CN113263371A - 一种高精度轴承打磨装置 - Google Patents

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岳赟
贺甜甜
刘建
傅丽华
石红信
张镝
丁保卫
张宏
黄帅娜
关佳亮
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Abstract

本发明公开了一种高精度轴承打磨装置，包括工作台与第一固定架，所述第一固定架一侧设置有第二固定架，所述第一固定架上设置有支撑轴，所述第二固定架上设置有砂轮轴，所述第二固定架一侧设置有电源，所述第一固定架上所述支撑轴与所述砂轮轴之间设置有对微颗粒电解的导电机构，所述第一固定架一侧设置有对砂轮进行清理的砂轮清理机构，所述工作台一侧设置有电控箱，本发明中通过设置导电组件，将轴承加工过程中产生的微颗粒电解，提高了轴承表面的加工精度；通过设置砂轮清理机构，解决了砂轮取下在重新安装过程中砂轮同心度发生变化的问题；通过设置冷却装置对被加工轴承表面进行清理，提高轴承表面加工精度。

Description

一种高精度轴承打磨装置
技术领域
本发明涉及轴承生产技术领域，特别涉及一种高精度轴承打磨装置。
背景技术
现有技术在对轴承加工时，砂轮上会飘落微粉与微颗粒，部分微粉或微颗粒附着在砂轮表面造成损伤，而且在轴承加工过程中，需要定期将轴承取下，在轴承取下与安装的过程中，会造成轴承的同心度发生偏差，导致轴承加工精度降低。
发明内容
本发明的目的在于提出一种高精度轴承打磨装置，以解决现有的在对轴承加工时，砂轮上会飘落微粉与微颗粒，部分微粉或微颗粒附着在砂轮表面造成损伤，而且在轴承加工过程中，需要定期将轴承取下，在轴承取下与安装的过程中，会造成轴承的同心度发生偏差，导致轴承加工精度降低的现象。
本发明采用的技术方案如下：
一种高精度轴承打磨装置，包括工作台与第一固定架，所述第一固定架一侧设置有第二固定架，所述第一固定架上设置有支撑轴，所述第二固定架上设置有砂轮轴，所述第二固定架一侧设置有电源，所述第一固定架上所述支撑轴与所述砂轮轴之间设置有对微颗粒电解的导电机构，所述第一固定架一侧设置有对砂轮进行清理的砂轮清理机构，所述工作台一侧设置有电控箱。
进一步的，所述导电组件包括电极与绝缘套，所述电极与所述绝缘套可拆卸的连接，所述电极设置在砂轮与被加工轴承之间。
进一步的，所述导电组件具有多组。
进一步的，所述砂轮清理机构包括第一滑动平台与第二滑动平台，所述第一滑动平台与工作台滑动连接，所述第二滑动平台设置在所述第一滑动平台上方。
进一步的，所述第一滑动平台上设置有砂轮加工刀，所述砂轮加工刀与所述第一滑动平台可拆卸的连接。
进一步的，所述第一滑动平台下方设置有支撑平台，所述支撑平台一侧设置有驱动装置，所述驱动装置与所述支撑平台通过管道连接。
综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：
1、通过设置导电组件，将轴承加工过程中产生的微颗粒电解，提高了轴承表面的加工精度；
2、通过设置砂轮清理机构，解决了砂轮取下在重新安装过程中砂轮同心度发生变化的问题；
3、通过设置冷却装置对被加工轴承表面进行清理，提高轴承表面加工精度。
附图说明
图1为本发明结构示意图；
图2为本发明导电组件结构示意图；
图3为本发明冷却装置结构示意图；
图4为本发明砂轮清理机构结构示意图。
图中标记：
1、工作台；2、电控箱；3、电源；4、第二固定架；5、导电组件；501、电极；502、绝缘套；6、砂轮轴；7、冷却装置；701、防溅挡板；702、储液箱；703、喷头；8、第一固定架；9、支撑轴；10、砂轮清理机构；1001、支撑平台；1002、第一滑动平台；1003、第二滑动平台；1004、驱动装置；1005、砂轮加工刀。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。
实施例一：
参见附图1-4，一种高精度轴承打磨装置，包括工作台1与第一固定架8，所述第一固定架8一侧设置有第二固定架4，所述第一固定架8上设置有支撑轴9，所述第二固定架4上设置有砂轮轴6，所述第二固定架4一侧设置有电源3，所述第一固定架8上所述支撑轴9与所述砂轮轴6之间设置有对微颗粒电解的导电机构，所述第一固定架8一侧设置有对砂轮进行清理的砂轮清理机构10，所述工作台1一侧设置有电控箱2。
具体的，所述第一固定架8与所述第二固定架4均与所述工作台1固定连接，所述第一固定架8与所述第一固定架8竖直设置在所述工作台1上，所述支撑轴9与所述砂轮轴6分别从所述第一固定架8与所述第二固定架4向砂轮清理机构10一侧延伸，所述支撑轴9上放置被加工轴承，所述砂轮轴6上放置砂轮，所述导电机构释放电能，将微颗粒电解，避免微颗粒附着在砂轮上，造成轴承加工精度降低，所述砂轮清理机构10对砂轮进行清理，解决了轴承加工时砂轮表面无法清理，进而造成轴承加工精度降低的问题，所述电控箱2对装置进行控制，所述电源3为装置工作提供电力。
优选的，所述导电组件5包括电极501与绝缘套502，所述电极501与所述绝缘套502可拆卸的连接，所述电极501设置在砂轮与被加工轴承之间，导线从所述第一固定架8中穿过，所述电极501释放电能将微颗粒电解，所述绝缘套502将所述电极501与所述第一固定架8隔离开，避免所述第一固定架8导电。
优选的，所述导电组件5具有多组，同时设置多组所述导电组件5，对微颗粒进行电解，进一步提高电解效率，确保被加工轴承加工质量。
实施例二：
在实施例一的基础上，对实施例一高精度轴承打磨装置进行进一步优化：
所述砂轮清理机构10包括第一滑动平台1002与第二滑动平台1003，所述第一滑动平台1002与工作台1滑动连接，所述第二滑动平台1003设置在所述第一滑动平台1002上方。
具体的，所述第一滑动平台1002可在所述工作台1上左右滑动，带动所述第二滑动平台1003移动，所述第二滑动平台1003与所述第一滑动平台1002滑动连接，所述第二滑动平台1003可相对于所述第一滑动平台1002滑动。
优选的，所述第一滑动平台1002上设置有砂轮加工刀1005，所述砂轮加工刀1005与所述第一滑动平台1002可拆卸的连接，所述砂轮加工刀1005正对砂轮，砂轮在工作一段时间后，砂轮表面可能会出现不平整现象，通过移动所述砂轮加工刀1005，对砂轮进行加工，解决了砂轮在加工过程中出现磨损无法修复，造成被加工轴承表面擦伤的问题。
优选的，所述第一滑动平台1002下方设置有支撑平台1001，所述支撑平台1001一侧设置有驱动装置1004，所述驱动装置1004与所述支撑平台1001通过管道连接，所述驱动装置1004驱动所述支撑平台1001上下移动，对所述砂轮加工刀1005位置进行调节，使用方便。
优选的，所述第二固定架4上方设置有冷却装置7，所述冷却装置7包括设置在所述第二固定架4上方的防溅挡板701与储液箱702，所述防溅挡板701与所述储液箱702固定连接，所述储液箱702通过管道连接有喷头703，所述喷头703从所述防溅挡板701中穿过，所述喷头703正对所述砂轮轴6，所述储液箱702中放置冷却液，所述防溅挡板701防止冷却液飞溅。
在具体使用过程中，将被加工轴承放置在所述支撑轴9上，将砂轮固定在所述砂轮轴6上，所述电源3为装置工作提供动力，使砂轮开始对被加工轴承进行打磨，打磨加工过程中，所述储液箱702中通过管道流出，最终经过所述喷头703对砂轮与被加工轴承喷水，一方面可以降低砂轮与被加工轴承的表面温度，另一方面可以对被加工轴承表面的颗粒进行冲洗，避免颗粒物残留在被加工轴承上，造成被加工轴承表面精度降低，砂轮在工作一段时间后表面出现不平整现象时，关闭电源3，使砂轮与被加工轴承分离，所述驱动装置1004驱动所述支撑平台1001移动，同时调节所述第一滑动平台1002与所述第二滑动平台1003，使所述砂轮加工刀1005与砂轮接触，对砂轮表面进行清理，确保砂轮表面平整，解决了砂轮取下重新安装后同心度变化的问题，而且在轴承加工过程中，轴承无需取下，进而提高了轴承表面加工精度，在砂轮加工过程中，所述电源3为所述电极501提供电力，所述电极501将被加工轴承表面的微颗粒电解，避免了微颗粒粘附在被加工轴承表面，提高了砂轮表面的加工精度，通过所述电控箱2对装置进行整体控制。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种高精度轴承打磨装置，包括工作台(1)与第一固定架(8)，所述第一固定架(8)一侧设置有第二固定架(4)，所述第一固定架(8)上设置有支撑轴(9)，所述第二固定架(4)上设置有砂轮轴(6)，其特征在于，所述第二固定架(4)一侧设置有电源(3)，所述第一固定架(8)上所述支撑轴(9)与所述砂轮轴(6)之间设置有对微颗粒电解的导电机构，所述第一固定架(8)一侧设置有对砂轮进行清理的砂轮清理机构(10)，所述工作台(1)一侧设置有电控箱(2)。
2.根据权利要求1所述的一种高精度轴承打磨装置，其特征在于，所述导电组件(5)包括电极(501)与绝缘套(502)，所述电极(501)与所述绝缘套(502)可拆卸的连接，所述电极(501)设置在砂轮与被加工轴承之间。
3.根据权利要求2所述的一种高精度轴承打磨装置，其特征在于，所述导电组件(5)具有多组。
4.根据权利要求1所述的一种高精度轴承打磨装置，其特征在于，所述砂轮清理机构(10)包括第一滑动平台(1002)与第二滑动平台(1003)，所述第一滑动平台(1002)与工作台(1)滑动连接，所述第二滑动平台(1003)设置在所述第一滑动平台(1002)上方。
5.根据权利要求4所述的一种高精度轴承打磨装置，其特征在于，所述第一滑动平台(1002)上设置有砂轮加工刀(1005)，所述砂轮加工刀(1005)与所述第一滑动平台(1002)可拆卸的连接。
6.根据权利要求5所述的一种高精度轴承打磨装置，其特征在于，所述第一滑动平台(1002)下方设置有支撑平台(1001)，所述支撑平台(1001)一侧设置有驱动装置(1004)，所述驱动装置(1004)与所述支撑平台(1001)通过管道连接。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114012521A (zh) * 2021-11-10 2022-02-08 宁波创乾精密机械有限公司 一种无心磨床导轮轴使用轴承的结构

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102689263A (zh) * 2012-06-15 2012-09-26 湘潭三峰数控机床有限公司 多拖板双主轴对称式磨削加工中心
DE102014216689A1 (de) * 2014-08-22 2016-02-25 Aktiebolaget Skf Verfahren zur Herstellung von Wälz- und Gleitlagern
CN109202706A (zh) * 2018-09-07 2019-01-15 大连理工大学 一种具有在线电解修整功能的磨头
CN110340774A (zh) * 2019-08-07 2019-10-18 上海特安一凯轴承有限公司 高精度深沟球轴承内圈沟道与内外径复合磨削装置及方法
CN110625482A (zh) * 2019-10-30 2019-12-31 河南科技大学 一种轴承套圈滚道磨床的砂轮修整装置
CN110666637A (zh) * 2019-10-30 2020-01-10 河南科技大学 一种卧式双主轴轴承套圈磨床

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102689263A (zh) * 2012-06-15 2012-09-26 湘潭三峰数控机床有限公司 多拖板双主轴对称式磨削加工中心
DE102014216689A1 (de) * 2014-08-22 2016-02-25 Aktiebolaget Skf Verfahren zur Herstellung von Wälz- und Gleitlagern
CN109202706A (zh) * 2018-09-07 2019-01-15 大连理工大学 一种具有在线电解修整功能的磨头
CN110340774A (zh) * 2019-08-07 2019-10-18 上海特安一凯轴承有限公司 高精度深沟球轴承内圈沟道与内外径复合磨削装置及方法
CN110625482A (zh) * 2019-10-30 2019-12-31 河南科技大学 一种轴承套圈滚道磨床的砂轮修整装置
CN110666637A (zh) * 2019-10-30 2020-01-10 河南科技大学 一种卧式双主轴轴承套圈磨床

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114012521A (zh) * 2021-11-10 2022-02-08 宁波创乾精密机械有限公司 一种无心磨床导轮轴使用轴承的结构
CN114012521B (zh) * 2021-11-10 2024-05-03 宁波创乾精密机械有限公司 一种无心磨床导轮轴使用轴承的结构

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