CN113433149A - 一种实现ebsd系统跨尺度连续自动表征分析测试方法 - Google Patents
一种实现ebsd系统跨尺度连续自动表征分析测试方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113433149A CN113433149A CN202110575323.3A CN202110575323A CN113433149A CN 113433149 A CN113433149 A CN 113433149A CN 202110575323 A CN202110575323 A CN 202110575323A CN 113433149 A CN113433149 A CN 113433149A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sample
- ebsd
- test
- analysis
- detection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/203—Measuring back scattering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
本发明涉及金属材料分析测试领域,尤其涉及一种实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法。利用附件自动运行程序实现工作距离和样品倾角的精确控制,控制被检测位置的工作距离WD在22~27mm范围内某值恒定不变,改变样品倾角至52°~60°范围内。调整EBSD检测器空间位置以及外挂主机监控程序实现检测位置联动动态聚焦、像散等参数,实现对超大样品的连续自动表征。该方法能够使得EBSD测试在较少人为干预情况下实现跨尺度快速表征与分析,测试成本降低、效率提高,最终实现样品的高通量表征分析。
Description
技术领域
本发明涉及金属材料分析测试领域,尤其涉及一种实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法。
背景技术
随着高通量制备样品(如:高温合金、高熵合金、钛合金、非晶合金复合材料和非连续增强金属基复合材料等)连续快速检测需求,开发大尺寸多角度连续检测技术迫在眉睫。扫描电子显微镜结合,背散射电子衍射(EBSD)技术中电镜与分析设备并非统一厂家,全部设备均为标准配置,探测器的安装方式和位置有严格定位,而且由于样品台倾转角度与电镜极靴位置、探测器位置不匹配以及原控制台行程问题,目前扫描电镜大尺度检测Y方向仍局限在微米级以内,X方向也仅仅在2~3个毫米左右,仅能满足常规检测,对于大尺寸连续检测材料尚存在多种不确定参数的技术问题,主要问题有:真空仓室内部狭窄,大样品检测运行空间不足,不能满足50mm以上样品连续检测;空间SE系统、EBSD(15 10 178)系统同时运行,几何位置不匹配,不能很好实现多种信号同步采集并获得有效产额;探测器和样品的位置、角度如发生改变,不能确定电子束坐标系、样品坐标系以及磷屏坐标系从而不能确保测试结果的准确性;系统机械有效行程有限且无可执行跨尺度大范围运行程序,无法实现基于高通量材料跨尺度多角度连续快速测试等问题一直是困扰我们的最主要问题,而制约着材料高通量制备的持续发展。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明的目的是提供一种实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,改变传统检测参数、探测器及大样品空间位置并通过外挂主机监控程序修正附件程序的参数,实现扫描电镜对超大样品的跨尺度连续自动表征。
本发明提供一种实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,其特征在于,将需要表征的超大样品通过样品台固定在样品马达台上,样品制备严格遵守“两平”原则;调整主机样品台限位,保证所需运行行程;利用附件自动运行程序控制样品检测位置的工作距离WD为22~27mm范围内的一固定值;设置样品倾转角为52°~60°范围内;调整EBSD检测器空间位置使样品检测位置距衍射花样中心的距离DD在15~22mm范围内;外挂主机监控程序实现检测位置联动动态聚焦和像散参数;外挂主机监控程序将记录的多点动态聚焦值和像散值输送给附件自动运行程序参与计算,最终实现对超大样品的连续自动表征。
在本发明的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法中,附件自动运行程序为附件内嵌控制程序,控制附件读取主机扫描测试位置、记录设定的扫描位置坐标、根据放大倍数计算需要扫描的屏数并控制样品台逐屏移动。
在本发明的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法中,附件自动运行程序控制检测位置的工作距离WD在22~27mm范围内一固定值恒定不变;检测过程中,样品倾角不改变,扫描位置移动仅靠X、Y坐标改变实现,取消Z轴与工作距离WD联动,不改变工作距离WD大小。
在本发明的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法中,改变样品传统倾角,使传统倾转角70°倾角调整为52°~60°范围内,具体数值由极靴的锥体角、EBSD探测器的位置及超大样品的检测行程决定。
在本发明的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法中,调整EBSD检测器空间位置,使其DD值由原来的10~15mm变成15~22mm范围内,具体数值由样品倾转角、检测样品花样清晰程度及样品的检测行程决定。
在本发明的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法中,外挂主机监控程序实现检测位置联动动态聚焦和像散参数具体为:系统运行前,在X-Y平面内移动样品台,通过外挂主机监控程序记录检测区域内手动设定的边缘四点和点阵列各点的坐标、动态聚焦值以及像散值。
