CN113295492A - 一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法，先将煤岩粉末样品、环氧树脂和乙二胺混合进行样品镶制，然后采用特定的磨制制度进行磨制，具体为依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸在一定条件下磨制；之后，进行分步抛光，具体为采用呢绒抛光布和氧化铝抛光膏进行第一步粗抛，然后采用短绒抛光布和煤岩抛光液进行第二步抛光；最后进行光片检验。通过上述制样方法，能够提升样品平整度，获得煤岩颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕的光片，且能够提升制样效率。

Description

一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法
技术领域
本发明涉及岩矿制样领域，特别涉及一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法。
背景技术
目前，煤岩学检测方法作为评价煤质、鉴别混煤、科学配煤的有效手段已广泛应用于焦化企业。其中，主要检测项目有：煤镜质体反射率分布、煤岩显微组分定量、平均最大发射率测定等。上述检测均需在粉煤光片上完成，若制出的粉煤光片质量差，将会影响镜下观察效果，并且直接影响煤镜质体反射率测试数据的准确性。因此，制出合格的粉煤光片是完成煤岩镜质体反射率数据测定的基本要求。
利用光电法测定煤岩镜质体反射率需要将煤岩样品制成符合测定要求的光片样，一般多利用虫胶等对煤样进行热镶，然后手工对镶嵌好的样品进行打磨、抛光而得到光片样，最后进行镜质体反射率测定。其中，热镶需要对样品进行加热处理，温度较高，操作不当易带来安全隐患。此外，利用虫胶作为胶结剂制备的煤岩光片样胶结强度相对较差，在磨抛过程中样品边缘易崩碎掉渣，导致样品表面被划伤，给磨抛造成不便，影响样品磨抛效率。手工磨抛样品工作效率低，且磨制后的样品表面多不平整，给镜质体反射率测定特别是现今应用较多的镜质体自动测定带来不便，测定过程中需要反复调焦，不仅影响工作效率，而且对测定精度和数据的准确性影响较大。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法。本发明提供的制备方法能够解决样品外观平整度差的问题，同时微观上使所得光片的煤岩颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕，且能够提升制样效率。
本发明提供了一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法，包括以下步骤：
S1、样品镶制：将煤岩粉末样品与环氧树脂和乙二胺在模具中搅拌混合，直至无大气泡出现，然后将模具置于真空条件下静置，得到镶制好的固结样品；
S2、光片磨制：利用半自动磨抛机对步骤S1所得镶制好的固结样品进行磨制；所述磨制为依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸进行磨制；所述磨制中，180目和400目砂纸的磨制时间均为0.5～1min，800目和1200目砂纸的磨制时间均为1～1.5min；磨制压力设为10～20N，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为80～100r/min，底盘转速为120～150r/min；
S3、光片抛光：
第一步抛光：采用呢绒抛光布和氧化铝抛光膏对步骤S2得到的样品进行粗抛；
第二步抛光：采用短绒抛光布和煤岩抛光液对所述第一步抛光得到的样品进行抛光；
所述光片抛光中，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为50～60r/min，底盘转速为70～80r/min，压力设为20～25N；
S4、光片检验：
将步骤S3得到的光片擦拭干净后，置于光学显微镜下观察，检验光片是否合格；若合格，则结束制样；若不合格，则重复步骤S2～S3，直至光片合格。
优选的，所述步骤S1中，所述煤岩粉末样品、环氧树脂和乙二胺的质量分别为3～5g、7g和1.8g；
所述模具的内径为30mm。
优选的，所述步骤S1中，所述环氧树脂为EpoxiCureTM2；
所述大气泡的直径为2～6mm。
优选的，所述步骤S1中，所述真空条件的真空度为-25～-20kPa；
所述静置的时间为6～8h。
优选的，所述步骤S2中：
所述磨制过程为水磨，水流逆压头转向沿压头边缘进行冲洗；
