CN113463030A - 一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置 - Google Patents

一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置,包括镀膜机和连接箱,所述镀膜机表面一侧活动连接有机门,所述镀膜机顶部安装有真空泵A,所述真空泵A抽气端安装有抽气管A,所述抽气管A远离真空泵A一端延伸至镀膜机内部,所述镀膜机一侧固定连接有连接箱,所述连接箱表面一侧活动连接有侧门,所述侧门位于连接箱远离镀膜机一侧,所述连接箱内部一侧插接有密封挡板,该氧化铝真空镀膜的制备方法及装置相较于传统的镀膜装置,在进行膜料补充时可以在接近真空的环境下进行,减少空气的进入,补料过程无需停机,提高了工作效率,避免了镀膜机不断的启闭以及内部真空环境的不断变化对镀膜质量的影响。

Description

一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置
技术领域
本发明涉及氧化铝真空镀膜技术领域,具体为一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置。
背景技术
在真空环境中,将材料加热并镀到基片上的技术为真空蒸镀,具体而言,真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华,使之在工件或基片表面析出的过程,真空蒸镀中的金属镀层通常为铝膜,但其它金属也可通过蒸发沉积形成。随着我国电解铝、陶瓷、医药、电子、机械等行业的快速发展,市场对氧化铝需求量仍有较大的增长空间,氧化铝产量将会不断增长。
在传统的氧化铝真空镀膜制备过程中存在以下缺点:镀膜机在每次使用时都需要对齐内部进行清洁处理,以清除残余镀料和杂质,这一过程一般通过人工作业的方式进行,费时费力,且机体内部的清洁不够干净;传统的镀膜机在使用,基片直接进行镀膜作业,其表面吸附的气体等容易影响镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力;进行基片连续镀膜作业时,需要不断进行膜料的补充,这一过程一般需要停机运行,并在补充后重新进行抽真空处理等操作,费时费力,停机时间长,影响生产效率,且镀膜机不断的启闭以及内部真空环境的不断变化,也会对镀膜的质量产生较大的影响,为此,我们提出一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有的缺陷,提供一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置,供水管可以连接外部高压供水设备,高压水体经过供水管的输送最后从喷头处喷出,利用高压水体对镀膜机内侧壁进行冲洗,清洁产生的废水顺着排水孔和排水管排出镀膜机内部,相较于传统的人工清洗方式,提高了清洁质量,减少人工劳动量,方便操作,镀膜机内部通过安装架安装有电热丝,在生产时接通电源,电热丝通电发热,对将要镀膜的基片进行干燥处理,去除水分和增强膜基结合力,在高真空下加热基片,能够使基片的表面吸附的气体脱附,然后经真空泵A和抽气管A抽气排出镀膜机,有利于提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力,通过对基片的预处理,提高镀膜质量;需要补充膜料时,打开侧门,将膜料放置在承载板的顶部,随后闭合侧门,开启真空泵B,真空泵B运行通过抽气管B对连接箱内部进行抽真空处理,使得连接箱内部接近真空环境,向上抽拉密封挡板,使得镀膜机与连接箱内部连通,控制气缸B运行,气缸B带动推板移动,推板推动滑块和承板顺着导轨滑动,当承载板进入供料管内部后承载板一端顺着转轴偏移倾斜,膜料排出并顺着供料管滑入至蒸发器的内部,随后气缸B控制推板回缩,利用磁片磁力带动滑块回移,支撑轮起到辅助支撑作用,复位后重新闭合密封挡板,相较于传统的镀膜装置,在进行膜料补充时可以在接近真空的环境下进行,减少空气的进入,补料过程无需停机,提高了工作效率,避免了镀膜机不断的启闭以及内部真空环境的不断变化对镀膜质量的影响。