在本发明的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法中,外挂主机监控程序将记录的多点动态聚焦值和像散值输送给附件自动运行程序参与计算具体为:
系统运行时,当样品台移动到某一个手动设定位置时,外挂主机监控程序记录的动态聚焦值和像散值作为区域参数,覆盖附件自动运行程序的计算值。
在本发明的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法中,样品制备严格遵守“两平”原则具体为:样品检测表面要严格与样品台底平面平行且检测表面要平整,不能出现起伏。
在本发明的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法中,主机样品台限位调整,保证所需运行行程具体为:通过调整样品台X/Y/Z软限位或机械限位,满足大样品运行要求。
本发明的一种实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,至少具有以下有益效果:
1、本发明在原有操作系统基础上实现检测样品百毫米级跨尺度连续自动检测,解决了电子背散衍射检测尺度受限问题;
2、采用本发明测试方法可以解决EBSD的附件自动运行程序对主机部分参数无法控制的问题,从而提高图像质量与检测标定率,为实现非连续自动检测创造条件;
3、采用本发明测试方法可以实现与高通量制备相适应自动、高速、综合表征,提高EBSD的分析效率,并拓宽了其使用范围,减少人为因素影响,降低人员成本的同时大大提高检测效率!
附图说明
图1是本发明的一种实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法的流程图。
具体实施方式
本发明提供一种实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,将需要表征的超大样品通过样品台固定在样品马达台上,样品制备严格遵守“两平”原则;调整主机样品台限位,保证所需运行行程;利用附件自动运行程序控制样品检测位置的工作距离WD为22~27mm范围内的一固定值;设置样品倾角为52°~60°范围内;调整EBSD检测器空间位置使样品检测位置距衍射花样中心的距离DD在15~22mm范围内;挂主机监控程序实现检测位置联动动态聚焦和像散参数;外挂主机监控程序将记录的多点动态聚焦值和像散值输送给附件自动运行程序参与计算,最终实现对超大样品的连续自动表征。工作距离WD,为样品检测位置距电镜极靴的距离。
具体实施时,附件自动运行程序为附件内嵌控制程序,控制附件读取主机扫描测试位置、记录设定的扫描位置坐标、根据放大倍数计算需要扫描的屏数并控制样品台逐屏移动。
具体实施时,附件自动运行程序控制检测位置的工作距离WD在22~27mm范围内一固定值恒定不变;检测过程中,样品倾角不改变,扫描位置移动仅靠X、Y坐标改变实现,取消Z轴与工作距离WD联动,不改变工作距离WD大小。
具体实施时,改变样品传统倾角,使传统倾角70°倾角调整为52°~60°范围内,具体数值由极靴的锥体角、EBSD探测器的位置及超大样品的检测行程决定。
具体实施时,调整EBSD检测器空间位置,使其DD值由原来的10~15mm变成15~22mm范围内,具体数值由样品倾转角、检测样品花样清晰程度及样品的检测行程决定。
具体实施时,外挂主机监控程序实现检测位置联动动态聚焦和像散参数具体为:系统运行前,在X-Y平面内移动样品台,通过外挂主机监控程序记录检测区域内手动设定的边缘四点和点阵列各点的坐标、动态聚焦值以及像散值。
具体实施时,外挂主机监控程序将记录的多点动态聚焦值和像散值输送给附件自动运行程序参与计算具体为:系统运行时,当样品台移动到某一个手动设定位置时,外挂主机监控程序记录的动态聚焦值和像散值作为区域参数,覆盖附件自动运行程序的计算值。
具体实施时,样品制备严格遵守“两平”原则具体为:样品检测表面要严格与样品台底平面平行且检测表面要平整,不能出现起伏。
具体实施时,主机样品台限位调整,保证所需运行行程具体为:通过调整样品台X/Y/Z软限位或机械限位,满足大样品运行要求。
实施例
在具体实施过程中,本发明EBSD对检测样品百毫米级跨尺度连续自动表征方法,采用WD恒定自稳与外挂主机监控程序修正参数方案实现对超大样品的连续自动表征,主要由以下步骤完成,如图1所示:
(1)样品台初始化;
(2)装夹固定样品:在扫描电镜EBSD测试系统中将需要表征的样品采用夹持型样品台固定在样品马达台上,用紧固螺栓固定样品防止松动,保持样品台与试样之间良好的导电性,需要表征的部位向上放置;
需要表征的样品必须用导电镶料镶嵌,并保证检测面与下底面严格平行,同时样品检测表面要平整;
(2)利用二次电子成像度样品高度进行校准识别,将样品与背散射探测器之间距离调整为22~27mm,聚焦样品的上表面;
(3)倾转X-Y平面与水平方向成52°~60°,保持Z轴不变;
X-Y平面即是样品的测试面,Z轴将不在改变,测试位置的改变仅靠调整X、Y轴的位置实现;
(4)调整EBSD检测器空间位置使其DD值在15~22mm范围内;
(5)加速电压为30kV,电子束束流值至少为12nA以上,完成硬件检测参数设定;
(6)在X-Y平面内移动样品台确定大尺度扫描区域边缘四点和点阵列各点的位置,利用矩形四顶点坐标确定扫描范围及所扫区域的放大倍数。利用Z轴聚焦法聚焦矩形的每一个位置,设定动态聚焦和像散值。通过外挂主机监控程序记录检测区域内手动设定的边缘四点和点阵列各点的坐标、动态聚焦、像散值、WD值、倾转角,EBSD系统同时记录各点坐标值与倾转角。
接下来运行EBSD系统,系统就会从矩形的左上角开始运行,第一点由外挂主机监控程序提供,逐一扫描,每当样品台移动到某一个手动设定位置时,外挂主机监控程序将记录的该点的动态聚焦值和像散值输送给EBSD系统的附件自动运行程序参与计算,调整EBSD获取图像参数保证获得清晰图像,从而保证跨尺度拼接图像的连续性。
即外挂主机监控程序是一个帮助程序,与附件自动运行程序一起使用,外挂主机监控程序用于保存与样品台位置坐标相关的动态聚焦和像散值。当样品台移动到某一个手动设定位置时,使外挂主机监控程序记录的动态聚焦、象散等参数作为区域参数,覆盖EBSD系统的附件自动运行程序的计算值。其原因为:EBSD系统自带附件自动运行程序不读取动态聚焦、象散等参数,只根据第一区域值线性推算其他区域。
