CN113391516A - 一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质，其中光学临近效应修正方法包括：根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立光学临近效应修正模型；获取测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表；根据线端回缩规则表，确定初始修正值；根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。本发明实施例提供的方法通过建立线端回缩规则表确定初始修正值，利用初始修正值进行光学临近效应修正，可以有效提高光学临近效应修正在修正线端回缩时的收敛性，提高修正效率，减少光学临近效应修正的运行时间，进而提高半导体制造效率。

Description

一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质

技术领域

本发明实施例涉及半导体制造领域，尤其涉及一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质。

背景技术

基于模型的光学邻近修正(Optical Proximity Correction，OPC)从180nm技术节点开始被广泛应用。它使用光学模型和光刻胶化学反应模型来计算出曝光后的图形。

光刻图形失真之线端回缩(Line end shortening，LES)是指晶圆上实际图形长度小于设计图形长度，这种失真的偏差来自于光刻衍射成像过程中高频信息丢失导致的空间光学像的畸变，空间光学像的畸变程度和特征尺寸紧密相关，随着特征尺寸的减小，线端回缩明显增大，会使得有缘层栅极层器件或者金属层通孔层覆盖面积不够，导致电路器件性能变差。因此需要在OPC中会使掩模版在线端的长度修正变长。

在OPC修正过程中，所有需要进行修正的图形会根据OPC模型的预测，在图形的边分段后进行片段的移动以使图形的光阻形状达到目标值。然而对于越来越先进的光刻制程下，光学衍射效应也越来越严重，图形在线端会产生非常大的回缩效应。此时为了使图形在晶圆上达到目标，OPC修正会往外移动图形相当大的距离，可达到50nm～100nm的量级，来使得OPC结果符合预期。在OPC修正过程中，可能会碰到OPC收敛性较差，导致修正时间过长而影响到光罩制作甚至产品进度。

发明内容

本发明实施例提供了一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质，以提高光学临近效应修正在修正线端回缩时的收敛性，提高修正效率，减少光学临近效应修正的运行时间。

第一方面，本发明实施例提供了一种光学临近效应修正方法，包括：

根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；

获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立所述光学临近效应修正模型；

获取所述测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表；

根据所述线端回缩规则表，确定初始修正值；

根据所述初始修正值和所述光学临近效应修正模型对所述目标图形进行修正。

可选的，还包括：

循环执行对所述目标图形进行修正的过程，直至所述目标图形的线端回缩达到目标值。

可选的，所述获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立所述光学临近效应修正模型之后，还包括：

验证所述光学临近效应修正模型，并比较所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据；

若所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据之差的绝对值小于或等于预设阈值，则判定所述光学临近效应修正模型符合应用条件。

可选的，还包括：

若所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据之差的绝对值大于预设阈值，则进行基于模型的光学临近效应修正，直至满足所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据之差的绝对值小于或等于预设阈值。

可选的，当光刻条件发生变化时，重新建立光学临近效应修正模型和线端回缩规则表。

可选的，所述线端回缩规则表包括图形线宽、图形间距以及一所述图形线宽和一所述图形间距对应的线端回缩长度。

可选的，所述根据所述线端回缩规则表，确定初始修正值包括：

若所述目标图形的图形线宽和图形间距均小于所述线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最小值，则以所述线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最小值对应的线端回缩长度作为所述初始修正值；

若所述目标图形的图形线宽和图形间距均位于所述线端回缩规则表中，则以所述线端回缩规则表中对应的线端回缩长度作为所述初始修正值；

若所述目标图形的图形线宽和图形间距均大于所述线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最大值，则以0作为所述初始修正值。

可选的，当所述图形线宽和所述图形间距的最小值均为50nm时，所述初始修正值为70nm；

当所述图形线宽和所述图形间距均介于50nm～100nm之间时，所述初始修正值介于0～70nm之间。

当所述图形线宽和所述图形间距的最大值均为100nm时，所述初始修正值为0nm。

第二方面，本发明实施例还提供了一种光学临近效应修正装置，包括：

测试图形生成模块，用于根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；

模型建立模块，用于获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立光学临近效应修正模型；

规则表建立模块，用于获取所述测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表；

初值设置模块，用于根据所述线端回缩规则表，确定初始修正值；

修正模块，用于根据所述初始修正值和所述光学临近效应修正模型对所述目标图形进行修正。

第三方面，本发明实施例还提供了一种计算机设备，所述设备包括：

一个或多个处理器；

存储装置，用于存储一个或多个程序；

当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现上述任意一种光学临近效应修正方法。

第四方面，本发明实施例还提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现上述任意一种光学临近效应修正方法。

