CN113388808B - 掩膜板制作方法和掩膜板 - Google Patents
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Abstract
本申请提供的掩膜板制作方法和掩膜板,涉及掩膜板制作技术领域。在本申请中,首先,制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板,其中,预制图形板包括掩膜区域和非掩膜区域,掩膜图形位于掩膜区域内,堤坝结构位于非掩膜区域内。其次,将堤坝结构所在位置作为焊接位置,并基于焊接位置将预制图形板焊接于边框结构,得到包括预制图形板和边框结构的掩膜板,其中,堤坝结构用于增加将预制图形板焊接于边框结构之后在第一方向上具有的残留应力的受力面积,第一方向为从堤坝结构到边框结构的方向。基于上述方法,可以改善基于现有的掩膜板制作技术制作形成的掩膜板的使用寿命较低的问题。
Description
技术领域
本申请涉及掩膜板制作技术领域,具体而言,涉及一种掩膜板制作方法和掩膜板。
背景技术
在蒸镀工艺中,掩膜板(Mask)是一种重要的蒸镀工具,如普通金属掩膜板(CMM,Common Metal Mask)可以用于蒸镀共通层金属或有机材料。其中,普通金属掩膜板一般包括预制图形板(Sheet)和边框(Frame),预制图形板可以焊接在边框上,以增加预制图形板的结构稳定性。
但是,经发明人研究发现,基于现有的掩膜板制作技术制作形成的普通金属掩膜板,存在使用寿命较低的问题。
发明内容
有鉴于此,本申请的目的在于提供一种掩膜板制作方法和掩膜板,以改善基于现有掩膜板制作技术制作形成的掩膜板的使用寿命较低的问题。
为实现上述目的,本申请实施例采用如下技术方案:
一种掩膜板制作方法,包括:
制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板,其中,所述预制图形板包括掩膜区域和非掩膜区域,所述掩膜图形位于所述掩膜区域内,所述堤坝结构位于所述非掩膜区域内;
将所述堤坝结构所在位置作为焊接位置,并基于所述焊接位置将所述预制图形板焊接于边框结构,得到包括所述预制图形板和所述边框结构的掩膜板,其中,所述堤坝结构用于增加将所述预制图形板焊接于所述边框结构之后在第一方向上具有的残留应力的受力面积,所述第一方向为从所述堤坝结构到所述边框结构的方向。
在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板制作方法中,所述制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板的步骤,包括:
提供一具有掩膜图形的预制图形板,其中,所述预制图形板具有掩膜区域和非掩膜区域,所述掩膜图形位于所述掩膜区域;
对所述掩膜区域包括的遮挡区域进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域的厚度大于所述掩膜区域的厚度;
对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构。
在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板制作方法中,所述对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构的步骤,包括:
确定将所述预制图形板焊接于所述边框结构时的焊接能量;
基于所述焊接能量,确定进行焊接时形成的焊接点的直径信息;
基于所述直径信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构,且使得所述堤坝结构的宽度大于所述焊接点的直径。
在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板制作方法中,所述对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构的步骤,包括:
确定将所述预制图形板焊接于所述边框结构时的焊接能量;
基于所述焊接能量确定待形成的堤坝结构的厚度信息,其中,所述焊接能量大于融化所述堤坝结构所需的最小能量;
基于所述厚度信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构。
在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板制作方法中,所述将所述堤坝结构所在位置作为焊接位置,并基于所述焊接位置将所述预制图形板焊接于边框结构,得到包括所述预制图形板和所述边框结构的掩膜板的步骤,包括:
确定所述预制图形板上所述堤坝结构以外的区域的第一平坦度;
将所述堤坝结构所在位置作为焊接位置,并基于所述焊接位置和所述第一平坦度将所述预制图形板焊接于边框结构,得到包括所述预制图形板和所述边框结构的掩膜板,其中,焊接后的所述堤坝结构的平坦度小于所述第一平坦度,焊接后的所述堤坝结构的平坦度小于或等于0.1mm。
本申请实施例还提供了一种掩膜板,所述掩膜板基于上述的掩膜板制作方法制作形成。
在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板中,所述堤坝结构的宽度大于或等于0.5mm,且小于或等于1mm。
在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板中,所述堤坝结构的厚度大于或等于0.05mm,且小于或等于0.1mm。
在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板中,所述堤坝结构包括多个堤坝子结构,所述多个堤坝结构间隔分布于所述掩膜板的非掩膜区域内。
在本申请实施例较佳的选择中,在上述掩膜板中,所述掩膜板包括预制图形板和边框结构,所述预制图形板上不具有堤坝结构的一面与所述边框结构接触连接,且在基于所述掩膜板进行蒸镀时,蒸镀源位于所述掩膜板上具有所述边框结构的一侧。
本申请提供的掩膜板制作方法和掩膜板,由于预制图形板的非掩膜区域具有堤坝结构,因而,在基于堤坝结构所在位置将预制图形板焊接于边框结构之后,可以有效增加焊接位置的厚度,如此,相较于未设置堤坝结构的常规技术方案,可以增加预制图形板焊接于边框结构之后具有的残留应力的受力面积,使得单位面积的受力减小,如此,在后续的使用过程中,如蒸镀压合、清洗等过程中,可以避免使用过程中因单位面积的受力较大而导致容易损坏的问题,如出现断裂等,从而改善基于现有掩膜板制作技术制作形成的掩膜板的使用寿命较低的问题。
为使本申请的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。
附图说明
图1为本申请实施例提供的掩膜板制作方法的流程示意图。
图2为本申请实施例提供的制作掩膜板的工艺流程示意图。
图3为本申请实施例提供的进行刻蚀的工艺流程示意图。
图4为本申请实施例提供的平坦度的示意图。
图5为本申请实施例提供的一种掩膜板的俯视图。
图6为本申请实施例提供的另一种掩膜板的俯视图。
图标:110-预制图形板;111-堤坝结构;120-边框结构。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例只是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围,而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
如图1和图2所示,本申请实施例提供了一种掩膜板制作方法,用于制作形成掩膜板。下面将对图1和图2所示的具体流程,进行详细阐述。
步骤S110,制作具有掩膜图形和堤坝结构111的预制图形板110。
在本实施例中,可以先制作形成具有掩膜图形和堤坝结构111的预制图形板110。其中,所述预制图形板110包括掩膜区域和非掩膜区域。所述掩膜图形位于所述掩膜区域内,所述堤坝结构111位于所述非掩膜区域内。
步骤S120,将所述堤坝结构111所在位置作为焊接位置,并基于所述焊接位置将所述预制图形板110焊接于边框结构120,得到包括所述预制图形板110和所述边框结构120的掩膜板。
在本实施例中,在基于步骤S110制作形成所述预制图形板110之后,可以将所述预制图形板110中所述堤坝结构111所在位置作为焊接位置,并基于所述焊接位置将所述预制图形板110焊接于边框结构120,如此,可以得到包括所述预制图形板110和所述边框结构120的掩膜板。其中,所述堤坝结构111用于增加将所述预制图形板110焊接于所述边框结构120之后具有的残留应力的受力面积。
基于上述方法,由于预制图形板110的非掩膜区域具有堤坝结构111,因而,在基于堤坝结构111所在位置将预制图形板110焊接于边框结构120之后,可以有效增加焊接位置的厚度,如此,相较于未设置堤坝结构111的常规技术方案,可以增加预制图形板110焊接于边框结构120之后具有的残留应力的受力面积,使得单位面积的受力减小,如此,在后续的使用过程中,如蒸镀压合、清洗等过程中,可以避免使用过程中因单位面积的受力较大而导致容易损坏的问题,如出现断裂等,从而改善基于现有掩膜板制作技术制作形成的掩膜板的使用寿命较低的问题。
