、铌、锆、钽、钼、铝掺杂的银、银、银锌、钛铝、它们的合金、它们的混合物、它们的氧化物、它们的低氧化物、它们的氮化物、它们的低氮化物或它们的组合。
条款35.条款25至34的涂覆制品，其中第三介电层包含在至少一部分第二底漆层上方的包含氧化锌或锡酸锌的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含氧化锌、锡酸锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡、它们的合金、它们的混合物或它们的组合的第二膜。
条款36.任何条款25至35的涂覆制品，还包含最外保护涂层，所述最外保护涂层包含保护层，其中保护层包含以下至少一种：Si3N4、SiAlN、SiAlON、氧化钛、氧化铝、氧化硅、氧化锆、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。
条款37.条款36的涂覆制品，其中保护层包含第一保护膜和在第一保护膜上方形成的第二保护膜。
条款38.任一条款36至37的涂覆制品，其中保护层包含硅铝氧化物、钛铝氧化物、它们的合金、它们的混合物或它们的组合。
条款39.任一条款25至38的涂覆制品，其中第一底漆层或第二底漆层中至少一个选自以下：锌、铝、钒、钨、钽、铌、锆、锰、铬、锡、镍、锗、镁、钼、银、硅碳、铝掺杂的银、铝锌、钒锌、钨钽、钛铌、锆铌、钨铌、铝铌、铝钛、钨钛、钽钛、锌钛、铝银、锌锡、铟锌、银锌、它们的混合物、它们的组合、或它们的任何合金、或它们的合金，并且其中底漆沉积为金属并随后被氧化。
条款40.制造涂覆制品的方法，包括：提供基材；和在至少一部分基材上方施加功能涂层，其中施加功能涂层步骤包括：在至少一部分基材上方形成第一介电层；在至少一部分第一介电层上方形成第一金属性层；在至少一部分第一金属性层上方形成第一底漆层；在至少一部分第一底漆层上方形成第二介电层；在至少一部分第二介电层上方形成第二金属性层；在至少一部分第二金属性层上方形成第二底漆层；和在至少一部分第二底漆层上方形成第三介电层，其中金属性层的总组合厚度为至少10纳米且不大于30纳米，并且其中RgL*值为至少35且不大于55。
条款41.条款40的方法，其中施加最外保护涂层，包括形成保护层，其中保护层包含以下至少一种：Si3N4、SiAlN、SiAlON、氧化钛、氧化铝、氧化硅、氧化锆、它们的合金、它们的混合物、或它们的组合。
以下实施例说明本发明的各种实施方案。然而，应理解本发明不限于这些具体的实施方案。
实施例
表3显示本发明的示例性涂层组成。报道的厚度是以纳米(nm)计的几何厚度，除非另外指出。基材是具有2.1mm厚度的透明玻璃基材，具有2.1mm的透明覆盖物。基底层是第一介电层，中心层是第二介电层，且顶层是第三介电层。
表3
| 样品 | 1 | 2 | 3 | 4 |
| 玻璃基材 | 2.1mm | 2.1mm | 2.1mm | 2.1mm |
| 玻璃覆盖物 | 2.1mm | 2.1mm | 2.1mm | 2.1mm |
| 基底 | 37 | 29.7 | 32.6 | 47.2 |
| 第1金属性层 | 13.3 | 10.6 | 9.7 | 9.9 |
| 中心 | 99.6 | 94.9 | 93.1 | 94.8 |
| 第2金属性层 | 7.9 | 7.6 | 7.5 | 10.3 |
| 顶 | 39.6 | 40.2 | 39.0 | 36.8 |
| 保护层 | 51 | 51 | 51 | 51 |
| 总金属性 | 21.2 | 18.1 | 17.2 | 20.2 |
表4显示对于表3的样品而言所得的颜色和光学性质。对于含基材和覆盖物的制品(层合材料)而言，R1是指从最接近涂层的外表面的反射率和R2是指从最远离涂层的外表面的反射率。
表4
本领域技术人员将容易理解可在不脱离前述描述中公开的构思的情况下对本发明进行修改。因此，本文详细描述的特定实施方案仅是说明性的，并不限制本发明的范围，本发明的范围由所附权利要求书以及它的任何和所有等同物的全部范围给出。
Claims (15)
1.涂覆制品，包含：
基材；
在至少一部分基材上方施加的功能涂层，该功能涂层包含：
在至少一部分基材上方的第一介电层；
