CN113442045A - 一种具有清洗装置的抛光机及其使用方法 - Google Patents
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Abstract
本申请的一种具有清洗装置的抛光机,抛光机包括相互对应的且均可转动的上抛光盘和下抛光盘,清洗装置包括设置在抛光机上且为中空结构的清洗柱,沿清洗柱的周向上设置有喷头组件,喷头组件与清洗柱连通,喷头组件的喷射方向朝向待清洗的抛光盘。本申请提供一种具有清洗装置的抛光机,能够对每个上抛光盘同时进行清洗,解决了人工刷洗上抛光盘时存在的费时费力、清洗不彻底的问题。本申请还提供了一种具有清洗装置的抛光机的使用方法,清洗过程由清洗程序控制清洗装置,启动清洗程序后自动开始清洗,清洗完成后自动停止,清洗期间设备无需人员看守,省时省力。
Description
技术领域
本申请涉及抛光机装置技术领域,尤其涉及一种具有清洗装置的抛光机及其使用方法。
背景技术
抛光机常常用作机械式抛光及打蜡。其工作原理是:电动机带动安装在抛光机中的上下相对的抛光盘高速旋转,由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦,进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。抛光盘的转速一般在1500-3000r/min,多为无级变速,施工时可根据需要随时调整。
在实际抛光工件过程中,一方面,抛光盘在抛光过程中容易产生碎屑,对周围环境造成污染,部分碎屑甚至会黏附在抛光盘上,导致抛光效果变差,且很难清理干净。另一方面,抛光时一般会使用抛光剂,抛光剂易粘附在抛光盘上,如果不及时清洗将污染下一次需要抛光的工件。
现有技术中清洗抛光盘的方案是人工刷洗:用刷子刷洗抛光盘,使用刀具剔除抛光盘的缝隙间结晶,保证无结晶、无脏污;然后再用水枪冲洗抛光盘,手摸并目视盘面确保无碎片、结晶、硬物、铁锈。此方法自动化控制程度不高、费时费力,且刷洗存在死角、清洗不彻底,从而导致抛光质量不良。
发明内容
本申请提供了一种具有清洗装置的抛光机及其使用方法,以解决人工刷洗上抛光盘时存在的费时费力、清洗不彻底的问题。
本申请采用的技术方案如下:
一种具有清洗装置的抛光机,所述抛光机包括相互对应的且均可转动的上抛光盘和下抛光盘,包括设置在所述抛光机上且为中空结构的清洗柱,沿所述清洗柱的周向上设置有喷头组件,所述喷头组件与所述清洗柱连通,所述喷头组件的喷射方向朝向待清洗的抛光盘。
进一步地,所述清洗柱设置在所述下抛光盘上,所述喷头组件的喷射方向朝向所述上抛光盘。
进一步地,每个所述喷头组件中的喷头沿所述清洗柱的轴向分布。
进一步地,沿靠近所述下抛光盘的方向,所述喷头组件中的喷头依次为第一喷头、第二喷头、第三喷头和第四喷头;
在所述上抛光盘上沿其中心依次向外延伸设置有第一圆形区域、第二圆环区域、第三圆环区域和第四圆环区域,相邻区域之间有部分重叠。
所述第一喷头的喷射方向朝向所述上抛光盘的所述第三圆环区域;
所述第二喷头的喷射方向朝向所述上抛光盘的所述第二圆环区域;
所述第三喷头的喷射方向朝向所述上抛光盘的所述第一圆形区域;
所述第四喷头的喷射方向朝向所述上抛光盘的所述第四圆环区域。
进一步地,所述第一喷头与所述清洗柱的夹角为10-80°;所述第二喷头与所述清洗柱的夹角为10-80°;所述第三喷头与所述清洗柱的夹角为10-80°;所述第四喷头与所述清洗柱的夹角为10-80°。
进一步地,所述清洗柱远离所述下抛光盘的一端设置有阀门,所述阀门、所述抛光机分别与控制器电连接,所述控制器用于控制所述阀门的开启和关闭、以及所述抛光机的运行。
进一步地,每个所述上抛光盘的侧面套设有挡圈。
