CN113578642A - 涂布设备和涂布方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种涂布设备和涂布方法。涂布设备包括承载平台、涂布装置和振动装置。涂布装置与承载平台相对设置。振动装置可移动地设置在承载平台的一侧。本申请提供的涂布设备可以提高涂层厚度的均匀性。

Description

涂布设备和涂布方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种涂布设备和涂布方法。

背景技术

显示面板的制作过程中需要使用涂布设备将有关材料均匀地涂覆在基板上以形成厚度均匀的膜层。但实际的涂布过程中，由于基板上的粉尘颗粒及设备自身涂布精度的影响，涂布在基板上的涂层常出现条状、块状等凸起，导致涂层的成膜厚度不均匀，从而影响显示质量。

发明内容

本申请的目的在于提供一种涂布设备和涂布方法，可以提高涂层厚度的均匀性。

本申请实施例提供一种涂布设备，包括：

承载平台；

涂布装置，与所述承载平台相对设置；

振动装置，可移动地设置在所述承载平台的一侧。

在一些实施例中，所述振动装置包括超声波发生器，所述超声波发生器可移动地设置在所述承载平台靠近所述涂布装置的一侧，或

所述振动装置包括所述超声波发生器，所述超声波发生器的振动频率可调。

在一些实施例中，所述涂布装置包括涂布头和涂布头移动组件，所述涂布头移动组件与所述涂布头可拆卸地连接；

所述振动装置与所述涂布头移动组件可拆卸地连接，所述振动装置通过所述涂布头移动组件可移动地设置在所述承载平台的一侧。

在一些实施例中，所述振动装置包括振动源和振动源移动组件，所述振动源与所述振动源移动组件连接；

所述振动源移动组件可移动地设置在所述承载平台的一侧。

在一些实施例中，所述振动源移动组件包括第一振动源移动组件和第二振动源移动组件，所述振动源通过所述第一振动源移动组件沿第一方向延伸，所述振动源通过所述第二振动源移动组件沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向交叉。

在一些实施例中，所述振动装置包括多个振动源，至少一个所述振动源与所述第一振动源移动组件连接，至少一个所述振动源与所述第二振动源移动组件连接。

在一些实施例中，所述涂布设备还包括检测装置，所述检测装置用于获取涂布异常信息并控制所述振动装置移动至所述目标位置。

本申请实施例还提供一种涂布方法，采用如上所述的任一项所述的涂布设备进行涂布，所述涂布方法包括：

将基板置于所述承载平台上；

通过所述涂布装置在所述基板上形成可流动的涂层；

通过所述振动装置对所述涂层进行平坦化处理。

在一些实施例中，所述涂布设备还包括检测装置，所述通过所述振动装置对所述涂层进行平坦化处理的步骤包括：

检测所述涂层的异常区域；

移动所述振动装置至所述异常区域以对所述异常区域内的涂层进行平坦化处理。

在一些实施例中，所述振动装置包括超声波发生器，所述通过所述振动装置对所述涂层进行平坦化处理的步骤之前，还包括：

调整所述超声波发生器的振动频率以使所述振动频率与所述涂层的共振频率相匹配。

本申请实施例提供的涂布设备包括承载平台、涂布装置和振动装置。涂布装置与承载平台相对设置。振动装置可移动地设置在承载平台的一侧。本申请实施例提供的涂布设备在涂布装置涂布完成后，通过振动装置对涂布装置涂布后的膜层进行平坦化处理，可以提高涂层厚度的均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请的实施例的技术方案，下面将对本申请的实施例描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是申请的一些实施例和实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请第一实施例提供的涂布设备的第一结构示意图。

