CN113552658A - 一种抗高温增透树脂镜片及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种抗高温增透树脂镜片，该镜片包括基体和基体内外两面的加硬层，所述加硬层表面均镀有抗高温增透膜层，所述抗高温增透膜层包括6个分层，从内向外依次为低折射率层，高折射率层，低折射率层，高折射率层，铟锡氧化物层和低反射率层；所述低折射层为二氧化硅和三氧化二铝的固溶体，所述高折射层为氧化铌和氧化钛的混合物。本发明所述抗高温增透树脂镜片，设计了新的膜层配制，结合创新的镀膜工艺方法，使镜片可以通过100℃1小时抗高温检测，膜层无瑕疵，半年后仍可通过70℃1小时抗高温检测，膜层无瑕疵，远远高于目前使用二氧化硅和二氧化锆组合的耐高温性能，且该镜片可见光透过率保持不变，均能达到96％以上。
Description
技术领域
本发明属于树脂镜片领域，更具体地，涉及一种抗高温增透树脂镜片及其制备方法。
背景技术
树脂镜片是一种用有机材料制作的镜片，内部是一种高分子链状结构，联接而呈立体网状结构，分子间结构相对松弛，分子链间有可产生相对位移的空间。并具有质轻、抗冲击性好、透光性好、成本低等优点，而且还能满足特殊需要，如增加染色性能、变色性能、防蓝光性能等。但是，树脂镜片表面抗耐磨性能差，透过率相对较低。因此，一般树脂镜片的表面都需要进行加硬，再进行真空镀膜。但是由于，加硬层一般是有机硅树脂类材料，而镀膜的材料是一般是氧化硅、氧化锆、二氧化钛、氧化铝等无机氧化物。在一定的温度下，特别是夏天密闭的空间内，由于加硬层和镀膜层的收缩率不一致，导致加硬镀膜层开裂。而且，随着时间的推移，其加硬镀膜层耐高温的性能越来越差，有的时候甚至不能通过国标要求(55℃下半小时)。随着社会的发展，客户对镜片质量的要求越来越高，对镜片加硬镀膜层的耐高温要求也越来越苛刻，目前有的客户需要通过60℃下1小时内加硬镀膜层不能有一点瑕疵，这给镜片供应商提出了一个技术难题。
发明内容
本发明的目的是针对以上不足，提供一种抗高温增透树脂镜片，并公开了其制备方法，在保证其透过率的前提下，提高了该镜片的耐高温性能，可以通过100℃1小时无任何裂纹，半年后能通过70℃1小时无任何裂纹，
为实现上述目的，本发明是通过以下技术方案实现的：
一种抗高温增透树脂镜片，该镜片包括基体和基体内外两面的加硬层，所述加硬层表面均镀有抗高温增透膜层，所述抗高温增透膜层包括6个分层，从内向外依次为低折射率层，高折射率层，低折射率层，高折射率层，铟锡氧化物层和低反射率层；所述低折射层为二氧化硅和三氧化二铝的固溶体，所述高折射层为氧化铌和氧化钛的混合物。
本发明所述树脂基体可以包括折射率为1.50～1.74的树脂镜片。
优选的，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度范围为1.0～10.0μm，优选为2.0～5.0μm。
优选的，所述抗高温增透膜层的厚度为73～568nm，优选为134～358nm。其中，所述低折射层的厚度为15nm～150nm，优选为30～90nm；所述高折射层的厚度为12～55nm，优选为20～40nm；所述铟锡氧化物层的厚度为4～8nm。
优选的，所述抗高温增透膜层的表面还设有防水层，所述防水层的厚度为6～25nm。
一种上述的抗高温增透树脂镜片的制备方法，包括以下步骤：
将镜片基体在加硬液中进行浸涂处理，制得加硬层；
利用真空蒸发镀膜法在加硬层上使用磁场偏转电子束法镀制膜层，其中，低折射层的预融功率为6～18％，预熔时间为6～20S,蒸发速率为0.5～1.5nm/s，堆积密度为2.10～2.20gm/cc,O2的流量为0sccm；高折射层预融功率为20～28％，预熔时间为30～80S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为4.260gm/cc,O2的流量为40～60sccm；铟锡氧化物层的预融功率为3～12％，预熔时间为8～20S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为5.450～7.200gm/cc,O2的流量为12～35sccm。
优选的，所述加硬层的制备方法为：将镜片基体放入加硬液中，下落速度为每秒2～5mm，待镜片基体全部没入加硬液后，浸渍时间35～50s，然后将镜片提起，上升速度为每秒3～4mm，提拉时间35～45s。
优选的，所述真空蒸发镀膜法的镀膜室温度为45～65℃，真空度为5.0×10-5mbar～1.0×10-5mbar，打开离子源利用氩气伴随离子枪的激发对镜片表面进行灼刻，其中氩气流量为5～33sccm，离子枪阳极电压70～130V，阳极电流5～12A，阴极电流19～23A，发射电流为4～12A。