进一步地,所述清洗柱与所述下抛光盘的连接部位之间有空隙,用于清洗的流体充满所述清洗柱后再通过所述空隙流向所述下抛光盘。
另一方面,本申请还提供一种具有清洗装置的抛光机的使用方法,所述方法包括:
将抛光机的上抛光盘上升至顶部;
通过控制器启动清洗程序进行清洗;
清洗结束,抛光机和阀门自动关机。
进一步地,所述清洗程序是预先设置在所述控制器中的程序;所述清洗程序包括第一清洗阶段、第二清洗阶段、第三清洗阶段和第四清洗阶段中的任意一个或者任意几个的组合、以及第五清洗阶段;
所述第一清洗阶段:开启阀门,上抛光盘顺时针旋转且转速为10-20rmp,清洗时长1-5min;
所述第二清洗阶段:开启阀门,上抛光盘顺时针旋转且转速为30-40rmp,清洗时长1-5min;
所述第三清洗阶段:开启阀门,上抛光盘逆时针旋转且转速为10-20rmp,清洗时长1-5min;
所述第四清洗阶段:开启阀门,上抛光盘逆时针旋转且转速为30-40rmp,清洗时长1-5min;
所述第五清洗阶段:关闭阀门,上抛光盘逆时针旋转且转速为5-10rmp,清洗时长0.2-1min。
采用本申请的技术方案的有益效果如下:
本申请提供一种具有清洗装置的抛光机,能够对每个上抛光盘同时进行清洗,解决了人工刷洗上抛光盘时存在的费时费力、清洗不彻底的问题。
还提供了一种具有清洗装置的抛光机的使用方法,清洗过程由清洗程序控制清洗装置,启动清洗程序后自动开始清洗,清洗完成后自动停止,清洗期间设备无需人员看守,省时省力。
附图说明
为了更清楚地说明本申请的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,对于本领域普通技术人员而言,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实施例通过的一种具有清洗装置的抛光机的结构示意图;
图2为本实施例提供的清洗柱的结构示意图;
图3为本实施例提供的清洗柱的俯视图;
图4为本实施例提供的清洗柱的正视图;
图5为本实施例提供的具体清洗装置的抛光机在清洗时的示意图;
图6为本实施例提供的上抛光盘的区域划分示意图;
图7为本实施例提供的具体清洗装置的抛光机的清洗方法流程图。
图示说明:
其中,1-上抛光盘,11-第一上抛光盘,12-第二上抛光盘,13-第三上抛光盘,14-第四上抛光盘;
2-下抛光盘;
3-清洗柱,31-第一喷头组件、32-第二喷头组件、33-第三喷头组件,34-第四喷头组件,35-进水口;
331-第一喷头、332-第二喷头、333-第三喷头,334-第四喷头;
131-第一圆形区域,132-第二圆环区域,133-第三圆环区域,134-第四圆环区域;
7-挡圈。
具体实施方式
参见图1,为本实施例通过的一种具有清洗装置的抛光机的结构示意图;图2为本实施例提供的清洗柱的结构示意图;图3为本实施例提供的清洗柱的俯视图;图4为本实施例提供的清洗柱的正视图;图5为本实施例提供的具体清洗装置的抛光机在清洗时的示意图;图6为本实施例提供的上抛光盘的区域划分示意图;图7为本实施例提供的具体清洗装置的抛光机的清洗方法流程图。
抛光机的工作原理是电动机带动安装在抛光机中的上下相对的抛光盘高速旋转,例如用于抛光LED衬片的LED衬片抛光机、用于硅片、蓝宝石、玻璃、机械密封件以及铝合金、不锈钢外观件等的的单面研磨或抛光的平面抛光机等。抛光机一般由多个对称设置的上抛光盘1和一个下抛光盘2构成,上抛光盘1所在的平面与下抛光盘2上下相对应。
本申请提供的一种具有清洗装置的抛光机,清洗装置包括设置在抛光机上且为中空结构的清洗柱3,沿清洗柱3的周向上设置有喷头组件,喷头组件与清洗柱3连通,喷头组件的喷射方向朝向待清洗的抛光盘。当喷头组件的喷射方向朝向上抛光盘1时,可实现对上抛光盘1的清洗;当喷头组件的喷射方向朝向下抛光盘2时,可实现对下抛光盘2的清洗。也可在清洗柱3上同时设置上下两组喷头组件,上喷头组件朝向上抛光盘1,下喷头组件朝向下抛光盘2。或者喷头组件中的喷头与清洗柱3是可旋转连接的,可以根据实际情况进行旋转喷头以调整喷头组件的喷射方向。
