CN113219675A - 衍射光学元件设计方法以及激光投射模组 - Google Patents

衍射光学元件设计方法以及激光投射模组 Download PDF

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Abstract

本申请公开了一种衍射光学元件设计方法，其包括：确定衍射光学元件在目标平面上所要投射的第一目标光场；确定零级衍射光场；从第一目标光场中减去零级衍射光场，得到第二目标光场；以及根据第二目标光场，对衍射光学元件的相位分布进行设计。本申请还公开了一种包括衍射光学元件的激光投射模组。根据本发明实施例，可以在无需对衍射光学元件的设计理论和加工精度提出更高要求的情况下，巧妙地消除了DOE中的零级衍射影响。

Description

衍射光学元件设计方法以及激光投射模组
技术领域
本发明总体上涉及衍射光学技术，特别是涉及一种衍射光学元件设计方法以及包括衍射光学元件的激光投射模组。
背景技术
针对准直光设计的衍射光学元件(DOE,Diffractive Optical Element)，在理想情况下零级衍射可以被完全抑制，例如，基于衍射光学元件的匀光片(diffuser)，投射出完全均匀的匀光光场。然而，无论是利用光传播的标量设计理论还是矢量设计理论都无法完全模拟现实情况下光波的传播方式。此外，由于加工技术的限制使得实际加工生产的DOE与理论设计的结果之间也总是存在偏差。因此，现有的针对准直光的DOE都无法完全消除零级衍射，在投射光场的中心处存在亮点，影响DOE的工作效果。
发明内容
本发明的目的是提供一种基于衍射光学元件设计方法以及采用衍射光学元件的激光投射模组，其有利于消除零级衍射，从而克服现有技术中的不足。
根据本发明的一个方面，提供了一种衍射光学元件设计方法，该方法包括：
确定衍射光学元件在目标平面上所要投射的第一目标光场；确定零级衍射光场，其中零级衍射光场为衍射光学元件在入射光的照射下由于零级衍射而在目标平面上形成的光场；
从第一目标光场中减去零级衍射光场，得到衍射光学元件的第二目标光场；以及
根据第二目标光场，对衍射光学元件的相位分布进行设计。
所述确定零级衍射光场可以包括：根据入射光的入射状态以及衍射光学元件与目标平面之间的第一设计距离，确定零级衍射光场。
优选地，所述确定零级衍射光场可以包括：基于用于产生入射光的光源和透镜的光学参数、衍射光学元件与目标平面之间的第一设计距离、以及光源与透镜之间的第二设计距离，利用透镜成像原理计算光源发出的光经过透镜在目标平面上的照射范围，从而确定零级衍射光场。
优选地，所述确定零级衍射光场还可以包括：设定第二设计距离，使得光源经透镜成像在偏离目标平面的位置上。
优选地，所述确定零级衍射光场还可以包括：评估零级衍射光场与第一目标光场的光通量比值；以及至少根据光通量比值以及零级衍射光场的范围，确定零级衍射光场。
优选地，所述评估零级衍射光场与第一目标光场的光通量比值包括根据衍射光学元件的设计偏差和加工误差中的至少一者估算光通量比值。
优选地，所述第二设计距离被设定为使得零级衍射光场的光强小于或等于第一目标光场的光强。
在一些实施例中，所述第一目标光场可以包括至少一个覆盖零级衍射光场的匀光光场。在其中一些实施例中，所述第一目标光场可以包括多个光强不同的匀光光场。
优选地，所确定的零级衍射光场的范围具有与用于产生入射光的光源的出射光束的横截面形状相对应的形状。
根据本发明的另一个方面，提供了一种激光投射模组，其包括：激光光源；透镜，用于将来自激光光源的出射光束整形为基本上准直的入射光束；以及衍射光学元件，其接收所述基本上准直的入射光束，用于在距离所述衍射光学元件第一设计距离的目标平面上投射出至少覆盖零级衍射光场的目标光场，其中，激光光源与透镜相距第二设计距离，并且该第二设计距离设置为使得激光光源经透镜成像在偏离目标平面的位置上。
优选地，所述第二设计距离设置为使得激光光源经透镜成像在与衍射光学元件相距第三设计距离的位置上，并且第三设计距离与第一设计距离的差值大于或等于所述第一设计距离的50％。
优选地，所述衍射光学元件为根据以上介绍的衍射光学元件设计方法所设计的。