优选的，所述真空蒸发镀膜法镀制防水层的预融功率为1～14％，预熔时间为5～75S，蒸发速率为0.2～0.5nm/s，堆积密度为0.400～1.600gm/cc，O2的流量为0sccm。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：
(1)本发明所述抗高温增透树脂镜片，设计了新的膜层配制，使加硬层和镀膜层的收缩率一致，避免了膜层开裂，提高了镜片的抗高温性能，使镜片可以通过100℃1小时抗高温检测，膜层无瑕疵，半年后仍可通过70℃1小时抗高温检测，膜层无瑕疵，远远高于目前使用二氧化硅和二氧化锆组合的耐高温性能，且该镜片的可见光透过率不变，均能达到96％以上。
(2)本发明通过创新的镀膜工艺方法，降低了膜层的硬度，提高膜层柔软度，使其在升温过程中可以与加硬层同步收缩，避免膜层开裂。
具体实施方式
下面将结合具体实施例更详细地描述本发明的优选实施方式。
实施例1
一种抗高温增透树脂镜片，该镜片包括基体和基体内外两面的加硬层，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为2μm，所述加硬层表面均镀有抗高温增透膜层，所述抗高温增透膜层包括6个分层，从内向外依次为低折射率层，高折射率层，低折射率层，高折射率层，铟锡氧化物层和低反射率层；所述低折射层为二氧化硅和三氧化二铝的固溶体，厚度为15nm；所述高折射层为氧化铌和氧化钛的混合物，厚度为12nm；所述铟锡氧化物层的厚度为4nm；所述抗高温增透膜层的表面还设有防水层，所述防水层的厚度为6nm。
本实施例所述抗高温增透树脂镜片的制备方法，包括以下步骤：
(1)将镜片基体在加硬液中进行浸涂处理，制得加硬层；浸涂工艺为：将镜片基体放入加硬液中，下落速度为每秒2～5mm，待镜片基体全部没入加硬液后，浸渍时间35～50s，然后将镜片提起，上升速度为每秒3～4mm，提拉时间35～45s；
(2)利用真空蒸发镀膜法在加硬层上使用磁场偏转电子束法镀制膜层，镀膜室温度为45～65℃，真空度为5.0×10-5mbar～1.0×10-5mbar，打开离子源利用氩气伴随离子枪的激发对镜片表面进行灼刻，其中氩气流量为5～33sccm，离子枪阳极电压70～130V，阳极电流5～12A，阴极电流19～23A，发射电流为4～12A；其中，低折射层的预融功率为6～18％，预熔时间为6～20S,蒸发速率为0.5～1.5nm/s，堆积密度为2.10～2.20gm/cc,O2的流量为0sccm；高折射层预融功率为20～28％，预熔时间为30～80S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为4.260gm/cc,O2的流量为40～60sccm；铟锡氧化物层的预融功率为3～12％，预熔时间为8～20S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为5.450～7.200gm/cc,O2的流量为12～35sccm；镀制防水层的预融功率为1～14％，预熔时间为5～75S，蒸发速率为0.2～0.5nm/s，堆积密度为0.400～1.600gm/cc，O2的流量为0sccm。
实施例2
一种抗高温增透树脂镜片，该镜片包括基体和基体内外两面的加硬层，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为5μm，所述加硬层表面均镀有抗高温增透膜层，所述抗高温增透膜层包括6个分层，从内向外依次为低折射率层，高折射率层，低折射率层，高折射率层，铟锡氧化物层和低反射率层；所述低折射层为二氧化硅和三氧化二铝的固溶体，厚度为30nm；所述高折射层为氧化铌和氧化钛的混合物，厚度为20nm；所述铟锡氧化物层的厚度为5nm；所述抗高温增透膜层的表面还设有防水层，所述防水层的厚度为15nm。
本实施例所述抗高温增透树脂镜片的制备方法，包括以下步骤：
(1)将镜片基体在加硬液中进行浸涂处理，制得加硬层；浸涂工艺为：将镜片基体放入加硬液中，下落速度为每秒2～5mm，待镜片基体全部没入加硬液后，浸渍时间35～50s，然后将镜片提起，上升速度为每秒3～4mm，提拉时间35～45s；
(2)利用真空蒸发镀膜法在加硬层上使用磁场偏转电子束法镀制膜层，镀膜室温度为45～65℃，真空度为5.0×10-5mbar～1.0×10-5mbar，打开离子源利用氩气伴随离子枪的激发对镜片表面进行灼刻，其中氩气流量为5～33sccm，离子枪阳极电压70～130V，阳极电流5～12A，阴极电流19～23A，发射电流为4～12A；其中，低折射层的预融功率为6～18％，预熔时间为6～20S,蒸发速率为0.5～1.5nm/s，堆积密度为2.10～2.20gm/cc,O2的流量为0sccm；高折射层预融功率为20～28％，预熔时间为30～80S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为4.260gm/cc,O2的流量为40～60sccm；铟锡氧化物层的预融功率为3～12％，预熔时间为8～20S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为5.450～7.200gm/cc,O2的流量为12～35sccm；镀制防水层的预融功率为1～14％，预熔时间为5～75S，蒸发速率为0.2～0.5nm/s，堆积密度为0.400～1.600gm/cc，O2的流量为0sccm。
