CN113314581A - 一种显示装置及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开一种显示装置及其制备方法。在一具体实施方式中，该显示装置包括显示基板，还包括设置于显示基板的出光侧的滤光层，滤光层为含钕的金属层。该实施方式的显示装置采用含钕的金属层作为滤光层，通过钕的物理特性可对红色、绿色和蓝色光谱进行部分吸收，以使得红色、绿色和蓝色光谱窄化，从而增强显示装置的色纯度，提高显示装置的显示画质。

Description

一种显示装置及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域。更具体地，涉及一种显示装置及其制备方法。

背景技术

有机电致发光显示(Organic Electro-Luminance Display，简称为：OLED)作为一种以其自发光的特征不需要单独的光源的装置，可以被制得更轻更纤薄。另外，OLED显示装置还具有优异的颜色实现、响应速度、视角、对比度(Computed Radiography，简称为：CR)，以及因低电压操作带来的低功耗优点。目前，OLED显示装置已被广泛应用于显示技术领域。

色纯度作为表征颜色鲜艳度的参数，其大小直接决定着OLED显示装置的颜色的鲜艳程度，直接影响OLED显示装置的显示画质。因此，提高色纯度和增大色域一直是OLED显示装置结构优化的重要目标之一。可理解的是，纯绿光的波长范围为515-535nm，而目前的有机绿色光源覆盖的范围为500-600nm，此外，纯红光的波长范围为615-630nm，纯蓝光的波长范围为440-475nm，而目前的有机红色光源的覆盖范围为580-730nm，有机蓝色光源的覆盖范围为430-500nm。由此可见，现有的有机光源覆盖范围相比于纯色光的波长范围较广，严重影响OLED显示装置的色纯度，无法达到红绿蓝三原色的纯度要求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示装置及其制备方法，以解决现有技术存在的问题中的至少一个。

为达到上述目的，本发明采用下述技术方案：

本发明第一方面提供了一种显示装置，包括显示基板，还包括设置于所述显示基板的出光侧的滤光层，所述滤光层为含钕的金属层。

本发明第一方面提供的显示装置采用含钕的金属层作为滤光层，通过钕的物理特性可对显示基板所发出的光中的红色、绿色和蓝色光谱进行部分吸收，以使得红色、绿色和蓝色光谱窄化，改善三原色的色纯度，从而增强显示装置的色纯度，满足红绿蓝三原色的纯色要求，提高显示装置的显示画质，有效改善显示装置中的有机材料的本征发光光谱较宽导致显示色度不纯、颜色鲜艳度不足的问题；另外，采用含钕的金属层作为滤光层，相比于现有技术中的传统的滤光片结构或微腔效应相比，可有效避免色分离问题或色偏现象，而且该含钕的金属层的结构和工艺更加简单，成本更低，并且厚度远小于传统的滤光片，满足显示装置轻薄化的要求，对柔性显示装置的进一步推广和发展具有重要的作用。

可选地，所述滤光层为钕金属层。

可选地，所述滤光层为至少两种金属材料共掺制成的金属层，所述金属层中的钕含量大于等于60wt％。

该可选的实施方式采用至少两种金属材料共掺制成金属层，从而可灵活调节对显示基板所发出的光中的红色、绿色和蓝色光谱的吸收波长，进一步窄化红色、绿色和蓝色光谱，总体提升三原色的色纯度；同时钕含量大于等于60wt％，保证钕金属单质在吸收光子后，钕元素之间发生交叉驰豫，从而避免钕作为分立中心在吸收光子后发生自发光，对显示装置的发光造成干扰的现象。

