CN113314680A - 显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，能够提升显示面板的出光效率，降低显示面板的功耗。显示面板包括显示基板、透镜层和调光层所述显示基板包括阵列式排布的多个子像素，每个子像素具有发光区。所述透镜层设置于所述显示基板的出光面一侧，包括多个透镜图案区，每个透镜图案区与一个子像素的发光区相对，所述子像素的发光区和与其相对的透镜图案区在所述显示基板的正投影至少部分重叠；所述透镜图案区设置有多个凹槽。所述调光层设置于所述透镜层远离所述显示基板的一侧，且所述调光层的至少部分填充在所述透镜图案区设置的多个凹槽内；所述调光层的折射率大于所述透镜层的折射率。本公开用于制作显示装置。

Description

显示面板及显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)显示面板具有自发光、广视角、对比度高、响应速度快、耗电低、超轻薄等特点，因此受到了广泛应用。

发明内容

本公开的实施例提供了一种显示面板及显示装置，能够提升显示面板的出光效率，降低显示面板的功耗。

为达到上述目的，本公开的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种显示面板。所述显示面板包括显示基板、透镜层和调光层。所述显示基板包括阵列式排布的多个子像素，每个子像素具有发光区。所述透镜层设置于所述显示基板的出光面一侧，具有多个透镜图案区，每个透镜图案区与一个子像素的发光区相对，所述子像素的发光区和与其相对的透镜图案区在所述显示基板的正投影至少部分重叠；所述透镜图案区设置有多个凹槽。所述调光层设置于所述透镜层远离所述显示基板的一侧，且所述调光层的至少部分填充在所述透镜图案区设置的多个凹槽内；所述调光层的折射率大于所述透镜层的折射率。

在一些实施例中，所述透镜层包括第一子透镜层。所述第一子透镜层具有多个第一子透镜图案区，每个第一子透镜图案区与一个子像素的发光区相对，所述子像素的发光区和与其相对的第一子透镜图案区在所述显示基板的正投影至少部分重叠；所述第一子透镜图案区设置有沿第一方向延伸的多个第一凸条，所述多个第一凸条沿第二方向间隔分布，相邻两个第一凸条之间形成第一沟槽。所述第一方向和所述第二方向交叉。

在一些实施例中，所述第一子透镜层还包括第一连接图案区，所述第一连接图案区包括多个第一开口区，每个第一开口区的边界围绕一个第一子透镜图案区；所述第一连接图案区设置有第一连接图案，所述第一连接图案远离所述显示基板的表面大致平坦。

在一些实施例中，所述透镜层还包括第二子透镜层。所述第二子透镜层设置于所述第一子透镜层与所述调光层之间，所述第二子透镜层具有多个第二子透镜图案区，每个第二子透镜图案区与一个子像素的发光区相对，所述子像素的发光区和与其相对的第二子透镜图案区在所述显示基板的正投影至少部分重叠；所述第二子透镜图案区设置有沿第二方向延伸的多个第二凸条，所述多个第二凸条沿第一方向间隔分布，相邻两个第二凸条之间形成一个沿第二方向延伸的第二沟槽。

在一些实施例中，所述第二子透镜层还包括第二连接图案区，所述第二连接图案区包括多个第二开口区，每个第二开口区的边界围绕一个第二子透镜图案区；所述第二连接图案区设置于第二连接图案，所述第二连接图案远离所述显示基板的表面大致平坦；所述第二连接图案与所述第二子透镜图案区设置的多个第二凸条材料相同且同层设置。

在一些实施例中，所述第一凸条的与第二方向平行且与所述显示基板垂直的截面轮廓中，远离所述显示基板的一端为近似弧形；和/或，所述第二凸条的与第一方向平行且与所述显示基板垂直的截面轮廓中，远离所述显示基板的一端为近似弧形。

在一些实施例中，与同一个子像素的发光区相对的第一子透镜图案区和第二子透镜图案区在所述显示基板上的正投影的边界大致重合。

在一些实施例中，所述显示面板还包括触控电极层和桥接层。所述触控电极层设置于所述显示基板的出光面一侧，包括沿第一方向排列的多个第一电极、沿第二方向排列的多个第二电极、以及多个连接部。所述桥接层设置于触控电极层靠近或远离所述显示基板的一侧，包括多个桥接部。沿第一方向相邻的两个第一电极之间通过连接部电连接，沿第二方向相邻的两个第二电极之间通过桥接部电连接；或者，沿第一方向相邻的两个第一电极之间通过桥接部电连接，沿第二方向相邻的两个第二电极之间通过连接部电连接。所述透镜层和所述调光层中的至少一者设置于所述触控电极层与所述桥接层之间。

在一些实施例中，所述透镜层包括第一子透镜层和第二子透镜层；所述触控电极层和所述桥接层中的一者设置于所述第一子透镜层和所述第二子透镜层之间；所述触控电极层和所述桥接层中的另一者设置于所述第二子透镜层与所述调光层之间。

在一些实施例中，所述第二子透镜层包括第二连接图案，所述第二连接图案中设置有用于连接所述桥接层和所述触控电极层的过孔。

在一些实施例中，所述显示面板包括彩膜层和黑矩阵。所述彩膜层设置于所述显示基板的出光面一侧，包括多个滤光部，每个滤光部与一个子像素的发光区相对。所述黑矩阵包括多个开口，每个滤光部的至少部分位于一个开口内。所述滤光部包括基底层，及设置于所述基底层远离的显示基板一侧表面的多个第一凸条，所述基底层和所述第一凸条一体成型，所述多个第一凸条形成所述第一子透镜图案区的多个第一沟槽。