在至少一部分第一介电层上方的第一金属性层；
在至少一部分第一金属性层上方的第一底漆层；
在至少一部分第一底漆层上方的第二介电层；
在至少一部分第二介电层上方的第二金属性层；
在至少一部分第二金属性层上方的第二底漆层；和
在至少一部分第二底漆层上方的第三介电层，
其中涂覆制品具有至少35且不大于55的RgL*值。
2.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中RgL*值为至少42。
3.根据权利要求2所述的涂覆制品，其中RgL*值不大于52。
4.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中至少一个金属性层包含银或金中的至少一种。
5.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中至少一个介电层包含锡酸锌、氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌、或铟掺杂的氧化锡。
6.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中第一介电层包含在至少一部分基材上方的包含锡酸锌的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡的第二膜。
7.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中第二介电层包含在至少一部分第一底漆层上方的包含氧化锌的第一膜，在至少一部分第一膜上方的包含锡酸锌的第二膜，和在至少一部分第二膜上方的包含氧化锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡的第三膜。
8.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中第三介电层包含在至少一部分第二底漆层上方的包含氧化锌或锡酸锌的第一膜，和在至少一部分第一膜上方的包含氧化锌、锡酸锌、氮化硅、铝掺杂的氧化锌、镓掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、镁掺杂的氧化锌、钒掺杂的氧化锌或铟掺杂的氧化锡的第二膜。
9.根据前述权利要求中任一项的涂覆制品，还包含最外保护涂层，所述最外保护涂层包含保护层，其中所述保护层包含以下至少一种：Si3N4、SiON、SiAlN、SiAlON、氧化钛、氧化铝、氧化硅、或氧化锆。
10.根据权利要求9所述的涂覆制品，其中保护层包含硅铝氧化物或钛铝氧化物。
11.涂覆制品，包含：
基材；
在至少一部分基材上方施加的功能涂层，该功能涂层包含：
在至少一部分基材上方的第一介电层；
在至少一部分第一介电层上方的第一金属性层；
在至少一部分第一金属性层上方的第一底漆层；
在至少一部分第一底漆层上方的第二介电层；
在至少一部分第二介电层上方的第二金属性层；
在至少一部分第二金属性层上方的第二底漆层；和
在至少一部分第二底漆层上方的第三介电层，
其中金属性层的总组合厚度为至少10纳米且不大于30纳米。
12.根据权利要求11所述的涂覆制品，其中金属性层的总组合厚度不大于22纳米。
13.根据权利要求12所述的涂覆制品，其中金属性层的总组合厚度不大于18纳米。
14.根据权利要求11-13中任一项所述的涂覆制品，其中至少一个金属性层包含金属性银。
15.制造涂覆制品的方法，包括：
提供基材；和
在至少一部分基材上方施加功能涂层，其中施加功能涂层步骤包括：
在至少一部分基材上方形成第一介电层；
在至少一部分第一介电层上方形成第一金属性层；
在至少一部分第一金属性层上方形成第一底漆层；
在至少一部分第一底漆层上方形成第二介电层；
在至少一部分第二介电层上方形成第二金属性层；
在至少一部分第二金属性层上方形成第二底漆层；和
在至少一部分第二底漆层上方形成第三介电层，
其中金属性层的总组合厚度为至少10纳米且不大于30纳米，并且
其中RgL*值为至少35且不大于55。
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