可选地，所述滤光层的厚度小于等于15nm。

该可选的实施方式将滤光层的厚度设定为1-15nm，从而可满足显示装置的光透过性要求，保证显示装置的显示效果。

可选地，所述显示装置还包括设置在所述显示基板与所述滤光层之间的封装层。

可选地，所述显示装置还包括在所述滤光层的远离所述封装层的一侧层叠设置的触控感应层和盖板。

可选地，所述显示装置为柔性显示装置。

可选地，所述显示基板为顶发射型显示基板；

所述显示基板包括衬底以及位于所述衬底上的多个发光单元；

所述滤光层位于所述发光单元远离所述衬底的一侧。

可选地，所述显示基板为底发射型显示基板；

所述显示基板包括衬底以及位于所述衬底上的多个发光单元；

所述滤光层位于所述衬底远离所述发光单元的一侧。

本发明第二方面提供一种显示装置的制备方法，包括：

在显示基板的出光侧形成滤光层，所述滤光层为含钕的金属层。

可选地，所述在显示基板的出光侧形成滤光层包括：

在显示基板的出光侧通过化学气相沉积或溅射法蒸镀形成滤光层。

本发明的有益效果如下：

针对现有技术存在的技术问题，本发明的实施例提供一种显示装置及其制备方法，该显示装置采用含钕的金属层作为滤光层，通过钕的物理特性可对显示基板所发出的光中的红色、绿色和蓝色光谱进行部分吸收，以使得红色、绿色和蓝色光谱窄化，改善三原色的色纯度，从而增强显示装置的色纯度，满足红绿蓝三原色的纯色要求，提高显示装置的显示画质，有效改善显示装置中的有机材料的本征发光光谱较宽导致的显示色度不纯、颜色鲜艳度不足的问题；另外，采用含钕的金属层作为滤光层，相比于现有技术中的传统的滤光片结构或微腔效应相比，可有效避免色分离问题或色偏现象，而且该含钕的金属层的结构更加简单，成本更低，并且厚度远小于传统的滤光片，满足显示装置轻薄化的要求，对柔性显示装置的进一步推广和发展具有重要的作用。

附图说明

下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。

图1示出现有技术中包括滤光片的显示装置的结构示意图。

图2示出本申请的一个实施例中的显示装置的结构示意图。

图3示出Nd元素的吸收光谱图。

图4示出现有技术的显示装置和本申请的一个实施例的显示装置的绿光发光光谱图。

图5示出现有技术中的显示装置的红绿蓝三原色归一化发光光谱图。

图6示出本申请的一个实施例的显示装置的红绿蓝三原色归一化发光光谱图。

图7示出现有技术的显示装置和本申请的一个实施例的显示装置的发光色域对比图。

图8示出本申请的一个实施例的显示装置的制作流程图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明，下面结合实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本发明的保护范围。

本发明中所述的“在……上”、“在……上形成”和“设置在……上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上，也可以表示一层间接形成或设置在另一层上，即两层之间还存在其它的层。

需要说明的是，虽然术语“第一”、“第二”等可以在此用于描述各种部件、构件、元件、区域、层和/或部分，但是这些部件、构件、元件、区域、层和/或部分不应受到这些术语限制。而是，这些术语用于将一个部件、构件、元件、区域、层和/或部分与另一个相区分。因而，例如，下面讨论的第一部件、第一构件、第一元件、第一区域、第一层和/或第一部分可以被称为第二部件、第二构件、第二元件、第二区域、第二层和/或第二部分，而不背离本发明的教导。

在本发明中，除非另有说明，所采用的术语“同层设置”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过相同制备工艺(例如构图工艺等)形成，并且，这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。例如两个或更多个功能层同层设置指的是这些同层设置的功能层可以采用相同的材料层并利用相同制备工艺形成，从而可以简化显示基板的制备工艺。

在本发明中，除非另有说明，表述“构图工艺”一般包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。表述“一次构图工艺”意指使用一块掩模板形成图案化的层、部件、构件等的工艺。

需要说明的是，现有技术中通过采用在薄膜封装层130上设置滤光片140(COE：Color Filter on Encapsulation)以提高色纯度，以实现显示基板120的发光光谱的窄化，如图1所示，该现有技术的显示装置100包括层叠设置的背膜110、显示基板120、薄膜封装层130、彩色滤光片140、触控感应层150和背板160。然而，滤光片140的结构复杂，其中包括保护层、彩膜和黑色矩阵等结构，而且滤光片140的厚度较大，约为10μm，无法满足显示装置100轻薄化的要求；再者，滤光片140工艺复杂，所需的制作材料较多，其中包括丙烯系树脂、树脂、金属薄膜铬、化学染料等，制作成本较高，进而增加显示装置100的制作成本。最后，可理解的是，滤光片140的反射率较高，使得屏幕反光现象更为明显，同时滤光片140技术由于滤光片140本身结构不平整，导致了严重的色分离问题(即出现彩色的反射光，目视为眩光效果)，从而影响显示装置100的质量。