在一些实施例中，所述第一子透镜层还包括第一连接图案区，所述黑矩阵形成所述第一连接图案区设置的第一连接图案。

在一些实施例中，所述显示面板包括第一子透镜层和第二子透镜层，所述第一子透镜层和所述第二子透镜层均为有机膜层。

在一些实施例中，所述显示面板包括第一子透镜层和第二子透镜层，所述第一子透镜层和所述第二子透镜层对光线的折射率大致相同。

在一些实施例中，所述显示面板包括第一子透镜层和第二子透镜层，所述第一子透镜层和所述第二子透镜层的折射率为1.4～1.5。

在一些实施例中，所述子像素的发光区位于与其相对的透镜图案区在所述显示基板的正投影的边界之内；所述子像素的发光区的边界，和与之相对的透镜图案区在所述显示基板上的正投影的边界之间的间隔为1μm～5μm。

在一些实施例中，所述调光层的折射率为1.6～1.8。

在一些实施例中，所述调光层远离所述显示基板的表面大致平坦。

在一些实施例中，所述调光层为有机膜层。

本公开实施例提供的显示面板，显示基板射出的向四周发散的光线中的部分光线，入射到透镜层的透镜图案区，并入射到调光层填充于凹槽内的部分，然后射向该凹槽的一个侧壁，由于调光层的折射率大于透镜层的折射率，射向该侧壁的部分光线会在该侧壁(透镜层与调光层交界的侧壁)上发生反射；经反射后的光线中的至少部分能够从显示面板的正面(出光面)射出，从而提升显示面板的出光量，提升显示面板的出光效率，降低显示面板的功耗。

另一方面，提供一种显示装置。所述显示装置包括上述任一实施例所述的显示面板。

本公开实施例提供的显示装置，包括上述显示面板，具有与上述显示面板相同的有益效果，在此不再赘述。

又一方面，提供一种显示面板的制作方法，包括：制作显示基板；在所述显示基板的出光面一侧制作透镜膜，对所述透镜膜的多个目标区域进行图案化处理，在每个目标区域形成多个凹槽，得到透镜层；在所述透镜层远离所述显示基板的一侧制作调光层，使所述调光层的至少部分填充在所述透镜图案区的多个凹槽内。

其中，所述显示基板包括阵列式排布的多个子像素，每个子像素具有发光区。所述目标区域作为所述透镜层的透镜图案区，每个透镜图案区与一个子像素的发光区相对，所述子像素的发光区和与其相对的透镜图案区在所述显示基板的正投影至少部分重叠。所述调光层的折射率大于所述透镜层的折射率。

在一些实施例中，所述在所述显示基板的出光面一侧制作透镜膜，对所述透镜膜的多个目标区域进行图案化处理，在每个目标区域形成多个凹槽，得到透镜层，包括：在所述显示基板的出光面一侧制作第一子透镜膜，对所述第一子透镜膜的多个第一子目标区域进行图案化处理，在每个第一子目标区域形成沿第一方向延伸的多个第一凸条，所述多个第一凸条沿第二方向间隔分布，相邻两个第一凸条之间形成第一沟槽，得到第一子透镜层；在所述第一子透镜层远离所述显示基板的一侧制作第二子透镜膜，对所述第二子透镜膜的多个第二子目标区域进行图案化处理，形成沿第二方向延伸的多个第二凸条，所述多个第二凸条沿第一方向间隔分布，相邻两个第二凸条之间形成第二沟槽，得到第二子透镜层。

其中，所述第一子目标区域作为所述第一子透镜膜的第一子透镜图案区，每个第一子透镜图案区与一个子像素的发光区相对，所述子像素的发光区和与其相对的第一子透镜图案区在所述显示基板的正投影至少部分重叠；所述第二子目标区域作为所述第二子透镜膜的第二子透镜图案区，每个第二子透镜图案区与一个子像素的发光区相对，所述子像素的发光区和与其相对的第二子透镜图案区在所述显示基板的正投影至少部分重叠；所述第一方向和所述第二方向交叉。

本公开实施例提供的显示面板的制作方法，能够制作上述任一实施例中所述的显示面板，能够提升显示面板的出光量，提升显示面板的出光效率，降低显示面板的功耗。

附图说明

为了更清楚地说明本公开中的技术方案，下面将对本公开一些实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例的附图，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。此外，以下描述中的附图可以视作示意图，并非对本公开实施例所涉及的产品的实际尺寸、方法的实际流程、信号的实际时序等的限制。

图1为根据一些实施例的显示装置的示意图；

图2为图1中A的一种局部放大图；

图3A为图2中C-C的一种剖视图；

图3B为图2中C-C的另一种剖视图；

图4为图3A中E的局部放大图；

图5A为图1中B-B的一种剖视图；

图5B为图1中B-B的另一种剖视图；

图6为图1中A的另一种局部放大图；

图7为根据一些实施例的触控结构层的结构图；

图8为根据一些实施例的显示面板的制作流程图；

图9为根据一些实施例的显示面板的制作工序图；

图10为图9中显示面板制作工序过程中G方向的视图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本公开一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开所提供的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、或“示例(example)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。

以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

“A和/或B”，包括以下三种组合：仅A，仅B，及A和B的组合。

如本文所使用的那样，“约”、“大致”或“近似”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围内的平均值，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。

本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。

在本文中，使用了“同层设置”这样的表述，其是指利用同一掩模板通过一次构图工艺形成具有特定图形的膜层。根据特定图形的不同，一次构图工艺可能包括多次曝光、显影或刻蚀工艺，而形成的层结构中的特定图形可以是连续的也可以是不连续的，这些特定图形还可能处于不同的高度或者具有不同的厚度。