本实施例提供的清洗柱3设置在下抛光盘2上,喷头组件的喷射方向朝向上抛光盘1。
参见图2和图3,沿清洗柱3的周向设置有多个喷头组件,喷头组件的数量与上抛光盘1的数量相同;每个喷头组件与每个上抛光盘1一一对应。例如,当抛光机中的上抛光盘1有四个,因此喷头组件也有四组,四组喷头组件的喷射方向分别朝向对应的上抛光盘1,使每个上抛光盘1都能被清洗。
本实施例中,每个喷头组件中的喷头沿清洗柱3的轴向分布;喷头之间的距离相等。参见图4和图5,图5中的虚线为清洗时从各喷头喷出的水柱。为了使喷头组件可以对上抛光盘1进行全面无死角清洗,沿靠近下抛光盘2的方向,喷头组件中的喷头依次为第一喷头331、第二喷头332、第三喷头333和第四喷头334。参见图6,第一喷头331、第二喷头332、第三喷头333和第四喷头334的喷射区域分别对应上抛光盘1的第一圆形区域131、第二圆环区域132、第三圆环区域133和第四圆环区域134,相邻区域之间有部分重叠。
进一步地,第一喷头331的喷射方向朝向上抛光盘1的第三圆环区域133,第一喷头331与清洗柱3的夹角为10-80°。
第二喷头332的喷射方向朝向上抛光盘1的第二圆环区域132,第二喷头332与清洗柱3的夹角为10-80°。
第三喷头333的喷射方向朝向上抛光盘1的第一圆形区域131,第三喷头333与清洗柱3的夹角为10-80°。
为了清洗上抛光盘1的侧壁,本实施例在每个上抛光盘1的侧面套设有挡圈7。第四喷头334的喷射方向朝向上抛光盘1的第四圆环区域134。并且第四喷头334与清洗柱3的夹角为10-80°。优选的,挡圈7为不锈钢材质。以上各喷头的直径为0.5-10mm。优选的,第一圆形区域131是以抛光盘的圆心为圆心、直径为200mm时形成的圆形区域;第二圆环区域132以抛光盘的圆心为圆心,第二圆环区域132的内圆直径150mm,第二圆环区域132的外圆直径为350mm;第三圆环区域133以抛光盘的圆心为圆心,第三圆环区域133的内圆直径300mm,第三圆环区域133的外圆直径为485mm;第四圆环区域134以抛光盘的圆心为圆心,第四圆环区域134的内圆直径450mm,第四圆环区域134的外圆直径为485mm。
以上实施例能够实现对上抛光盘1的全方位清洗,除此之外,本实施例还能够实现对下抛光盘2的清洗。清洗柱3安装在下抛光盘2上,清洗柱3与下抛光盘2的连接部位之间有空隙,用于清洗的流体充满清洗柱3后再通过空隙流向下抛光盘2,下抛光盘2侧壁设置有出水孔,实现对下抛光盘2的清洗。
基于以上实施例,向清洗柱3中通入水流,水流通过清洗柱3的喷头喷射而出,能够实现对抛光机中的上抛光盘1进行全方面清洗,且清洗柱3的喷头是沿清洗柱3的周向、轴向分布的、且喷头是有角度的安装,能够保证在局部范围内的喷头喷水的区域无空隙,保证整个上抛光盘1在喷水时可以完全覆盖,均匀冲洗,同时,清洗柱3中的水通过空隙流向下抛光盘2,从而实现对整个抛光盘的清洗。
在本实施例中,为了实现自动化清洗,在清洗柱3远离下抛光盘2的一端设置有阀门,阀门用于控制水流的进出,阀门、抛光机分别与控制器电连接,控制器用于控制阀门的开启和关闭、以及抛光机的运行。控制器为PLC控制器。
本申请还包括一种具有清洗装置的抛光机的使用方法,参见图7,包括:
首先,将抛光机的上抛光盘1上升至顶部。
然后,控制器启动清洗程序通过清洗装置对抛光盘进行清洗。
清洗程序是预先设置在控制器中的程序。清洗程序包括第一清洗阶段、第二清洗阶段、第三清洗阶段和第四清洗阶段中的任意一个或者任意几个的组合、以及第五清洗阶段。