现有技术中的另一种方法是通过引入微腔效应以使得发光光谱窄化，从而提高显示图像的发光效率和色纯度。微腔效应是从有机发光层(Electro-Luminescence，简称为：EL)发射的光在特定层之间被反复选择性地反射，并以增加的光学强度透过第一电极层(如阳极层)或第二电极层(如阴极层)，由此提高最终输出光的亮度和色纯度。然而，使用微腔效应的OLED显示装置，其发光层(EL)发射光的亮度会随着视角的增加而降低，使得OLED显示装置的视角较窄，光的主峰值波长也会变化从而导致色偏，而且过强的微腔效应会导致色偏现象更为严重。

为解决现有技术中存在的技术问题，本申请的一个实施例提供一种显示装置200，如图2所示，该显示装置200包括显示基板210，还包括设置于显示基板210的出光侧的滤光层220，滤光层220为含钕的金属层。

其中，钕(化学符号Nd，银白色金属，是最活泼的稀土金属之一，熔点1024℃，密度7.004g/cm³)作为稀土金属，具有吸收光谱窄、化学性能稳定的性质，并且由于受到⁵s₂和⁵p₆电子轨道的屏蔽，钕的⁴f_n电子层中的电子受到晶体场的影响较弱，使得钕的发光中心几乎不受环境和基质的影响。钕的吸收光谱如图3所示，钕作为稀土金属，其光学特性与有机发光材料不同，其在吸收光谱和发光光谱上展现出尖锐且独特的光谱形状。

由于钕元素独特的吸收光谱分布，将含钕的金属层作为滤光层220设置在显示基板210的出光侧，可吸收显示基板210所发出的红光、蓝光和绿光，使得有机红色光源、有机绿色光源和有机蓝色光源的光谱窄化，且不会影响钕的发光中心，进而增大显示装置200的显示色域，如图4-7所示。

其中，如图4示出该实施例的显示装置200的所发出的绿光的发光光谱以及现有技术的显示装置100所发出的绿光的发光光谱的对比图，其中，虚线为该实施例的显示装置200的绿光的发光光谱，实线为现有技术的显示装置100的绿光的发光光谱。可见，现有技术的显示装置100所发出的绿光的发光光谱范围为500-600nm，而本实施例的显示装置200(包含设置在显示基板210的出光侧的滤光层220)所发出的绿光的发光光谱明显收窄，范围为515-570nm，明显提高绿色的色纯度。

同时，如图5-6所示，图5示出现有技术的显示装置100发出的光红绿蓝三原色归一化发光光谱图，图6示出该实施例的显示装置200发出的光的红绿蓝三原色归一化发光光谱图，通过如图5和图6的对比可以看出，本实施例的显示装置200(包含设置在显示基板210的出光侧的滤光层220)所发出的光的蓝光的发光光谱也有一定的收窄，蓝光的发光光谱范围从现有的430-500nm(如图5所示)收窄为430-470nm(如图6所示)；同样地，本实施例的显示装置200(包含设置在显示基板210的出光侧的滤光层220)所发出的光的红光的发光光谱也有一定的收窄，红光的发光光谱范围从现有的580-730nm(如图5所示)收窄为590-675nm(如图6所示)。可见，由于钕元素在可见光区域的吸收光谱分布，使得滤光层220(含钕的金属层)对显示基板210发光的蓝光和红光也有一定的影响，即对蓝光和红光的发光光谱起到一定程度的窄化，提高蓝光和红光的色纯度。