参阅图1，本公开的一些实施例提供了一种显示装置1000，该显示装置1000可以为电视、电脑、笔记本电脑、手机、平板电脑、个人数字助理(Personal Digital Assistant，简称：PDA)、车载电脑等。

在一些实施例中，显示装置1000可以为电致发光显示装置或光致发光显示装置。在该显示装置1000为电致发光显示装置的情况下，电致发光显示装置可以为有机电致发光显示装置(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)或量子点电致发光显示装置(Quantum Dot Light Emitting Diodes，简称QLED)。在显示装置1000为光致发光显示装置的情况下，光致发光显示装置可以为量子点光致发光显示装置。

显示装置1000包括显示面板1100。参阅图2和图3A，显示面板1100包括显示基板100，显示基板100内包括阵列式排布的多个子像素101，子像素101起显示画面的作用。其中，图2为图1中一个子像素101的局部放大图；图3A中仅示例性的展示出了一个子像素101。

显示基板100包括层叠设置的背板110、多个发光器件120和封装层130。

参阅图3A，背板110包括衬底11，以及每个子像素101的像素驱动电路。像素驱动电路包括多个薄膜晶体管T(Thin-Film Transistor；简称：TFT)；薄膜晶体管T包括栅极12、有源层13、源极14及漏极15；源极15和漏极16分别与有源层13接触。背板110还包括栅绝缘层16，栅绝缘层16设置于栅极12与有源层13之间。其中，图3A中仅示例性的展示出了多个薄膜晶体管T中的一个驱动薄膜晶体管T的结构。

发光器件120包括阳极18、发光功能层19以及阴极层21，阳极18和多个薄膜晶体管T中作为驱动晶体管的薄膜晶体管T的漏极16电连接。

显示基板100还包括像素界定层22，像素界定层22包括多个开口区，一个发光器件120的发光功能层19的至少一部分位于一个开口区内。

在一些实施例中，发光功能层19包括发光层。在另一些实施例中，发光功能层19除包括发光层外，还包括电子传输层(Election Tansporting Layer，简称ETL)、电子注入层(Election Injection Layer，简称EIL)、空穴传输层(Hole Transporting Layer，简称HTL)以及空穴注入层(Hole Injection Layer，简称HIL)中的一层或多层。

在一些实施例中，封装层130可以为封装薄膜，也可以为封装基板。

显示基板100的背板110还包括设置在薄膜晶体管T和阳极18之间的平坦层17。

以显示基板100为顶发射型显示基板为例，发光器件120发出的光线中，包括垂直射出的部分(沿垂直于衬底11且向远离衬底11方向射出的部分)，以及向四周发散的部分(与衬底11具有一定夹角且向远离衬底11的方向射出的部分；所述夹角小于90°)。

相关技术中，向四周发散的光线中的部分光线不能从显示基板100的出光面射出，导致显示基板100的出光效率较低。如何提升显示面板1100的出光效率，是显示面板1100的一个重要研究方向。

本公开的一些实施例提供了一种显示面板1100，参阅图2和图3A，包括显示基板100、透镜层200和调光层300。

显示基板100包括阵列式排布的多个子像素101，每个子像素101具有发光区1011。在像素驱动电路的驱动下，发光器件120的发光区1011能够发射光线。

透镜层200设置于显示基板100的出发光面一侧，具有多个透镜图案区201，每个透镜图案区201与一个子像素101的发光区1011相对，子像素101的发光区1011和与其相对的透镜图案区201在显示基板100的正投影至少部分重叠，以使每个子像素101的发光区1011发射的光线中的至少部分光线，可以射入到与该发光区1011相对的透镜图案区201。其中，每个透镜图案区201内均设置有多个凹槽2011。

需要理解的是，“透镜图案区201在显示基板100的正投影”是沿垂直于显示基板100出光面的方向，透镜图案区201在显示基板100上形成的投影。

调光层300设置于透镜层200远离显示基板100的一侧，且调光层300的至少部分填充在透镜图案区201设置的多个凹槽2011内；调光层300的折射率大于透镜层200的折射率。调光层300与透镜层200直接接触，且在透镜层200的透镜图案区201，调光层300与透镜层200之间形成与显示基板100出光面成一定夹角的交界面。子像素101的发光区1011发出的向四周发散的光线中的部分，能够射向上述交界面，并在交界面处发生折射或反射。

参阅图3A和图4，显示基板100射出的向四周发散的光线中，部分入射到透镜层200内，且射入到透镜层200内的部分光线，由透镜层200的靠近凹槽2011的第一侧壁2012，经折射后射入到调光层300填充于凹槽2011内的部分，然后继续传输射向与第一侧壁2012相对的第二侧壁2013；由于调光层300的折射率大于透镜层200的折射率，射向第二侧壁2013的部分光线会在第二侧壁2013上发生反射；经反射后的光线中的至少部分能够从显示面板1100的正面(出光面)射出，从而提升显示面板1100的出光量，提升显示面板1100的出光效率，降低显示面板1100的功耗。

继续参阅图4，显示基板100射出的向四周发散的光线中，另一部分直接射入到调光层300填充于凹槽2011内的部分，并继续射向透镜层200上一个围成该凹槽2011的第三侧壁2014上，射向第三侧壁2014的部分光线在第三侧壁2014上发生反射，经反射后的光线中的至少部分光线，能够从显示面板1100的正面射出，从而提升显示面板1100的出光量，提升显示面板1100的出光效率，降低显示面板1100的功耗。