第一清洗阶段:开启阀门,上抛光盘1顺时针旋转且转速为10-20rmp,清洗时长1-5min。
第二清洗阶段:开启阀门,上抛光盘1顺时针旋转且转速为30-40rmp,清洗时长1-5min。
第三清洗阶段:开启阀门,上抛光盘1逆时针旋转且转速为10-20rmp,清洗时长1-5min。
第四清洗阶段:开启阀门,上抛光盘1逆时针旋转且转速为30-40rmp,清洗时长1-5min。
第五清洗阶段:关闭阀门,上抛光盘1逆时针旋转且转速为5-10rmp,清洗时长0.2-1min。
优选的,本实施例中的清洗程序按照第一清洗阶段、第二清洗阶段、第三清洗阶段和第四清洗阶段和第五清洗阶段依次进行清洗,且本实施例中第一清洗阶段的优选转速为15rmp,优选清洗时长为1min;本实施例中第二清洗阶段的优选转速为35rmp,优选清洗时长为1min;本实施例中第三清洗阶段优选转速为15rmp,优选清洗时长为1min;本实施例中第四清洗阶段优选转速为35rmp,优选清洗时长为1min;本实施例中第五清洗阶段的优选转速为5rmp,优选清洗时长为0.2min。
最后,清洗结束,抛光机自动关机。
在本实施例中,参见图1和图5,抛光机中有四个上抛光盘1,分别为第一上抛光盘11、第二上抛光盘12、第三上抛光盘13和第四上抛光盘14,以及一个下抛光盘2。当四个上抛关盘两两相对排布为矩形,则将清洗柱3设置在下抛光盘2上且与矩形的中心相对,四组喷头组件沿中心柱的周向分布、且相邻喷头组件之间的夹角等于矩形对角线之间的夹角。
四组喷头组件分别为第一喷头组件31、第二喷头组件32、第三喷头组件33和第四喷头组件34。第一喷头组件31的的喷射方向对应第一上抛光盘11、第二喷头组件32的的喷射方向对应第二上抛光盘12、第三喷头组件33的的喷射方向对应第三上抛光盘13、第四喷头组件34的的喷射方向对应第四上抛光盘14。
每组喷头组件均四个喷头,例如第三喷头组件33包括四个喷头,依次为第一喷头331、第二喷头332、第三喷头333和第四喷头334。第一喷头331的喷射方向朝向第三上抛光盘13的第三圆环区域133;第二喷头332的喷射方向朝向第三上抛光盘13的第二圆环区域132;第三喷头333的喷射方向朝向第三上抛光盘13的第一圆形区域131;第四喷头334的喷射方向朝向第三上抛光盘13的第四圆环区域134。
先将抛光机的上抛光盘1上升至顶部。再控制器启动清洗程序通过清洗装置对抛光盘进行清洗:水阀开启,从清洗柱3的进水口35通入清洗水,水压0.6KGf/cm2以上。当清洗水充满清洗柱3的腔体后,第一喷头组件31的四个喷头对准对应第一上抛光盘11进行清洗,同时第二喷头组件32的四个喷头对准第二上抛光盘12进行清洗,同时第三喷头组件33的四个喷头对准第三上抛光盘13进行清洗,同时第四喷头组件34的四个喷头对准第四上抛光盘14进行清洗。
清洗过程中通过控制器使四个上抛光盘都以5rmp-50rpm的工艺速度旋转,保证水柱能经上抛光盘的整个圆面都清洗到,有效解决了清洗死角问题;不同的转速会带来不同的冲刷效果,这样就能充分的把上抛光盘的下表面的碎片、结晶、硬物、铁锈都冲洗干净;整个清洗过程由PLC程序控制,启动清洗模式后清洗水流和上盘抛光盘按照设定工艺运行,会自动启动开始清洗,清洗完成后自动停止。清洗期间工人可进行其它作业,设备无需人员看守。
本申请提供的实施例之间的相似部分相互参见即可,以上提供的具体实施方式只是本申请总的构思下的几个示例,并不构成本申请保护范围的限定。对于本领域的技术人员而言,在不付出创造性劳动的前提下依据本申请方案所扩展出的任何其他实施方式都属于本申请的保护范围。
Claims (10)
1.一种具有清洗装置的抛光机,所述抛光机包括相互对应的且均可转动的上抛光盘和下抛光盘,其特征在于,所述清洗装置包括设置在所述抛光机上且为中空结构的清洗柱,沿所述清洗柱的周向上设置有喷头组件,所述喷头组件与所述清洗柱连通,所述喷头组件的喷射方向朝向待清洗的抛光盘。