(7)取向测定中每点的曝光时间为20ms以上,在背散射衍射中出现清晰菊池花样,启用EBSD实现背散射电子连续跨尺度表征。
结果表明,利用附件自动运行程序实现工作距离和样品倾角的精确控制,被检测位置工作距离WD在22mm~27mm范围内某值恒定不变,改变样品倾角至52°~60°范围内。调整EBSD检测器空间位置以及外挂主机监控程序实现检测位置联动动态聚焦、像散等参数,实现对超大样品的连续自动表征。该方法能够使得EBSD测试在较少人为干预情况下实现跨尺度快速表征与分析,测试成本降低、效率提高,最终实现样品的高通量表征分析。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明的思想,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,其特征在于,将需要表征的超大样品通过样品台固定在样品马达台上,样品制备严格遵守“两平”原则;调整主机样品台限位,保证所需运行行程;利用附件自动运行程序控制样品检测位置的工作距离WD为22~27mm范围内的一固定值;设置样品倾转角为52°~60°范围内;调整EBSD检测器空间位置使样品检测位置距衍射花样中心的距离DD在15~22mm范围内;外挂主机监控程序实现检测位置联动动态聚焦和像散参数;外挂主机监控程序将记录的多点动态聚焦值和像散值输送给附件自动运行程序参与计算,最终实现对超大样品的连续自动表征。
2.如权利要求1所述的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,其特征在于,附件自动运行程序为附件内嵌控制程序,控制附件读取主机扫描测试位置、记录设定的扫描位置坐标、根据放大倍数计算需要扫描的屏数并控制样品台逐屏移动。
3.根据权利要求1所述的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,其特征在于,附件自动运行程序控制检测位置的工作距离WD在22~27mm范围内一固定值恒定不变;检测过程中,样品倾角不改变,扫描位置移动仅靠X、Y坐标改变实现,取消Z轴与工作距离WD联动,不改变工作距离WD大小。
4.根据权利要求1所述的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,其特征在于,改变样品传统倾角,使传统倾转角70°倾角调整为52°~60°范围内,具体数值由极靴的锥体角、EBSD探测器的位置及超大样品的检测行程决定。
5.根据权利要求1所述的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,其特征在于,调整EBSD检测器空间位置,使其DD值由原来的10~15mm变成15~22mm范围内,具体数值由样品倾转角、检测样品花样清晰程度及样品的检测行程决定。
6.根据权利要求1所述的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,其特征在于,外挂主机监控程序实现检测位置联动动态聚焦和像散参数具体为:系统运行前,在X-Y平面内移动样品台,通过外挂主机监控程序记录检测区域内手动设定的边缘四点和点阵列各点的坐标、动态聚焦值以及像散值。
7.根据权利要求1所述的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,其特征在于,外挂主机监控程序将记录的多点动态聚焦值和像散值输送给附件自动运行程序参与计算具体为:
系统运行时,当样品台移动到某一个手动设定位置时,外挂主机监控程序记录的动态聚焦值和像散值作为区域参数,覆盖附件自动运行程序的计算值。
8.根据权利要求1所述的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,其特征在于,样品制备严格遵守“两平”原则具体为:样品检测表面要严格与样品台底平面平行且检测表面要平整,不能出现起伏。
9.根据权利要求1所述的实现EBSD系统跨尺度连续自动表征分析测试方法,其特征在于,主机样品台限位调整,保证所需运行行程具体为:
通过调整样品台X/Y/Z软限位或机械限位,满足大样品运行要求。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110575323.3A CN113433149B (zh) | 2021-05-26 | 2021-05-26 | 一种实现ebsd系统跨尺度连续自动表征分析测试方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110575323.3A CN113433149B (zh) | 2021-05-26 | 2021-05-26 | 一种实现ebsd系统跨尺度连续自动表征分析测试方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113433149A true CN113433149A (zh) | 2021-09-24 |
CN113433149B CN113433149B (zh) | 2022-10-11 |
Family
ID=77803163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110575323.3A Active CN113433149B (zh) | 2021-05-26 | 2021-05-26 | 一种实现ebsd系统跨尺度连续自动表征分析测试方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113433149B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114088759A (zh) * | 2021-11-11 | 2022-02-25 | 中国航发贵州黎阳航空动力有限公司 | 一种用于钛合金晶粒度显示的方法 |