子像素101的发光区1011和与其相对的透镜图案区201在显示基板100的正投影至少部分重叠，可以是子像素101的发光区1011和与其相对的透镜图案区201在显示基板100的正投影重叠，也可以是子像素101的发光区1011和与其相对的透镜图案区201在显示基板100的正投影部分重叠。在子像素101的发光区1011和与其相对的透镜图案区201在显示基板100的正投影重叠的情况下，可以是子像素101的发光区1011的边界位于与其相对的透镜图案区201在显示基板100的正投影的边界之内，也可以是子像素101的发光区1011的边界位于与其相对的透镜图案区201在显示基板100的正投影的边界之外，还可以是子像素101的发光区1011的边界和与其相对的透镜图案区201在显示基板100的正投影的边界大致重合。

在一些实施例中，参阅图3A，子像素101的发光区1011的边界位于与其相对的透镜图案区201在显示基板100的正投影的边界之内；且子像素101的发光区1011的边界，和与之相对的透镜图案区201在显示基板100上的正投影的边界之间的间隔D1为1μm～5μm。以使子像素101的发光区1011发出的光线，尽可能多的射向透镜层210的透镜图案区201，有利于透镜层200和调光层300将子像素101的发光区1011发出向四周发散的光线，反射至由显示面板1100的正面射出，提升显示面板1100的出光效率。

在一些实施例中，参阅图2和图5A，透镜层200包括第一子透镜层210。第一子透镜层210具有多个第一子透镜图案区211，每个第一子透镜图案区211与一个子像素101的发光区1011相对，子像素101的发光区1011和与其相对的第一子透镜图案区211在显示基板100的正投影至少部分重叠；以使每个子像素101的发光区1011发射的光线中的至少部分，可以射入到与该发光区1011相对的第一子透镜图案区211内。需要理解的是，图2中未示出第一子透镜图案区211，第一子透镜图案区211的边界与透镜图案区201的边界大致重合。

示例性的，子像素101的发光区1011和与其相对的第一子透镜图案区211在显示基板100的正投影重叠，且子像素101的发光区1011位于与其相对的第一子透镜图案区211在显示基板100的正投影的边界之内，以使子像素101的发光区1011发出的光线，尽可能多的射向第一子透镜图案区211，有利于将子像素101的发光区1011发出向四周发散的光线，反射至由显示面板1100的正面射出，提升显示面板1100的出光效率。

参阅图2和图5A，第一子透镜图案区211设置有沿第一方向M1延伸的多个第一凸条2111，多个第一凸条2111沿第二方向M2间隔分布，相邻两个第一凸条2111之间形成第一沟槽2112，调光层300的材料填充于第一沟槽2112内。

第一子透镜图案区211和调光层300配合，能够将子像素101的发光区1011发出的，远离衬底11的一端沿第二方向M2向远离第一子透镜图案区211的方向发散的光线中的部分光线，反射至由显示面板1100的正面射出，提升显示面板1100的出光效率。

其中，第一方向M1与第二方向M2交叉；示例性的，第一方向M1与第二方向M2相互垂直。

在一些实施例中，第一方向M1可以为多个子像素101排列的行方向和列方向中的一者，第二方向M2可以为多个子像素101排列的行方向和列方向中的另一者。示例性的，第一方向M1为多个子像素101排列的行方向，第二方向M2为多个子像素101排列的列方向。

参阅图2和图5A，第一子透镜层210还包括第一连接图案区212，第一连接图案区212包括多个第一开口区2122，每个第一开口区2122的边界围绕一个第一子透镜图案区211；第一子透镜图案区211内设置的多个第一凸条2111位于第一连接图案区212形成的第一开口区2122内。第一子透镜图案区211之间通过第一连接图案区212相连。其中，第一子透镜图案区211的边界与围绕该第一子透镜图案区211的第一开口区2122的边界重合。

第一连接图案区212设置有第一连接图案2121，第一连接图案2121远离显示基板100的表面大致平坦，有利于在第一连接图案区212远离显示基板100的表面设置其他功能层结构(比如触控电极层400或桥接层500)；而且不需要对第一连接图案2121远离显示基板100的表面进行图案化处理，能够简化第一连接图案2121的制作工艺，降低第一连接图案区212的制作成本。

示例性的，参阅图5A，在第一透镜图案区211设置的多个第一凸条2111和第一连接图案2121材料相同的情况下，多个第一凸条2111和第一连接图案2121同层制作。

在一些实施例中，参阅图2、图3A和图3B，透镜层200除第一子透镜层210外，还包括第二子透镜层220。其中，图3A是剖面线C-C穿过第一凸条2111时的剖面图，图3B是剖面线C-C穿过第一沟槽2112时的剖面图。第二子透镜层220设置于第一子透镜层210与调光层300之间，第二子透镜层220具有多个第二子透镜图案区221，每个第二子透镜图案区221与一个子像素101的发光区1011相对，子像素101的发光区1011和与其相对的第二子透镜图案区221在显示基板100的正投影至少部分重叠；以使每个子像素101的发光区1011发射的光线中的至少部分，可以射入到第二子透镜层220的一个第二子透镜图案区221内。其中，第二子透镜图案区221的边界与透镜图案区201的边界大致重合。

示例性的，子像素101的发光区1011和与其相对的第二子透镜图案区221在显示基板100的正投影重叠，且子像素101的发光区1011位于与其相对的第二子透镜图案区221在显示基板100的正投影的边界之内，以使子像素101的发光区1011发出的光线，尽可能多的射向第二子透镜图案区221，有利于将子像素101的发光区1011发出向四周发散的光线，反射至由显示面板1100的正面射出，提升显示面板1100的出光效率。

参阅图2和图3A，第二子透镜图案区221包括沿第二方向M2延伸的多个第二凸条2211，多个第二凸条2211沿第一方向M1间隔分布，相邻两个第二凸条2211之间形成一个沿第二方向M2延伸的第二沟槽2212。