图2为本申请第一实施例提供的涂布设备的第二结构示意图。

图3为本申请第一实施例提供的涂布设备的第三结构示意图。

图4为本申请第二实施例提供的涂布设备的第一结构示意图。

图5为本申请第二实施例提供的涂布设备的第一结构的俯视图。

图6为本申请第二实施例提供的涂布设备的第二结构的俯视图。

图7为本申请第二实施例提供的涂布设备的第三结构的俯视图。

图8为本申请第二实施例提供的涂布设备的第四结构的俯视图。

图9为本申请实施例提供的涂布方法的流程图。

图10为本申请实施例提供的涂布方法的第一结构示意图。

图11为本申请实施例提供的涂布方法的第二结构示意图。

图12为本申请实施例提供的涂布方法的第三结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明的是，本申请所提到的[第一]和[第二]等序号用语并不代表任何顺序、数量或者重要性，只是用于区分不同的部分。本申请所提到的[上]、[下]、[左]和[右]等方向用语仅是参考附加图式的方向。本申请提及的[一侧]和[另一侧]等位置关系用语仅用于区分不同的部分。因此，使用的序号用语、方向用语和位置关系用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征的[一侧]、[上]或[下]可以包括第一和第二特征直接，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。贯穿整个说明书，相同的附图标记表示相同的元件。因为附图所例示的各个组件的尺寸和厚度是为了说明方便表示的，所以本公开未必限于各个组件的所例示的尺寸和厚度。

本申请提供一种涂布装置。如图1所示，本申请第一实施例提供的涂布设备10包括承载平台11、涂布装置12、振动装置13和检测装置14。

承载平台11用于承载基板(图中未显示)。在涂布设备10进行涂布时，基板位于承载平台11上。

涂布装置12与承载平台11相对设置。如图1所示，涂布装置12位于承载平台11的上方。基板位于承载平台11和涂布装置12之间。涂布装置12包括涂布头121和涂布头移动组件122。涂布头121和涂布头移动组件122位于承载平台11设置有基板的一侧。涂布头121与涂布头移动组件122可拆卸地连接。

涂布头121用于喷涂液态材料，从而在基板上形成涂层。具体的，当涂布设备10用于显示面板的制程中时，涂布头喷涂液态材料可以为有机材料，比如光刻胶。光刻胶在基板的表面固化后形成光阻层。

涂布头移动组件122包括导轨1221和移动块1222。导轨1221位于承载平台11的上方。移动块1222与导轨1221连接。移动块1222与涂布头可拆卸地连接。移动块1222可在导轨1221上移动，继而涂布头在承载平台11的一侧可移动，从而实现涂布头121在基板的表面均匀地喷涂。

可以理解的，涂布头121可以通过螺丝或卡扣实现与涂布头移动组件122的可拆卸连接。本申请对涂布头121与涂布头移动组件122可拆卸连接的方式不作具体限定。

结合图1和图2，振动装置13位于承载平台11设置有涂布装置12的一侧。振动装置13与涂布头移动组件122可拆卸地连接。具体的，当涂布头121完成光刻胶的涂布后，可以将涂布头121从涂布头移动组件122卸下。将振动装置13与涂布头移动组件122连接，从而实现振动装置13在承载平台11的上方可移动。

可以理解的是，振动装置13与涂布头移动组件122的连接方式和涂布头121与涂布头移动组件122连接的连接方式相同，在此不再累述。

当涂布装置12在基板上涂布光刻胶后。光刻胶在基板的表面容易存在厚度不均的问题。因此，在涂布装置12涂布完成后。可以通过振动装置13对光刻胶进行平坦化处理。

具体的，振动装置13包括振动源131。振动源131可以包括超声波发生器1311。超声波发生器1311可以与涂布头移动组件122可拆卸地连接，从而实现超声波发生器1311在承载平台11上可移动。

在本申请中，超声波发生器1311可以对光刻胶进行平坦化处理。超声波发生器1311是指将电功率转换为超声波的仪器。即，在本申请中，超声波发生器1311可以发射出超声波。超声波通过空气传递至基板表面的光刻胶中，从而使得光刻胶内的分子发生振动，进而可以改善光刻胶涂布不均匀的问题。提高光刻胶的平整度。