图7示出该实施例的显示装置200的发光色域与现有技术的显示装置100的发光色域的对比图，其中，虚线为该实施例的显示装置200的发光色域范围，实线为现有技术的显示装置100的发光色域范围。如图7所示，绿光的色坐标从现有的(0.253，0.718)变为(0.253，0.727)，蓝光的色坐标从现有的(0.140，0.0040)变为(0.141，0.048)，红光的色坐标从现有的(0.680，0.320)变为，(0.682，0.318)，可见，该实施例的显示装置200相比于现有技术的显示装置100可显示更多种颜色，即，该实施例的显示装置200的红绿蓝三原色的发光光谱窄化后，其发光色域得到明显地提高。

在一种可能的实现方式中，显示装置200为柔性显示装置。该实现方式通过采用含钕的金属层作为滤光层220，滤光层220具有良好的弯折延展性，在有效减小柔性显示装置的厚度的同时，减小柔性显示装置的弯折应力，使得柔性显示装置更易于弯折，保证柔性显示装置的可靠性。

在一个具体示例中，该显示装置200可以为电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件，本发明对此不做限定。

该实施例提供的显示装置200采用含钕的金属层作为滤光层220，含钕的金属层不参与电致发光过程，仅通过钕的物理特性可对显示基板210所发出的光中的红色、绿色和蓝色光谱进行部分吸收，以使得红色、绿色和蓝色光谱窄化，改善三原色的色纯度，从而增强显示装置200的色纯度，提高显示装置200的显示色域，提高电子的注入效率，提高显示装置200的显示画质，提升客户的产品体验，有效改善显示装置200中的有机材料的本征发光光谱较宽导致显示色度不纯、颜色鲜艳度不足的问题。

另外，采用含钕的金属层作为滤光层220，相比于现有技术中的传统的滤光片结构或微腔效应，可同时避免色分离问题或色偏现象，而且该含钕的金属层的制备材料和制备工艺更加简单，成本更低，并且其厚度(<15nm)远小于传统的滤光片(约为10μm)，满足显示装置200轻薄化的要求，对柔性显示装置的进一步推广和发展具有重要的作用。

需要说明的是，本实施例的技术方案既可以适用于底发射型显示基板，可以适用于顶发射型显示基板，具体结构为在底发射/顶发射显示基板的出光侧上设置含钕的金属层作为滤光层220，从而对显示基板210所发出的光进行定向选择性吸收。在一个具体示例中，滤光层220可通过化学气相沉积或溅射法蒸镀形成在显示基板210的出光侧上。

在一种可能的实现方式中，显示基板210为OLED顶发射型显示基板。该显示基板210包括依次层叠设置的衬底、驱动电路层、第一电极层(如阳极层)、多个发光单元、第二电极层(如阴极层)以及封装结构。第二电极层一侧为该显示基板210的出光侧，该显示基板210的光从第二电极层侧取出。

在一个具体示例中，显示装置200为柔性显示装置，该衬底可以为聚酰亚胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、热塑性聚酯(PET)等；在另一个具体示例中，显示装置200为刚性显示装置时，衬底可以为玻璃、石英等刚性材料。

在一个具体示例中，驱动电路层包括栅极层、栅极绝缘层、有源层、层间介电层、源漏电极层。多个发光单元分别可为红色发光单元、绿色发光单元或蓝色发光单元。其中，上述红色发光单元、绿色发光单元或蓝色发光单元均可包括多个膜层，例如空穴注入层(HIL层)、空穴传输层(HTL层)、电子阻挡层(Prime层)、发光层(红色、绿色、蓝色EML层)、空穴阻挡层(HBL层)、电子注入层(EIL层)。封装结构例如可包括多个层叠设置的封装层。在另一个具体示例中，显示基板还可包括缓冲层、平坦层或像素界定层等结构或功能膜层。

滤光层220位于发光单元远离衬底的一侧，在一个具体示例中，滤光层220可以设置在封装结构远离衬底的一侧。具体地，可在衬底上形成驱动电路层、第一电极层、多个发光单元、第二电机层以及封装结构后，再形成滤光层220。

此外，该实施例的技术方案还可应用于底发射型显示基板，在另一种可能的实现方式中，显示基板210为OLED底发射型显示基板。该显示基板210包括依次层叠设置的衬底、驱动电路层、第一电极层(如阳极层)、多个发光单元、第二电极层(如阴极层)以及封装结构。