第二子透镜图案区221和调光层300配合，能够将子像素101的发光区1011发出的，远离衬底11的一端沿第一方向M1向远离第二子透镜图案区221的方向发散的光线，反射至由显示面板1100的正面射出，提升显示面板1100的出光效率。

参阅图2，本公开实施例提供的显示面板1100，利用两个膜层(第一子透镜层210和第二子透镜层220)分别形成沿两个方向延伸的多个第一凸条2111和多个第二凸条2211，组合形成网格状。这样，对每个膜层的图案化精度要求都比较低，有利于降低制作透镜层200的工艺难度。

由于制作透镜层200的工艺精度要求较低，因此，透镜层200的材料可以选用有机材料，即，透镜层200可以为有机膜层。相较于无机膜层的图案化，有机膜层的图案化更加简单，有利于降低制作透镜层200的工艺难度。示例性的，有机膜层的图案化可以通过曝光和显影实现；而无机膜层的图案化需通过涂覆光刻胶曝光、显影、刻蚀和去除光刻胶等工序实现。

第二沟槽2212及第一沟槽2112与调光层300配合能够将子像素101的发光区1011发出的向四周发散的光线中的至少部分，反射至由显示面板1100的正面射出，提升显示面板1100的出光效率。

在一些实施例中，参阅图3B，第二子透镜层220还具有第二连接图案区222，第二连接图案区222形成多个第二开口区2222，每个第二开口区围2222绕一个第二子透镜图案区221。第二子透镜图案区221内设置的多个第二凸条2211位于第二连接图案区222形成的第二开口区2222内。示例性的，第二开口区2222的边界与第二子透镜图案区221的边界重合，第二子透镜图案区221之间通过第二连接图案区222相连。

第二连接图案区222设置有第二连接图案2221，第二连接图案2221远离显示基板100的表面大致平坦；有利于在第二连接图案2221远离显示基板100的表面设置其他结构(比如触控电极层400或桥接层500)；而且不需要对第二连接图案2221远离显示基板100的表面进行图案化处理，能够降低第二子透镜层220的制作难度。第二连接图案区222与第二子透镜图案区221材料相同且同层设置；有利于简化第二子透镜层220的制作工艺，降低显示面板1100的制作成本。

在一些实施例中，参阅图3A，第二凸条2211的与第一方向M1平行且与显示基板100垂直的截面轮廓中，远离显示基板100的一端为近似弧形；和/或，参阅图5A，第一凸条2111的与第二方向M2平行且与显示基板100垂直的截面轮廓中，远离显示基板100的一端为近似弧形。

第一凸条2111和/或第二凸条2211的弧形结构，能够增加发光区1011发出的向四周发散的光线，从凹槽2011内的调光层300射向第一凸条2111和/或第二凸条2211时的入射角，进而增加上述光线在调光层300与第一凸条2111和/或第二凸条2211之间的界面上发生反射的概率，增加上述光线的反射量，增加显示面板1100正面的出光效率。

在一些实施例中，在透镜层200包括第一子透镜层210和第二自透镜层220的情况下，与同一个子像素101的发光区1011相对的第一子透镜图案区211和第二子透镜图案区221在显示基板100上的正投影的边界大致重合；以使子像素101射出的光线能够同时射入到第一子透镜图案区211和第二子透镜图案区221内。

显示面板1100还可以包括其他功能层集层(Functional Layer Integration；简称FLI)，示例性的，功能层集层可以为触控结构层，或者为彩膜结构层等。

触控结构层设置于显示基板100的出光面一侧，可以使显示面板1100具有触控功能。触控结构层可以是外挂式结构或者直接设置在显示基板100的封装层130上。相较于外挂式结构，触控结构层直接设置在显示基板100的封装层130上，能够降低显示面板1100的厚度，使显示装置1000更轻薄。触控结构层包括触控电极层和桥接层，触控电极层和桥接层可以是由金属材料制成的网格结构(metal mesh)；或者，触控电极层和桥接层还可以是由透明导电材料，比如氧化铟锡(Indium Tin Oxides；简称：ITO)，制成的块状结构。

彩膜结构层设置于显示基板100的出光面一侧，能够降低显示面板1100出光面对外界光线的反射。

在一些实施例中，参阅图6和图7，在显示面板1100还包括触控结构层的情况下，显示面板1100包括触控电极层400和桥接层500。触控电极层400与桥接层500均由导电材料制成，基于此，触控电极层400与桥接层500之间设置有至少一层绝缘层，避免触控电极层400和桥接层500直接接触。

触控电极层400设置于显示基板100的出光面一侧，包括沿第一方向M1排列的多个第一电极41、沿第二方向M2排列的多个第二电极42、以及多个连接部43。桥接层500设置于触控电极层400靠近或远离显示基板100的一侧，包括多个桥接部51。其中，图6中示例性的展示出了桥接层500设置于触控电极层400靠近显示基板100时的结构。

沿第一方向M1相邻的两个第一电极41之间通过连接部43电连接，沿第二方向M2相邻的两个第二电极42之间通过桥接部51电连接；或者，沿第一方向M1相邻的两个第一电极41之间通过桥接部51电连接，沿第二方向M2相邻的两个第二电极42之间通过连接部43电连接。

其中，图6中仅示例性的展示出了沿第一方向M1相邻的两个第一电极41之间通过连接部43电连接，沿第二方向M2相邻的两个第二电极42之间通过桥接部51电连接时的结构。

透镜层200和调光层300中的至少一者设置于触控电极层400与桥接层500之间，以使触控电极层400与桥接层500之间的透镜层200和/或调光层300复用为触控电极层400与桥接层500之间的至少一层绝缘层，进而减少显示面板1100的膜层数量，有利于实现显示面板1100的轻薄化，同时能够降低显示面板的制作成本。