实施例3
一种抗高温增透树脂镜片，该镜片包括基体和基体内外两面的加硬层，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为10μm，所述加硬层表面均镀有抗高温增透膜层，所述抗高温增透膜层包括6个分层，从内向外依次为低折射率层，高折射率层，低折射率层，高折射率层，铟锡氧化物层和低反射率层；所述低折射层为二氧化硅和三氧化二铝的固溶体，厚度为90nm；所述高折射层为氧化铌和氧化钛的混合物，厚度为40nm；所述铟锡氧化物层的厚度为6nm；所述抗高温增透膜层的表面还设有防水层，所述防水层的厚度为20nm。
本实施例所述抗高温增透树脂镜片的制备方法，包括以下步骤：
(1)将镜片基体在加硬液中进行浸涂处理，制得加硬层；浸涂工艺为：将镜片基体放入加硬液中，下落速度为每秒2～5mm，待镜片基体全部没入加硬液后，浸渍时间35～50s，然后将镜片提起，上升速度为每秒3～4mm，提拉时间35～45s；
(2)利用真空蒸发镀膜法在加硬层上使用磁场偏转电子束法镀制膜层，镀膜室温度为45～65℃，真空度为5.0×10-5mbar～1.0×10-5mbar，打开离子源利用氩气伴随离子枪的激发对镜片表面进行灼刻，其中氩气流量为5～33sccm，离子枪阳极电压70～130V，阳极电流5～12A，阴极电流19～23A，发射电流为4～12A。其中，低折射层的预融功率为6～18％，预熔时间为6～20S，蒸发速率为0.5～1.5nm/s，堆积密度为2.10～2.20gm/cc,O2的流量为0sccm；高折射层预融功率为20～28％，预熔时间为30～80S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为4.260gm/cc,O2的流量为40～60sccm；铟锡氧化物层的预融功率为3～12％，预熔时间为8～20S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为5.450～7.200gm/cc,O2的流量为12～35sccm；镀制防水层的预融功率为1～14％，预熔时间为5～75S，蒸发速率为0.2～0.5nm/s，堆积密度为0.400～1.600gm/cc，O2的流量为0sccm。
实施例4
一种抗高温增透树脂镜片，该镜片包括基体和基体内外两面的加硬层，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为10μm，所述加硬层表面均镀有抗高温增透膜层，所述抗高温增透膜层包括6个分层，从内向外依次为低折射率层，高折射率层，低折射率层，高折射率层，铟锡氧化物层和低反射率层；所述低折射层为二氧化硅和三氧化二铝的固溶体，厚度为150nm；所述高折射层为氧化铌和氧化钛的混合物，厚度为55nm；所述铟锡氧化物层的厚度为8nm；所述抗高温增透膜层的表面还设有防水层，所述防水层的厚度为25nm。
本实施例所述抗高温增透树脂镜片的制备方法，包括以下步骤：
(1)将镜片基体在加硬液中进行浸涂处理，制得加硬层；浸涂工艺为：将镜片基体放入加硬液中，下落速度为每秒2～5mm，待镜片基体全部没入加硬液后，浸渍时间35～50s，然后将镜片提起，上升速度为每秒3～4mm，提拉时间35～45s；
(2)利用真空蒸发镀膜法在加硬层上使用磁场偏转电子束法镀制膜层，镀膜室温度为45～65℃，真空度为5.0×10-5mbar～1.0×10-5mbar，打开离子源利用氩气伴随离子枪的激发对镜片表面进行灼刻，其中氩气流量为5～33sccm，离子枪阳极电压70～130V，阳极电流5～12A，阴极电流19～23A，发射电流为4～12A。其中，低折射层的预融功率为6～18％，预熔时间为6～20S，蒸发速率为0.5～1.5nm/s，堆积密度为2.10～2.20gm/cc,O2的流量为0sccm；高折射层预融功率为20～28％，预熔时间为30～80S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为4.260gm/cc,O2的流量为40～60sccm；铟锡氧化物层的预融功率为3～12％，预熔时间为8～20S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为5.450～7.200gm/cc,O2的流量为12～35sccm；镀制防水层的预融功率为1～14％，预熔时间为5～75S，蒸发速率为0.2～0.5nm/s，堆积密度为0.400～1.600gm/cc，O2的流量为0sccm。
