CN113613802A - 避免计量设备的清洁装置的微生物侵染的方法和清洁装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于避免清洁装置(X2)，尤其是用于计量设备的清洁装置(X2)的微生物侵染的方法，其中该清洁装置(X2)具有至少一个机械清洁元件(X29)，其具有至少一个清洁表面(X31)，其中该方法的特征在于，该至少一个的机械清洁元件(X29)的至少一个的清洁表面(X31)至少暂时施加有氧化剂。本发明还涉及一种用于清洁尤其用于分散体、特别是涂料的计量设备的方法，一种清洁装置和一种计量设备。

Description

避免计量设备的清洁装置的微生物侵染的方法和清洁装置

技术领域

本发明涉及一种用于避免清洁装置，尤其是用于计量设备的清洁装置的微生物侵染的方法，其中该清洁装置具有至少一个机械清洁元件，其具有至少一个清洁表面。此外本发明还涉及一种用于清洁计量设备的方法，一种清洁装置和一种计量设备。

背景技术

计量设备能够根据要求精确提供一定量的分散体。在本发明的意义中，计量设备基本上是指能够计量供应材料的所有系统。计量设备尤其适用于混合分散体颜料。

例如在DE 196 54 829 A1中说明了一种用于颜料的计量设备。用于分散体的计量设备中的一个特殊问题是其被真菌和细菌微生物侵染。这是由于分散体储存在计量设备中的相应容器中，有时储存数周和数月。微生物侵染不限于计量设备中的储存容器，而是分布在计量设备与受侵染的分散体接触的所有元件中，尤其是计量单元，通过其可以将储存的分散体以控制量给出。计量单元通常包括所谓的泵头，通过该泵头可以从计量设备中给出分散体。随着时间的推移，泵头，尤其是其排出口或排出喷嘴会被分散体残留物堵塞，因此需要对该排出口进行定期的、通常是机械的清洁。为此目的，从实践中已知清洁装置，其例如包括旋转刷，借助该旋转刷可靠地清洁排出口。当清洁装置运行时，旋转刷本身在清洁浴中被清洁或漂洗，在清洁运行时其至少部分地浸入该清洁浴中。如果没有定期更换清洁浴，可能会形成真菌和细菌，从而污染清洁装置。如果计量设备具有多个带有相应多个泵头的分散体存储容器，例如在颜料混合设备中的情况，则存储的分散体的微生物侵染也可以扩散到其他分散体。这可能通过清除泵头的排出口或排出喷嘴处的受侵染的分散体残留物然后集中在清洁浴中而发生。然后通过在清洁浴中持续冲洗的清洁刷将微生物侵染分配到最初未受影响的分散体的泵头。

发明内容

因此，本发明的目的是提供一种方法，通过该方法有效地避免清洁装置的微生物侵染，尤其是计量设备的清洁装置的微生物侵染。

本发明的另一个目的是提供一种用于计量设备、尤其是用于分散体的计量设备、特别是颜料计量设备的清洁装置，其中有效地避免了清洁装置和计量设备的微生物侵染。

其它的目的从以下的说明中得出。

在方法方面，上述目的通过根据权利要求1的前序部分的方法解决，即，至少一个机械清洁元件的至少一个的清洁表面至少暂时施加有氧化剂。

根据本发明的方法的特别优势在于，通过为至少一个的机械清洁元件施加氧化剂可有效地、在长时间段内防止微生物侵染，例如细菌、霉菌或酵母菌的积累和随后的增加。如果微生物侵染已经开始，根据本发明的方法可以可靠地将其消除。

令人惊讶地，已经表明，利用根据本发明的用于避免计量设备、尤其是颜料计量设备中的清洁装置的微生物侵染的方法，可以保护储存在此处的颜料分散体在数月内免受微生物侵染，因为一方面，如上所述，有效地防止了清洁装置本身中微生物侵染的积累和随后的增加，并且与此相关，也有效阻止了已经发生了的微生物侵染在待用清洁装置清洁的部件中的扩散。根据本发明，这通过始终为清洁装置的一个或多个机械清洁元件施加氧化剂来实现。储存在计量设备中的分散体在此可以不含防腐剂，并且仍然具有长期的抗微生物侵染保护。即使在频繁使用计量设备和用新鲜分散体反复填充容器的情况下，在定期清洁中也通过根据本发明的方法保证了防止真菌和细菌侵染。