根据本发明实施例，通过从用于设计DOE的初始目标光场中减去零级衍射光场得到调整后的目标光场(第二目标光场)，并基于调整后的目标光场来设计衍射光学元件的相位分布，从而利用零级衍射与调整后的目标光场的互补得到逼近初始目标光场的实际投射效果，消除零级衍射影响。这样，在无需对衍射光学元件的设计理论和加工精度提出更高要求的情况下，巧妙地消除了DOE的零级衍射影响。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为根据本发明实施例的衍射光学元件设计方法的流程图；
图2示意性地示出了衍射光学元件设计中的第一目标光场的一个示例；
图3示意性地示出了衍射光学元件设计中的零级衍射光场的一个示例；
图4示意性地示出了衍射光学元件设计中的第二目标光场的一个示例；
图5示意性地示出了根据本发明实施例的激光投射模组；以及
图6示出了衍射光学元件设计中的第一目标光场以及相应的第二目标光场的其它示例。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
根据本发明实施例，提供了一种可以消除零级衍射影响的衍射光学元件设计方法。图1示出了该衍射光学元件设计方法100的流程图。
如图1所示，衍射光学元件设计方法100包括以下处理：
S110：确定衍射光学元件(DOE)在目标平面上所要投射的第一目标光场；
S120：确定零级衍射光场，其中零级衍射光场为衍射光学元件在入射光的照射下由于零级衍射而在目标平面上形成的光场；
S130：从第一目标光场中减去零级衍射光场，得到衍射光学元件的第二目标光场；以及
S140：根据第二目标光场，对衍射光学元件的相位分布进行设计。
衍射光学元件用于在与衍射光学元件相距一定距离(即第一设计距离)的目标平面上投射出目标光场(即第一目标光场)。第一目标光场可以包括匀光光场。根据不同的使用需要，目标平面与衍射光学元件相距的第一设计距离可以不同，并且第一目标光场可以具有不同的形状、大小、目标图案等。在处理S110中，根据使用需要，首先确定衍射光学元件在目标平面上所要投射的第一目标光场。图2示意性地示出了第一目标光场的一个示例。在图2所示示例中，第一目标光场LF1包括一个长条形状的匀光光场。
根据现有的衍射光学元件的设计、加工实践可知，即使用于设计衍射光学元件的目标光场是匀光光场(例如图2所示的第一目标光场LF1)时，但是由于设计偏差和加工误差等原因，设计和加工出来的DOE总是会出现零级衍射。例如，参见图3，该图示出了根据图2所示第一目标光场设计得到的衍射光学元件在实际使用中得到的实际光场LF1’。图3的(a)部分为上述实际光场LF1’的照片，从其中可以看到，在光场LF1’的中心位置出现了亮度很高的零级衍射亮斑/零级衍射光场。图3的(b)部分为(a)部分虚线框指示的区域(即零级衍射光场LF0及其周围区域)的放大图。这里，零级衍射光场LF0指的是DOE在入射光的照射下由于零级衍射而在目标平面上形成的光场。
在根据本发明实施例的衍射光学元件设计方法100中，在处理S120中，确定零级衍射光场LF0，其中包括例如确定零级衍射光场LF0的位置、范围、光强等。例如，仅作为示例而非限制性的，在设计衍射光学元件时，可以根据既往的设计经验，如所使用的设计理论方法、受加工条件所限的加工误差等因素的影响，评估出实际加工得到的DOE的零级强度。又例如，由于零级衍射光场的覆盖范围与入射到衍射光学元件上的光的入射状态以及目标平面与衍射光学元件的距离相关，所以处理S120中可以根据衍射光学元件的入射光的入射状态以及衍射光学元件与目标平面之间的距离(以下也称为“第一设计距离”)，确定零级衍射光场。
然后，在处理S130中，从第一目标光场中减去零级衍射光场，得到衍射光学元件的第二目标光场，这样得到的第二目标光场中对应于零级衍射光场的区域形成为“暗区”。图4示出了从图2所示第一目标光场LF1减去图3所示零级衍射光场LF0得到的第二目标光场LF2，其中图4的(b)部分是其(a)部分中虚线框指示的区域的放大图。如图4所示，第二目标光场LF2的中心位置具有与零级衍射光场LF0对应的暗区DA。
最后，在处理S140中，根据第二目标光场，对衍射光学元件的相位分布进行设计。如上所述，在第二目标光场中对应于零级衍射光场的区域形成为暗区；根据这样的第二目标光场设计出来的衍射光学元件，零级衍射光场可以与该特意设计的“暗区”相互补偿，使得最终能够得到消除了零级衍射影响的目标光场。此外，根据目标光场，利用遗传算法或模拟退火算法等各种算法，通过计算机辅助程序对衍射光学元件的相位分布进行计算设计为本领域现有技术，在此不作赘述。