在一些实施例中，在透镜层200包括第一子透镜层210和第二子透镜层220的情况下，触控电极层400和桥接层500中的一者设置于第一子透镜层210和第二子透镜层220之间；触控电极层400和桥接层500中的另一者设置于第二子透镜层220与调光层300之间。即，第一子透镜层210设置于触控电极层400和桥接层500靠近显示基板100的一侧；第二子透镜层220设置于触控电极层400与桥接层500之间；调光层300设置于触控电极层400和桥接层500远离显示基板100的一侧。

第二子透镜层220位于触控电极层400和桥接层500之间，可以作为触控电极层400和桥接层500之间的绝缘层，从而减少显示面板1100的膜层数量，简化显示面板1100的制作工艺，并降低显示面板1100的制作成本。示例性的，参阅图7，桥接层500设置于第一子透镜层210和第二子透镜层220之间，触控电极层400设置于第二子透镜层220与调光层300之间。

在一些实施例中，为了降低触控电极层400和桥接层500对显示面板1100出光率的影响，第一电极41、第二电极42、连接部43和桥接部51在显示基板100上的正投影，均与子像素101的发光区1011相互分离。

示例性的，第一子透镜层210包括第一连接图案区212，第二子透镜层220包括第二连接图案区222；桥接部51设置于第一连接图案区212设置的第一连接图案2121上，第一电极41、第二电极42及连接部43设置于第二连接图案区222设置的第二连接图案2221上。参阅图6，子像素101包括发光区1011和电路区1012，第一电极41和/或第二电极42上与子像素101的发光区1011相对的位置设有镂空区411(其中，图6中仅示例性的展示了一个第一电极41上设置的一个镂空区411)，以使子像素101的发光区1011与第一电极41和第二电极42在显示基板100上的投影分离(没有重叠的区域)。

其中，发光区1011和电路区1012的相对位置关系、形状、面积比例等并不一定如图6中所示，图6中所示的发光区1011和电路区1012仅是示意，二者之间可以有相互重叠的部分，而且发光区1011和电路区1012的形状不限于矩形。且子像素101与第一电极41之间的面积比例关系并不一定如图6所示。

参阅图7，第二子透镜层220包括第二连接图案2221，第二连接图案2221中设置有用于连接桥接层400和触控电极层500的过孔2223。

在沿第二方向M2相邻的两个第二电极42之间通过桥接部51电连接的情况下，沿第二方向M2相邻的两个第二电极42分别通过至少一个过孔2223与同一个桥接部51电连接。在沿第一方向M1相邻的两个第一电极41之间通过桥接部51电连接的情况下，沿第一方向M1相邻的两个第一电极41分别通过至少一个过孔2223与同一个桥接部51电连接。

在一些实施例中，参阅图5B，显示面板1100还包括彩膜结构层的情况下，即，显示面板1100的彩色滤光层在封装层130上(CF on Encapsulation；简称：COE)。显示面板1100还包括彩膜层600和黑矩阵700。

彩膜层600设置于显示基板100的出光面一侧，包括多个滤光部61，每个滤光部61与一个子像素101的发光区1011相对；以使每个子像素101的发光区1011发出的光线都可以穿过滤光部61，滤光部61仅允许目标波长范围的光线透过，从而使透过滤光部61的光线具有目标颜色。示例性的，滤光部61可以包括红色滤光部、蓝色滤光部和绿色滤光部。

黑矩阵700包括多个开口701，每个滤光部61的至少部分位于一个开口701内，黑矩阵700能够降低显示面板1100出光面反射环境光，并且提升显示面板1100显示画面的对比度。

参阅图5B，滤光部61包括基底层611，及设置于基底层611远离的显示基板100一侧表面的多个第一凸条2111，多个第一凸条2111用于形成第一子透镜图案区211的多个第一沟槽2112；即，第一沟槽2112靠近显示基板100的一端没有穿透滤光部61，使子像素101发出的光线，都可以穿过滤光部61。

在一些实施例中，在第一子透镜层210包括第一连接图案212的情况下，黑矩阵700形成第一连接图案区212设置的第一连接图案2121。相较于通过增加额外膜层制作第一子透镜层210，本公开实施例提供的显示面板1100，利用彩膜层600的滤光部61形成第一子透镜图案区211设置的多个第一凸条2111，通过黑矩阵700形成第一连接图案区212设置的第一连接图案2121，第一子透镜层210由彩膜结构层(包括彩膜层600和黑矩阵700)制作形成，能够减少显示面板1100的膜层数量，降低简化显示面板1100的制作工艺，并降低显示面板1100的制作成本。

在一些实施例中，在显示面板1100包括第一子透镜层210和第二子透镜层220，第一子透镜层210和第二子透镜层220均为有机膜层。示例性的，第一子透镜层210和第二子透镜层220的材料可以为透明光学胶或者透明树脂。相较于无机膜层，有机膜层的图案化工艺更简单，可以直接通过曝光显影进行图案化处理，有利于降低第一子透镜层210和第二子透镜层220的制作难度。

显示基板100的出光面侧包括至少一层有机膜层，第一子透镜层210和/或第二子透镜层220可以通过显示面板1100中原有的有机膜层制作形成，进而减少显示面板1100的膜层数量，使显示面板1100更轻薄，同时降低显示面板1100的生产成本。示例性的，在显示面板1100包括触控结构层的情况下，显示面板1100包括至少一层透明光学胶层(有机膜层)，第一子透镜层210和/或第二子透镜层220可以通过上述至少一层透明光学胶层制作形成。