Citations (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030096302A1 (en) * | 2001-02-23 | 2003-05-22 | Genicon Sciences Corporation | Methods for providing extended dynamic range in analyte assays |
CN101173881A (zh) * | 2006-11-03 | 2008-05-07 | 中国科学院金属研究所 | 一种用离子束加工样品界面实现背散射表征的方法 |
CZ301692B6 (cs) * | 2009-03-17 | 2010-05-26 | Tescan, S. R. O. | Zpusob optimalizace sestavení a nastavení systému pro odprašování povrchu vzorku fokusovaným iontovým svazkem a pro detekci zpetne difraktovaných elektronu a takto navržený systém |
CN202351191U (zh) * | 2011-11-22 | 2012-07-25 | 南京钢铁股份有限公司 | 扫描电镜电子背散射衍射用样品台 |
EP2824448A1 (en) * | 2013-07-08 | 2015-01-14 | Bruker Nano GmbH | Sample holder for electron backscatter diffraction |
JP2015017899A (ja) * | 2013-07-11 | 2015-01-29 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 電子線後方散乱回折装置 |
US20160163504A1 (en) * | 2013-07-23 | 2016-06-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged Particle Beam Device Enabling Facilitated EBSD Detector Analysis of Desired Position and Control Method Thereof |
CN205484413U (zh) * | 2016-01-20 | 2016-08-17 | 哈尔滨工业大学深圳研究生院 | 一种用于扫描电子显微镜ebsd测试的样品台 |
WO2017104186A1 (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社Tslソリューションズ | Ebsd検出装置 |
CN207133209U (zh) * | 2017-09-05 | 2018-03-23 | 中国科学院金属研究所 | 一种电子背散射衍射仪样品台 |
CN108333203A (zh) * | 2018-02-09 | 2018-07-27 | 中国科学院地球化学研究所 | 一种原位检测矿物微区ebsd图像的方法 |
US20190035597A1 (en) * | 2017-07-31 | 2019-01-31 | Hitachi, Ltd. | Scanning electron microscope and image processing apparatus |
CN109709121A (zh) * | 2019-03-06 | 2019-05-03 | 内蒙古科技大学 | 样品台及透射模式电子背散射衍射(t-ebsd)系统和方法 |
EP3482956A1 (en) * | 2017-11-14 | 2019-05-15 | SII Printek Inc | Jet hole plate, liquid jet head, and liquid jet recording apparatus |
WO2019152585A2 (en) * | 2018-01-31 | 2019-08-08 | Northwestern University | Orientation determination and mapping by stage rocking electron channeling and imaging reconstruction |
CN210465317U (zh) * | 2019-09-06 | 2020-05-05 | 马鞍山钢铁股份有限公司 | 一种适用于ebsd测试的样品座 |
CN111289546A (zh) * | 2020-04-02 | 2020-06-16 | 贵研检测科技(云南)有限公司 | 一种贵金属超细丝材ebsd测试样品制备与表征方法 |
US20200273663A1 (en) * | 2017-09-29 | 2020-08-27 | Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited | Improved system for electron diffraction analysis |
CN112378937A (zh) * | 2020-11-16 | 2021-02-19 | 重庆大学 | 一种平插式的电子探头及探测方法 |
CN212845120U (zh) * | 2020-07-01 | 2021-03-30 | 杭州源位科技有限公司 | 一种便于原位ebsd测试的微型力学测试台 |
-
2021
- 2021-05-26 CN CN202110575323.3A patent/CN113433149B/zh active Active
Patent Citations (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030096302A1 (en) * | 2001-02-23 | 2003-05-22 | Genicon Sciences Corporation | Methods for providing extended dynamic range in analyte assays |