对比例1
一种增透树脂镜片，该镜片包括基体和基体内外两面的加硬层，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为2μm，所述加硬层表面均镀有增透膜层，所述增透膜层包括6个分层，从内向外依次为低折射率层，高折射率层，低折射率层，高折射率层，铟锡氧化物层和低反射率层；所述低折射层为二氧化硅层，厚度为15nm；所述高折射层为二氧化钛层，厚度为12nm；所述铟锡氧化物层的厚度为4nm；所述抗高温增透膜层的表面还设有防水层，所述防水层的厚度为6nm。
对比例2
一种增透树脂镜片，该镜片包括基体和基体内外两面的加硬层，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为2μm，所述加硬层表面均镀有增透膜层，所述增透膜层包括6个分层，从内向外依次为低折射率层，高折射率层，低折射率层，高折射率层，铟锡氧化物层和低反射率层；所述低折射层为一氧化硅层，厚度为15nm；所述高折射层为二氧化锆层，厚度为12nm；所述铟锡氧化物层的厚度为4nm；所述抗高温增透膜层的表面还设有防水层，所述防水层的厚度为6nm。
对比例3
一种增透树脂镜片，该镜片包括基体和基体内外两面的加硬层，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为2μm，所述加硬层表面均镀有增透膜层，所述增透膜层包括6个分层，从内向外依次为低折射率层，高折射率层，低折射率层，高折射率层，铟锡氧化物层和低反射率层；所述低折射层为氧化铝层，厚度为15nm；所述高折射层为五氧化三钛层，厚度为12nm；所述铟锡氧化物层的厚度为4nm；所述抗高温增透膜层的表面还设有防水层，所述防水层的厚度为6nm。
上述实施例与对比例所制备的镜片经过抗高温性能测试和可见光透过率测试，结果见表1。
表1
注：抗高温性能测试通过指膜层不开裂。
通过上表可看出，本发明所述抗高温增透镜片在不影响可见光透过率的情况下，抗高温性能显著提高。
以上已经描述了本发明的各实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的各实施例。在不偏离所说明的各实施例的范围和技术原理的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的，这些修改和变更也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种抗高温增透树脂镜片，其特征在于，该镜片包括基体和基体内外两面的加硬层，所述加硬层表面均镀有抗高温增透膜层，所述抗高温增透膜层包括6个分层，从内向外依次为低折射率层，高折射率层，低折射率层，高折射率层，铟锡氧化物层和低反射率层；所述低折射层为二氧化硅和三氧化二铝的固溶体，所述高折射层为氧化铌和氧化钛的混合物。
2.根据权利要求1所述的抗高温增透树脂镜片，其特征在于，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度范围为1.0～10.0μm，优选为2.0～5.0μm。
3.根据权利要求1所述的抗高温增透树脂镜片，其特征在于，所述抗高温增透膜层的厚度为73～568nm，优选为134～358nm。
4.根据权利要求3所述的抗高温增透树脂镜片，其特征在于，所述低折射层的厚度为15nm～150nm，优选为30～90nm。
5.根据权利要求3所述的抗高温增透树脂镜片，其特征在于，所述高折射层的厚度为12～55nm，优选为20～40。
6.根据权利要求3所述的抗高温增透树脂镜片，其特征在于，所述铟锡氧化物层的厚度为4～8nm。
7.根据权利要求1所述的抗高温增透树脂镜片，其特征在于，所述抗高温增透膜层的表面还设有防水层，所述防水层的厚度为6～25nm。
8.一种权利要求1～6的任意一项所述的抗高温增透树脂镜片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将镜片基体在加硬液中进行浸涂处理，制得加硬层；
利用真空蒸发镀膜法在加硬层上使用磁场偏转电子束法镀制膜层，其中，低折射层的预融功率为6～18％，预熔时间为6～20S,蒸发速率为0.5～1.5nm/s，堆积密度为2.10～2.20gm/cc,O2的流量为0sccm；高折射层预融功率为20～28％，预熔时间为30～80S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为4.260gm/cc,O2的流量为40～60sccm；铟锡氧化物层的预融功率为3～12％，预熔时间为8～20S，蒸发速率为0.05～0.25nm/s，堆积密度为5.450～7.200gm/cc,O2的流量为12～35sccm。