对清洁装置的至少一个的清洁元件的至少一个的清洁表面的施加可以连续地或不连续地进行，例如以周期性时间间隔(例如每6、12或24小时)进行。这尤其是通过清洁装置所用于的，并且可能有利于微生物侵染的形成或增殖的环境条件(温度、湿度等)来确定的。

原则上，有各种各样的氧化剂适用于预防或消除微生物侵染。气态、液态或固态的氧化剂都是可行的。液态和固态氧化剂优选作为水溶液使用，因为这简化了操作。因此氧化剂优选为氧化流体。气态氧化流体也已证明特别合适。

为了实现至少的一个清洁元件的至少一个清洁表面的尽可能彻底和完全的施加，本发明的一种有利的设计方案规定，将氧化剂喷洒或吹洒到至少一个的机械清洁表面上。此外，优选将氧化剂基本上沿机械清洁表面的纵向延伸喷洒或吹洒到至少一个的机械清洁表面上，优选在整个表面上。由此确保了在进行施加时没有未经处理的、可能会受到微生物侵染的表面区段。

在化学组成方面，有多种氧化剂可供使用。氧化剂有利地是基于氧或氯的氧化剂或其混合物，优选基于氧的氧化剂。氧化剂优选选自由次氯酸钠、次氯酸钾、Javel水、氯、臭氧、过氧化氢、过氧乙酸、过硼酸盐、过碳酸盐及其混合物组成的组。这些氧化剂是强氧化剂，可有效阻止微生物的生长。

氧化剂特别优选选自由次氯酸钠、过氧化氢、臭氧及其混合物组成的组。已证明来自上述组的氧化剂特别适用于保护分散体免受微生物侵染，因为其是有效的氧化剂。此外，这些氧化剂尤其是在为分散体设定的有利的量下基本上没有问题。特别地，所提及的氧化剂在有利设定的量下不会导致分散体的颜色和/或质量的显著变化。

如上所述，优选使用氧化流体，即气态或液态氧化剂。已经证明气态氧化剂是特别合适的。根据本发明的一个特别优选的实施形式，氧化剂包含臭氧。如果氧化剂含有臭氧或使用臭氧作为氧化剂，则具有特别持久的抗菌作用。如果清洁装置与用于分散体的计量设备结合使用，则证明臭氧与分散体的常见成分，尤其是分散体颜料或染料浆的常见成分相容是有利的。此外，臭氧很容易在使用地点产生。

例如，臭氧可以通过高锰酸钾与浓硫酸的化学反应或通过尤其在低温下电解稀硫酸产生。在紫外线辐射的作用下，空气或氧气也可以产生臭氧。

根据本发明方法的一个优选实施形式，臭氧在臭氧发生器中由空气，尤其是干燥空气、氧气或具有氩气或二氧化碳的氧气混合物产生，该臭氧发生器包括电压源，尤其是高压发生器，以及放电单元。常见臭氧发生器的结构在现有技术中是已知的。根据臭氧生产的常见变体方案，氧分子在放电单元中优选通过无声放电，即所谓的“电晕放电”分解为氧原子，之后依旧在放电丝的等离子体中发生臭氧合成和臭氧富集。这里，气体混合物的最终浓度中所产生臭氧的比例在空气作为起始气体时可以为1至5重量％，在氧气作为起始气体时可以为6至13重量％。空气优选用作产生臭氧的起始气体。当臭氧在发生器中产生时，臭氧由此由廉价的原材料以清洁的方式产生。

根据本发明的一种特别有利的设计方案，在清洁装置运行期间，至少暂时在清洁浴中清洁至少一个的机械清洁元件的至少一个的清洁表面，其中选择性地也至少暂时为清洁浴施加氧化剂。

在清洁装置的该设计方案中，至少一个的机械清洁元件的至少一个的清洁表面本身被清洁，从而将附着在至少一个的清洁表面上的微生物污染物从清洁表面上洗掉。因此，清洁装置可以在较长时间内完全自足地运行。由于微生物侵染因此从清洁表面到达清洁浴，因此除了清洁表面之外，为清洁浴本身也至少暂时施加氧化剂是有意义的。在这种情况下，可以更有效地对抗微生物侵染，因为直接对抗清洁浴中的微生物侵染残留物。

根据本发明的另一有利设计方案，在清洁浴外部将氧化剂喷洒或吹洒到至少一个的机械清洁元件的至少一个的清洁表面上。由此，可以将氧化剂更目的性地导向该至少一个的清洁表面。