振动装置13对光刻胶进行平坦化处理的过程中，超声波发生器1311与光刻胶之间具有间隙。超声波发生器1311与光刻胶之间具有间隙可以避免超声波发生器1311与光刻胶的直接接触导致光刻胶或基板的损毁。

超声波发生器1311的振动频率可以进行调节。可以根据光刻胶的材料和厚度调节超声波发生器1311的振动频率。当超声波发生器1311的振动频率与光刻胶的共振频率一致时，光刻胶内的分子的振动幅度最大，有利于节省超声波发生器1311的振动时间和提高超声波发生器1311的平坦化效果。

检测装置14与导轨1221连接。检测装置14可以通过导线电连接于涂布头移动组件122(图中未显示导线)。检测装置14可以检测基板表面的光刻胶的异常涂布信息并控制振动装置13移至目标位置。

本申请中以涂布装置12涂布光刻胶为例。因此，异常涂布信息是指基板表面光刻胶涂布不均匀的坐标点。目标位置是指光刻胶涂布不均匀的坐标点对应的区域。

具体的，检测装置14可以包括CCD摄像头。CCD摄像头采集涂布后的光刻胶的图像，并获取光刻胶涂布不均匀的位置对应的坐标点。进一步地，CCD摄像头将采集到的坐标信息传输至涂布头移动组件122，并控制涂布头移动组件122移动至光刻胶涂布不均匀的坐标点对应的区域。涂布头移动组件122与超声波发生器1311连接。即，超声波发生器1311移动至光刻胶涂布不均匀所对应的区域。超声波发生器1311针对光刻胶涂布不均匀的区域进行振动，使得光刻胶涂布不均匀的区域的分子发生流动，有利于改善因涂布装置12的差异导致光刻胶涂布不均的现象，可以在提高光刻胶平整度的同时节约振动装置13的平坦化时间。

可以理解的是，检测装置14也可以通过其他的固定件固定在承载平台11的上方。本申请对检测装置14的固定位置不作具体限定。

可以理解的是，本申请的涂布设备10也可以不设置检测装置14。当涂布设备10不设置检测装置14时，超声波发生器1311对基板的所有光刻胶的涂布区域进行平坦化处理，从而提高整个涂层的厚度的均匀性。

可以理解的是，本申请的涂布头移动组件122可以包括两个移动块1222。两个移动块1222均在导轨1221上可移动。其中一移动块1222与涂布头121连接，另一移动块1222与超声波发生器1311连接。本申请中设置涂布头移动组件122包括两个移动块1222，可以避免涂布头和超声波发生器1311与移动块1222轮番拆卸和组装，有利于提高涂布装置12操作的便捷性。

结合图2和图3，振动装置13可以包括多个振动源131。即，振动装置13可以包括多个超声波发生器1311。多个超声波发生器1311与涂布头移动组件122连接。具体的，多个超声波发生器1311沿第一方向x排列，且多个超声波发生器1311沿第二方向y移动。第一方向x和第二方向y之间的夹角为90度。如图3所示，多个超声波发生器1311的振动区域沿第一方向x的宽度大于光刻胶在第一方向x上的截面宽度。当多个超声波发生器1311沿第二方向y移动时，上述设置可以保证超声波发生器1311的振动区域覆盖光刻胶的涂布区域，有利于对整个光刻胶的涂布区域进行平坦化。

可以理解的是，多个超声波发生器1311可以沿第二方向y排列，且沿第一方向x移动。

可以理解的是，第一方向x和第二方向y之间的夹角可以大于0度，第一方向x和第二方向y之间的夹角可以小于或等于90度。具体的，第一方向x和第二方向y之间的夹角可以为10度、30度、45度、60度或80度。