所述磨制中，每个规格的金刚石砂纸磨制后，均对样品和压头进行清洗，然后再进行下一规格金刚石砂纸的磨制。
优选的，所述步骤S3中，所述氧化铝抛光膏为2.5μm氧化铝抛光膏；
所述煤岩抛光液为KMY-05抛光液。
优选的，所述步骤S3中，第一步抛光的具体步骤为：将氧化铝抛光膏均匀涂抹于压头正下方的抛光布区域上，调节出水量大小，使水流呈滴状落于抛光区域，抛光时间为1.5～2min。
优选的，所述步骤S3中，第二步抛光的具体步骤为：将煤岩抛光液均匀涂抹于压头正下方的抛光布区域上，出水模式与第一步抛光一致，且每隔10s往压头外缘附近的抛光布上补滴抛光液，抛光时间为2～3min。
优选的，每隔10s补滴抛光液的滴数为3～5滴。
优选的，所述步骤S4中，检验光片是否合格的标准为：光片表面平整干净、不存在明显划痕，煤颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕。
本发明将煤岩粉末样品、环氧树脂和乙二胺混合进行样品镶制，然后采用特定的磨制制度进行磨制，具体为依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸在一定条件下磨制；之后，进行分步抛光，具体为采用呢绒抛光布和氧化铝抛光膏进行第一步粗抛，然后采用短绒抛光布和煤岩抛光液进行第二步抛光；最后进行光片检验。通过上述制样方法，能够提升样品平整度，获得煤岩颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕的光片，且能够提升制样效率。
实验结果表明，本发明制得的煤岩镜质体反射率光片样，表面平整、干净、基本呈镜面，光学显微镜下观测显示，煤岩颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕，符合镜质体反射率测定要求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例1制得的光片样的外观示意图；
图2为本发明实施例1制得的光片样的光学显微镜下形貌图；
图3为对比例1所得光片的形貌图；
图4为对比例2所得光片的形貌图；
图5为对比例3所得光片的形貌图。
具体实施方式
本发明提供了一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法，包括以下步骤：
S1、样品镶制：将煤岩粉末样品与环氧树脂和乙二胺在模具中搅拌混合，直至无大气泡出现，然后将模具置于真空条件下静置，得到镶制好的固结样品；
S2、光片磨制：利用半自动磨抛机对步骤S1所得镶制好的固结样品进行磨制；所述磨制为依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸进行磨制；所述磨制中，180目和400目砂纸的磨制时间均为0.5～1min，800目和1200目砂纸的磨制时间均为1～1.5min；磨制压力设为10～20N，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为80～100r/min，底盘转速为120～150r/min；
S3、光片抛光：
第一步抛光：采用呢绒抛光布和氧化铝抛光膏对步骤S2得到的样品进行粗抛；
第二步抛光：采用短绒抛光布和煤岩抛光液对所述第一步抛光得到的样品进行抛光；
所述光片抛光中，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为50～60r/min，底盘转速为70～80r/min，压力设为20～25N；
S4、光片检验：
将步骤S3得到的光片擦拭干净后，置于光学显微镜下观察，检验光片是否合格；若合格，则结束制样；若不合格，则重复步骤S2～S3，直至光片合格。
本发明将煤岩粉末样品、环氧树脂和乙二胺混合进行样品镶制，然后采用特定的磨制制度进行磨制，具体为依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸在一定条件下磨制；之后，进行分步抛光，具体为采用呢绒抛光布和氧化铝抛光膏进行第一步粗抛，然后采用短绒抛光布和煤岩抛光液进行第二步抛光；最后进行光片检验。通过上述制样方法，能够提升样品平整度，获得煤岩颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕的光片，且能够提升制样效率。
关于步骤S1：样品镶制：将煤岩粉末样品与环氧树脂和乙二胺在模具中搅拌混合，直至无大气泡出现，然后将模具置于真空条件下静置，得到镶制好的固结样品。
本发明中，所述煤岩粉末样品为按照国标要求制备并缩分好的煤岩粉末样品。所述环氧树脂优选为EpoxiCureTM2环氧树脂，产商为标乐。本发明中，所述煤岩粉末样品、环氧树脂和乙二胺的质量分别为3～5g、7g和1.8g；在本发明的一些实施例中，上述3种物质的质量分别为5g、7g和1.8g，或为3g、7g和1.8g。其中，环氧树脂和乙二胺的质量比约4∶1，能够保证在一定时间内(6～8h)获得理想的固结样品，这是获得合格光片的基础条件，且设定的用量能够保证固结的样品厚度适中，便于后续的磨抛及所得样片的观察。
本发明中，所述模具的内径优选为30mm。
本发明中，将上述3种物料在模具中搅拌混合，具体可采用玻璃棒搅拌混合，直至无大气泡出现。所述大气泡是指直径为2～6mm的气泡。通过上述搅拌处理，使物料混合均匀。
本发明中，经上述混合处理后，将模具置于真空条件下静置。具体可通过以下操作实现：将模具放入真空釜中，将釜中抽成真空环境，具体可抽真空5min。本发明中，优选控制真空度为-25～-20kPa；在本发明的一些实施例中，所述真空度为-20kPa或-25kPa。抽真空后，关闭电机，进行静置。本发明中，所述静置的时间优选为6～8h，在本发明的一些实施例中，静置的时间为6h或8h。通过上述处理，样品充分固结，得到镶制好的固结样品。
关于步骤S2：光片磨制：利用半自动磨抛机对步骤S1所得镶制好的固结样品进行磨制；所述磨制为依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸进行磨制；所述磨制中，180目和400目砂纸的磨制时间均为0.5～1min，800目和1200目砂纸的磨制时间均为1～1.5min；磨制压力设为10～20N，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为80～100r/min，底盘转速为120～150r/min。
本发明中，分别依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸进行磨制。其中，180目和400目砂纸的磨制时间均为0.5～1min；在本发明的一些实施例中，所述磨制时间为0.5min或1min。800目和1200目砂纸的磨制时间均为1～1.5min；在本发明的一些实施例中，所述磨制时间为1min或1.5min。在上述整个磨制工序中，磨制压力设为10～20N，在本发明的一些实施例中，压力为10N或20N；磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为80～100r/min，具体为80r/min或100r/min；底盘转速为120～150r/min，具体为120r/min或150r/min。本发明采用上述四种参数的砂纸以及对应的磨制时间、压力、压头及底盘转速，能够保证样品表面平整，且无较大、较深的划痕，矿物颗粒轮廓基本可见，便于下一步抛光，获得合格光片。
本发明中，所述磨制为水磨，水流逆压头转向沿压头边缘进行冲洗。所述冲洗优选为高速冲洗，半自动磨抛机水流大小由旋钮调节控制，所述高速冲洗具体为直接将旋钮调节至最大档位。
本发明中，在上述磨制工序中，每个规格的砂纸磨制后，均对样品和压头进行清洗，然后再进行下一规格金刚石砂纸的磨制。具体的，每磨完一道砂纸后，取下压头和样品进行清洗，清洗干净后再装上压头和样品进行下一道磨制工序，如此反复，直至整个磨制工序结束。
关于步骤S3：光片抛光：第一步抛光：采用呢绒抛光布和氧化铝抛光膏对步骤S2得到的样品进行粗抛；第二步抛光：采用短绒抛光布和煤岩抛光液对所述第一步抛光得到的样品进行抛光。
关于第一步抛光：
本发明中，采用呢绒抛光布(抛光层材质为纤维合成材料)和氧化铝抛光膏进行第一步粗抛。所述氧化铝抛光膏优选为2.5μm氧化铝抛光膏；所述2.5μm氧化铝抛光膏是指抛光膏中氧化铝颗粒平均粒径为2.5μm的抛光膏，这是本领域中抛光膏规格种类的特定表达方式。上述抛光的具体步骤为：将氧化铝抛光膏均匀涂抹于压头正下方的抛光布区域上，调节出水量大小，使水流呈滴状落于抛光区域。所述第一步抛光的时间优选为1.5～2min，具体为1.5min或2min。
关于第二步抛光：
本发明中，采用短绒抛光布和煤岩抛光液对所述第一步抛光得到的样品进行抛光。本发明中，所述煤岩抛光液优选为KMY-05抛光液，由鞍山科翔仪器仪表有限公司提供。
上述抛光的具体步骤为：将煤岩抛光液均匀涂抹于压头正下方的抛光布区域上，出水模式与所述第一步抛光一致，且每隔10s往压头外缘附近的抛光布上补滴抛光液。其中，所述每隔10s补滴抛光液的滴数为3～5滴，在本发明的一些实施例中，具体为3滴或5滴。所述第二步抛光的时间优选为2～3min，在本发明的一些实施例中，具体为2min或3min。
本发明中，上述整个抛光工序中，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为50～60r/min，具体为50r/min或60r/min；底盘转速为70～80r/min，具体为70r/min或80r/min；压力设为20～25N，具体为20N或25N。
本发明采用两步抛光的方式，且控制每一步的抛光布、抛光膏种类以及压头、转盘转速及方向如上所述，能够获得合格光片，其中，尤其是压力的控制，如压力过大，则会造成煤颗粒表面损伤、变模糊，压力过小则抛光不理想。
关于步骤S4：光片检验：将步骤S3得到的光片擦拭干净后，置于光学显微镜下观察，检验光片是否合格；若合格，则结束制样；若不合格，则重复步骤S2～S3，直至光片合格。
本发明中，经前序步骤S1～S3后，对光片进行检验。首先，先将光片擦拭干净，可利用擦镜纸进行擦拭，擦去抛光后样品表面残留的抛光膏、绒毛等污渍，使其表面光亮。
擦拭干净后，置于光学显微镜下观察，检验光片是否合格。所述合格的标准为：具体是观察光片表面是否平整、干净，是否存在明显划痕，煤颗粒是否清晰、边界清楚且表面无划痕。若抛光后的样品满足上述要求，则结束制样工艺，若不满足上述要求，则重复步骤S2～S3，直至光片样品达到要求，从而得到合格光片。
本发明提供了一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法，先将煤岩粉末样品、环氧树脂和乙二胺混合进行样品镶制，然后采用特定的磨制制度进行磨制，具体为依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸在一定条件下磨制；之后，进行分步抛光，具体为采用呢绒抛光布和氧化铝抛光膏进行第一步粗抛，然后采用短绒抛光布和煤岩抛光液进行第二步抛光；最后进行光片检验。通过上述制样方法，能够提升样品平整度，获得煤岩颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕的光片，且能够提升制样效率。
实验结果表明，本发明制得的煤岩镜质体反射率光片样，表面平整、干净、基本呈镜面，光学显微镜下观测显示，煤岩颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕，符合镜质体反射率测定要求。
为了进一步理解本发明，下面结合实施例对本发明优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为进一步说明本发明的特征和优点，而不是对本发明权利要求的限制。
实施例1
1、样品制备
S1、样品镶制：
取5g按国标要求制备并缩分好的煤岩样品，放入内径30mm的塑料模具中，然后依次加入7g环氧树脂EpoxiCureTM2和1.8g乙二胺，利用玻璃棒充分搅拌磨具中的混合物直至无较大气泡(直径2mm)出现。将模具放入真空釜中并将釜中抽成真空环境，时间约5min，真空度为-25KPa，然后关闭电机，静置8h，待样品充分固结。
S2、光片磨制：
利用半自动磨抛机对步骤S1所得镶制好的固结样品进行磨制，具体为选用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸依次进行磨制，其中，180目和400目砂纸的磨制时间均为1min，800目和1200目砂纸的磨制时间均为1.5min；磨制压力设为10N，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为100r/min，底盘转速为150r/min；磨制过程为水磨，水流逆压头转向沿压头边缘进行高速冲洗；每次磨制结束，都清洗样品及压头，然后再进行下一道磨制。
S3、光片抛光：
第一步抛光：采用呢绒抛光布加2.5μm氧化铝抛光膏进行粗抛，抛光前将抛光膏均匀涂抹于压头正下方的抛光布区域上，调节出水量大小，使水流呈滴状落于抛光区域，抛光时间为2min。
第二步抛光：采用短绒抛光布(抛光层为纤维合成材料)加煤岩抛光液KMY-05进行抛光，抛光时间为3min，出水模式与第一步抛光一致，且每隔10s往压头外缘附近的抛光布上补滴抛光液3滴。
以上抛光工序中，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为60r/min，底盘转速为80r/min，压力设为20N。
S4、光片检验：
利用擦镜纸小心擦去抛光后样品表面残留的抛光膏、绒毛等污渍，以使其表面光亮。将制好的光片放置于光学显微镜下观察，确认样品表面平整、干净，不存在明显划痕，煤颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕，得到合格光片。
2、样品测试
所得光片样的外观如图1所示，图1为本发明实施例1制得的光片样的外观示意图，可以看出，样品表面平整、干净、基本呈镜面，呈铅灰色金属光泽。利用光学显微镜观察样品形貌，结果如图2所述，图2为本发明实施例1制得的光片样的光学显微镜下形貌图，可以看出，煤岩颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕，符合镜质体反射率测定要求。
实施例2
S1、样品镶制：
取3g按国标要求制备并缩分好的煤岩样品，放入内径30mm的塑料模具中，然后依次加入7g环氧树脂EpoxiCureTM2和1.8g乙二胺，利用玻璃棒充分搅拌磨具中的混合物直至无较大气泡(直径6mm)出现。将模具放入真空釜中并将釜中抽成真空环境，时间约5min，真空度为-20KPa，然后关闭电机，静置6h，待样品充分固结。
S2、光片磨制：
利用半自动磨抛机对步骤S1所得镶制好的固结样品进行磨制，具体为选用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸依次进行磨制，其中，180目和400目砂纸的磨制时间均为0.5min，800目和1200目砂纸的磨制时间均为1min；磨制压力设为20N，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为80r/min，底盘转速为120r/min；磨制过程为水磨，水流逆压头转向沿压头边缘进行高速冲洗；每次磨制结束，都清洗样品及压头，然后再进行下一道磨制。
S3、光片抛光：
第一步抛光：采用呢绒抛光布加2.5μm氧化铝抛光膏进行粗抛，抛光前将抛光膏均匀涂抹于压头正下方的抛光布区域上，调节出水量大小，使水流呈滴状落于抛光区域，抛光时间为1.5min。
第二步抛光：采用短绒抛光布(抛光层为纤维合成材料)加煤岩抛光液KMY-05进行抛光，抛光时间为2min，出水模式与第一步抛光一致，且每隔10s往压头外缘附近的抛光布上补滴抛光液5滴。
以上抛光工序中，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为50r/min，底盘转速为70r/min，压力设为25N。
S4、光片检验：
利用擦镜纸小心擦去抛光后样品表面残留的抛光膏、绒毛等污渍，以使其表面光亮。将制好的光片放置于光学显微镜下观察，确认样品表面平整、干净，不存在明显划痕，煤颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕，得到合格光片。
按照实施例1的测试方法对实施例2所得光片样进行形貌检测，结果显示，光片表面平整干净，煤岩颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕，符合镜质体反射率测定要求。
对比例1
按照实施例1的过程进行，不同的是，步骤S3中，半自动磨抛机压头压力设为30N。
得到的光片形貌如图3所示，图3为对比例1所得光片的形貌图，可以看出，煤岩颗粒表面被损伤、模糊不清，煤岩表面不干净，不满足合格光片要求。
对比例2
按照实施例1的过程进行，不同的是，步骤S2中，半自动磨抛机压头与底盘设为同向转动，压力设为25N。
得到的光片形貌如图4所示，图4为对比例2所得光片的形貌图，可以看出，煤岩颗粒表面存在较多划痕且划痕较深，压头与底盘同向转动，导致光片上划痕朝同一方向展布，不符合合格光片要求。
对比例3
按照实施例1的过程进行，不同的是，步骤S3中，第一步抛光舍去，直接进行第二步抛光。
得到的光片形貌如图5所示，图5为对比例3所得光片的形貌图，可以看出，煤岩颗粒表面存在较多划痕，表明只进行第二步抛光并未有效去除所有划痕，不符合合格光片要求。
通过上述实施例1～2和对比例1～3可知，本发明先将煤岩粉末样品、环氧树脂和乙二胺混合进行样品镶制，然后采用特定的磨制制度进行磨制，具体为依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸在一定条件下磨制；之后，进行分步抛光，具体为采用呢绒抛光布和氧化铝抛光膏进行第一步粗抛，然后采用短绒抛光布和煤岩抛光液进行第二步抛光；最后进行光片检验。通过上述制样方法，能够提升样品平整度，获得煤岩颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕的光片，且能够提升制样效率。若采用其它磨制参数、抛光参数和抛光方式，则无法获得合格光片。
本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想，包括最佳方式，并且也使得本领域的任何技术人员都能够实践本发明，包括制造和使用任何装置或系统，和实施任何结合的方法。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。本发明专利保护的范围通过权利要求来限定，并可包括本领域技术人员能够想到的其他实施例。如果这些其他实施例具有近似于权利要求文字表述的结构要素，或者如果它们包括与权利要求的文字表述无实质差异的等同结构要素，那么这些其他实施例也应包含在权利要求的范围内。

Claims (10)

1.一种煤岩镜质体反射率光片样的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、样品镶制：将煤岩粉末样品与环氧树脂和乙二胺在模具中搅拌混合，直至无大气泡出现，然后将模具置于真空条件下静置，得到镶制好的固结样品；
S2、光片磨制：利用半自动磨抛机对步骤S1所得镶制好的固结样品进行磨制；所述磨制为依次采用规格为180目、400目、800目和1200目的金刚石砂纸进行磨制；所述磨制中，180目和400目砂纸的磨制时间均为0.5～1min，800目和1200目砂纸的磨制时间均为1～1.5min；磨制压力设为10～20N，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为80～100r/min，底盘转速为120～150r/min；
S3、光片抛光：
第一步抛光：采用呢绒抛光布和氧化铝抛光膏对步骤S2得到的样品进行粗抛；
第二步抛光：采用短绒抛光布和煤岩抛光液对所述第一步抛光得到的样品进行抛光；
所述光片抛光中，磨抛机压头和底盘设为异向转动，其中，压头转速为50～60r/min，底盘转速为70～80r/min，压力设为20～25N；
S4、光片检验：
将步骤S3得到的光片擦拭干净后，置于光学显微镜下观察，检验光片是否合格；若合格，则结束制样；若不合格，则重复步骤S2～S3，直至光片合格。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述煤岩粉末样品、环氧树脂和乙二胺的质量分别为3～5g、7g和1.8g；
所述模具的内径为30mm。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述环氧树脂为EpoxiCureTM2；
所述大气泡的直径为2～6mm。
4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述真空条件的真空度为-25～-20kPa；
所述静置的时间为6～8h。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中：
所述磨制过程为水磨，水流逆压头转向沿压头边缘进行冲洗；
所述磨制中，每个规格的金刚石砂纸磨制后，均对样品和压头进行清洗，然后再进行下一规格金刚石砂纸的磨制。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中，所述氧化铝抛光膏为2.5μm氧化铝抛光膏；
所述煤岩抛光液为KMY-05抛光液。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中，第一步抛光的具体步骤为：将氧化铝抛光膏均匀涂抹于压头正下方的抛光布区域上，调节出水量大小，使水流呈滴状落于抛光区域，抛光时间为1.5～2min。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中，第二步抛光的具体步骤为：将煤岩抛光液均匀涂抹于压头正下方的抛光布区域上，出水模式与第一步抛光一致，且每隔10s往压头外缘附近的抛光布上补滴抛光液，抛光时间为2～3min。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，每隔10s补滴抛光液的滴数为3～5滴。
10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S4中，检验光片是否合格的标准为：光片表面平整干净、不存在明显划痕，煤颗粒清晰、边界清楚且表面无划痕。
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