根据本发明，清洁装置的机械清洁元件具有至少一个清洁表面。这可以设计为不同的。环绕的清洁表面是优选的，尤其是在机械清洁元件的圆柱形构造的情况下。不言而喻，除了具有圆形底面的圆柱形设计，椭圆形或多边形底面也是可能的。代替环绕的清洁表面，多个彼此不连接的清洁表面也是可能的，例如多个基本上平坦的清洁表面，其例如可以以径向向外指向并且围绕共同轴线旋转的方式布置。

在设计该至少一个的清洁表面时，必须考虑到，原则上所有机械清洁技术都可以使用在本发明的范围内，例如擦拭、刷洗、打磨等。遵循分别所选取的清洁技术，相应设计清洁表面，例如设计为刷子或者海绵。根据本发明的一个有利设计方案，至少一个的清洁元件设计为刷子并且其清洁表面相应地构造为刷子表面。特别优选圆柱形或辊形刷子的构造。与刷子表面的几何构造无关，氧化剂优选基本上平行于刷毛喷入或吹入刷子中，从而可以沿其整个长度清洁刷毛的微生物侵染，这带来特别彻底的清洁结果。

如果至少一个的机械清洁元件被设计为圆柱形或辊形旋转刷子并且如果进一步为清洁元件使用清洁浴，则刷子在清洁装置运行时可以部分浸入浴中，并且由此，在清洁过程中，刷子本身在清洁浴中持续被清洁或冲洗，从而实现了高度的自动化。

关于氧化剂供应的结构设计，优选的解决方案是通过至少一个供应管线供应氧化剂，其中该至少一个的供应管线基本上沿着至少一个的机械清洁元件的至少一个的清洁表面的纵向延伸布置。这里，该至少一个的供应管线还具有一个，优选多个，朝向至少一个的清洁表面定向的排出开口用于喷洒或吹洒氧化剂。该结构性解决方案的特征在于能够简单且快速实施的结构并且使得至少一个的机械清洁元件的至少一个的清洁表面能够在尽可能整个表面上施加有氧化剂。这种结构性解决方案特别适用于使用圆柱形或辊形机械清洁元件，例如圆柱形或辊形海绵或刷子。

本发明的另一方面涉及一种用于清洁计量设备，尤其是用于分散体的计量设备，特别是颜料计量设备的方法，其中该计量设备具有至少一个带泵头的计量单元，其中该泵头通过具有至少一个机械清洁元件的清洁装置清洁，其中该清洁元件具有至少一个清洁表面，其中使用根据权利要求1至13中任一项所述的方法避免了所述清洁装置的微生物侵染。

上面所说明的优点相应地适用于该清洁方法的优点。在具有多个计量单元的颜料计量设备中使用该清洁方法时这些优点尤其有利，因为根据本发明的方法可以有效地防止微生物侵染从一个计量单元扩散到多个或所有其他计量单元，这在实践中已知的清洁过程一直是一个特定的问题。

在装置方面，开头提出的目的通过一种用于计量设备、尤其是用于分散体的计量设备、特别是用于颜料计量设备的清洁装置来实现，该清洁装置包括至少一个机械清洁元件，其中该清洁元件具有至少一个清洁表面；以及用于氧化剂的供给单元，用于至少暂时地将氧化剂施加到该至少一个的清洁表面上，其中该清洁装置配置用于清洁根据权利要求14所述的计量设备。

同样，上述内容相应地适用于根据本发明的装置的优点。

根据清洁装置的一个有利设计方案，清洁装置包括用于在清洁装置运行时至少暂时清洁至少一个的机械清洁元件的至少一个的清洁表面的清洁浴。

本发明的另一方面涉及一种用于分散体的计量设备，尤其是颜料计量设备，其包括根据权利要求15或16的清洁装置。

除了根据本发明的可施加有氧化剂的清洁装置之外，根据本发明的计量设备还可包括用于避免计量设备的其他部分，尤其是位于一个/多个容器中的分散体的微生物侵染的装置。计量设备尤其可以包括这样的装置，利用该装置可以将氧化剂，如臭氧引入其中存储有分散体的容器中的一个或者多个，如国际专利申请PCT/EP2019/052537(具体参见PCT/EP2019/052537中的图1和相关附图说明)所说明的。可以例如借助于合适的适配器将氧化剂，尤其是臭氧引入计量设备的一个/多个容器中，如国际专利申请PCT/EP2019/052537所说明的(具体参见PCT/EP2019/052537的图3、5、6、7a、7b、8a和8b以及相应附图说明)。在此方面明确参考国际专利申请PCT/EP2019/052537中的公开内容。如本文所述，清洁装置的至少一个的机械清洁元件的清洁表面的至少暂时的施加，结合将氧化剂引入一个或多个其中储存有分散体的容器中，如PCT/EP2019/052537所说明的，提供了本发明的一个特别优选的实施形式。