在一个具体示例中，驱动电路层包括栅极层、栅极绝缘层、有源层、层间介电层、源漏电极层。多个发光单元分别可为红色发光单元、绿色发光单元或蓝色发光单元。其中，上述红色发光单元、绿色发光单元或蓝色发光单元均可包括多个膜层，例如空穴注入层(HIL层)、空穴传输层(HTL层)、电子阻挡层(Prime层)、发光层(红色、绿色、蓝色EML层)、空穴阻挡层(HBL层)、电子注入层(EIL层)。封装结构例如可包括多个层叠设置的封装层。在另一个具体示例中，显示基板还可包括缓冲层、平坦层或像素界定层等结构或功能膜层。其具体结构可参考上述实施例或相关技术，此处不再赘述。

作为底发射型显示基板，区别于顶发射型显示基板，衬底一侧为该显示基板210的出光侧，该显示基板210的光从衬底侧取出。在一个具体示例中，衬底的材料为透明材料，例如聚酰亚胺，也可以为玻璃。

衬底一侧为该显示基板210的出光侧，滤光层220位于衬底远离发光单元的一侧。具体地，可以首先在衬底的一侧表面上制作滤光层220，然后将衬底翻转，并在衬底的另一侧表面制作驱动电路层、第一电极层、多个发光单元、第二电极层以及封装结构。显然，可以在驱动电路层、第一电极层、多个发光单元、第二电极层以及封装结构完成后，将显示基板210翻转后并在衬底上制作滤光层220。

需要说明的是，含钕的金属层220需避免参与OLED显示基板210发光的电化学反应，即钕金属独立于OLED结构之外，不作为OLED显示基板210中的阴极层、阳极层、注入层、传输层、阻挡层或发光层的材料、组成材料或修饰材料，且钕金属不起到载流入注入、传输以及复合发光等作用，而是单纯以钕金属的物理选择性吸光以代替传统的滤光片的作用。含钕的金属层不参与OLED显示基板发光的电化学反应，从而避免钕金属发生电子注入，由基态⁴I_9/2跃迁至²H_9/2、²H_15/2、⁴G_11/2、²P_3/2等中间态或激发态，从而避免钕金属对特定光谱的选择性吸收作用丧失。

实施时，可以参考现有技术对显示基板210的结构和选用的材料作出进一步调整，此处不作进一步限定和描述。

在一种可能的实现方式中，滤光层220为钕金属层，即该滤光层仅包含钕，该滤光层为钕单质。在另一个可能的实现方式中，滤光层220为至少两种金属材料共掺制成的金属层，金属层中的钕含量大于等于60wt％。

在一个具体示例中，滤光层220为钕和一种吸光金属单质，例如镨(Pr)，共掺形成。通过钕和镨共掺制成的滤光层220，可在原有的基础上，进一步对蓝色光谱进行部分吸收，窄化蓝色光谱，提高蓝色的色纯度，使得显示装置200所发出的光可起到护眼的作用。

需要说明的是，在本发明的其他实施例中，滤光层220还可为钕和其他吸光金属单质共掺设置，或者滤光层220为不同金属单质共掺制成。可根据对红色、绿色和蓝色三原色光的光谱的窄化程度的不同需求，采用不同的金属单质共掺形成滤光层220，对应调整吸收后的红绿蓝光谱的形状和强度，以满足不同的应用需求。

该可能的实现方式通过采用至少两种金属材料共掺制成滤光层220，灵活调节对显示基板210所发出的光中的红光、绿光和蓝光光谱的吸收波长，进一步窄化红光、绿光和蓝光光谱，总体提升三原色的色纯度；同时钕含量大于等于60wt％，保证钕金属单质在吸收光子后，钕元素之间发生交叉驰豫，从而避免钕作为分立中心在吸收光子后发生自发光，对显示装置200的发光造成干扰的现象。