在一些实施例中，调光层300为有机膜层。示例性的，调光层300的材料可以为透明光学胶或者透明树脂。调光层300为有机膜层时能够实现的效果，与上述第一子透镜层210和第二子透镜层220均为有机膜层时能够达到的效果相似，在此不再赘述。

在一些实施例中，在显示面板1100包括第一子透镜层210和第二子透镜层220的情况下，第一子透镜层210和第二子透镜层220对光线的折射率大致相同。第一子透镜层210用于形成第一沟槽2111，第二子透镜层220用于形成第二沟槽2211，光线不需要在第一子透镜层210与第二子透镜层220之间的交界面上发生反射或者折射，因此，第一子透镜层210和第二子透镜层220对光线的折射率大致相同。示例性的，第一子透镜层210和第二子透镜层220可以由相同材料制成，此时，第一子透镜层210和第二子透镜层220的折射率相同。

在一些实施例中，在显示面板1100包括第一子透镜层210和第二子透镜层220的情况下，第一子透镜层210和第二子透镜层220的折射率为1.4～1.5。示例性的，第一子透镜层210和第二子透镜层220的折射率可以为1.4、1.45、1.47或1.5等，在此不再一一列举。

在一些实施例中，调光层300的折射率为1.6～1.8，示例性的，调光层300的折射率可以为1.6、1.7、1.75、1.8等，在此不再一一列举。

在一些实施例中，调光层300远离显示基板100的表面大致平坦，调光层300的制作工艺简单，有利于降低显示面板1100的制作成本。示例性的，可以通过涂覆工艺制作调光层300。

在一些实施例中，透镜层200还可以为单层膜结构，在这种情况下，透镜图案区201内阵列设置有多个凹槽2011。

在一些实施例中，凹槽2011在显示基板100上的正投影的轮廓形状可以为矩形、圆形、椭圆形等。

本公开的一些实施例还提供了一种显示面板1100的制作方法，参阅图8、图9和图10，制作方法包括S100～S300。

S100，制作显示基板100。

显示基板100包括阵列式排布的多个子像素101，每个子像素具有发光区1011。

S200，在显示基板100的出光面一侧制作透镜膜200′，对透镜膜200′的多个目标区域进行图案化处理，在每个目标区域形成多个凹槽2011，得到透镜层210。

每个透镜图案区201与一个子像素101的发光区相对，子像素101的发光区1011和与其相对的透镜图案区201在显示基板100的正投影至少部分重叠。

示例性的，可以通过涂覆工艺制作形成透镜膜200′；并通过曝光、显影和刻蚀等工艺对透镜膜200′的多个透镜图案区201进行图案化处理，使透镜膜200′的透镜图案区201形成多个凹槽2011，进而将透镜膜200′制成透镜层200。

需要理解的是，透镜膜200′是整层膜结构，透镜层200是对透镜膜200′进行图案化处理后形成的膜结构。每个透镜图案区201均设置于多个凹槽2011。

在一些实施例中，S200，在显示基板100的出光面一侧制作透镜膜200′，对透镜膜200′的多个目标区域进行图案化处理，在每个目标区域形成多个凹槽2011，得到透镜层210；包括S210～S220。

S210，在显示基板100的出光面一侧制作第一子透镜膜210′，对第一子透镜膜210′的多个第一子目标区域进行图案化处理，在每个第一子目标区域形成沿第一方向M1延伸的多个第一凸条2111，多个第一凸条2111沿第二方向M2间隔分布，相邻两个第一凸条2111之间形成第一沟槽2112，得到第一子透镜层210。

将第一子目标区域作为第一子透镜膜210′的第一子透镜图案区211，每个第一子透镜图案区211与一个子像素101的发光区1011相对，子像素101的发光区1011和与其相对的第一子透镜图案区211在显示基板100的正投影至少部分重叠。

示例性的，可以通过涂覆工艺形成第一子透镜膜210′；并通过曝光、显影和刻蚀等工艺对第一子透镜膜210′进行图案化处理，使第一子透镜膜210′的第一子目标区域形成多个第一沟槽2112，进而将第一子透镜膜210′制成第一子透镜层210。相邻两个第一沟槽2112之间保留的部分，形成一个第一凸条2111。

需要理解的是，第一子透镜膜210′是涂覆形成的整层膜结构，第一子透镜层210是对第一子透镜膜210′进行图案化处理后形成的膜结构。第一方向M1和第二方向M2相互交叉。

S220，在第一子透镜层210远离显示基板100的一侧制作第二子透镜膜220′，对第二子透镜膜220′的多个第二子目标区域进行图案化处理，形成沿第二方向M2延伸的多个第二凸条2211，多个第二凸条2211沿第一方向间隔分布，相邻两个第二凸条2211之间形成第二沟槽2212，得到第二子透镜层220。

其中，第二子目标区域作为第二子透镜膜220′的第二子透镜图案区221，每个第二子透镜图案区221与一个子像素101的发光区1011相对，子像素101的发光区1011和与其相对的第二子透镜图案区221在显示基板100的正投影至少部分重叠。

示例性的，可以通过涂覆工艺形成第二子透镜膜220′；并通过曝光、显影和刻蚀等工艺对第二子透镜膜220′的第二子目标区域进行图案化处理，使第二子透镜膜220′的第二子透镜图案区221形成多个第二沟槽2212，相邻两个第二沟槽2212之间保留下来的部分形成第二凸条2211。

S300，在透镜层200远离显示基板100的一侧制作调光层300，使调光层300的至少部分填充在透镜图案区201的多个凹槽2011内。

其中，调光层300的折射率大于透镜层200的折射率；多个凹槽2011包括多个第一沟槽2112和多个第二沟槽2212。

示例性的，可以使用涂覆工艺制作调光层300，或者，在调光层300的材料为可以适用喷墨打印设备时，还可以采用喷墨打印的方式制作调光层300。

通过本公开实施例提供的制作方法获得的显示面板1100，具有与上述任一实施例中所述的显示面板1100相同的有益效果，在此不再赘述。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (20)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