附图说明

下面借助示出了本发明的一个实施例的附图来解释本发明。图中：

图1A示出了具有清洁装置的、用于分散体颜料的计量设备的示意性俯视图，

图1B示出了图1A的计量设备的示意性侧视图，

图2示出了图1的计量设备的清洁装置的透视图，

图3示出了图2的清洁装置根据图2的剖面线III-III的横截面，

图4A示出了图2的清洁装置氧化剂供应部的放大透视图，

图4B示出了图2的清洁装置氧化剂供应部的相对于图4A旋转的透视图。

具体实施方式

图1示出了具有清洁装置的、用于混合分散体颜料的计量设备的优选实施形式的示意性俯视图。当然，相同的结构原则上也可用于计量和/或混合其他材料。

图1的计量设备具体包括多个容器1，其在当前情况下以旋转木马的方式布置在以点划线示出的盘X4上，其中每个容器1通过馈送导管与计量单元X1连接。盘X4的驱动器通过控制线L1与控制计算机12连接。此外，计量单元X1分别通过控制线L11与控制计算机连接。如从图1的俯视图中可以看出的，颜料容器1之一的计量单元X1布置在容纳容器，在当前情况下是桶9的上方，从而可以将储存在该容器1中的分散体通过所属的计量单元X1计量加入桶9。桶9本身又立在秤10上，该秤通过控制线L2与控制计算机12连接。控制计算机12又通过控制线L3与标签打印机13连接。

与定位在桶9上方的计量单元X1沿顺时针方向X5相邻的计量单元X1定位在清洁装置X2的上方，使得还要在图1B至图4B中详细说明的清洁装置X2可以清洁计量单元X1的泵头X6(参见图1B)。如下文还要更详细地解释的，清洁装置X2包括呈旋转圆柱形刷子X29形式的机械清洁元件，其具有设计为刷子表面的圆柱形清洁表面X31，借助该清洁表面，可以为每个计量单元X1的泵头X6清除颜料残留物。

同样如图1A示意性所示，清洁装置X2通过供应管线与臭氧发生器3连接，空气或氧气又通过隔膜泵14被引入臭氧发生器中。在臭氧发生器3中，例如通过电晕放电产生臭氧，该臭氧通过供应管线X24(仅在图1A中示意性示出)引入清洁装置X2中以作用于旋转刷子X29。

当计量设备运行时，在顾客输入所需色调和所需体积后，控制计算机12计算储存在容器1中的基本颜料的比例，并以这样的方式控制盘X4的驱动器，使得将具有所需基本颜料的容器1的计量单元X1依次定位在桶9之上并将计算出的量给出到桶9中，以便在桶9中获得所需色调。这通过经由线路L2与控制计算机连接的秤10进行监控。控制盘X4的驱动器，使其始终沿顺时针方向X5旋转。结果，参与混色过程的每个计量单元X1的泵头X6在使用后立即被清洁装置X2清洁并且因此清除了分散体残留物。通过标签打印机13打印颜料混合物的相应标签。

图2和图3以透视图和根据图2的剖面线III-III的横截面示出图1的计量设备的清洁装置X2。

根据图3，清洁装置X2包括在本视图中沿顺时针方向X32旋转的刷子X31作为中心元件，其在运行期间以刷子表面X31布置在上部的刷毛清洁泵头X6上的分散体残留物，而刷子X29底部的浸入清洁浴X34中的刷毛上的颜料残留物可以在清洁浴X34中被清除。在当前情况下，清洁浴X34由位于容器X33中的水浴形成。如尤其在图2中可以看出的，经由供应管线X24将作为氧化剂的含臭氧的气流通过多个布置在该供应管线的排出区域X26中的出口开口X28(参见图4B)吹洒到刷子X29上，其中该气流基本上平行于刷子表面X31的刷毛吹入，即基本上径向吹入刷子。在当前情况下，清洁浴X34的容器X33通过固定型材X22与壳体X21连接。

在图4A和图4B中再次以两种视图示出了固定导轨X22连同用于含臭氧的气流的供应管线X24的透视图，其中在图4B的图示中，用于气流的出口开口X28在供应管线X24平行于刷子X29的轴线定向的排出区域X26中清晰可见。