可以理解的是,经过本申请的发明人的长期研究发现,基于上述方法制作形成的掩膜板可以为普通金属掩膜板,其中,考虑到精密掩膜板的应用中对蒸镀精度需求较高,如需要有效避免蒸镀阴影等问题,因而,一般做得比较薄,难以适用本申请实施例提供的掩膜板制作方法。
可以理解的是,在一种可以替代的示例中,步骤S110可以包括以下子步骤,以制作形成所述预制图形板110:
首先,可以提供一板状结构,如金属板;其次,可以对所述板状结构的掩膜区域进行减薄处理,使得所述非掩膜区域的厚度大于所述掩膜区域的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构111;然后,可以对所述板状结构的掩膜区域的多个位置进行开孔处理,以形成所述掩膜图形,其中,所述掩膜图形可以包括多个在所述掩膜区域间隔分布的开口区域,对应地,在所述掩膜区域中,所述开口区域以外的区域可以称为遮挡区域。
如此,在上述示例中,可以先形成所述堤坝结构111,再形成所述掩膜图形,即先做减薄处理,再做开孔处理,使得在做开孔处理时需要贯穿的厚度可以较小,从而提高效率。
可以理解的是,在另一种可以替代的示例中,步骤S110也可以包括以下子步骤,以制作形成所述预测图形板:
首先,可以提供一具有掩膜图形的预制图形板110,其中,所述预制图形板110具有掩膜区域和非掩膜区域,所述掩膜图形位于所述掩膜区域;其次,可以对所述掩膜区域进行减薄处理,使得所述非掩膜区域的厚度大于所述掩膜区域的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构111。
如此,在上述示例中,可以先形成所述掩膜图形,再形成所述堤坝结构111,即先做开孔处理,再做减薄处理,使得可以避免开孔处理对形成的堤坝结构111的稳定性造成影响的问题。
可以理解的是,在一种可以替代的示例中,可以基于以下步骤以通过减薄处理而形成所述堤坝结构111:
可以仅对所述掩膜区域包括的遮挡区域进行刻蚀处理,不对所述非掩膜区域进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域中的各个部分的厚度都大于所述掩膜区域,以形成完全占用所述非掩膜区域的堤坝结构111。
可以理解的是,在另一种可以替代的示例中,结合图3,也可以基于以下步骤以通过进行减薄处理而形成所述堤坝结构111:
一方面,可以对所述掩膜区域包括的遮挡区域进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域的厚度大于所述掩膜区域的厚度;另一方面,可以对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构111。
可以理解的是,对所述掩膜区域包括的遮挡区域进行刻蚀处理和对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,既可以是同步进行,也可以是分别先后进行。
基于此,由于在上述示例中,在对所述掩膜区域包括的遮挡区域进行刻蚀的基础上,还对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得形成的堤坝结构111可以仅位于所述非掩膜区域中的部分区域,如此,可以避免堤坝结构111完全占有非掩膜区域而使得宽度过大,从而影响后续在掩膜工艺中的使用。
可以理解的是,在一种可以替代的示例中,可以基于以下步骤以对所述非掩膜区域进行刻蚀处理:
首先,可以确定将所述预制图形板110焊接于所述边框结构120时的焊接能量;其次,可以基于所述焊接能量,确定进行焊接时形成的焊接点的直径信息;然后,可以基于所述直径信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构111,且使得所述堤坝结构111的宽度(如图3所示的W1)大于所述焊接点的直径。
其中,在一种可以替代的示例中,所述预制图形板110可以通过激光将焊接于所述边框结构120,对应地,焊接时形成的焊接点的直径信息可以是指激光作用于所述预制图形板110的有效作用区域,如激光光斑的直径。
基于此,由于在形成所述堤坝结构111的过程中,考虑了焊接点的直径信息,如此,在避免形成的堤坝结构111的宽度过大的基础上,还可以避免因堤坝结构111的宽度过小而导致焊接的连接稳定性较差的问题。
可以理解的是,在一种可以替代的示例中,在结合焊接点的常规直径信息的基础上,所述堤坝结构111的宽度可以大于或等于0.5mm,且可以小于或等于1mm。
可以理解的是,在一种可以替代的示例中,也可以基于以下步骤以对所述非掩膜区域进行刻蚀处理:
首先,可以确定将所述预制图形板110焊接于所述边框结构120时的焊接能量;其次,可以基于所述焊接能量确定待形成的堤坝结构111的厚度信息,其中,所述焊接能量大于融化所述堤坝结构111所需的最小能量;然后,可以基于所述厚度信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度(如图3所示的H1)大于被刻蚀的第二部分的厚度(如图3所示的H2),以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构111。
基于此,由于所述堤坝结构111的厚度基于所述焊接能量确定,所述焊接能量大于融化所述堤坝结构111所需的最小能量,可以避免堤坝结构111的厚度过大而导致难以将所述预制图形板110融合以焊接于所述边框结构120的问题。
可以理解的是,在一种可以替代的示例中,在结合焊接能量的常规大小的基础上,所述堤坝结构111的厚度(如图3所示的H3)可以大于或等于0.05mm,且小于或等于0.1mm。
可以理解的是,在上述示例中,所述堤坝结构111是基于进行刻蚀等减薄处理形成,在其它示例中,也可以是通过生长工艺形成,如在所述非掩膜区域通过沉积金属等形成所述堤坝结构111。
可以理解的是,在一种可以替代的示例中,考虑到在将所述预制图形板110焊接于所述边框结构120之后,焊接位置的表面一般不会是平整的,因此,为了改善非平整的表面对蒸镀中的蒸镀基板造成损伤的问题,可以基于以下步骤进行焊接:
首先,可以确定所述预制图形板110上所述堤坝结构111以外的区域的第一平坦度;其次,可以将所述堤坝结构111所在位置作为焊接位置,并基于所述焊接位置和所述第一平坦度将所述预制图形板110焊接于边框结构120,得到包括所述预制图形板110和所述边框结构120的掩膜板。
其中,焊接后的所述堤坝结构111的平坦度小于所述第一平坦度,如此,可以有效改善焊接形成的非平整表面对蒸镀中的蒸镀基板造成损伤的问题。可以理解的是,在一种可以替代的示例中,所述第一平坦度可以是指所述掩膜区域的平坦度。
例如,在一种可以替代的示例中,焊接后的所述堤坝结构111的平坦度可以小于或等于0.1mm
可以理解的是,在上述示例中,所述第一平坦度和焊接后的所述堤坝结构111的平坦度可以是指,所在表面的最高点和最低点之间的距离。例如,焊接后的所述堤坝结构111的平坦度可以是图4所示的P1。
本申请实施例还提供一种掩膜板,其中,所述掩膜板可以基于上述的掩膜板制作方法制作形成,因而,所述掩膜板的结构可以参照前文对所述掩膜板制作方法的相关解释说明。
例如,所述掩膜板可以包括预制图形板110和边框结构120,所述预制预制图形板110上具有堤坝结构111,所述预制图形板110与所述边框结构120的焊接连接位置为所述堤坝结构111所在位置。
其中,在一种可以替代的示例中,所述堤坝结构111的宽度大于或等于0.5mm,且小于或等于1mm。所述堤坝结构111的厚度大于或等于0.05mm,且小于或等于0.1mm。焊接后的所述堤坝结构111的平坦度小于所述第一平坦度,例如,焊接后的所述堤坝结构111的平坦度小于或等于0.1mm。
可以理解的是,在一种可以替代的示例中,结合图5,所述非掩膜区域可以是环状区域,位于所述掩膜区域的外侧,围绕所述掩膜区域分布。对应地,所述堤坝结构111也可以为环状结构,所述焊接位置可以为环状堤坝结构111上的多个焊接点位,所述多个焊接点位可以等间隔分布,以保证焊接连接的稳定性。
可以理解的是,在一种可以替代的示例中,所述堤坝结构111可以是围绕所述掩膜区域分布的一个连续的环状结构,如图5所示。
可以理解的是,在另一种可以替代的示例中,所述堤坝结构111可以包括多个堤坝子结构,所述多个堤坝结构可以间隔分布于所述掩膜板100的非掩膜区域内,如图6所示。其中,多个间隔分布的堤坝结构111形状、尺寸可不相同,通过设置不同尺寸或形状的堤坝结构111,能够根据预制图形板110不同部位的受力不同而进行调整,对预制图形板110在张网过程中受到较大应力的部位设置能够承受较大应力的堤坝结构111。例如,在张网和焊接过程中,预制图形板110位于四角的非掩膜区域一般会承受更大的应力,将位于对应位置的堤坝结构111设置为相较于其他部位的堤坝结构111具有宽度更宽、厚度更厚的尺寸。其中,宽度方向是指与对应边框边延方向相同的方向,厚度方向是指与边框结构120所在平面垂直的方向,如此,可增加位于预制图形板110四角的非掩膜区域焊接于边框结构120之后具有残留应力的受力面积,避免在使用过程中预制图形板110四角的非掩膜区域容易损坏的问题。