2.根据权利要求1所述的具有清洗装置的抛光机,其特征在于,所述清洗柱设置在所述下抛光盘上,所述喷头组件的喷射方向朝向所述上抛光盘。
3.根据权利要求2所述的具有清洗装置的抛光机,其特征在于,每个所述喷头组件中的喷头沿所述清洗柱的轴向分布。
4.根据权利要求3所述的具有清洗装置的抛光机,其特征在于,
沿靠近所述下抛光盘的方向,所述喷头组件中的喷头依次为第一喷头、第二喷头、第三喷头和第四喷头;
在所述上抛光盘上沿其中心依次向外延伸设置有第一圆形区域、第二圆环区域、第三圆环区域和第四圆环区域,相邻区域之间有部分重叠。
所述第一喷头的喷射方向朝向所述上抛光盘的所述第三圆环区域;
所述第二喷头的喷射方向朝向所述上抛光盘的所述第二圆环区域;
所述第三喷头的喷射方向朝向所述上抛光盘的所述第一圆形区域;
所述第四喷头的喷射方向朝向所述上抛光盘的所述第四圆环区域。
5.根据权利要求4所述的具有清洗装置的抛光机,其特征在于,所述第一喷头与所述清洗柱的夹角为10°-80°;所述第二喷头与所述清洗柱的夹角为10-80°;所述第三喷头与所述清洗柱的夹角为10°-80°;所述第四喷头与所述清洗柱的夹角为10°-80°。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的具有清洗装置的抛光机,其特征在于,所述清洗柱远离所述下抛光盘的一端设置有阀门,所述阀门、所述抛光机分别与控制器电连接,所述控制器用于控制所述阀门的开启和关闭、以及所述抛光机的运行。
7.根据权利要求6所述的具有清洗装置的抛光机,其特征在于,每个所述上抛光盘的侧面套设有挡圈。
8.根据权利要求6所述的具有清洗装置的抛光机,其特征在于,所述清洗柱与所述下抛光盘的连接部位之间有空隙,用于清洗的流体充满所述清洗柱后再通过所述空隙流向所述下抛光盘。
9.一种具有清洗装置的抛光机的使用方法,其特征在于,所述方法包括:
将抛光机的上抛光盘上升至顶部;
控制器启动清洗程序通过清洗装置对抛光盘进行清洗;
清洗结束,抛光机和阀门自动关机。
10.根据权利要求9所述的具有清洗装置的抛光机的使用方法,其特征在于,所述清洗程序是预先设置在所述控制器中的程序;所述清洗程序包括第一清洗阶段、第二清洗阶段、第三清洗阶段和第四清洗阶段中的任意一个或者任意几个的组合、以及第五清洗阶段;
所述第一清洗阶段:开启阀门,上抛光盘顺时针旋转且转速为10rmp-20rmp,清洗时长1min-5min;
所述第二清洗阶段:开启阀门,上抛光盘顺时针旋转且转速为30rmp-40rmp,清洗时长1min-5min;
所述第三清洗阶段:开启阀门,上抛光盘逆时针旋转且转速为10rmp-20rmp,清洗时长1min-5min;
所述第四清洗阶段:开启阀门,上抛光盘逆时针旋转且转速为30rmp-40rmp,清洗时长1min-5min;
所述第五清洗阶段:关闭阀门,上抛光盘逆时针旋转且转速为5rmp-10rmp,清洗时长0.2min-1min。
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CN (1) | CN113442045A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114643521A (zh) * | 2022-04-25 | 2022-06-21 | 浙江省特种设备科学研究院 | 一种新型全自动金相试样打磨装置 |