9.根据权利要求7所述的抗高温增透树脂镜片的制备方法，其特征在于，所述加硬层的制备方法为：将镜片基体放入加硬液中，下落速度为每秒2～5mm，待镜片基体全部没入加硬液后，浸渍时间35～50s，然后将镜片提起，上升速度为每秒3～4mm，提拉时间35～45s。
10.根据权利要求7所述的抗高温增透树脂镜片的制备方法，其特征在于，所述真空蒸发镀膜法的镀膜室温度为45～65℃，真空度为5.0×10-5mbar～1.0×10-5mbar，打开离子源利用氩气伴随离子枪的激发对镜片表面进行灼刻，其中氩气流量为5～33sccm，离子枪阳极电压70～130V，阳极电流5～12A，阴极电流19～23A，发射电流为4～12A。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114959591A (zh) * | 2022-05-16 | 2022-08-30 | 厦门美澜光电科技有限公司 | 一种基片真空染色方法及染色基片和眼镜 |
| CN115509028A (zh) * | 2022-09-15 | 2022-12-23 | 明月镜片股份有限公司 | 一种持久抗菌膜层镜片及其制造工艺 |
| CN117555051A (zh) * | 2023-12-01 | 2024-02-13 | 江苏康耐特光学有限公司 | 一种可见光增透镀膜隔热树脂镜片及其制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN208207410U (zh) * | 2018-06-08 | 2018-12-07 | 江苏康耐特光学有限公司 | 一种含有硅铝氧化物层的镀膜树脂镜片 |
| CN110372216A (zh) * | 2018-04-12 | 2019-10-25 | 深圳市东丽华科技有限公司 | 平面玻璃、钢化玻璃、3d曲面微晶玻璃及其制备工艺 |
| CN112415639A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-02-26 | 江苏万新光学有限公司 | 一种低反射防红外耐高温树脂镜片及其制备方法 |
| CN112609161A (zh) * | 2020-11-20 | 2021-04-06 | 厦门腾诺光学科技有限公司 | 一种耐海水腐蚀的镀膜镜片制备方法 |
| CN112645600A (zh) * | 2020-04-20 | 2021-04-13 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 微晶玻璃及化学强化微晶玻璃 |
-
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110372216A (zh) * | 2018-04-12 | 2019-10-25 | 深圳市东丽华科技有限公司 | 平面玻璃、钢化玻璃、3d曲面微晶玻璃及其制备工艺 |
| CN208207410U (zh) * | 2018-06-08 | 2018-12-07 | 江苏康耐特光学有限公司 | 一种含有硅铝氧化物层的镀膜树脂镜片 |
| CN112645600A (zh) * | 2020-04-20 | 2021-04-13 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 微晶玻璃及化学强化微晶玻璃 |
| CN112609161A (zh) * | 2020-11-20 | 2021-04-06 | 厦门腾诺光学科技有限公司 | 一种耐海水腐蚀的镀膜镜片制备方法 |
| CN112415639A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-02-26 | 江苏万新光学有限公司 | 一种低反射防红外耐高温树脂镜片及其制备方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114959591A (zh) * | 2022-05-16 | 2022-08-30 | 厦门美澜光电科技有限公司 | 一种基片真空染色方法及染色基片和眼镜 |
| CN114959591B (zh) * | 2022-05-16 | 2024-02-06 | 厦门美澜光电科技有限公司 | 一种基片真空染色方法及染色基片和眼镜 |
| CN115509028A (zh) * | 2022-09-15 | 2022-12-23 | 明月镜片股份有限公司 | 一种持久抗菌膜层镜片及其制造工艺 |
| CN117555051A (zh) * | 2023-12-01 | 2024-02-13 | 江苏康耐特光学有限公司 | 一种可见光增透镀膜隔热树脂镜片及其制备方法 |
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