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置,包括镀膜机和连接箱,所述镀膜机表面一侧活动连接有机门,所述镀膜机顶部安装有真空泵A,所述真空泵A抽气端安装有抽气管A,所述抽气管A远离真空泵A一端延伸至镀膜机内部,所述镀膜机一侧固定连接有连接箱,所述连接箱表面一侧活动连接有侧门,所述侧门位于连接箱远离镀膜机一侧,所述连接箱内部一侧插接有密封挡板,所述密封挡板位于连接箱与镀膜机之间连接处,所述连接箱顶部安装有真空泵B,所述真空泵B抽气端安装有抽气管B,所述抽气管B一端延伸至连接箱内部,所述镀膜机内部顶端安装有供水管,所述供水管靠近镀膜机内侧壁位置安装有喷头且喷头为多个,所述供水管输入端延伸至镀膜机外部,所述镀膜机内部底端开设有排水孔,所述镀膜机底部固定连接有排水管,所述排水管内部安装有真空阀,所述镀膜机内部底端安装有蒸发器,所述蒸发器一端固定连接有供料管,所述镀膜机内部顶端安装有进料卷和收料卷,所述镀膜机内部安装有镀膜鼓,所述镀膜鼓位于进料卷和收料卷之间且位于蒸发器顶部,所述侧门表面一侧安装有气缸,所述气缸动力输出端安装有推板,所述推板位于连接箱内部,所述连接箱内部安装有导轨,所述导轨内部一侧固定连接有限位板,所述导轨内部滑动连接有滑块,所述滑块顶部安装有承板,所述承板表面靠近镀膜机一侧安装有转轴,所述承板通过转轴配合连接有承载板,所述承载板底部一侧安装有支撑轮。
优选的,所述机门内部安装有可视玻璃。
优选的,所述镀膜机内部一侧固定连接有安装架,所述安装架位于进料卷和镀膜鼓之间,所述安装架内部安装有电热丝。
优选的,所述推板表面一侧安装有磁片,所述磁片位于推板表面靠近滑块一侧。
优选的,所述的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置操作包含如下步骤:
S1、通过供水管连接外部高压供水设备,接通水源,使得高压水体经过供水管的输送最后从喷头处喷出,利用高压水体对镀膜机内侧壁进行冲洗,将镀膜机内壁的残余镀料等杂质冲刷干净,同时对进料卷、收料卷、镀膜鼓和蒸发器表面进行清洁,避免杂质存在影响后续的镀膜质量,清理完成后进行加热干燥处理,清洁产生的废水顺着排水孔和排水管排出镀膜机内部,通过真空阀可以控制排水管的启闭。
S2、将待镀膜基材套接至进料卷外部,一端穿过镀膜鼓底部后接入收料卷的外部,镀膜原料置于蒸发器内部,闭合机门和密封挡板,控制真空泵A运行,真空泵A通过抽气管进行抽真空处理,使得镀膜机内部接近真空状态,控制蒸发器运行,蒸发器加热对镀膜原料进行加热蒸发作业,原料蒸发气化为具有一定能量的粒子,气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片,到达基片表面的粒子一部分被反射,另一部分吸附在基片上并发生表面扩散,沉积原子之间产生二维碰撞,形成簇团,有的可能在表面短时停留后又蒸发,粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞,或吸附单粒子,或放出单粒子,此过程反复进行,当聚集的粒子数超过某一临界值时就变为稳定的核,再继续吸附扩散粒子而逐步长大,最终通过相邻稳定核的接触、合并,形成连续薄膜,完成基片的氧化铝真空镀膜作业。
S3、镀膜机内部通过安装架安装有电热丝,在生产时接通电源,电热丝通电发热,对将要镀膜的基片进行干燥处理,去除水分和增强膜基结合力,在高真空下加热基片,能够使基片的表面吸附的气体脱附,然后经真空泵A抽气排出镀膜机,有利于提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力。