如图4和图5所示，本申请第二实施例提供的涂布设备10与本申请第一实施例提供的涂布设备10的区别在于：

涂布装置12的涂布头移动组件122包括机械手1223。涂布头121与机械手1223连接。涂布装置12通过机械手1223的移动从而实现涂布头121在基板的表面喷涂光刻胶。

振动装置13包括振动源131和振动源移动组件132。振动源131与振动源移动组件132连接。振动源131可以包括超声波发生器1311。具体的，如图5所示，振动源移动组件132包括第一振动源移动组件1321和第二振动源移动组件1322。第一振动源移动组件1321包括第一子滑轨1321a和第一滑块1321b。第二振动源移动组件1322包括第二子滑轨1322a。第一子滑轨1321a、第二子滑轨1322a和第一滑块1321b均位于承载平台11的上方。第一滑块1321b与第一子滑轨1321a以及第二子滑轨1322a连接。第一滑块1321b与超声波发生器1311连接。超声波发生器1311通过第一子滑轨1321a实现在第一方向x上的延伸。超声波发生器1311通过第二子滑轨1322a实现在第二方向y上的延伸。即，第一滑块1321b通过第一子滑轨1321a和第二子滑轨1322a实现在第一方向x和第二方向y上的移动。

第一子滑轨1321a与第二子滑轨1322a交叉。即，第一方向x和第二方向y之间的夹角大于0度，且第一方向x和第二方向y之间的夹角小于或等于90度。如图5所示，第一方向x和第二方向y之间的夹角为90度。第一方向x垂直于第二方向y。

可以理解的是，第一方向x和第二方向y之间的夹角可以为10度、30度、45度、60度、80度或其他的角度。本申请以第一方向x和第二方向y之间的夹角为90度为例，但不作为对本申请的限制。

可以理解的是，本申请的第一振动源移动组件1321可以包括多个第一子滑轨1321a。多个第一子滑轨1321a在基板的上方沿第二方向y间隔排布。第一滑块1321b在多个第一子滑轨1321a和第二子滑轨1322a上移动，从而实现超声波发生器1311可移动地对基板表面的所有光刻胶涂布区域或特定位置进行平坦化处理。

可以理解的是，本申请的第二振动源移动组件1322可以包括多个第二子滑轨1322a。多个第二子滑轨1322a在基板的上方沿第一方向x间隔排布。第一滑块1321b在第一子滑轨1321a和多个第二子滑轨1322a上移动，从而实现超声波发生器1311可移动地对基板表面的所有光刻胶或特定位置的光刻胶进行平坦化处理。

可以理解的是，第一子滑轨1321a和第二子滑轨1322a连接。本申请的第一子滑轨1321a可以通过第二子滑轨1322a实现在第二方向y的移动。第二子滑轨1322a可以通过第一子滑轨1321a实现在第一方向x的移动。第一滑块1321b在第一子滑轨1321a和第二子滑轨1322a上滑动。第一子滑轨1321a和第二子滑轨1322a也可以相对移动，从而实现超声波发生器1311可移动地对基板表面的所有光刻胶或特定位置的光刻胶进行平坦化处理。

可以理解的是，当基板为显示面板的阵列基板时，第一方向x可以为扫描线的延伸的方向，第二方向y可以为数据线的延伸方向。

可以理解的是，本实施例的涂布设备10可以设置检测装置。检测装置可以检测基板表面的光刻胶的异常涂布信息并控制振动装置13移至目标位置。本实施例设置的检测装置与第一实施例的检测装置相同，在此不再累述。

如图6所示，振动装置13可以包括多个振动源131。即振动装置13可以包括多个超声波发生器1311。第二振动源移动组件1322可以包括第二滑块1322b。第二滑块1322b可以在第一子滑轨1321a和第二子滑轨1322a上移动，从而实现超声波发生器1311在第一子滑轨1321a和第二子滑轨1322a上移动。第一滑块1321b和第二滑块1322b连接有超声波发生器1311。即本申请的振动装置13可以同时实现多个超声波发生器1311沿不同方向对光刻胶进行平坦化处理，有利于提高效率。

