CN113506518A - 显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板和显示装置，所述显示面板包括：测试走线、测试端子和测试连接线，所述测试走线电连接所述测试端子，其中，所述测试走线上设置有间断部，所述间断部将所述测试走线与所述测试端子断开；所述显示面板还包括测试连接线，所述测试连接线对应所述间断部设置，且对应所述间断部处连通所述测试走线和测试端子；所述测试连接线采用耐腐蚀的导电材料制成。本申请通过上述方案可提高显示面板的抗腐蚀性能。

Description

显示面板和显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术

显示面板的制程往往是较复杂的，以液晶显示面板为例，其中就包括阵列基板制程工艺、彩膜基板制程工艺，对盒工艺，而且还包括切割工艺，将一大块显示面板母板切割成多个显示面板子板。而由于制程良率的原因，在每一步关键制程后都需要进行一道检测，以保证后续工艺的正常进行，这里以阵列基板的布线工艺为例，阵列基板上的驱动走线，例如扫描线、数据线等信号线需要检测是否存在制程不良例如断线等问题。此时的阵列基板还未进行绑定芯片等制程，因此为了测试良率，一般在阵列基板上形成测试走线，通过测试走线裸露的测试端子连接外部信号，来对阵列基板内部的测试走线进行检测。

但是裸露的测试端子暴露在环境中，很容易被环境中的水汽所腐蚀，而且测试端子中的金属层一旦发生腐蚀，该腐蚀是具有连续性的，会导致整条测试走线无法使用，更有甚者会导致测试走线腐蚀导致显示面板整体报废。因此如何解决测试端子的腐蚀问题成为本领域技术人员亟需解决的问题。

发明内容

本申请的目的是提供一种显示面板和显示装置，以提高显示面板的抗腐蚀性能。

本申请公开了一种显示面板，包括测试走线和测试端子，所述测试走线电连接所述测试端子，所述测试走线上设置有间断部，所述间断部将所述测试走线与所述测试端子断开；所述显示面板还包括测试连接线，所述测试连接线对应所述间断部设置，用于连通所述测试走线和测试端子；所述测试连接线采用耐腐蚀的导电材料制成。

可选的，所述测试端子包括：金属衬垫、绝缘层和导电层，所述绝缘层设置在所述金属衬垫上，所述绝缘层对应所述金属衬垫设置有多个第一过孔，所述金属衬垫对应所述第一过孔的位置裸露；所述导电层通过所述第一过孔连接至所述金属衬垫；所述测试走线与所述测试端子的金属衬垫电连接；所述测试走线与所述金属衬垫位于同一金属层，所述绝缘层延伸覆盖所述测试走线，所述测试连接线对应设置在所述绝缘层上，所述绝缘层对应所述测试走线设置有至少两个第二过孔，所述测试连接线通过所述第二过孔连通所述测试走线的间断部。

可选的，所述测试连接线设置在所述测试走线下，所述测试连接线的两端直接与所述测试走线连接，所述耐腐蚀的导电材料包括铟锡氧化物材料，所述测试连接线采用铟锡氧化物材料制成。

可选的，所述测试连接线与所述测试走线通过半掩膜工艺同步形成。

可选的，所述间断部对应所述显示面板的切割线设置。

可选的，所述间断部将所述测试走线划分为测试主线和测试支线，所述测试主线通过所述测试连接线连接所述测试支线，所述测试支线连接所述金属衬垫。

可选的，所述金属衬垫包括第一金属衬垫和第二金属衬垫，所述第一金属衬垫与所述第二金属衬垫之间通过所述绝缘层隔离，所述第一金属衬垫与所述第二金属衬垫之间的距离大于等于预设长度。

可选的，所述测试支线包括第一分支和第二分支；所述第一金属衬垫连接至所述第一分支，所述第二金属衬垫连接至所述第二分支。

可选的，所述测试端子包括金属衬垫，所述间断部设置在所述测试走线的一端，所述测试连接线的一端连接金属衬垫，所述测试连接线的另一端连接所述测试走线；所述测试走线通过所述测试连接线电连接至所述测试端子。

本申请还公开了一种显示装置，包括上述的显示面板以及驱动所述显示面板的驱动电路。

而本申请通过将测试走线断开，通过选用抗腐蚀能力较强的测试连接线进行转接。当裸露的金属衬垫发生腐蚀后，由于金属腐蚀具有连续性，会持续腐蚀更多的金属，但是在间断部的位置处，金属腐蚀由于测试连接线的阻挡，不会进一步蔓延至内部的测试走线。

