CN113290925A - 一种闭合盖的制备装置及制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种闭合盖的制备装置及制备方法，其中闭合盖的制备装置，包括：母模，其设有凹槽；公模，其具有与成型后的闭合盖相匹配的立体表面，并在该表面伸出一用于导引、校正和定型的凸柱，所述闭合盖未成型时是一平面半成品，所述平面半成品设有一贯穿的孔口；成型时，所述平面半成品覆盖在所述凹槽上，所述凸柱插入所述孔口并往凹槽压入，导引所述平面半成品往凹槽收缩弯曲，并在凹槽的限位下，自动校正所述平面半成品匹配公模表面的形状；在公模压入母模停止在固定位置后，将平面半成品成型成立体的闭合盖。本发明制备装置的制备效率高，且制备的闭合盖精密度比较准确。

Description

一种闭合盖的制备装置及制备方法

技术领域

本发明涉及杯盖技术领域，具体涉及一种闭合盖的制备装置及制备方法。

背景技术

发明人在中国专利文献CN112550933A公开了一种直饮式杯盖的制备方法，该直饮式杯盖包括闭合盖和固定连接在所述闭合盖沿边的盖环，闭合盖和所述盖环形成能够将杯口盖合的盖腔，包括如下步骤：S1.闭合盖半成品的制备：把原料模切成平面型的半成品，在该半成品上开设一贯穿的孔口；S2.闭合盖成品的制备：将步骤S1中设置有所述孔口的所述半成品通过挤压工艺成型成一体的闭合盖，所述孔口被折痕挤压成斜切口；闭合盖具有凸凹不平的表面，所述斜切口以倾斜角度贯穿设置在所述凸凹不平的表面上；S3.直饮式杯盖的制备：制备闭合盖沿边的盖环，将所述闭合盖与设置在所述闭合盖沿边的盖环固定连接。但是并没有公开制备闭合盖的制备装置。

发明内容

有鉴于此，为解决上述技术问题，本发明的目的在于提出一种闭合盖的制备装置及制备方法，该制备装置的制备效率高，且制备的闭合盖精密度比较准确。

所采用的技术方案为：

本发明的一种闭合盖的制备装置，包括：

母模，其设有凹槽；

公模，其具有与成型后的闭合盖相匹配的立体表面，并在该立体表面伸出一用于导引、校正和定型的凸柱，所述闭合盖未成型时是一平面半成品，所述平面半成品设有一贯穿的孔口；成型时，所述平面半成品覆盖在所述凹槽上，所述凸柱插入所述孔口并往凹槽压入，导引所述平面半成品往凹槽收缩弯曲，并在凹槽的限位下，自动校正所述平面半成品匹配公模立体表面的形状；在公模压入母模停止在固定位置后，将平面半成品成型成立体的闭合盖。

进一步地，所述凹槽的边缘设有向下的台阶。

进一步地，所述凹槽为柱体凹槽。

进一步地，所述凸柱为下窄上宽的锥形。

进一步地，所述凸柱最宽时的横截面形状、大小与成型后的闭合盖的孔口的形状、大小相匹配。

进一步地，在凹槽边缘的四周设有限位柱。

本发明的一种闭合盖的制备方法，其是用上述的制备装置进行制备的，包括如下步骤：

S1.平面半成品覆盖在所述凹槽上；

S2.所述凸柱插入所述孔口并往凹槽压入，导引所述平面半成品往凹槽收缩弯曲，并在凹槽的限位下，自动校正所述平面半成品匹配公模立体表面的形状；

S3.在公模压入母模停止在固定位置后，将平面半成品成型成立体的闭合盖。

进一步地，S1中，平面半成品覆盖在所述凹槽上，并通过凹槽边缘的四周的限位柱限位平面半成品。

进一步地，S3中，公模压在台阶的位置上即是公模压入母模停止的固定位置。

本发明的有益效果在于：

本发明的制备装置中，由于公模具有与成型后的闭合盖相匹配的立体表面，并在该表面伸出一用于导引、校正和定型的凸柱，从而在凸柱的导引、校正和定型的作用下，能够快速制备闭合盖，且制备出的闭合盖精密度比较准确。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为实施例1的一种母模的结构示意图。

图2为实施例1的一种公模的结构示意图。

图3为实施例1的另一种角度显示的公模的结构示意图。

图4为图3中的A-A线剖面图。

图5为实施例1的一种平面半成品的结构示意图。

图6为制备装置在一种工作状态下的爆炸结构示意图。

图7为实施例2的一种平面半成品的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明优选的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1

参见图1-图6所示，本实施例的一种闭合盖的制备装置，包括母模10和公模20。

母模10，其设有凹槽11；该凹槽11可选择柱体凹槽，即柱体型的凹槽；作为一种实施例，该柱体凹槽可以选择圆柱体凹槽。该圆柱体凹槽的底部也可以设置通孔12。在凹槽11边缘的四周可以设置限位柱13，该限位柱13用于限位未成型时的闭合盖。凹槽11的边缘可以设有向下的台阶14，该台阶14用于配合公模20限位使用。

公模20，其具有与成型后的闭合盖相匹配的立体表面21，该立体表面21可以为一立体的3D曲面，其为与最终要成型成的闭合盖的形状相匹配。在该立体表面21伸出一用于导引、校正和定型的凸柱22，作为一种优选的实施例，该凸柱为下窄上宽的锥形。凸柱最宽时的横截面形状、大小与成型后的闭合盖的孔口的形状、大小相匹配。

闭合盖未成型时是一平面半成品30，平面半成品30设有一贯穿的孔口31；成型时，平面半成品30覆盖在凹槽11上，凸柱22插入孔口31并往凹槽11压入，凸柱22导引平面半成品30往凹槽11收缩弯曲，并在凹槽11的限位下，凸柱22自动校正平面半成品30匹配公模立体表面21的形状；在公模20压入母模10停止在固定位置后，将平面半成品30成型成立体的闭合盖。

即一种闭合盖的制备方法，其是用上述的制备装置进行制备的，包括如下步骤：

S1.平面半成品30覆盖在凹槽11上；

S2.凸柱22插入孔口31并往凹槽11压入，导引平面半成品30往凹槽11收缩弯曲，并在凹槽11的限位下，自动校正平面半成品30匹配公模立体表面21的形状；

S3.在公模20压入母模10停止在固定位置后，将平面半成品30成型成立体的闭合盖。

其中作为一种实施例，平面半成品30覆盖在凹槽11上，可通过凹槽11边缘的四周的限位柱13限位平面半成品。

以及公模20压在台阶14的位置上即是公模20压入母模10停止的固定位置。

由于公模具有与成型后的闭合盖相匹配的立体表面，并在该立体表面伸出一用于导引、校正和定型的凸柱，从而在凸柱的导引、校正和定型的作用下，能够快速制备闭合盖，且制备出的闭合盖精密度比较准确。

实施例2

参照实施例1，与实施例1不同的是，本实施例的平面半成品的形状如图7所示，其中间设有较大的孔口。相应的公模的凸柱的位置也设置在对应的中间处，用于匹配地插入该孔口内。该凸柱同样用于导引、校正和定型平面半成品，最终成型成立体型的闭合盖。

上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本发明的可行性实施例的具体说明，它们并非用以限制本发明的保护范围，凡未脱离本发明技艺精神所作的等效实施例或变更均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种闭合盖的制备装置，其特征在于，包括：

母模，其设有凹槽；

公模，其具有与成型后的闭合盖相匹配的立体表面，并在该立体表面伸出一用于导引、校正和定型的凸柱，所述闭合盖未成型时是一平面半成品，所述平面半成品设有一贯穿的孔口；成型时，所述平面半成品覆盖在所述凹槽上，所述凸柱插入所述孔口并往凹槽压入，导引所述平面半成品往凹槽收缩弯曲，并在凹槽的限位下，自动校正所述平面半成品匹配公模立体表面的形状；在公模压入母模停止在固定位置后，将平面半成品成型成立体的闭合盖。

2.根据权利要求1所述的闭合盖的制备装置，其特征在于，所述凹槽的边缘设有向下的台阶。

3.根据权利要求1所述的闭合盖的制备装置，其特征在于，所述凹槽为柱体凹槽。

4.根据权利要求1所述的闭合盖的制备装置，其特征在于，所述凸柱为下窄上宽的锥形。

5.根据权利要求4所述的闭合盖的制备装置，其特征在于，所述凸柱最宽时的横截面形状、大小与成型后的闭合盖的孔口的形状、大小相匹配。

6.根据权利要求1所述的闭合盖的制备装置，其特征在于，在凹槽边缘的四周设有限位柱。

7.一种闭合盖的制备方法，其特征在于，其是用权利要求1-6任一所述的制备装置进行制备的，包括如下步骤：

S1.平面半成品覆盖在所述凹槽上；

S2.所述凸柱插入所述孔口并往凹槽压入，导引所述平面半成品往凹槽收缩弯曲，并在凹槽的限位下，自动校正所述平面半成品匹配公模立体表面的形状；

S3.在公模压入母模停止在固定位置后，将平面半成品成型成立体的闭合盖。

8.根据权利要求7所述的闭合盖的制备方法，其特征在于，S1中，平面半成品覆盖在所述凹槽上，并通过凹槽边缘的四周的限位柱限位平面半成品。

9.根据权利要求7所述的闭合盖的制备方法，其特征在于，S3中，公模压在台阶的位置上即是公模压入母模停止的固定位置。

Images