如图7所示，第一振动源移动组件1321可以连接多个超声波发生器1311。同时，多个超声波发生器1311可以通过第二振动源移动组件1322实现在第二方向上的移动。上述设置可以在提高光刻胶平整度的同时节约振动装置13的平坦化时间。

可以理解的是，多个超声波发生器1311也可以通过第三振动源移动组件(图中未显示)实现在第三方向上的移动。第一方向x与第三方向的夹角可以为30度、45度或60度。

如图8所示，第二振动源移动组件1322可以连接多个超声波发生器1311。同时，多个超声波发生器1311可以通过第一振动源移动组件1321实现在第一方向上的移动。上述设置可以在提高光刻胶平整度的同时节约振动装置13的平坦化时间。

本申请提供的第二实施例的涂布设备10与第一实施例的涂布设备10的其他部件相同，在此不再累述。

在本申请中，涂布设备10还可以包括振动传感器，振动传感器的一端与超声波发生器1311连接，振动传感器的另一端与承载平台11接触。振动传感器调节超声波发生器1311的振动频率和振幅，以使超声波发生器1311达到最佳的平坦化效果。具体的，振动传感器接收承载平台11的振动频率和振幅，将相应的振动数据通过计算得到光刻胶的振动频率和振幅，并发出指令调整超声波发生器1311的振动频率和振幅，以使超声波发生的振动频率与振幅与涂布的光刻胶相匹配。本申请在涂布设备10中设置振动传感器有利于提高超声波发生器1311的平坦化效果。

可以理解的是，振动传感器的另一端也可以与基板接触，本申请对振动传感器的另一端的具体设置位置不作具体限定。

在本申请中，当振动装置包括多个振动源。即，振动装置包括多个超声波发生器1311时，可以将多个超声波发生器1311分别设置在基板的两侧。当超声波发生器1311发生移动时，位于对侧的超声波发生器1311相向运动。上述设置有利于缩短振动装置13的平坦化时间，有利于提高振动装置13的平坦化效率。

在本申请中，本申请中的振动源移动组件也可以是现有的移动组件，比如机械手。通过机械手控制振动源的移动位置，从而使得振动源可以对光刻胶的整个涂布区域或特定区域进行平坦化处理。

在本申请中，振动源131还可以包括高频振动仪或电磁振动器。本申请以振动装置13包括超声波发生器1311为例进行详细说明，但不作为对本申请的限制。

在本申请中，振动装置13也可以设置在承载平台11远离涂布装置12的一侧。振动装置13设置在承载平台11远离涂布装置12的一侧可以避免涂布装置12和振动装置13在移动的过程发生碰撞，可以保证涂布装置12涂布的可靠性以及振动装置13平坦化处理的可靠性。

在显示面板的制造过程中通常用到光罩工艺形成显示面板中一些图案化的膜层。显示面板的光罩工艺通常需要在基板的涂布光刻胶，形成相应的光阻层。然而，光刻胶的涂布不均匀容易导致后续的蚀刻工艺无法精准地蚀刻对应的膜层，使得最终制备的膜层达到预设的效果。本申请的涂布设备可以在光刻胶涂布后对光刻胶进行平坦化处理，避免光刻胶出现涂布不均匀的现象，提高光刻胶厚度的均匀性。由于光刻胶形成的光阻层厚度是均匀的，在后续的基板的蚀刻的过程中，可以避免因光刻胶的厚度不均匀导致基板出现蚀刻不均匀或蚀刻过度的情况，提高蚀刻工艺的精准度。

本申请以光刻胶为涂层为例。本申请中的涂层也可以是显示面板中的平坦层或其他的涂层。涂层的材料可以是有机材料或无机材料。本申请提及的基板可以在形成涂层之前，在基板上形成其他的膜层，比如导电层、绝缘层或显示功能层等。本申请对基板和涂层不作具体限定。