附图说明

所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本申请的实施方式，并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：

图1是本申请的第一实施例的一种显示装置的示意图；

图2是本申请的第一实施例的一种显示面板的示意图；

图3是本申请的第一实施例的测试端子和测试走线的俯视示意图；

图4是图3沿A-A切割线的截面示意图；

图5是图3沿B-B切割线的截面示意图；

图6是本申请的第一实施例的第二种显示面板的示意图；

图7是本申请的第二实施例的一种测试端子和测试走线的俯视示意图；

图8是图7沿C-C切割线的截面示意图；

图9是本申请的第三实施例的一种测试端子和测试走线的俯视示意图；

图10是图9沿D-D切割线的截面示意图。

其中，1、显示装置；10、显示面板；11、驱动电路；100、测试端子；110、金属衬垫；111、第一金属衬垫；112、第二金属衬垫；120、绝缘层；121、第一过孔；122、第二过孔；130、导电层；140、保护层；150、切割线；200、测试走线；201、测试主线；202、测试支线；203、第一分支；204、第二分支；210、测试连接线；220、间断部；300、驱动走线。

具体实施方式

需要理解的是，这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节，仅仅是为了描述具体实施例，是代表性的，但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现，不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。

在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示相对重要性，或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，除非另有说明，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征；“多个”的含义是两个或两个以上。术语“包括”及其任何变形，意为不排他的包含，可能存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。

另外，“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系的术语，是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的，仅是为了便于描述本申请的简化描述，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，或是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

下面参考附图和可选的实施例对本申请作详细说明。

实施例一：

如图1所示，作为本申请的第一实施例，公开了一种显示装置的示意图，所述显示装置包括显示面板和驱动电路，所述驱动电路用于驱动所述显示面板进行显示。

如图2示出了一种显示面板的示意图，显示面板10包括多条测试走线200和多个测试端子100，多个所述测试端子100与多条所述测试走线200一一对应连接，所述测试走线200连接与显示面板10内部的驱动走线300，该驱动走线300可包括数据线、扫描线、栅极驱动线、源极驱动线、时钟信号线等。需要说明的是，本申请主要改进在于测试端子100的结构方面，而该测试端子100不仅限与连接测试走线200，而对应显示面板10内部需要连接测试端子100的走线都可适用，属于本申请的保护范围。以下以测试端子100来具体说明。

如图3示出了测试端子100和测试走线200的俯视示意图，所述测试走线200电连接所述测试端子100，其中，所述测试走线200上设置有间断部220，所述间断部220将所述测试走线200断开；所述测试连接线210对应所述间断部220设置，且电连接对应所述间断部220的位置的测试走线200；即所述测试连接线210对应所述间断部220处连通所述测试走线200和测试端子100；所述测试连接线210耐腐蚀的导电材料制成，所述耐腐蚀的导电材料包括铟锡氧化物材料或耐腐蚀的金属材料。

如图4示出了图3沿A-A切割线150的截面示意图，所述测试端子100包括：金属衬垫110、绝缘层120和导电层130，所述绝缘层120设置在所述金属衬垫110上，所述绝缘层120对应所述金属衬垫110设置有多个第一过孔121，所述金属衬垫110对应所述第一过孔121的位置裸露；所述导电层130通过所述第一过孔连接至所述金属衬垫110；所述测试走线200与所述测试端子100的金属衬垫110电连接。

需要说明的是，所述金属衬垫110为金属层形成，该金属层与显示面板内薄膜晶体管的栅极位于同一金属层，而且测试走线200一般采用金属形成，与显示面板内部的薄膜晶体管的栅极或源漏极为同一金属层，而金属层一般采用铜、铝、钼等金属材料形成，较容易被腐蚀，而铟锡氧化物的抗腐蚀能力较强。该导电层130可采用透明导电层的设计，也可以采用金属层的设计，本申请中，以导电层为透明导电层为例。而本申请通过将测试走线200断开，通过选用抗腐蚀能力较强的测试连接线210进行转接。当裸露的金属衬垫110发生腐蚀后，由于金属腐蚀具有连续性，会持续腐蚀更多的金属，但是在间断部220的位置处，金属腐蚀由于测试连接线210的阻挡，不会进一步蔓延至内部的测试走线200。