可以理解的是,在一种可以替代的示例中,所述预制图形板110上不具有所述堤坝结构111的一面与所述边框结构120接触连接,且在基于所述掩膜板100进行蒸镀时,蒸镀源可以位于所述掩膜板100上具有所述边框结构120的一侧,对应地,蒸镀基板可以位于所述掩膜板100上具有所述堤坝结构111的一侧。
综上所述,本申请提供的掩膜板制作方法和掩膜板,由于预制图形板110的非掩膜区域具有堤坝结构111,因而,在基于堤坝结构111所在位置将预制图形板110焊接于边框结构120之后,可以有效增加焊接位置的厚度,如此,相较于未设置堤坝结构111的常规技术方案,可以增加预制图形板110焊接于边框结构120之后具有的残留应力的受力面积,使得单位面积的受力减小,如此,在后续的使用过程中,如蒸镀压合、清洗等过程中,可以避免使用过程中因单位面积的受力较大而导致容易损坏的问题,如出现断裂等,从而改善基于现有掩膜板制作技术制作形成的掩膜板的使用寿命较低的问题。
以上所述仅为本申请的优选实施例而已,并不用于限制本申请,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种掩膜板制作方法,其特征在于,包括:
制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板,其中,所述预制图形板包括掩膜区域和非掩膜区域,所述掩膜图形位于所述掩膜区域内,所述堤坝结构位于所述非掩膜区域内;
将所述堤坝结构所在位置作为焊接位置,并基于所述焊接位置将所述预制图形板焊接于边框结构,得到包括所述预制图形板和所述边框结构的掩膜板,其中,所述堤坝结构用于增加将所述预制图形板焊接于所述边框结构之后在第一方向上具有的残留应力的受力面积,所述第一方向为从所述堤坝结构到所述边框结构的方向;
其中,所述堤坝结构包括多个堤坝子结构,所述多个堤坝子结构间隔分布于所述掩膜板的非掩膜区域内,与所述预制图形板的非掩膜区域的四角对应位置处的所述堤坝子结构的厚度和宽度大于其他位置处所述堤坝子结构的厚度和宽度;
其中,所述制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板的步骤,包括:
提供一具有掩膜图形的预制图形板,其中,所述预制图形板具有掩膜区域和非掩膜区域,所述掩膜图形位于所述掩膜区域;
对所述掩膜区域包括的遮挡区域进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域的厚度大于所述掩膜区域的厚度;
对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构;
其中,所述对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构的步骤,包括:
确定将所述预制图形板焊接于所述边框结构时的焊接能量;基于所述焊接能量,确定进行焊接时形成的焊接点的直径信息;基于所述直径信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构,且使得所述堤坝结构的宽度大于所述焊接点的直径;
或,确定将所述预制图形板焊接于所述边框结构时的焊接能量;基于所述焊接能量确定待形成的堤坝结构的厚度信息,其中,所述焊接能量大于融化所述堤坝结构所需的最小能量;基于所述厚度信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理,使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度,以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构。
2.一种掩膜板,其特征在于,所述掩膜板基于权利要求1所述的掩膜板制作方法制作形成。
3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述堤坝结构的宽度大于或等于0.5mm,且小于或等于1mm。
4.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述堤坝结构的厚度大于或等于0.05mm,且小于或等于0.1mm。
5.根据权利要求2-4任意一项所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括预制图形板和边框结构,所述预制图形板上不具有堤坝结构的一面与所述边框结构接触连接,且在基于所述掩膜板进行蒸镀时,蒸镀源位于所述掩膜板上具有所述边框结构的一侧。
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