清洁装置和清洁方法的特殊优势在于，无论是在清洁浴X34还是在刷子X29中，都不存在细菌和真菌的微生物侵染的风险，因为作为氧化剂被吹入的臭氧有效地防止这种情况发生。因此，根据本发明的用于避免清洁装置X2的微生物侵染的方法已被证明是极其有效的。此外，清洁装置X2污染其他泵头X6的风险被最小化，即使其清洁了受微生物侵染的泵头X6，并因此在圆柱形刷子表面X31和清洁浴X34中集中有相应的污染物，然后清洁了其他泵头X6。

Claims (17)

1.用于避免清洁装置(X2)，尤其是用于计量设备的清洁装置(X2)的微生物侵染的方法，其中所述清洁装置(X2)具有至少一个机械清洁元件(X29)，所述机械清洁元件具有至少一个清洁表面(X31)，

其特征在于，

所述至少一个的机械清洁元件(X29)的至少一个的清洁表面(X31)至少暂时施加有氧化剂。

2.根据权利要求1所述的方法，

其特征在于，

将氧化剂喷洒或吹洒到所述至少一个的机械的清洁表面(X31)上。

3.根据权利要求1或2所述的方法，

其特征在于，

将氧化剂基本上沿所述至少一个的清洁表面(X31)的纵向延伸喷洒或吹洒到所述至少一个的清洁表面(X31)上，优选在整个表面上。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的方法，

其特征在于，

所述氧化剂为氧化流体，尤其是气态的氧化流体。

5.根据权利要求4所述的方法，

其特征在于，

所述氧化流体含有臭氧。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的方法，

其特征在于，

在清洁装置(X2)运行期间，至少暂时在清洁浴(X34)中清洁所述至少一个的机械清洁元件(X29)的至少一个的清洁表面(X31)，其中选择性地也至少暂时为所述清洁浴(X34)施加氧化剂。

7.根据权利要求6所述的方法，

其特征在于，

在所述清洁浴(X34)外部将氧化剂喷洒或吹洒到至少一个的机械清洁元件(X29)的至少一个的清洁表面(X31)上。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的方法，

其特征在于，

所述至少一个的机械清洁元件(X2)具有环绕的清洁表面(X31)。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的方法，

其特征在于，

所述至少一个的机械清洁元件(X29)形成为圆柱形或者辊形的。

10.根据权利要求1至9中任意一项所述的方法，

其特征在于，

所述至少一个的机械清洁元件(X29)包括至少一个刷子。

11.根据权利要求10所述的方法，

其特征在于，

所述至少一个的机械清洁元件(X29)形成为旋转的圆柱形的刷子。

12.根据权利要求10或11所述的方法，

其特征在于，

氧化剂基本上平行于刷毛喷入或吹入刷子中。

13.根据权利要求1至12中任意一项所述的方法，

其特征在于，

通过至少一个供应管线(X24，X26)供应氧化剂，其中所述至少一个的供应管线(X24，X26)基本上沿着至少一个的机械清洁元件(X29)的至少一个的清洁表面(X31)的纵向延伸布置，其中，所述至少一个的供应管线(X24，X26)具有一个，优选多个，朝向所述至少一个的清洁表面(X31)定向的排出开口(X28)用于喷洒或吹洒氧化剂。

14.用于清洁计量设备，尤其是用于分散体的计量设备，特别是颜料计量设备的方法，其中所述计量设备具有至少一个带泵头(X6)的计量单元(X1)，其中所述泵头(X6)通过具有至少一个机械清洁元件(X29)的清洁装置(X2)清洁，其中所述机械清洁元件具有至少一个清洁表面(X31)，

其特征在于，

使用根据权利要求1至13中任一项所述的方法避免所述清洁装置(X2)的微生物侵染。

15.用于计量设备、尤其是用于分散体的计量设备、特别是用于颜料计量设备的清洁装置(X2)，所述清洁装置包括：至少一个机械清洁元件(X29)，其中所述机械清洁元件具有至少一个清洁表面(X31)；以及用于氧化剂的供给单元(X24，X26)，用于至少暂时地将氧化剂施加到所述至少一个的清洁表面(X31)上，其中所述清洁装置(X2)配置用于清洁根据权利要求14所述的计量设备。

16.根据权利要求15所述的清洁装置，

其特征在于，

所述清洁装置(X2)包括用于在所述清洁装置(X2)运行时至少暂时清洁至少一个的机械清洁元件(X29)的至少一个的清洁表面(X31)的清洁浴(X34)。

17.用于分散体的计量设备，尤其是颜料计量设备，其包括根据权利要求15或16所述的清洁装置(X2)。

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