如图5示出了图3沿B-B切割线的截面示意图，所述测试走线200与所述金属衬垫110位于同一金属层，所述绝缘层120延伸覆盖所述测试走线200，所述测试连接线210对应设置在所述绝缘层120上，所述绝缘层120对应所述测试走线200设置有至少两个第二过孔122，所述测试连接线210通过所述第二过孔122连通所述测试走线200的间断部220。可将测试走线200划分为测试主线201和测试支线，其中由所述间断部220将所述测试走线200划分测试主线201与测试支线，所述测试主线201通过所述测试连接线连接所述测试支线202，所述测试支线202连接所述金属衬垫110。所述间断部220设置在测试走线200的中部，测试走线200仍与所述测试端子100直接连接，所述测试连接线210设置在绝缘层120的上方，测试连接线210与显示面板内的像素电极可采用同一制程形成，即这里的测试连接线210和像素电极，采用导电层130图案化形成。通过在间断部220使用导电层130的方式来切断金属腐蚀的蔓延，而且不产生新的制程，在不增加成本的情况下，可以提高测试端子100对应的抗腐蚀能力。

而且，为了进一步防止测试连接线210被水汽侵入，还可以在测试连接线210的上方设置氮化硅的绝缘层120，来防止水汽从测试连接线210侵入，从而避免了间断部220的测试走线200的金属层被腐蚀。

本实施例还可将所述间断部220对应所述显示面板的切割线150设置，所述显示面板的切割线150用于沿该切割线150切割所述显示面板，在显示面板的成品阶段，此时外部电路板已经绑定到显示面板上，此时可加一道切割工序，将测试端子100切除，从而防止在成品后，测试端子100因裸露问题而腐蚀，而且可以避免测试端子100腐蚀后沿金属衬垫110向测试走线200方向进行蔓延。

具体来说，本申请的测试走线200一般用于多个显示面板组成的显示母板，在切割前需要对显示母板进行测试。在切割后，形成多个显示面板后，需要对显示面板进一步进行测试，此时需要用到测试端子100。当然，在切割显示母板时，可能形成四分之一的大板进行出货，此时的大板仍然是有多个显示面板组成的，仅相对显示母板而言，进行了切割，此时也可以用于出货。一般而言，将显示面板切割成单个的板后，需要一次测试，测试完成后进行绑定外部电路板，完成之后，测试端子100可切掉，不再需要测试端子100进行测试。

如图6示出了沿图5的切割线切割后的显示面板，对应的本申请还公开了一种切割后的显示面板，其中该图仅展示的沿切割线150切割后的显示面板，该显示面板包括测试走线200，测试走线200延伸至显示面板的一侧，且该位置处测试走线200包括测试主线201和测试支线202（此处已被切割掉，不在图中展示），由测试连接线210连接至测试主线201，此处的测试主线201采用金属层制成，与内部的薄膜晶体管的栅极金属层位于同一层，而测试连接线210采用铟锡氧化物制成，可设置在测试走线200的上层。而测试连接线210从显示面板的侧面进行裸露，测试走线200不在裸露在外，而且后续可通过磨边或涂胶的方式，将测试连接线210进行覆盖，使得水汽无法从测试连接线210的位置进入。

具体地，本实施中，所述间断部220设置在所述测试走线200的一端，所述测试连接线210的一端连接所述金属衬垫110，所述测试走线200通过所述测试连接线210电连接至所述测试端子100。即测试连接线210的一端直接与测试端子100的金属衬垫110连接，测试连接线210的另一端直接与测试走线200连接。在本实施例中，该测试连接线210还可与导电层130同时制程，而且测试连接线210直接与导电层130直接连接后，通过导电层130与下方的金属衬垫110连接。

实施例二：

如图7所示，作为本申请的第二实施例，与上一实施例不同之处在于测试连接线210的位置不同，图7示出了测试走线200与测试端子100的腐蚀示意图，图8示出了图7沿C-C切割线150的截面示意图。所述测试连接线210设置在所述测试走线200下，所述测试连接线210的两端直接与所述测试走线200连接。所述耐腐蚀的导电材料包括铟锡氧化物材料，所述测试连接线采用铟锡氧化物材料制成。

相对于实施例一将测试连接线210设置在绝缘层120上的方式来说，本实施例直接将测试连接线210采用底层设计，设置在测试走线200的金属层下方，且不再需要过孔的方式连接测试走线200，直接与测试走线200连接即可，测试连接线210与测试走线200之间不存在绝缘层120隔离。而且将测试连接线210设置在底层，可避免外部水汽的侵入。