以上结合图1的流程图以及图2至图4所示示例介绍了衍射光学元件设计方法100的总体流程。可以看到，根据衍射光学元件设计方法100，当衍射光学元件所要投射的初始目标光场(第一目标光场)包括覆盖零级衍射光场的匀光光场时，可以通过从初始目标光场中减去零级衍射光场得到调整后的目标光场(第二目标光场)，并基于调整后的目标光场来设计衍射光学元件的相位分布，从而利用零级衍射与调整后的目标光场的互补得到逼近初始目标光场的实际投射效果，消除零级衍射影响。根据本发明实施例的衍射光学元件设计方法，在无需对衍射光学元件的设计理论和加工精度提出更高要求的情况下，巧妙地消除了衍射光学元件的零级衍射影响。
本发明的发明人还注意到，有些情况下衍射光学元件投射到目标平面上的零级衍射光场的亮度/光强很高，显著高于周边区域，这造成即使将第二目标光场中对应于零级衍射光场的区域(即“暗区”)设置为光强为零，该区域在叠加零级衍射光场之后的光强仍然会高于周边区域。
考虑到上述情况，在衍射光学元件设计方法100的优选实施例中，处理S120中可以进一步主动地调整要被投射到目标平面上的零级衍射光场的范围和强度；简单地说，扩大投射到目标平面上的零级衍射光场的覆盖范围，从而减小零级衍射光场的光强，使得零级衍射影响最终能够被消除。
优选地，在处理S120中，可以通过改变用于产生入射到衍射光学元件中的入射光的光源与透镜之间的距离，使零级衍射光场在目标平面上弥散，零级衍射的能量不再集中于中心的光点，而是弥散成强度较弱的光斑，这样该光斑能够通过第二目标光场中的“暗区”来补偿，从而使得能够消除零级衍射影响。
以下将结合图5详细说明衍射光学元件设计方法100的上述优选实施例。
图5示意性地示出了采用了衍射光学元件的激光投射模组10。具体地，激光投射模组10包括激光光源1、用于将激光光源发出的光束整形为基本上准直的入射光束的透镜2以及衍射光学元件3，其中衍射光学元件3用于在与之相距第一设计距离L1的目标平面20上投射出至少一个覆盖零级衍射光场的匀光光场(对应于图中所示的第一目标光场LF1)。需要指出的是，与第一设计距离L1相比，透镜2与衍射光学元件3之间的距离非常小，可以忽略不计，即第一设计距离L1也可以被近似的认为是透镜2到目标平面20的距离。
为了通过衍射光学元件3在目标平面20上投射得到边缘清晰且形状没有变形的匀光光场，通常将光源1与透镜2之间的第二设计距离L2设置为使得光源1通过透镜2成像于目标平面20上。然而，这种情况下在目标平面20上产生的零级衍射光场呈现为会聚于一点的亮斑形式。
在根据本发明的衍射光学元件设计方法100的优选实施例中，如图5所示，在处理S120中可以将第二设计距离L2设置/调整为使得激光光源1经透镜2成像在偏离目标平面20的位置30上。优选地，第二设计距离L2设置为使得激光光源1经透镜2成像在与衍射光学元件3相距第三设计距离L3的位置上，其中第三设计距离L3与第一设计距离L1的差值大于或等于第一设计距离L1的50％。
这样，由光源1和透镜2形成的入射光照射到衍射光学元件3上，由衍射光学元件3产生的零级衍射光照射到目标平面20上形成为离焦/弥散的光斑，例如图5所示的具有直径D的光斑，该光斑即对应于通过调整第二设计距离L2而获得的新的零级衍射光场LF0，亦即在处理S120中进一步要确定的零级衍射光场。由于调整后零级衍射的光能量被分散于更大的面积上，所以新的零级衍射光场LF0的光强减弱，从而使得其能够通过第二目标光场中的“暗区”被补偿。优选地，将第二设计距离L2设定为使得零级衍射光场LF0的光强小于或等于第一目标光场LF1的光强。
相应地，如图5所示，在处理S120中，确定零级衍射光场可以包括：基于激光光源1和透镜2的光学参数、衍射光学元件3与目标平面20之间的第一设计距离L1、以及光源1与透镜2之间的第二设计距离L2，利用透镜成像原理计算光源1发出的光经过透镜2在目标平面20上的照射范围，从而确定零级衍射光场LF0。这里，激光光源1和透镜2的光学参数可以包括但不限于激光光源1的发光面积和发散角度以及透镜2的直径大小和焦距等。