显示基板，包括阵列式排布的多个子像素，每个子像素具有发光区；

透镜层，设置于所述显示基板的出光面一侧；所述透镜层具有多个透镜图案区，每个透镜图案区与一个子像素的发光区相对，所述子像素的发光区和与其相对的透镜图案区在所述显示基板的正投影至少部分重叠；所述透镜图案区设置有多个凹槽；

调光层，设置于所述透镜层远离所述显示基板的一侧，且所述调光层的至少部分填充在所述透镜图案区设置的多个凹槽内；所述调光层的折射率大于所述透镜层的折射率。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述透镜层包括：

第一子透镜层，具有多个第一子透镜图案区，每个第一子透镜图案区与一个子像素的发光区相对，所述子像素的发光区和与其相对的第一子透镜图案区在所述显示基板的正投影至少部门重合；所述第一子透镜图案区设置有沿第一方向延伸的多个第一凸条，所述多个第一凸条沿第二方向间隔分布，相邻两个第一凸条之间形成第一沟槽；所述第一方向和所述第二方向交叉。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一子透镜层还包括第一连接图案区，所述第一连接图案区包括多个第一开口区，每个第一开口区的边界围绕一个第一子透镜图案区；所述第一连接图案区设置有第一连接图案，所述第一连接图案远离所述显示基板的表面大致平坦。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述透镜层还包括：

第二子透镜层，设置于所述第一子透镜层与所述调光层之间；所述第二子透镜层具有多个第二子透镜图案区，每个第二子透镜图案区与一个子像素的发光区相对，所述子像素的发光区和与其相对的第二子透镜图案区在所述显示基板的正投影至少部分重合；所述第二子透镜图案区设置有沿第二方向延伸的多个第二凸条，所述多个第二凸条沿第一方向间隔分布，相邻两个第二凸条之间形成一个沿第二方向延伸的第二沟槽。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第二子透镜层还包括第二连接图案区，所述第二连接图案区包括多个第二开口区，每个第二开口区的边界围绕一个第二子透镜图案区；所述第二连接图案区设置有第二连接图案，所述第二连接图案远离所述显示基板的表面大致平坦；所述第二连接图案与所述第二子透镜图案区设置的多个第二凸条材料相同且同层设置。

6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，

所述第一凸条的与第二方向平行且与所述显示基板垂直的截面轮廓中，远离所述显示基板的一端为近似弧形；和/或，

所述第二凸条的与第一方向平行且与所述显示基板垂直的截面轮廓中，远离所述显示基板的一端为近似弧形。

7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，

与同一个子像素的发光区相对的第一子透镜图案区和第二子透镜图案区在所述显示基板上的正投影的边界大致重合。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括：

触控电极层，设置于所述显示基板的出光面一侧，包括沿第一方向排列的多个第一电极、沿第二方向排列的多个第二电极、以及多个连接部；

桥接层，设置于触控电极层靠近或远离所述显示基板的一侧，包括多个桥接部；沿第一方向相邻的两个第一电极之间通过连接部电连接，沿第二方向相邻的两个第二电极之间通过桥接部电连接；或者，沿第一方向相邻的两个第一电极之间通过桥接部电连接，沿第二方向相邻的两个第二电极之间通过连接部电连接；

所述透镜层和所述调光层中的至少一者设置于所述触控电极层与所述桥接层之间。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述透镜层包括第一子透镜层和第二子透镜层；

所述触控电极层和所述桥接层中的一者设置于所述第一子透镜层和所述第二子透镜层之间；

所述触控电极层和所述桥接层中的另一者设置于所述第二子透镜层与所述调光层之间。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述第二子透镜层包括第二连接图案，所述第二连接图案中设置有用于连接所述桥接层和所述触控电极层的过孔。

11.根据权利要求2～7中任一项所述的显示面板，其特征在于，包括：

彩膜层，设置于所述显示基板的出光面一侧，包括多个滤光部，每个滤光部与一个子像素的发光区相对；

黑矩阵，包括多个开口，每个滤光部的至少部分位于一个开口内；

其中，所述滤光部包括基底层，及设置于所述基底层远离的显示基板一侧表面的多个第一凸条，所述基底层和所述第一凸条一体成型，所述多个第一凸条形成所述第一子透镜图案区设置的多个第一沟槽。

12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第一子透镜层还包括第一连接图案区，所述黑矩阵形成所述第一连接图案区设置的第一连接图案。

13.根据权利要求2～7中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括第一子透镜层和第二子透镜层，所述第一子透镜层和所述第二子透镜层均为有机膜层。

14.根据权利要求2～7中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括第一子透镜层和第二子透镜层，所述第一子透镜层和所述第二子透镜层对光线的折射率大致相同。

15.根据权利要求2～7中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括第一子透镜层和第二子透镜层，所述第一子透镜层和所述第二子透镜层的折射率为1.4～1.5。

16.根据权利要求1～7中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述子像素的发光区位于与其相对的透镜图案区在所述显示基板的正投影的边界之内，且所述子像素的发光区的边界，和与之相对的透镜图案区在所述显示基板上的正投影的边界之间的间隔为1μm～5μm。

17.根据权利要求1～7中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述调光层的折射率为1.6～1.8。

18.根据权利要求1～7中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述调光层远离所述显示基板的表面大致平坦。

19.根据权利要求1～7中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述调光层为有机膜层。

20.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～19中任一项所述的显示面板。

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