本发明实施例提供的光学临近效应修正方法，通过根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩，利用测试图形光罩进行光刻测试；通过获取光学临近效应修正模型所需的数据，建立光学临近效应修正模型；通过获取测试图形的线端回缩数据，建立线端回缩规则表；通过根据线端回缩规则表，确定初始修正值；根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。通过建立线端回缩规则表确定初始修正值，利用初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正，可以有效提高光学临近效应修正在修正线端回缩时的收敛性，提高修正效率，减少光学临近效应修正的运行时间，进而提高半导体制造效率。

附图说明

图1是本发明实施例提供的一种光学临近效应修正方法的流程示意图；

图2是本发明实施例提供的一种测试图形的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的另一种光学临近效应修正方法的流程示意图；

图4是现有技术和本发明实施例中光学临近效应修正结果示意图；

图5是本发明实施例提供的一种光学临近效应修正装置的结构示意图；

图6是本发明实施例提供的一种计算机设备的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

图1是本发明实施例提供的一种光学临近效应修正方法的流程示意图。本实施例可适用于光刻工艺中进行光学临近效应修正的情形。该方法可以由光学临近效应修正装置执行，该光学临近效应修正装置可以采用软件和/或硬件的方式实现，例如，该光学临近效应修正装置可配置于计算机设备中。如图1所示，该光学临近效应修正方法包括：

S110、根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩。

在本实施例中，目标图形为原始版图图形，根据原始版图图形的设计规则制作测试图形光罩。测试图形光罩可以包括多种类型的测试图形，如线条测试图形，孔测试图形等。例如，目标图形为线条图形时，则线条图形的设计规则包括线条图形的目标线宽、线条图形的目标长度、线条图形之间的目标间距等，根据这些条件，可以设计出测试图形。以下实施例中以目标图形为线条图形为例，其并不是对本发明实施例的限定。

S120、获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立光学临近效应修正模型。

在本实施例中，根据当前所用的光刻工艺条件，如照明模式，光刻胶种类，光刻胶厚度等，再利用测试图形光罩进行光刻工艺，可以收集测试图形在晶圆上的各种数据，并根据收集到的数据建立光学修正模型。

在建立光学临近效应修正模型之后，还需要对光学临近效应修正模型进行验证。可选的，当测试图形为线条图形时，可以利用线条图形进行光学临近效应修正模型的验证，过程包括：比较光学临近效应修正模型得到的线条图形的线端回缩数据与利用测试图形光罩曝光得到晶圆上的线条图形的线端回缩数据；若光学临近效应修正模型得到的线条图形的线端回缩数据与利用测试图形光罩曝光得到晶圆上的线条图形的回缩数据之差的绝对值小于或等于预设阈值，则判定光学临近效应修正模型符合应用条件。

可以理解的是，在具体实施过程中，通过运行光学临近效应修正模型，可以得到模拟结果中的线端回缩数据，又由于线条图形的目标尺寸已知，利用测试图形光罩曝光后得到的晶圆上的线条实际尺寸可以测量得到，比较线条图形的目标尺寸和晶圆上的线条实际尺寸可以得出测试时的线端回缩数据，通过比较两个线端回缩数据，就可以得到光学临近效应修正模型的误差，示例性的，本实施例中，预设阈值可以设置为10nm。进一步的，若光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与线条图形的线端回缩数据之差的绝对值大于预设阈值，则进行基于模型的光学临近效应修正，直至满足光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与线条图形的线端回缩数据之差的绝对值小于或等于预设阈值。当光学临近效应修正模型的误差较大时，可以先对光学临近效应模型进行调整，以避免进行修正时速度过慢，提高光学临近效应修正效率。选择基于模型的光学临近效应修正，可以快速方面的对全部目标图形进行修正。

S130、获取测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表。

在本实施例中，在利用测试图形光罩进行光刻测试时，还可以获得测试图形的线端回缩数据，根据线端回缩数据建立线端回缩规则表。可选的，线端回缩规则表包括图形线宽、图形间距以及一图形线宽和一图形间距对应的线端回缩长度；具体的，图形间距为相邻两个图形中相邻两条边的之间的距离或者为相邻两个图形中心的距离。