具体地，所述测试连接线210与所述测试走线200通过半掩膜工艺同步形成。具体来说，先形成一层导电层130，在导电层130上形成一层光刻胶层，利用半透掩膜板去除测试连接线210位置之外的光刻胶，对导电层130进行刻蚀，形成测试连接线210，对应再去除间断部220之外的光刻胶，保留间断部220位置的光刻胶，沉积金属层，形成测试走线200，对应的测试走线200在间断部220断开，但是由测试连接线210在间断部220将测试走线200连通。在一定程度上没有额外的带来工艺上的增加，因此不会造成成本的提升。

具体的，所述间断部220对应所述显示面板的切割线150设置。所述显示面板的切割线150用于沿该切割线150切割所述显示面板，在显示面板的成品阶段，此时外部电路板已经绑定到显示面板上，此时可加一道切割工序，将测试端子100切除，从而防止在成品后，测试端子100因裸露问题而腐蚀，而且可以避免测试端子100腐蚀后沿金属衬垫110向测试走线200方向进行蔓延。

进一步地，所述间断部220设置在所述测试走线200的一端，所述测试连接线210直接连接所述金属衬垫110，所述测试走线200通过所述测试连接线210电连接至所述测试端子100。即测试连接线210的一端直接与测试端子100的金属衬垫110连接，测试连接线210的另一端直接与测试走线200连接。

需要说明的是，本申请还可以将实施例一和实施例二的方案进行结合，即设置双层的测试连接线210，不仅在底层设置测试连接线210连接间断部220的测试走线200，而且通过顶层测试连接线210设置过孔的方式来连接测试走线200，相当于两条测试连接线210并联的方式，考虑到铟锡氧化物的阻抗较高，此并联方式也可以降低间断部220的电阻，使得此处的电阻与测试走线200上的电阻更均一。

实施例三：

本申请的实施例三是进一步在测试端子100上的改进，可与实施例一和实施例二结合，具体地，可将实施例一和二中的测试走线200划分为测试主线201和测试支线202，其中由所述间断部220将所述测试走线200划分测试主线201与测试支线202，所述测试主线201通过所述测试连接线连接所述测试支线202，所述测试支线202连接所述金属衬垫110。所述金属衬垫110包括第一金属衬垫111和第二金属衬垫112，所述第一金属衬垫111与所述第二金属衬垫112之间通过所述绝缘层120隔离，所述第一金属衬垫111与所述第二金属衬垫112之间的距离大于等于预设长度。

如图9所示，作为本申请的第三实施例，公开了一种测试端子的俯视示意图，结合图10公开的图9沿D-D切割线的截面示意图，具体来说，所述金属衬垫110至少包括第一金属衬垫111和第二金属衬垫112，所述第一金属衬垫111和所述第二金属衬垫112连接到同一条所述测试走线200；绝缘层120设置在所述金属衬垫110上，且所述第一金属衬垫111和第二金属衬垫112之间通过所述绝缘层120隔离，所述绝缘层120对应所述第一金属衬垫111和所述第二金属衬垫112的位置设置有多个第一过孔121；导电层130设置在所述绝缘层120上，且通过多个第一过孔121与第一金属衬垫111和第二金属衬垫112电连接；所述第一金属衬垫111与所述第二金属衬垫112之间的距离L大于等于一第一预设长度。

本申请通过将测试端子100内的金属衬垫110分块设置，即分割成两块金属衬垫，且两块金属衬垫仍然是一个测试端子100，同时连接到同一条测试走线200上，因此该两款金属衬垫上实际上还是传输的同一个测试信号。而将其金属衬垫110分块设置后，即使其中一块受到水汽腐蚀，也不会将这个测试端子100内的金属衬垫110完全腐蚀，通过分块设置后，例如第一金属衬垫111发生腐蚀后，由于金属腐蚀具有连续性，会持续腐蚀更多的金属，而第二金属衬垫112由于不与第一金属衬垫111直接接触，而且与第一金属衬垫111设置一定距离，因此不会直接蔓延至第二金属衬垫112。相对来说，即使第一金属衬垫111与第二金属衬垫112之间虽然分隔开，但是两者之间的间距若是较小，在第一金属衬垫111腐蚀后，第二金属衬垫112仍有较大可能被第一金属衬垫111连续腐蚀。因此本申请还设置所述第一金属衬垫111与所述第二金属衬垫112之间的距离大于等于一第一预设长度，来保证在该间距下，即使第一金属衬垫111被腐蚀，第二金属衬垫112也不会受到第一金属衬垫111的影响，从而可以保护测试端子100的正常工作，进而提升测试端子100的抗腐蚀能力。