在一种可能的实现方式中，滤光层220的厚度小于等于15nm，通常为1-15nm。通过将滤光层220的蒸镀厚度设定为1-15nm，从而可满足显示装置200的光透过性要求，保证显示装置200的显示效果。可理解的是，也可根据对红色、绿色和蓝色三原色光的光谱的窄化程度的不同需求，对含钕的金属层进行不同厚度的设置，使其对应的经过滤光层220吸收后的红绿蓝光光谱的形状和强度也具有不同的表现，以满足不同的需求。

在一种可能的实现方式中，如图3所示，显示装置200还包括设置在显示基板210与滤光层220之间的封装层230。其中，封装层230可用于对显示基板210内的功能结构(如衬底、驱动电路层、发光单元)等形成保护，具有更好的封装效果。

在一种可能的实现方式中，如图3所示，显示装置200还包括在滤光层220的远离封装层230的一侧层叠设置的触控感应层240(TSP，Touch Sensor Panel)和盖板250(CoverFilm)，其中触控感应层240和盖板250通过透明光学胶260(OCA，optical clear adhesive)粘接固定，使得该显示装置200即可用作触控显示装置，也可用作显示装置。如图1和如图3所示，该实现方式中的滤光层220位于封装层230和触控感应层240之间，与现有技术的传统滤光片140所在的位置相同(如图1所示)，可理解的是，滤光层220也可根据不同需求设置在其他的功能层之间，例如显示基板210和封装层230之间，本发明对此不作进一步限制。在一个具体示例中，显示装置200还可根据实际需求增加或者减少相关功能层，例如增加覆盖层(capping layer，CPI)。

需要说明的是，图3仅为本发明的一个实施例中的显示装置200的结构截面图，仅用于示出显示装置200中滤光层220、显示基板210、封装层230、触控感应层240和盖板250的装配关系，未示出显示基板210内的具体膜层结构。

本发明的另一个实施例提供一种显示装置200的制备方法，如图8所示，包括：

S100、在显示基板210的出光侧形成滤光层220，滤光层220为含钕的金属层。

在一个具体示例中，显示基板210包括依次层叠设置的衬底、驱动电路层、第一电极层、多个发光单元、第二电极层以及封装结构。在该具体示例中，在上述步骤之前还包括形成显示基板210，即进一步包括：

步骤S101、提供衬底，例如，显示装置200为柔性显示装置，该衬底可以为聚酰亚胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、热塑性聚酯(PET)等；在另一个具体示例中，显示装置200为刚性显示装置时，衬底可以为玻璃、石英等刚性材料。

步骤S102、形成薄膜晶体管层，包括：

采用构图工艺在衬底上形成有源层；在有源层上通过沉积等方式形成栅绝缘层；在栅绝缘层上采用构图工艺形成栅极；在栅极上通过沉积等方式形成层间介电层；然后，刻蚀层间介电层以形成暴露有源层的过孔。

在层间介电层中的过孔形成后，形成源极和漏极以及与源极或漏极之一电连接的信号线。

其中，有源层可以采用多晶硅和金属氧化物等材料，栅绝缘层可以采用氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅等无机绝缘材料，层间介电层可以采用氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅等无机绝缘材料。栅极材料包括铝、钛、钴等金属或者合金材料。在制备时，首先采用溅射或者蒸镀等方式形成一层栅极材料层，然后对栅极材料层进行构图工艺，以形成图案化的栅极。

本发明的实施例对各功能层的材料不做限定，各功能层的材料并不局限于上述示例。以上，完成了薄膜晶体管结构的制作。

本领域技术人员能够理解，上述薄膜晶体管以顶栅结构为例，但本发明不限于此，底栅结构也包括在本发明的范围内。

步骤S103、形成平坦化层。

具体地，沉积一层平坦化层材料，例如有机材料，厚度为1～3μm左右，覆盖上述各膜层，然后，利用构图工艺，对其进行图案化，在对应上述源极和漏极中的另一个的位置形成开孔。

步骤S104、形成第一电极层、发光单元和第二电极层，包括：

步骤S1041、在平坦化层的开孔中沉积第一电极层金属并图案化形成第一电极层(第一电极层与源极连接)，其中，示例性的，第一电极层的材料包括ITO、IZO等金属氧化物或者Ag、Al、Mo等金属或其合金；

步骤S1042、利用构图工艺形成围绕第一电极层的像素界定层，具体地，沉积一层像素界定层材料，例如厚度为1～2μm左右，利用构图工艺在显示区形成像素界定层，示例性的，像素界定层的材料可以包括负性光刻胶、聚酰亚胺、环氧树脂等有机绝缘材料；

步骤S1043、通过喷墨打印或者蒸镀等方式在像素界定层的开口中的第一电极层上形成发光单元，其中发光层的材料为有机材料；

步骤S1044、形成第二电极层，第二电极层例如在显示基板上整面形成，第二电极层的材料可以包括Mg、Ca、Li或Al等金属或其合金，或者IZO、ZTO等金属氧化物，又或者PEDOT/PSS(聚3，4-乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸盐)等具有导电性能有机材料。

其中，对应于各个发光单元的第一电极层彼此隔离、而对应于各个发光单元的第二电极层彼此相连。

发光单元还可以包括有助于发光的多种膜层，例如空穴注入层(HIL层)、空穴传输层(HTL层)、电子阻挡层(Prime层)、发光层(红色、绿色、蓝色EML层)、空穴阻挡层(HBL层)、电子注入层(EIL层)。该多种膜层例如可为有机材料层。

S105、形成封装结构。例如，封装结构可包括第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。

例如，第一无机封装层和第二无机封装层采用沉积等方式形成。有机封装层采用喷墨打印的方式形成。

例如，第一无机封装层和第二无机封装层可以采用氮化硅、氧化硅、氮氧化硅等无机材料形成，有机封装层可以采用聚酰亚胺(PI)、环氧树脂等有机材料形成。由此，第一无机封装层，有机封装层以及第二无机封装层形成为复合封装层，该复合封装层可以对显示区的功能结构形成多重保护，具有更好的封装效果。

在一个具体示例中，该显示基板210为顶发射型显示基板，当完成上述结构后，再在封装结构远离衬底的一侧上形成滤光层220。在另一个具体示例中，该显示基板210为底发射型显示基板，当完成上述结构后，将显示基板210翻转后再衬底上制作滤光层220。

在一种可能的实现方式中，在显示基板210的出光侧形成滤光层220包括：在显示基板210的出光侧通过化学气相沉积或溅射法蒸镀形成滤光层220。在另一个具体示例中，在形成滤光层220之前，还包括形成在显示基板210和滤光层220之间的封装层230。再又一个具体示例中，在形成滤光层220后，在滤光层220远离显示基板210的一侧形成层叠设置的触控感应层240和盖板250以及在显示基板210远离滤光层220的一侧形成背膜270，其中触控感应层240和盖板250通过透明光学胶260粘接固定。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于本领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。

Claims (11)

1.一种显示装置，包括显示基板，其特征在于，还包括设置于所述显示基板的出光侧的滤光层，所述滤光层为含钕的金属层。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述滤光层为钕金属层。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述滤光层为至少两种金属材料共掺制成的金属层，所述金属层中的钕含量大于等于60wt％。

4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述滤光层的厚度小于等于15nm。

5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括设置在所述显示基板与所述滤光层之间的封装层。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括在所述滤光层的远离所述封装层的一侧层叠设置的触控感应层和盖板。

7.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置为柔性显示装置。

8.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

所述显示基板为顶发射型显示基板；

所述显示基板包括衬底以及位于所述衬底上的多个发光单元；

所述滤光层位于所述发光单元远离所述衬底的一侧。

9.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

所述显示基板为底发射型显示基板；

所述显示基板包括衬底以及位于所述衬底上的多个发光单元；

所述滤光层位于所述衬底远离所述发光单元的一侧。

10.一种显示装置的制备方法，其特征在于，包括：

在显示基板的出光侧形成滤光层，所述滤光层为含钕的金属层。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述在显示基板的出光侧形成滤光层包括：

在显示基板的出光侧通过化学气相沉积或溅射法蒸镀形成滤光层。

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