S4、需要补充膜料时,打开侧门,将膜料放置在承载板的顶部,随后闭合侧门,开启真空泵B,真空泵B运行通过抽气管B对连接箱内部进行抽真空处理,使得连接箱内部接近真空环境,向上抽拉密封挡板,使得镀膜机与连接箱内部连通,控制气缸B运行,气缸B带动推板移动,推板推动滑块和承板顺着导轨滑动,当承载板进入供料管内部后承载板一端顺着转轴偏移倾斜,膜料排出并顺着供料管滑入至蒸发器的内部,随后气缸B控制推板回缩,利用磁片磁力带动滑块回移,支撑轮起到辅助支撑作用,复位后重新闭合密封挡板,相较于传统的镀膜装置,在进行膜料补充时可以在接近真空的环境下进行,减少空气的进入,补料过程无需停机,提高了工作效率,保证镀膜质量。
本发明的有益效果如下:
供水管可以连接外部高压供水设备,高压水体经过供水管的输送最后从喷头处喷出,利用高压水体对镀膜机内侧壁进行冲洗,清洁产生的废水顺着排水孔和排水管排出镀膜机内部,相较于传统的人工清洗方式,提高了清洁质量,减少人工劳动量,方便操作,镀膜机内部通过安装架安装有电热丝,在生产时接通电源,电热丝通电发热,对将要镀膜的基片进行干燥处理,去除水分和增强膜基结合力,在高真空下加热基片,能够使基片的表面吸附的气体脱附,然后经真空泵A和抽气管A抽气排出镀膜机,有利于提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力,通过对基片的预处理,提高镀膜质量;需要补充膜料时,打开侧门,将膜料放置在承载板的顶部,随后闭合侧门,开启真空泵B,真空泵B运行通过抽气管B对连接箱内部进行抽真空处理,使得连接箱内部接近真空环境,向上抽拉密封挡板,使得镀膜机与连接箱内部连通,控制气缸B运行,气缸B带动推板移动,推板推动滑块和承板顺着导轨滑动,当承载板进入供料管内部后承载板一端顺着转轴偏移倾斜,膜料排出并顺着供料管滑入至蒸发器的内部,随后气缸B控制推板回缩,利用磁片磁力带动滑块回移,支撑轮起到辅助支撑作用,复位后重新闭合密封挡板,相较于传统的镀膜装置,在进行膜料补充时可以在接近真空的环境下进行,减少空气的进入,补料过程无需停机,提高了工作效率,避免了镀膜机不断的启闭以及内部真空环境的不断变化对镀膜质量的影响。
附图说明
图1为本发明的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置的整体结构示意图。
图2为本发明的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置的镀膜机内部结构示意图。
图3为本发明的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置的承载板和承板结构示意图。
图中:1、镀膜机;101、机门;102、可视玻璃;103、真空泵A;104、抽气管A;2、连接箱;201、侧门;202、密封挡板;203、真空泵B;204、抽气管B;3、供水管;301、喷头;302、排水孔;303、排水管;304、真空阀;4、蒸发器;401、供料管;402、进料卷;403、收料卷;404、镀膜鼓;405、安装架;406、电热丝;5、气缸;501、推板;502、磁片;6、导轨;601、限位板;602、滑块;603、承板;604、转轴;605、承载板;606、支撑轮。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置,包括镀膜机和连接箱,所述镀膜机表面一侧活动连接有机门,所述镀膜机顶部安装有真空泵A,所述真空泵A抽气端安装有抽气管A,所述抽气管A远离真空泵A一端延伸至镀膜机内部,所述镀膜机一侧固定连接有连接箱,所述连接箱表面一侧活动连接有侧门,所述侧门位于连接箱远离镀膜机一侧,所述连接箱内部一侧插接有密封挡板,所述密封挡板位于连接箱与镀膜机之间连接处,所述连接箱顶部安装有真空泵B,所述真空泵B抽气端安装有抽气管B,所述抽气管B一端延伸至连接箱内部,所述镀膜机内部顶端安装有供水管,所述供水管靠近镀膜机内侧壁位置安装有喷头且喷头为多个,所述供水管输入端延伸至镀膜机外部,所述镀膜机内部底端开设有排水孔,所述镀膜机底部固定连接有排水管,所述排水管内部安装有真空阀,所述镀膜机内部底端安装有蒸发器,所述蒸发器一端固定连接有供料管,所述镀膜机内部顶端安装有进料卷和收料卷,所述镀膜机内部安装有镀膜鼓,所述镀膜鼓位于进料卷和收料卷之间且位于蒸发器顶部,所述侧门表面一侧安装有气缸,所述气缸动力输出端安装有推板,所述推板位于连接箱内部,所述连接箱内部安装有导轨,所述导轨内部一侧固定连接有限位板,所述导轨内部滑动连接有滑块,所述滑块顶部安装有承板,所述承板表面靠近镀膜机一侧安装有转轴,所述承板通过转轴配合连接有承载板,所述承载板底部一侧安装有支撑轮。