其中，第一预设长度为20um，也就是说所述第一金属衬垫111与所述第二金属衬垫112之间的距离L大于等于20um。本申请通过在温度为85摄氏度，湿度为85%RH条件下，测试第一金属衬垫111腐蚀后，第二金属衬垫112在不同间距，例如5um、10um、20um和30um的腐蚀情况，具体查看下表：其中，表中横坐标表示测试时间，单位为小时，纵坐标表示不同间距，单位为微米，表中为电阻测试值，单位为欧姆。

表1：高温高湿存储验证

时间/距离/电阻	0	30	60	80	150	240	340	500	510	520	530	600	800	1000
															5um	1	4.3	32	71	169	1200	2800	5300	8900	12000	75000	158000	680000	4500000
10um	1	2.8	13.8	37.7	44.3	104	210	1200	2300	4500	8000	19000	30000	290000
															20um	1	2.4	4.6	10.8	18	39	56	75	142	287	452	624	828	985
30um	1	1	1	1	1	1	5.5	8.6	24	35	62	124	168	199

通过数据说明，在第一金属衬垫111和第二金属衬垫112的间距为10um时，在500H之后，产生了较大电阻变异，说明此事的金属衬垫已经被腐蚀了，则在第一金属衬垫111腐蚀后，第二金属衬垫112仍然有被腐蚀的风险；而在第一金属衬垫111和第二金属衬垫112的间距为20um时，第二金属衬垫112不被腐蚀的可能性大大提升，即使在1000H的情况下，仍然未突破1000欧姆。可以看出在20um及其以上，金属衬垫的腐蚀蔓延情况是较好的。

需要说明的是，本实施例中，仅以第一金属衬垫111和第二金属衬垫112，即将测试端子100分成两个金属衬垫为例，在不同情况下，还可以分成三个、四个或以上；在此不做限定，在实际应用中，可视情况选择。

如图9所示，所述测试支线202还可包括第一分支203和第二分支204，所述第一金属衬垫111通过所述第一分支连接到测试走线200，所述第二金属衬垫112通过所述第二分支连接到测试走线200；所述第一分支203与所述第二分支204通过所述绝缘层120隔离；所述第一分支203的长度M大于等于第二预设长度，所述第二分支204的长度M大于等于第二预设长度。需要说明的是，这里的第一分支203和第二分支204可以直接连接所述测试支线202。或者第一分支203和第二分支204构成测试支线202，该第一分支203和第二分支204与测试连接线连接。

第一金属衬垫111或第二金属衬垫112腐蚀后都有向测试走线200蔓延的可能性，如果测试走线200也被腐蚀，首先将导致无法测试，后续还会影响显示面板10内的驱动走线300，造成更大的影响。因此本实施例通过设置分支，使得第一金属衬垫111和第二金属衬垫112分别通过分支连接到测试走线200，那么即使在第一金属衬垫111或第二金属衬垫112受到腐蚀的情况下，即使向测试走线200方向进行腐蚀，仍然存在第一分支203或第二分支204的减缓作用，防止腐蚀蔓延到测试走线200。而且第一分支203和第二分支204设置的长度M大于等于一第二预设长度，该第二预设长度在上述同样的条件下进行测试：在温度为85摄氏度，湿度为85%RH条件下，测试第一金属衬垫111腐蚀后，第一分支在不同长度，例如10um、30um、50um、70um和100um的腐蚀情况，具体查看下表：其中，表中横坐标表示测试时间，单位为小时，纵坐标表示不同间距，单位为微米，表中为电阻测试值，单位为欧姆。由上述实验数据可知，在第二预设长度为50um的情况下，第一分支的腐蚀蔓延情况较好。

表2：高温高湿存储验证

时间/距离/电阻	0	30	60	80	150	240	340	500	510	520	530	600	800	1000
															10um	1.2	2.5	40	100	1210	3300	6900	10000	25000	31000	1.21E+08	3E+08	5E+08	8.5E+08
30um	1.2	1.5	13.8	37.7	44.3	104	210	920	2310	4520	8120	19110	34000	296000
															50um	1.2	1.4	1.8	15.5	28	39	56	75	160	270	450	650	920	1140
70um	1.2	1.4	1.6	10.8	22	26	35	55	78	123	150	178	186	200
															100um	1.2	1.2	1.2	1.2	1.2	1.2	1.2	1.2	1.2	1.5	1.5	1.5	1.5	1.5