CN101173881A (zh) * | 2006-11-03 | 2008-05-07 | 中国科学院金属研究所 | 一种用离子束加工样品界面实现背散射表征的方法 |
CZ301692B6 (cs) * | 2009-03-17 | 2010-05-26 | Tescan, S. R. O. | Zpusob optimalizace sestavení a nastavení systému pro odprašování povrchu vzorku fokusovaným iontovým svazkem a pro detekci zpetne difraktovaných elektronu a takto navržený systém |
CN202351191U (zh) * | 2011-11-22 | 2012-07-25 | 南京钢铁股份有限公司 | 扫描电镜电子背散射衍射用样品台 |
EP2824448A1 (en) * | 2013-07-08 | 2015-01-14 | Bruker Nano GmbH | Sample holder for electron backscatter diffraction |
JP2015017899A (ja) * | 2013-07-11 | 2015-01-29 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 電子線後方散乱回折装置 |
US20160163504A1 (en) * | 2013-07-23 | 2016-06-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged Particle Beam Device Enabling Facilitated EBSD Detector Analysis of Desired Position and Control Method Thereof |
WO2017104186A1 (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社Tslソリューションズ | Ebsd検出装置 |
JP2017110935A (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社Tslソリューションズ | Ebsd検出装置 |
CN205484413U (zh) * | 2016-01-20 | 2016-08-17 | 哈尔滨工业大学深圳研究生院 | 一种用于扫描电子显微镜ebsd测试的样品台 |
US20190035597A1 (en) * | 2017-07-31 | 2019-01-31 | Hitachi, Ltd. | Scanning electron microscope and image processing apparatus |
CN207133209U (zh) * | 2017-09-05 | 2018-03-23 | 中国科学院金属研究所 | 一种电子背散射衍射仪样品台 |
US20200273663A1 (en) * | 2017-09-29 | 2020-08-27 | Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited | Improved system for electron diffraction analysis |
EP3482956A1 (en) * | 2017-11-14 | 2019-05-15 | SII Printek Inc | Jet hole plate, liquid jet head, and liquid jet recording apparatus |
WO2019152585A2 (en) * | 2018-01-31 | 2019-08-08 | Northwestern University | Orientation determination and mapping by stage rocking electron channeling and imaging reconstruction |
CN108333203A (zh) * | 2018-02-09 | 2018-07-27 | 中国科学院地球化学研究所 | 一种原位检测矿物微区ebsd图像的方法 |
CN109709121A (zh) * | 2019-03-06 | 2019-05-03 | 内蒙古科技大学 | 样品台及透射模式电子背散射衍射(t-ebsd)系统和方法 |
CN210465317U (zh) * | 2019-09-06 | 2020-05-05 | 马鞍山钢铁股份有限公司 | 一种适用于ebsd测试的样品座 |
CN111289546A (zh) * | 2020-04-02 | 2020-06-16 | 贵研检测科技(云南)有限公司 | 一种贵金属超细丝材ebsd测试样品制备与表征方法 |
CN212845120U (zh) * | 2020-07-01 | 2021-03-30 | 杭州源位科技有限公司 | 一种便于原位ebsd测试的微型力学测试台 |
CN112378937A (zh) * | 2020-11-16 | 2021-02-19 | 重庆大学 | 一种平插式的电子探头及探测方法 |
Non-Patent Citations (11)
Title |
---|
A. KOBLISCHKA-VENEVA等: "EBSD Characterization of Specific Microstructures in RE-BCO Superconductors", 《IEEE TRANSACTIONS ON APPLIED SUPERCONDUCTIVITY》 * |
CLAIRE MAURICE等: "A method for accurate localisation of EBSD pattern centres", 《ULTRAMICROSCOPY》 * |
刘自成等: "高强度钢韧化机制及与亚结构关系的研究", 《钢铁研究学报》 * |
国家科委条件财务司《分析仪器市场调查与分析》编写组: "《分析仪器市场调查与分析》", 31 March 1998, 海洋出版社 * |