本申请实施例提供一种涂布设备，涂布设备包括承载平台、涂布装置和振动装置。在涂布装置对基板涂布后，振动装置对涂布形成的涂层进行平坦化处理，从而避免通过涂布设备制备的涂层出现厚度不均匀的现象，有利于提高涂层的平整度。

本申请实施例还提供一种涂布方法。如图9至图12所示，本申请提供的涂布方法具体包括以下步骤：

B10：将基板置于承载平台上。

如图10所示，具体的，基板20可以是使用各种材料的基板20，例如，基板20可以是玻璃基板或柔性基板。基板20的材料可以根据实际生产要求进行选择。在将基板20置于承载平台11之前，可以根据实际需求，在基板20上形成其他的膜层，比如缓冲层、平坦层、导电层或功能显示层等。

B20：通过涂布装置在基板上形成可流动的涂层。

如图11所示，将基板20置于承载平台11之后，通过涂布装置12在基板20上形成可流动的涂层30。涂层30可以为光刻胶。当涂布装置12在基板20上涂布完成后，由于涂布装置12在涂布过程中的差异以及受光刻胶自身材料的影响。涂布装置12涂布完成后形成的涂层30的厚度出现不均匀的现象。

可以理解的是，本申请中的可流动涂层30的材料以光刻胶为例，但不作为对本申请的限制。可流动涂层30的材料可以是其他的有机材料或无机材料。

B30：通过振动装置对涂层进行平坦化处理。

在涂布装置12在基板20的表面形成可流动的涂层30之后，通过振动装置13对可流动的涂层30进行平坦化处理。平坦化处理后的涂层30的结构如图12所示。具体的，振动装置13可以为超声波发生器1311。可流动的涂层30的分子具有流动性。当超声波发生器1311发射出一定频率的超声波时，可流动的涂层30的分子发生流动，位于高处的分子流动到低处区，从而使得光刻胶的厚度更加均匀。

超声波发生器1311的振动频率、振幅以及进行平坦化处理的时间与光刻胶的材料以及涂布厚度有关。本申请对超声波发生器1311的振动频率、振幅以及进行平坦化处理的时间不作具体限定。

振动装置13可以对整个光刻胶的涂布区域进行平坦化处理。具体的，结合图7，当振动装置13对整个光刻胶的涂布区域进行平坦化处理时，振动装置13可以设置多个超声波发生器1311。多个超声波发生器1311在第一方向x上排列，且多个超声波发生器1311以一定的速率沿第二方向y移动，超声波发生器1311依次对光刻胶的涂布区域进行平坦化处理。当多个超声波发生器1311从基板的一侧移动至基板的另一侧时，振动装置13完成了对整个光刻胶的涂布区域进行平坦化处理。

振动装置13也可以仅对光刻胶的特定区域(特定区域指光刻胶涂布不均匀的区域)进行平坦化处理。

具体的，可以通过一检测装置14对光刻胶的异常区域进行检测，异常区域是指光刻胶涂布不均匀的区域。在异常区域确定之后，移动超声波发生器1311至光刻胶的异常区域。通过超声波发生器1311对光刻胶异常区域进行平坦化处理，从而使得光刻胶的厚度更加均匀。在对光刻胶进行平坦化处理时，可以检测涂层30的异常区域，并移动振动装置13至异常区域以对异常区域内的涂层30进行平坦化处理。

可以理解的是，在通过振动装置13对超声波发生器1311进行平坦化处理的步骤之前，还可以调整超声波发生器1311的振动频率以使振动频率与涂层30的共振频率相匹配。

具体的，在对光刻胶进行平坦化处理之前，可以开启超声波发生器1311，通过一振动传感器感测光刻胶的振动频率，并及时调整超声波发生器1311的振动频率与光刻胶的共振频率相匹配。当振动频率与光刻胶的共振频率一致时，光刻胶内的分子的流动性最好。因此，上述设置有利于节约振动装置13的平坦化时间。