具体地，所述第一分支203的宽度等于所述第二分支204的宽度，所述第一分支203的宽度小于所述测试走线200的宽度；且所述第一分支203与所述第二分支204之间的间距大于等于所述第一预设长度。一般而言测试端子100中的金属衬垫110的宽度是大于测试走线200的宽度的，因此，以第一金属衬垫111和第一分支203为例，第一金属衬垫111的宽度时大于第一分支203的宽度的，而且第一分支203与第一金属衬垫111的连接处存在由宽到窄的突变，第一分支203较窄，减小了第一金属衬垫111腐蚀蔓延至第一分支203的可能性。这里所说的测试走线200、第一分支203、第二分支204、第一金属衬垫111、第二金属衬垫112的长度方向都一致。所述第一分支203的内边界与第一金属衬垫111的内边界对齐，所述第二分支204的内边界与所述第二金属衬垫112的内边界对齐；所述第一分支203的外边界、第二分支204的外边界分别与测试走线200的边界对齐。

需要说明的是，结合实施例一和实施例二中，间断部设置在测试走线的一端，即不存在测试分支的情况来说，也可以适用于将测试端子的金属衬垫分割成第一金属衬垫和第二金属衬垫的方案，在此不再赘述。

需要说明的是,本申请的发明构思可以形成非常多的实施例，但是申请文件的篇幅有限，无法一一列出，因而，在不相冲突的前提下,以上描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例，各实施例或技术特征组合之后，将会增强原有的技术效果。

本申请的技术方案可以广泛用于各种显示面板，如TN（Twisted Nematic，扭曲向列型）显示面板、IPS（In-Panel Switching，平面转换型）显示面板、VA（VerticalAlignment，垂直配向型）显示面板、MVA（Multi-Domain Vertical Alignment，多象限垂直配向型）显示面板，当然，也可以是其他类型的显示面板，如OLED（Organic Light-EmittingDiode，有机发光二极管）显示面板，均可适用上述方案。以上内容是结合具体的可选实施方式对本申请所作的进一步详细说明，不能认定本申请的具体实施只局限于这些说明。对于本申请所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，包括测试走线和测试端子，所述测试走线电连接所述测试端子，其特征在于，

所述测试走线上设置有间断部，所述间断部将所述测试走线与所述测试端子断开；

所述显示面板还包括测试连接线，所述测试连接线对应所述间断部设置，用于连通所述测试走线和测试端子；所述测试连接线采用耐腐蚀的导电材料制成。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述测试端子包括：金属衬垫、绝缘层和导电层，所述绝缘层设置在所述金属衬垫上，所述绝缘层对应所述金属衬垫设置有多个第一过孔，所述金属衬垫对应所述第一过孔的位置裸露；所述导电层通过所述第一过孔连接至所述金属衬垫；所述测试走线与所述测试端子的金属衬垫电连接；所述测试走线与所述金属衬垫位于同一金属层，所述绝缘层延伸覆盖所述测试走线，所述测试连接线对应设置在所述绝缘层上，所述绝缘层对应所述测试走线设置有至少两个第二过孔，所述测试连接线通过所述第二过孔连通所述测试走线的间断部。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述测试连接线设置在所述测试走线下，所述测试连接线的两端直接与所述测试走线连接，所述耐腐蚀的导电材料包括铟锡氧化物材料，所述测试连接线采用铟锡氧化物材料制成。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述测试连接线与所述测试走线通过半掩膜工艺同步形成。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述间断部对应所述显示面板的切割线设置。

6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述间断部将所述测试走线划分为测试主线和测试支线，所述测试主线通过所述测试连接线连接所述测试支线，所述测试支线连接所述金属衬垫。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述金属衬垫包括第一金属衬垫和第二金属衬垫，所述第一金属衬垫与所述第二金属衬垫之间通过所述绝缘层隔离，所述第一金属衬垫与所述第二金属衬垫之间的距离大于等于预设长度。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述测试支线包括第一分支和第二分支；所述第一金属衬垫连接至所述第一分支，所述第二金属衬垫连接至所述第二分支。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述测试端子包括金属衬垫，所述间断部设置在所述测试走线的一端，所述测试连接线的一端连接所述金属衬垫，所述测试连接线的另一端连接所述测试走线；所述测试走线通过所述测试连接线电连接至所述测试端子。

10.一种显示装置，其特征在于，包括上述权利要求1-9任意一项所述的显示面板以及驱动所述显示面板的驱动电路。

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