示例性的，图2是本发明实施例提供的一种测试图形的结构示意图，图2中示意性示出三条线状图形，其中，图形线宽表示图形的宽度，图2中用w表示；图形间距表示相邻两条线的相邻两条边之间的距离，图2中用s表示。可以理解的是，当w和/或s不同时，线端回缩长度均会有变化，表1所示为本发明实施例中一种线端回缩规则表，其中第一行表示图形间距s，单位为nm，第一列表示图形线宽w，单位为nm，其他为对应的线端回缩长度，单位为nm。

表1一种线端回缩规则表

	50	55	60	65	70	75	80	85	90	95	100
												50	70	68	66	64	62	60	57	54	51	48	45
55	66	65	64	62	60	58	55	52	49	46	43
												60	62	61	59	58	58	57	54	51	48	45	42
65	58	57	55	54	53	51	50	50	48	44	41
												70	55	54	52	51	50	49	48	48	47	43	40
75	50	49	47	46	45	44	44	44	43	42	39
												80	45	44	42	41	40	38	38	38	36	36	35
85	40	39	37	36	35	34	34	33	33	32	32
												90	34	33	31	30	29	27	27	26	25	24	23
95	28	27	25	24	23	21	20	20	18	18	16
												100	22	21	19	18	17	16	15	15	15	14	12

S140、根据线端回缩规则表，确定初始修正值。

可选的，根据线端回缩规则表，确定初始修正值包括：

若目标图形的图形线宽和图形间距均小于线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最小值，则以线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最小值对应的线端回缩长度作为初始修正值；

若目标图形的图形线宽和图形间距均位于线端回缩规则表中，则以线端回缩规则表中对应的线端回缩长度作为初始修正值；

若目标图形的图形线宽和图形间距均大于线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最大值，则以0作为初始修正值。

可选的，当图形线宽和图形间距的最小值均为50nm时，初始修正值为70nm；

当图形线宽和图形间距均介于50nm～100nm之间时，初始修正值介于0nm～70nm之间；

当图形线宽和图形间距的最大值均为100nm时，初始修正值为0nm。

示例性的，当w<50nm，s<50nm时，由线端回缩规则表得初始修正值为70nm；当w＝70nm，s＝70nm时，由线端回缩规则表得初始修正值为50nm；当w>100nm，s>100nm时，初始修正值取0。

在具体实施时，线端回缩规则表中可能数据较多，为了简化，可以以某个初始值代替相近区域的值，示例性的，当w在60nm～80nm之间，s在60nm～80nm之间时，初始值均取50nm，这样可以有效简化初始修正值的算法，提高修正效率，具体实施时可以根据实际条件选择，本发明实施例不作限定。

S150、根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。根据上述步骤中得到的初始修正值，代入到光学临近效应修正模型中，进行目标图形的光学临近效应修正。由于从线端回缩规则表中得到的初始修正值已经与实际光刻中的线端回缩接近，因此从初始修正值出发进行修正，可以提高修正效率。具体的，利用光学临近效应修正模型对目标图形进行修正包括基于模型的光学临近效应修正。

本发明实施例的技术方案，通过根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩，利用测试图形光罩进行光刻工艺；通过获取光学临近效应修正模型所需的数据，建立光学临近效应修正模型；通过获取测试图形的线端回缩数据，建立线端回缩规则表；通过根据线端回缩规则表，确定初始修正值；根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。通过建立线端回缩规则表确定初始修正值，利用初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正，可以有效提高光学临近效应修正在修正线端回缩时的收敛性，提高修正效率，减少光学临近效应修正的运行时间，进而提高半导体制造效率。