CN116372781A (zh) * | 2023-04-20 | 2023-07-04 | 山东欣立得光电科技有限公司 | 一种led屏幕衬底自动化清洗抛光系统 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH079342A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-13 | Sumio Tanaka | 両面研磨機定盤の洗浄装置 |
KR20030030630A (ko) * | 2001-10-12 | 2003-04-18 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼의 평탄화 설비 |
CN202088090U (zh) * | 2011-05-24 | 2011-12-28 | 北京通美晶体技术有限公司 | 一种抛光机 |
US20140182633A1 (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | System and Method for CMP Station Cleanliness |
CN112371614A (zh) * | 2020-10-19 | 2021-02-19 | 上海新昇半导体科技有限公司 | 研磨头清洗装置 |
CN215999992U (zh) * | 2021-07-30 | 2022-03-11 | 苏州恒嘉晶体材料有限公司 | 一种具有清洗装置的抛光机 |
-
2021
- 2021-07-30 CN CN202110869156.3A patent/CN113442045A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH079342A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-13 | Sumio Tanaka | 両面研磨機定盤の洗浄装置 |
KR20030030630A (ko) * | 2001-10-12 | 2003-04-18 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼의 평탄화 설비 |
CN202088090U (zh) * | 2011-05-24 | 2011-12-28 | 北京通美晶体技术有限公司 | 一种抛光机 |
US20140182633A1 (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | System and Method for CMP Station Cleanliness |
CN112371614A (zh) * | 2020-10-19 | 2021-02-19 | 上海新昇半导体科技有限公司 | 研磨头清洗装置 |
CN215999992U (zh) * | 2021-07-30 | 2022-03-11 | 苏州恒嘉晶体材料有限公司 | 一种具有清洗装置的抛光机 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114643521A (zh) * | 2022-04-25 | 2022-06-21 | 浙江省特种设备科学研究院 | 一种新型全自动金相试样打磨装置 |
CN116372781A (zh) * | 2023-04-20 | 2023-07-04 | 山东欣立得光电科技有限公司 | 一种led屏幕衬底自动化清洗抛光系统 |
CN116372781B (zh) * | 2023-04-20 | 2023-11-07 | 山东欣立得光电科技有限公司 | 一种led屏幕衬底自动化清洗抛光系统 |
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