优选的,所述机门内部安装有可视玻璃。
优选的,所述镀膜机内部一侧固定连接有安装架,所述安装架位于进料卷和镀膜鼓之间,所述安装架内部安装有电热丝。
优选的,所述推板表面一侧安装有磁片,所述磁片位于推板表面靠近滑块一侧。
优选的,所述的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置操作包含如下步骤:
S1、通过供水管连接外部高压供水设备,接通水源,使得高压水体经过供水管的输送最后从喷头处喷出,利用高压水体对镀膜机内侧壁进行冲洗,将镀膜机内壁的残余镀料等杂质冲刷干净,同时对进料卷、收料卷、镀膜鼓和蒸发器表面进行清洁,避免杂质存在影响后续的镀膜质量,清理完成后进行加热干燥处理,清洁产生的废水顺着排水孔和排水管排出镀膜机内部,通过真空阀可以控制排水管的启闭。
S2、将待镀膜基材套接至进料卷外部,一端穿过镀膜鼓底部后接入收料卷的外部,镀膜原料置于蒸发器内部,闭合机门和密封挡板,控制真空泵A运行,真空泵A通过抽气管进行抽真空处理,使得镀膜机内部接近真空状态,控制蒸发器运行,蒸发器加热对镀膜原料进行加热蒸发作业,原料蒸发气化为具有一定能量的粒子,气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片,到达基片表面的粒子一部分被反射,另一部分吸附在基片上并发生表面扩散,沉积原子之间产生二维碰撞,形成簇团,有的可能在表面短时停留后又蒸发,粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞,或吸附单粒子,或放出单粒子,此过程反复进行,当聚集的粒子数超过某一临界值时就变为稳定的核,再继续吸附扩散粒子而逐步长大,最终通过相邻稳定核的接触、合并,形成连续薄膜,完成基片的氧化铝真空镀膜作业。
S3、镀膜机内部通过安装架安装有电热丝,在生产时接通电源,电热丝通电发热,对将要镀膜的基片进行干燥处理,去除水分和增强膜基结合力,在高真空下加热基片,能够使基片的表面吸附的气体脱附,然后经真空泵A抽气排出镀膜机,有利于提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力。
S4、需要补充膜料时,打开侧门,将膜料放置在承载板的顶部,随后闭合侧门,开启真空泵B,真空泵B运行通过抽气管B对连接箱内部进行抽真空处理,使得连接箱内部接近真空环境,向上抽拉密封挡板,使得镀膜机与连接箱内部连通,控制气缸B运行,气缸B带动推板移动,推板推动滑块和承板顺着导轨滑动,当承载板进入供料管内部后承载板一端顺着转轴偏移倾斜,膜料排出并顺着供料管滑入至蒸发器的内部,随后气缸B控制推板回缩,利用磁片磁力带动滑块回移,支撑轮起到辅助支撑作用,复位后重新闭合密封挡板,相较于传统的镀膜装置,在进行膜料补充时可以在接近真空的环境下进行,减少空气的进入,补料过程无需停机,提高了工作效率,保证镀膜质量。
综上所述:本发明提供的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置,供水管可以连接外部高压供水设备,高压水体经过供水管的输送最后从喷头处喷出,利用高压水体对镀膜机内侧壁进行冲洗,清洁产生的废水顺着排水孔和排水管排出镀膜机内部,相较于传统的人工清洗方式,提高了清洁质量,减少人工劳动量,方便操作,镀膜机内部通过安装架安装有电热丝,在生产时接通电源,电热丝通电发热,对将要镀膜的基片进行干燥处理,去除水分和增强膜基结合力,在高真空下加热基片,能够使基片的表面吸附的气体脱附,然后经真空泵A和抽气管A抽气排出镀膜机,有利于提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力,通过对基片的预处理,提高镀膜质量;需要补充膜料时,打开侧门,将膜料放置在承载板的顶部,随后闭合侧门,开启真空泵B,真空泵B运行通过抽气管B对连接箱内部进行抽真空处理,使得连接箱内部接近真空环境,向上抽拉密封挡板,使得镀膜机与连接箱内部连通,控制气缸B运行,气缸B带动推板移动,推板推动滑块和承板顺着导轨滑动,当承载板进入供料管内部后承载板一端顺着转轴偏移倾斜,膜料排出并顺着供料管滑入至蒸发器的内部,随后气缸B控制推板回缩,利用磁片磁力带动滑块回移,支撑轮起到辅助支撑作用,复位后重新闭合密封挡板,相较于传统的镀膜装置,在进行膜料补充时可以在接近真空的环境下进行,减少空气的进入,补料过程无需停机,提高了工作效率,避免了镀膜机不断的启闭以及内部真空环境的不断变化对镀膜质量的影响。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。上述实施例仅为本发明的较佳实施例,并非依此限制本发明的保护范围,故:凡依本发明的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本发明的保护范围之内。
最后应说明的是:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置,包括镀膜机(1)和连接箱(2),其特征在于:所述镀膜机(1)表面一侧活动连接有机门(101),所述镀膜机(1)顶部安装有真空泵A(103),所述真空泵A(103)抽气端安装有抽气管A(104),所述抽气管A(104)远离真空泵A(103)一端延伸至镀膜机(1)内部,所述镀膜机(1)一侧固定连接有连接箱(2),所述连接箱(2)表面一侧活动连接有侧门(201),所述侧门(201)位于连接箱(2)远离镀膜机(1)一侧,所述连接箱(2)内部一侧插接有密封挡板(202),所述密封挡板(202)位于连接箱(2)与镀膜机(1)之间连接处,所述连接箱(2)顶部安装有真空泵B(203),所述真空泵B(203)抽气端安装有抽气管B(204),所述抽气管B(204)一端延伸至连接箱(2)内部,所述镀膜机(1)内部顶端安装有供水管(3),所述供水管(3)靠近镀膜机(1)内侧壁位置安装有喷头(301)且喷头(301)为多个,所述供水管(3)输入端延伸至镀膜机(1)外部,所述镀膜机(1)内部底端开设有排水孔(302),所述镀膜机(1)底部固定连接有排水管(303),所述排水管(303)内部安装有真空阀(304),所述镀膜机(1)内部底端安装有蒸发器(4),所述蒸发器(4)一端固定连接有供料管(401),所述镀膜机(1)内部顶端安装有进料卷(402)和收料卷(403),所述镀膜机(1)内部安装有镀膜鼓(404),所述镀膜鼓(404)位于进料卷(402)和收料卷(403)之间且位于蒸发器(4)顶部,所述侧门(201)表面一侧安装有气缸(5),所述气缸(5)动力输出端安装有推板(501),所述推板(501)位于连接箱(2)内部,所述连接箱(2)内部安装有导轨(6),所述导轨(6)内部一侧固定连接有限位板(601),所述导轨(6)内部滑动连接有滑块(602),所述滑块(602)顶部安装有承板(603),所述承板(603)表面靠近镀膜机(1)一侧安装有转轴(604),所述承板(603)通过转轴(604)配合连接有承载板(605),所述承载板(605)底部一侧安装有支撑轮(606)。
2.根据权利要求1所述的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置,其特征在于:所述机门(101)内部安装有可视玻璃(102)。
3.根据权利要求1所述的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置,其特征在于:所述镀膜机(1)内部一侧固定连接有安装架(405),所述安装架(405)位于进料卷(402)和镀膜鼓(404)之间,所述安装架(405)内部安装有电热丝(406)。
4.根据权利要求1所述的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置,其特征在于:所述推板(501)表面一侧安装有磁片(502),所述磁片(502)位于推板(501)表面靠近滑块(602)一侧。
5.根据权利要求1所述的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置,其特征在于:所述的一种氧化铝真空镀膜的制备方法及装置操作包含如下步骤:
S1、通过供水管(3)连接外部高压供水设备,接通水源,使得高压水体经过供水管(3)的输送最后从喷头(301)处喷出,利用高压水体对镀膜机(1)内侧壁进行冲洗,将镀膜机(1)内壁的残余镀料等杂质冲刷干净,同时对进料卷(402)、收料卷(403)、镀膜鼓(404)和蒸发器(4)表面进行清洁,避免杂质存在影响后续的镀膜质量,清理完成后进行加热干燥处理,清洁产生的废水顺着排水孔(302)和排水管(303)排出镀膜机(1)内部,通过真空阀(304)可以控制排水管(303)的启闭。
S2、将待镀膜基材套接至进料卷(402)外部,一端穿过镀膜鼓(404)底部后接入收料卷(403)的外部,镀膜原料置于蒸发器(4)内部,闭合机门(101)和密封挡板(202),控制真空泵A(103)运行,真空泵A(103)通过抽气管进行抽真空处理,使得镀膜机(1)内部接近真空状态,控制蒸发器(4)运行,蒸发器(4)加热对镀膜原料进行加热蒸发作业,原料蒸发气化为具有一定能量的粒子,气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片,到达基片表面的粒子一部分被反射,另一部分吸附在基片上并发生表面扩散,沉积原子之间产生二维碰撞,形成簇团,有的可能在表面短时停留后又蒸发,粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞,或吸附单粒子,或放出单粒子,此过程反复进行,当聚集的粒子数超过某一临界值时就变为稳定的核,再继续吸附扩散粒子而逐步长大,最终通过相邻稳定核的接触、合并,形成连续薄膜,完成基片的氧化铝真空镀膜作业。
S3、镀膜机(1)内部通过安装架(405)安装有电热丝(406),在生产时接通电源,电热丝(406)通电发热,对将要镀膜的基片进行干燥处理,去除水分和增强膜基结合力,在高真空下加热基片,能够使基片的表面吸附的气体脱附,然后经真空泵A(103)抽气排出镀膜机(1),有利于提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力。
S4、需要补充膜料时,打开侧门(201),将膜料放置在承载板(605)的顶部,随后闭合侧门(201),开启真空泵B(203),真空泵B(203)运行通过抽气管B(204)对连接箱(2)内部进行抽真空处理,使得连接箱(2)内部接近真空环境,向上抽拉密封挡板(202),使得镀膜机(1)与连接箱(2)内部连通,控制气缸(5)B运行,气缸(5)B带动推板(501)移动,推板(501)推动滑块(602)和承板(603)顺着导轨(6)滑动,当承载板(605)进入供料管(401)内部后承载板(605)一端顺着转轴(604)偏移倾斜,膜料排出并顺着供料管(401)滑入至蒸发器(4)的内部,随后气缸(5)B控制推板(501)回缩,利用磁片(502)磁力带动滑块(602)回移,支撑轮(606)起到辅助支撑作用,复位后重新闭合密封挡板(202),相较于传统的镀膜装置,在进行膜料补充时可以在接近真空的环境下进行,减少空气的进入,补料过程无需停机,提高了工作效率,保证镀膜质量。
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