上述实施例的基础上，图3是本发明实施例提供的另一种光学临近效应修正方法的流程示意图。参考图3，本实施例提供的光学临近效应修正方法包括：

S310、根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩。

S320、获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立光学临近效应修正模型。

S330、获取测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表。

S340、根据线端回缩规则表，确定初始修正值。

S350、根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。

S360、循环执行对目标图形进行修正的过程，直至目标图形的线端回缩达到目标值。

可以理解的是，在具体实施时，一次光学临近效应修正可能无法达到目标，需要进行循环迭代修正。图4是现有技术和本发明实施例中光学临近效应修正结果示意图，其中曲线a为现有技术的光学临近效应修正结果，由曲线a可知，现有技术中，经过18次迭代后，其边缘位置误差(EPE)仍有10nm，修正结果收敛性较差；由曲线b可知，本实施例在应用线端回缩规则表设置初始修正值之后，具体的，当w<50nm，s<50nm时，初始修正值为70nm；当50nm≤w≤100nm，50nm≤s≤100nm时，初始修正值为50nm；当w>100nm，s>100nm时，初始修正值取0；使用预设阈值为10nm验证之后的光学临近效应修正模型修正的EPE经过5～6次的迭代后就收敛至0附近，并达到目标值。由此可知，本实施例提供的光学临近效应修正方法可以减少迭代次数，减少修正时间，提高效率。

在上述实施例的基础上，可选的，当光刻条件发生变化时，重新建立光学临近效应修正模型和线端回缩规则表。

可以理解的是，当光刻条件发生变化时，原光刻条件下得到的光学临近效应修正模型和线端回缩规则表不适用，需要重新收集数据建立模型，以适应新的光刻条件。

图5是本发明实施例提供的一种光学临近效应修正装置的结构示意图。该光学临近效应修正装置可以采用软件和/或硬件的方式实现，例如该光学临近效应修正装置可以配置于计算机设备中。如图5所示，本实施例提供的光学临近效应修正装置包括测试图形生成模块510、模型建立模块520、规则表建立模块530、初值设置模块540和修正模块550，其中：

测试图形生成模块510，用于根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；

模型建立模块520，用于获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立光学临近效应修正模型；

规则表建立模块530，用于获取测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表；

初值设置模块540，用于根据线端回缩规则表，确定初始修正值；

修正模块550，用于根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。

本发明实施例通过测试图形生成模块根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩，利用测试图形光罩进行光刻测试；通过模型建立模块获取光学临近效应修正模型所需的数据，建立光学临近效应修正模型；通过规则表建立模块获取测试图形的线端回缩数据，建立线端回缩规则表；通过初值设置模块根据线端回缩规则表，确定初始修正值；通过修正模块根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。通过建立线端回缩规则表确定初始修正值，利用初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正，可以有效提高光学临近效应修正在修正线端回缩时的收敛性，提高修正效率，减少光学临近效应修正的运行时间，进而提高半导体制造效率。

可选的，在上述方案的基础上，修正模块550还用于：

循环执行对目标图形进行修正的过程，直至目标图形中的线端回缩达到目标值。

可选的，在上述方案的基础上，模型建立模块520还用于：

验证光学临近效应修正模型，并比较光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与测试图形的线端回缩数据；

若光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与测试图形的线端回缩数据之差的绝对值小于或等于预设阈值，则判定光学临近效应修正模型符合应用条件；

若光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与测试图形的线端回缩数据之差的绝对值大于预设阈值，则进行基于模型的光学临近效应修正，直至满足光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与测试图形的线端回缩数据之差的绝对值小于或等于预设阈值。

可选的，在上述方案的基础上，当光刻条件发生变化时，模型建立模块520还用于重新建立光学临近效应修正模型，规则表建立模块530还用于重新建立线端回缩规则表。

可选的，在上述方案的基础上，线端回缩规则表包括图形线宽、图形间距以及一图形线宽和一图形间距对应的线端回缩长度；具体的，图形间距为相邻两个图形中相邻两条边的之间的距离或者为相邻两个图形中心的距离。初值设置模块540具体用于：

若目标图形的图形线宽和图形间距均小于线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最小值，则以线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最小值对应的线端回缩长度作为初始修正值；

若目标图形的图形线宽和图形间距均位于线端回缩规则表中，则以线端回缩规则表中对应的线端回缩长度作为初始修正值；

若目标图形的图形线宽和图形间距均大于线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最大值，则以0作为初始修正值。

本发明实施例所提供的光学临近效应修正装置可执行本发明任意实施例所提供的光学临近效应修正方法，具备执行方法相应的功能模块和有益效果。

图6是本发明实施例提供的一种计算机设备的结构示意图。图6示出了适于用来实现本发明实施方式的示例性计算机设备612的框图。图6显示的计算机设备612仅仅是一个示例，不应对本发明实施例的功能和使用范围带来任何限制。

如图6所示，计算机设备612以通用计算设备的形式表现。计算机设备612的组件可以包括但不限于：一个或者多个处理器616，系统存储器628，连接不同系统组件(包括系统存储器628和处理器616)的总线618。

总线618表示几类总线结构中的一种或多种，包括存储器总线或者存储器控制器，外围总线，图形加速端口，处理器616或者使用多种总线结构中的任意总线结构的局域总线。举例来说，这些体系结构包括但不限于工业标准体系结构(ISA)总线，微通道体系结构(MAC)总线，增强型ISA总线、视频电子标准协会(VESA)局域总线以及外围组件互连(PCI)总线。

计算机设备612典型地包括多种计算机系统可读介质。这些介质可以是任何能够被计算机设备612访问的可用介质，包括易失性和非易失性介质，可移动的和不可移动的介质。

系统存储器628可以包括易失性存储器形式的计算机系统可读介质，例如随机存取存储器(RAM)630和/或高速缓存存储器632。计算机设备612可以进一步包括其它可移动/不可移动的、易失性/非易失性计算机系统存储介质。仅作为举例，存储装置634可以用于读写不可移动的、非易失性磁介质(图6未显示，通常称为“硬盘驱动器”)。尽管图6中未示出，可以提供用于对可移动非易失性磁盘(例如“软盘”)读写的磁盘驱动器，以及对可移动非易失性光盘(例如CD-ROM，DVD-ROM或者其它光介质)读写的光盘驱动器。在这些情况下，每个驱动器可以通过一个或者多个数据介质接口与总线618相连。存储器628可以包括至少一个程序产品，该程序产品具有一组(例如至少一个)程序模块，这些程序模块被配置以执行本发明各实施例的功能。

具有一组(至少一个)程序模块642的程序/实用工具640，可以存储在例如存储器628中，这样的程序模块642包括但不限于操作系统、一个或者多个应用程序、其它程序模块以及程序数据，这些示例中的每一个或某种组合中可能包括网络环境的实现。程序模块642通常执行本发明所描述的实施例中的功能和/或方法。

计算机设备612也可以与一个或多个外部设备614(例如键盘、指向设备、显示器624等)通信，还可与一个或者多个使得用户能与该计算机设备612交互的设备通信，和/或与使得该计算机设备612能与一个或多个其它计算设备进行通信的任何设备(例如网卡，调制解调器等等)通信。这种通信可以通过输入/输出(I/O)接口622进行。并且，计算机设备612还可以通过网络适配器620与一个或者多个网络(例如局域网(LAN)，广域网(WAN)和/或公共网络，例如因特网)通信。如图所示，网络适配器620通过总线618与计算机设备612的其它模块通信。应当明白，尽管图中未示出，可以结合计算机设备612使用其它硬件和/或软件模块，包括但不限于：微代码、设备驱动器、冗余处理单元、外部磁盘驱动阵列、RAID系统、磁带驱动器以及数据备份存储系统等。

处理器616通过运行存储在系统存储器628中的程序，从而执行各种功能应用以及数据处理，例如实现本发明实施例所提供的光学临近效应修正方法，该方法包括：

根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；

获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立光学临近效应修正模型；

获取测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表；

根据线端回缩规则表，确定初始修正值；

根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。

当然，本领域技术人员可以理解，处理器还可以实现本发明任意实施例所提供的光学临近效应修正方法的技术方案。

本发明实施例还提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现本发明实施例所提供的光学临近效应修正方法，该方法包括：

根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；

获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立光学临近效应修正模型；

获取测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表；

根据线端回缩规则表，确定初始修正值；

根据初始修正值和光学临近效应修正模型对目标图形进行修正。

当然，本发明实施例所提供的一种计算机可读存储介质，其上存储的计算机程序不限于如上所述的方法操作，还可以执行本发明任意实施例所提供的光学临近效应修正方法的相关操作。

本发明实施例的计算机存储介质，可以采用一个或多个计算机可读的介质的任意组合。计算机可读介质可以是计算机可读信号介质或者计算机可读存储介质。计算机可读存储介质例如可以是——但不限于——电、磁、光、电磁、红外线、或半导体的系统、装置或器件，或者任意以上的组合。计算机可读存储介质的更具体的例子(非穷举的列表)包括：具有一个或多个导线的电连接、便携式计算机磁盘、硬盘、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、可擦式可编程只读存储器(EPROM或闪存)、光纤、便携式紧凑磁盘只读存储器(CD-ROM)、光存储器件、磁存储器件、或者上述的任意合适的组合。在本文件中，计算机可读存储介质可以是任何包含或存储程序的有形介质，该程序可以被指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用。

计算机可读的信号介质可以包括在基带中或者作为载波一部分传播的数据信号，其中承载了计算机可读的程序代码。这种传播的数据信号可以采用多种形式，包括但不限于电磁信号、光信号或上述的任意合适的组合。计算机可读的信号介质还可以是计算机可读存储介质以外的任何计算机可读介质，该计算机可读介质可以发送、传播或者传输用于由指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用的程序。

计算机可读介质上包含的程序代码可以用任何适当的介质传输，包括——但不限于无线、电线、光缆、RF等等，或者上述的任意合适的组合。

可以以一种或多种程序设计语言或其组合来编写用于执行本发明操作的计算机程序代码，所述程序设计语言包括面向对象的程序设计语言—诸如Java、Smalltalk、C++，还包括常规的过程式程序设计语言—诸如“C”语言或类似的程序设计语言。程序代码可以完全地在用户计算机上执行、部分地在用户计算机上执行、作为一个独立的软件包执行、部分在用户计算机上部分在远程计算机上执行、或者完全在远程计算机或服务器上执行。在涉及远程计算机的情形中，远程计算机可以通过任意种类的网络——包括局域网(LAN)或广域网(WAN)—连接到用户计算机，或者，可以连接到外部计算机(例如利用因特网服务提供商来通过因特网连接)。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (11)

1.一种光学临近效应修正方法，其特征在于，包括：

根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；

获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立所述光学临近效应修正模型；

获取所述测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表；

根据所述线端回缩规则表，确定初始修正值；

根据所述初始修正值和所述光学临近效应修正模型对所述目标图形进行修正。

2.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，还包括：

循环执行对所述目标图形进行修正的过程，直至所述目标图形的线端回缩达到目标值。

3.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立所述光学临近效应修正模型之后，还包括：

验证所述光学临近效应修正模型，并比较所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据；

若所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据之差的绝对值小于或等于预设阈值，则判定所述光学临近效应修正模型符合应用条件。

4.根据权利要求3所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，还包括：

若所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据之差的绝对值大于预设阈值，则进行基于模型的光学临近效应修正，直至满足所述光学临近效应修正模型得到的线端回缩数据与所述测试图形的线端回缩数据之差的绝对值小于或等于预设阈值。

5.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，当光刻条件发生变化时，重新建立光学临近效应修正模型和线端回缩规则表。

6.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述线端回缩规则表包括图形线宽、图形间距以及一所述图形线宽和一所述图形间距对应的线端回缩长度。

7.根据权利要求6所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述根据所述线端回缩规则表，确定初始修正值包括：

若所述目标图形的图形线宽和图形间距均小于所述线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最小值，则以所述线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最小值对应的线端回缩长度作为所述初始修正值；

若所述目标图形的图形线宽和图形间距均位于所述线端回缩规则表中，则以所述线端回缩规则表中对应的线端回缩长度作为所述初始修正值；

若所述目标图形的图形线宽和图形间距均大于所述线端回缩规则表中图形线宽和图形间距的最大值，则以0作为所述初始修正值。

8.根据权利要求7所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，当所述图形线宽和所述图形间距的最小值均为50nm时，所述初始修正值为70nm；

当所述图形线宽和所述图形间距均介于50nm～100nm之间时，所述初始修正值介于0nm～70nm之间；

当所述图形线宽和所述图形间距的最大值均为100nm时，所述初始修正值为0nm。

9.一种光学临近效应修正装置，其特征在于，包括：

测试图形生成模块，用于根据目标图形的设计规则，制作测试图形光罩；

模型建立模块，用于获取光学临近效应修正模型所需的数据，并建立所述光学临近效应修正模型；

规则表建立模块，用于获取所述测试图形的线端回缩数据，并建立线端回缩规则表；

初值设置模块，用于根据所述线端回缩规则表，确定初始修正值；

修正模块，用于根据所述初始修正值和所述光学临近效应修正模型对所述目标图形进行修正。

10.一种计算机设备，其特征在于，所述设备包括：

一个或多个处理器；

存储装置，用于存储一个或多个程序；

当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现如权利要求1～8中任一所述的光学临近效应修正方法。

11.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理器执行时实现如权利要求1～8中任一所述的光学临近效应修正方法。

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