徐宗伟等: "基于EBSD技术的单晶硅纳米切削研究", 《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》 * |
朱和国等: "《+材料科学研究与测试方法 第3版 》", 30 September 2016, 东南大学出版社 * |
杨小鹏: "大面积样品的EBSD分析", 《第十届全国材料科学与图像科技学术会议暨校地企产学研合作创新论坛论文摘要集》 * |
王建军: "电子背散射衍射技术及其在材料分析中的应用", 《理化检验-物理分册》 * |
王珏: "电子背散射衍射(EBSD)技术在REBCO超导体(RE=Y,Nd)织构分析中的应用", 《中国博士学位论文全文数据库 (基础科学辑)》 * |
詹美燕,李春明: "电子背散射衍射的制样方法和影响花样质量的因素", 《物理测试》 * |
陈勇军等: "EBSD技术在大塑性变形制备超细晶与纳米材料中的应用:试样制备、参数优化与数据分析", 《 中国有色金属学报(英文版)》 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114088759A (zh) * | 2021-11-11 | 2022-02-25 | 中国航发贵州黎阳航空动力有限公司 | 一种用于钛合金晶粒度显示的方法 |
CN114088759B (zh) * | 2021-11-11 | 2023-11-21 | 中国航发贵州黎阳航空动力有限公司 | 一种用于钛合金晶粒度显示的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113433149B (zh) | 2022-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7655906B2 (en) | Method and apparatus for scanning and measurement by electron beam | |
US7173261B2 (en) | Image noise removing method in FIB/SEM complex apparatus | |
US7482586B2 (en) | Methods for sample preparation and observation, charged particle apparatus | |
US20020056808A1 (en) | Method and apparatus for charged particle beam microscopy | |
JP4908934B2 (ja) | 半導体ウェーハ検査装置および半導体ウェーハ検査方法 | |
US20050285034A1 (en) | Method and apparatus for measuring three-dimensional shape of specimen by using SEM | |
US20100181478A1 (en) | Charged particle beam adjusting method and charged particle beam apparatus | |
US7361896B2 (en) | Scanning electron microscope and a method for adjusting a focal point of an electron beam of said scanning electron microscope | |
US8330104B2 (en) | Pattern measurement apparatus and pattern measurement method | |
WO2016121265A1 (ja) | 試料観察方法および試料観察装置 | |
US20070164219A1 (en) | Charged particle beam apparatus and methods for capturing images using the same | |
JP6013380B2 (ja) | 半導体ウェーハのリアルタイム三次元sem画像化およびビューイングのための装置および方法 | |
CN113433149B (zh) | 一种实现ebsd系统跨尺度连续自动表征分析测试方法 | |
US20240087838A1 (en) | Multi-beam microscope and method for operating a multi-beam microscope using settings adjusted to an inspection site | |
JP4928987B2 (ja) | 荷電粒子線調整方法及び荷電粒子線装置 | |
US11361936B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
JP4372339B2 (ja) | 凹凸像形成装置及び電子線分析装置 | |
JP2008159574A (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
US20040222376A1 (en) | Charged particle beam apparatus | |
TW202127017A (zh) | 圖像調整方法及帶電粒子束系統 | |
JPH1092355A (ja) | 荷電粒子顕微鏡 | |
JP4871350B2 (ja) | パターン寸法測定方法、及びパターン寸法測定装置 | |
JP4431624B2 (ja) | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
JP5127411B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP3911407B2 (ja) | 荷電粒子線走査式装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |