CN113235072A - 一种可用于机械手传输的托盘 - Google Patents

一种可用于机械手传输的托盘 Download PDF

Info

Publication number
CN113235072A
CN113235072A CN202110393606.6A CN202110393606A CN113235072A CN 113235072 A CN113235072 A CN 113235072A CN 202110393606 A CN202110393606 A CN 202110393606A CN 113235072 A CN113235072 A CN 113235072A
Authority
CN
China
Prior art keywords
supporting part
tray
supporting
robot transfer
slotted hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202110393606.6A
Other languages
English (en)
Inventor
谈太德
褚鑫辉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Piotech Inc
Original Assignee
Piotech Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Piotech Inc filed Critical Piotech Inc
Priority to CN202110393606.6A priority Critical patent/CN113235072A/zh
Publication of CN113235072A publication Critical patent/CN113235072A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4581Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber characterised by material of construction or surface finish of the means for supporting the substrate

Abstract

本发明属于薄膜沉积设备技术领域,具体提供了一种可用于机械手传输的托盘,该托盘具有第一托起部、第二托起部及支撑部,所述两个托起部固定连接。第一托起部与第二托起部上分别凹进设有沟槽空间,两个托起部的沟槽空间对应匹配形成一可放置支撑部的容置空间;所述支撑部的弹性变量小于两个托起部。本技术方案通过以高强度、热变形小的材料作为托盘骨骼,可以限制、减少高温时整个铝托盘的弹性变形以及塑性变形,延长了铝托盘的使用寿命,增加了工艺的稳定性。

Description

一种可用于机械手传输的托盘
技术领域
本发明属于薄膜沉积设备技术领域,具体提供了一种可用于机械手传输的托盘。
背景技术
用于支撑晶圆的托盘在薄膜沉积腔体内,如果材料与结构设计不当,会出现高温时屈服强度下降很快,易出现塑性变形等永久变形,这样就会导致工艺的稳定性以及均匀性较差,出现托盘碎裂现象的发生,使得托盘的寿命较短。
发明内容
鉴于上述问题,本发明提供了一种可用于机械手传输的托盘,该托盘具有第一托起部、第二托起部及支撑部,所述两个托起部连接固定;所述的第一托起部,与第二托起部上分别凹进设有沟槽空间,两个托起部的沟槽空间对应匹配形成一可放置支撑部的容置空间;所述支撑部的弹性变量小于两个托起部。
进一步的,所述的托盘放置在薄膜沉积腔体内加热盘上,该腔体内温度350-400℃,真空状态≤10torr。
进一步的,所述支撑部弹性模量≥200Gpa,线膨胀系数≤19.0×10-6/℃,基于该沉积腔屈服强度≥300Mpa。
进一步的,所述第一托起部、第二托起部为铝合金材料,支撑部为不锈钢材料。
进一步的,所述第二托起部本体上表面围绕中心处均匀设置有多个槽孔,该槽孔的直径为101mm,深度为0.4-2mm。
进一步的,在所述第二托起部的中心处设有一槽孔。
进一步的,所述第一托起部与第二托起部,本体厚度为2-10mm,直径为300mm。
进一步的,所述中心槽孔直径为40-60mm,深度为0.4-2mm。
进一步的,所述的支撑部为星状发散设计。
本发明的优势在于:本技术方案托盘主体采用的铝合金材料,这样可以减少托盘重量、导热快。与此同时,铝托盘分为上下两个托起部分,并设计有沟槽空间,可以放置高强度、热变形小的材料作为托盘骨骼即支撑部,最后将托盘上下两部分焊接连接起来。本技术方案通过以高强度、热变形小的材料(例如不锈钢等)作为托盘骨骼,可以限制、减少高温时整个铝托盘的弹性变形以及塑性变形,延长了铝托盘的使用寿命,增加了工艺的稳定性。
附图说明
图1为发明的一种实施例结构分解示意图;
图2为本发明的工作腔体过程变化示意图;
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
参考图1,一种可用于机械手传输的托盘,该托盘具有第一托起部1、第一托起部2及支撑部3,所述两个托起部固定连接;所述的第一托起部1与第一托起部2上分别凹进设有沟槽空间,两个托起部的沟槽空间对应匹配形成一可放置支撑部3的容置空间;所述支撑部3的弹性变量小于两个托起部。
所述的托盘放置在薄膜沉积腔体内加热盘上,该腔体内温度350-400℃,真空状态≤10torr。
作为方案的改进,所述支撑部3弹性模量≥200Gpa,线膨胀系数≤19.0×10-6/℃,基于该沉积腔屈服强度≥300Mpa。
作为方案的改进,所的第一托起部1、第一托起部2为铝合金材料,支撑部3为不锈钢材料。
作为方案的改进,所述第一托起部2本体上表面围绕中心处均匀设置有多个槽孔4。所述第一托起部1与第二托起部2,本体厚度为2-10mm,直径为300mm;所述第一托起部2上表面以圆心为中心均匀设置有多个槽孔4,该槽孔4的直径为101mm,深度为0.4-2mm。
作为方案的改进,在所述第一托起部2的中心处设有一中心槽孔4。所述中心槽孔4直径为40-60mm,深度为0.4-2mm。
具体实施方式1:
本发明提供了一种可以用于真空机械手传输的铝托盘,包括:铝托盘的承载部分(第二托起部2),这部分直径300mm,厚度4mm,均匀分布5个直径101mm槽孔4,深度在0.76mm,中间为直径51mm的槽孔4,深度范围在0.76mm,此槽孔4为使上表面受热应力释放而设计。托盘骨骼(支撑部分),呈星状,厚度2mm;铝托盘的基座(第一托起部1),其直径300mm,厚度为3mm。铝托盘的承载部分与基座这两部分均有与托盘骨骼相匹配的沟槽,沟槽深度均为1mm,将托盘骨骼放入铝托盘的承载部分与基座相对应的沟槽中,并将铝托盘承载部分与基座两部分进行焊接固定在一起。参考图2,托盘先从LL腔体内取出,LL腔体是大气和真空过渡腔体,压力会出现从大气到真空的较大波动,温度一般不超过100℃,腔内环境洁净。托盘6从LL腔内出来,会进入TM腔体,此腔体已经完全处于真空状态,压力波动较小,腔内洁净,温度一般不会超过100℃。最后托盘通过机械手5的托举夹持,从TM腔体进入到PM腔内,进行CVD沉积工艺。托盘工作在CVD薄膜沉积腔体(PM腔体内)内,腔内环境复杂,有Plasma等离子体,含有氟等腐蚀气体,温度高达400C左右,处于真空状态在10torr以下。采用本技术方案设计的结构可以限制、减少高温时整个铝托盘的弹性变形以及塑性变形,延长了铝托盘的使用寿命,增加了工艺的稳定性,降低了生产成本同时提高产能。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种可用于机械手传输的托盘,其特征在于:该托盘具有第一托起部、第二托起部及支撑部;所述的第一托起部与第二托起部上分别凹进设有沟槽空间,两个托起部的沟槽空间对应匹配形成一可放置支撑部的容置空间,两个托起部固定连接;所述支撑部的弹性变量小于两个托起部。
2.如权利要求1所述的一种可用于机械手传输的托盘,其特征在于:所述的托盘放置在薄膜沉积腔体内加热盘上,该腔体内温度350-400℃,真空状态≤10torr。
3.如权利要求2所述的一种可用于机械手传输的托盘,其特征在于:
所述支撑部弹性模量≥200Gpa,线膨胀系数≤19.0×10-6/℃,基于上述沉积腔屈服强度≥300Mpa。
4.如权利要求3所述的一种可用于机械手传输的托盘,其特征在于:所述的第一托起部、第二托起部为铝合金材料,支撑部为不锈钢材料。
5.如权利要求4所述的一种可用于机械手传输的托盘,其特征在于:所述第二托起部上表面围绕中心处均匀设置有多个槽孔,该槽孔的直径为101mm,深度为0.4-2mm。
6.如权利要求5所述的一种可用于机械手传输的托盘,其特征在于:在所述第二托起部的中心处设有一槽孔。
7.如权利要求4所述的一种可用于机械手传输的托盘,其特征在于:所述第一托起部与第二托起部,厚度区间为2-10mm,直径为300mm。
8.如权利要求6所述的一种可用于机械手传输的托盘,其特征在于:所述中心槽孔直径为40-60mm,深度为0.4-2mm。
9.如权利要求1所述的一种可用于机械手传输的托盘,其特征在于:所述的支撑部为星状设计。
CN202110393606.6A 2021-04-13 2021-04-13 一种可用于机械手传输的托盘 Pending CN113235072A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110393606.6A CN113235072A (zh) 2021-04-13 2021-04-13 一种可用于机械手传输的托盘

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110393606.6A CN113235072A (zh) 2021-04-13 2021-04-13 一种可用于机械手传输的托盘

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113235072A true CN113235072A (zh) 2021-08-10

Family

ID=77127993

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110393606.6A Pending CN113235072A (zh) 2021-04-13 2021-04-13 一种可用于机械手传输的托盘

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113235072A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105088167A (zh) * 2014-05-20 2015-11-25 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 承载装置、反应腔室及半导体加工设备
CN204982132U (zh) * 2015-09-06 2016-01-20 中微半导体设备(上海)有限公司 化学气相沉积或外延层生长反应器及其基片托盘和支撑轴
CN105986249A (zh) * 2016-07-11 2016-10-05 中山德华芯片技术有限公司 一种分区段晶圆片载体
US20170345704A1 (en) * 2016-05-24 2017-11-30 Mitsubishi Electric Corporation Wafer tray
CN111128845A (zh) * 2019-12-16 2020-05-08 北京北方华创微电子装备有限公司 应用于薄膜沉积装置的托盘
CN111411347A (zh) * 2019-01-08 2020-07-14 协鑫工业设计研究(徐州)有限公司 一种cvd衬底托盘及其拼接方法
CN111549333A (zh) * 2020-04-27 2020-08-18 长江存储科技有限责任公司 薄膜沉积装置及3d存储器件的制造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105088167A (zh) * 2014-05-20 2015-11-25 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 承载装置、反应腔室及半导体加工设备
CN204982132U (zh) * 2015-09-06 2016-01-20 中微半导体设备(上海)有限公司 化学气相沉积或外延层生长反应器及其基片托盘和支撑轴
US20170345704A1 (en) * 2016-05-24 2017-11-30 Mitsubishi Electric Corporation Wafer tray
CN105986249A (zh) * 2016-07-11 2016-10-05 中山德华芯片技术有限公司 一种分区段晶圆片载体
CN111411347A (zh) * 2019-01-08 2020-07-14 协鑫工业设计研究(徐州)有限公司 一种cvd衬底托盘及其拼接方法
CN111128845A (zh) * 2019-12-16 2020-05-08 北京北方华创微电子装备有限公司 应用于薄膜沉积装置的托盘
CN111549333A (zh) * 2020-04-27 2020-08-18 长江存储科技有限责任公司 薄膜沉积装置及3d存储器件的制造方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
孙红镱等: "《油田非金属压力管道技术》", 31 August 2017, 哈尔滨工业大学出版社 *
张东兴等: "《聚合物基复合材料科学与工程》", 30 June 2017, 哈尔滨工业大学出版社 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100445048C (zh) 传递基板的机器人和方法、以及制造末端受动器组件的方法
US9875923B2 (en) Control systems employing deflection sensors to control clamping forces applied by electrostatic chucks, and related methods
US5584936A (en) Susceptor for semiconductor wafer processing
CN102498558A (zh) 双温度加热器
TWI507617B (zh) 基板支承軸套
KR20110043742A (ko) 단부 이펙터용 자석 패드
CN107266099B (zh) 一种航空发动机陶瓷基复合材料涡轮导向器叶片近净成型用夹具
CN113563098B (zh) 一种以ZrB2复合中间层连接LaCrO3陶瓷的工艺
CN105074867A (zh) 用于基板处理腔室的带鳍片的挡板盘
JP2017117850A (ja) ウェハ支持機構、化学気相成長装置およびエピタキシャルウェハの製造方法
CN113235072A (zh) 一种可用于机械手传输的托盘
US20230069317A1 (en) Thermal choke plate
JP4999118B2 (ja) アモルファス炭素膜の成膜装置
CN112331609B (zh) 半导体工艺设备中的加热基座及半导体工艺设备
CN205821452U (zh) 一种分区段晶圆片载体
CN209947813U (zh) 一种用于操纵衬底的工具及包含该工具的外延生长炉
CN214458313U (zh) 一种大型立式真空镀膜装备用的载板
CN111218672A (zh) Mocvd加热器
KR101926402B1 (ko) 삽입되는 도가니의 강도를 보강하는 구조를 가지며 열변형에 대응 가능한 도가니 및 그 제조방법
CN214612845U (zh) 一种分子束外延生产设备中的4吋转3吋衬底托板
CN205839124U (zh) 低温低压类金刚石膜化学气相沉积反应腔
CN217127601U (zh) 一种承载盘装置及基板生长反应系统
CN212270224U (zh) 可拆式波纹管结构及应用其的加热模块
CN214753668U (zh) 半导体工艺设备及其机械手
CN212991069U (zh) 半导体工艺设备及其静电卡盘

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20210810

RJ01 Rejection of invention patent application after publication