可以理解的是，在对光刻胶进行平坦化处理之前，可以在通过一控制器，将光刻胶的材料和厚度通过模型进行计算，得到超声波发生器1311的最佳振动频率的范围。在刻胶进行平坦化处理时，将超声波发生器1311的振动频率调整至最佳振动频率的范围。在上述振动频率的范围内，光刻胶内的分子的流动性最好。因此，上述设置有利于节约振动装置13的平坦化时间。

在涂布光刻胶之后，可以对可流动的涂层30进行固化处理。即，对平坦化处理后的光刻胶进行固化处理。具体的，可以通过减压干燥、加热或光处理的方式对光刻胶进行固化处理。避免光刻胶内的分子再次发生流动，从而避免制备的涂层30的厚度再次发生变化。

可以理解的是，本申请的涂布设备10以第一实施例提供的涂布设备10为例，但不作为对本申请的限制。

可以理解的是，本申请的振动装置13以超声波发生器1311为例，但不作为对本申请的限制。

本申请实施例提供一种涂布方法，在涂布装置对基板涂布可流动的涂层后，通过振动装置对可流动的涂层进行平坦化处理。本申请提供的涂布方法可以避免通过涂布设备制备的涂层出现厚度不均匀的现象。

综上所述，虽然本申请实施例的详细介绍如上，但上述实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种涂布设备，其特征在于，包括：

承载平台；

涂布装置，与所述承载平台相对设置；

振动装置，可移动地设置在所述承载平台的一侧。

2.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，所述振动装置包括超声波发生器，所述超声波发生器可移动地设置在所述承载平台靠近所述涂布装置的一侧，或

所述振动装置包括所述超声波发生器，所述超声波发生器的振动频率可调。

3.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，所述涂布装置包括涂布头和涂布头移动组件，所述涂布头移动组件与所述涂布头可拆卸地连接；

所述振动装置与所述涂布头移动组件可拆卸地连接，所述振动装置通过所述涂布头移动组件可移动地设置在所述承载平台的一侧。

4.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，所述振动装置包括振动源和振动源移动组件，所述振动源与所述振动源移动组件连接；

所述振动源移动组件可移动地设置在所述承载平台的一侧。

5.根据权利要求4所述的涂布设备，其特征在于，所述振动源移动组件包括第一振动源移动组件和第二振动源移动组件，所述振动源通过所述第一振动源移动组件沿第一方向延伸，所述振动源通过所述第二振动源移动组件沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向交叉。

6.根据权利要求5所述的涂布设备，其特征在于，所述振动装置包括多个所述振动源，至少一个所述振动源与所述第一振动源移动组件连接，至少一个所述振动源与所述第二振动源移动组件连接。

7.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，所述涂布设备还包括检测装置，所述检测装置用于获取涂布异常信息并控制所述振动装置移动至目标位置。

8.一种涂布方法，其特征在于，采用如权利要求1至7任一项所述的涂布设备进行涂布，所述涂布方法包括：

将基板置于所述承载平台上；

通过所述涂布装置在所述基板上形成可流动的涂层；

通过所述振动装置对所述涂层进行平坦化处理。

9.根据权利要求8所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布设备还包括检测装置，所述通过所述振动装置对所述涂层进行平坦化处理的步骤包括：

检测所述涂层的异常区域；

移动所述振动装置至所述异常区域以对所述异常区域内的涂层进行平坦化处理。

10.根据权利要求8所述的涂布方法，其特征在于，所述振动装置包括超声波发生器，所述通过所述振动装置对所述涂层进行平坦化处理的步骤之前，还包括：

调整所述超声波发生器的振动频率以使所述振动频率与所述涂层的共振频率相匹配。

Images