更具体地，例如，可以根据透镜2的焦距、第二设计距离L2(物距)计算得到位置30与透镜2/衍射光学元件3之间的距离(像距)，即第三设计距离L3(透镜2与衍射光学元件3之间的距离相对而言是很小的，可以忽略)；然后，基于光源1的发光面积和发散角度、透镜2的焦距、第二设计距离以及第一设计距离L1与第三设计距离L3的比例关系，可以计算或评估得到零级衍射光场LF0。
优选地，在处理S120中，确定零级衍射光场时考虑激光光源1的出射光束的横截面形状，使得所确定的零级衍射光场LF0具有与激光光源1的出射光束的横截面形状相对应的形状，从而在处理S130中获得的第二目标光场LF2中包含具有相对应形状的“暗区”。例如，参见图3和图4，在第二目标光场中形成的暗区DA具有与零级衍射光场相同的椭圆形状，该椭圆形状对应于用于形成图3的实际光场LF1’的LD光源的出射光束的椭圆形横截面。
根据优选实施例，为了确定零级衍射光场，在处理S120中还可以包括：评估零级衍射光场LF0与第一目标光场LF1的光通量比值；以及至少根据所述光通量比值以及零级衍射光场LF0的范围，确定零级衍射光场。其中，评估零级衍射光场与第一目标光场的光通量比值包括根据衍射光学元件的设计偏差和加工误差中的至少一者估算光通量比值。
应该理解，如图5所示，根据本发明实施例提供了一种新型的激光投射模组10，其包括：激光光源1、透镜2和衍射光学元件3，衍射光学元件3接收来自激光光源1和透镜2的基本上准直的入射光束，用于在距离衍射光学元件第一设计距离L1的目标平面20上投射出至少一个覆盖零级衍射光场的目标光场，其中，激光光源1与透镜2相距第二设计距离L2，并且该第二设计距离L2设置为使得激光光源1经透镜2成像在偏离目标平面20的位置上。优选地，第二设计距离L2设置为使得激光光源1经透镜2成像在与衍射光学元件3相距第三设计距离L3的位置上，其中第三设计距离L3与第一设计距离L1的差值大于或等于第一设计距离L1的50％。优选地，衍射光学元件3为利用根据本发明实施例的衍射光学元件设计方法100所设计得到的。
此外，应该理解，本发明中的第一目标光场并不限于匀光光场，可以是覆盖零级衍射光场的任意图案的光场，并且目标光场为匀光光场的情形下也不限于单个匀光光场，也可以包括多个光强不同的匀光光场。
仅作为示例，图6示出了衍射光学元件设计中的第一目标光场以及相应的第二目标光场的其它示例，在图6所示示例中，第一目标光场LF1包括两个光强不同的匀光光场，例如光强较低的、大的长方形匀光光场LF1a以及光强较高的、效地长方形匀光光场LF1b；相应地，第二目标光场LF2包括大的长方形匀光光场LF2a和中心形成有对应于零级衍射光场的暗区的另一光场LF2b。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (13)

1.一种衍射光学元件设计方法，包括：
确定所述衍射光学元件在目标平面上所要投射的第一目标光场；
确定零级衍射光场，其中所述零级衍射光场为所述衍射光学元件在入射光的照射下由于零级衍射而在所述目标平面上形成的光场；
从所述第一目标光场中减去所述零级衍射光场，得到所述衍射光学元件的第二目标光场；以及
根据所述第二目标光场，对所述衍射光学元件的相位分布进行设计。
2.如权利要求1所述的衍射光学元件设计方法，其中，所述确定零级衍射光场包括：根据所述入射光的入射状态以及所述衍射光学元件与所述目标平面之间的第一设计距离，确定所述零级衍射光场。
3.如权利要求1所述的衍射光学元件设计方法，其中，所述确定零级衍射光场包括：基于用于产生所述入射光的光源和透镜的光学参数、所述衍射光学元件与所述目标平面之间的第一设计距离、以及所述光源与透镜之间的第二设计距离，利用透镜成像原理计算所述光源发出的光经过所述透镜在所述目标平面上的照射范围，从而确定所述零级衍射光场。
4.如权利要求3所述的衍射光学元件设计方法，其中，所述确定零级衍射光场还包括：设定所述第二设计距离，使得所述光源经所述透镜成像在偏离所述目标平面的位置上。
5.如权利要求1-4中任一项所述的衍射光学元件设计方法，其中，所述确定零级衍射光场还包括：评估所述零级衍射光场与所述第一目标光场的光通量比值；以及至少根据所述光通量比值以及所述零级衍射光场的范围，确定所述零级衍射光场。
6.如权利要求5所述的衍射光学元件设计方法，其中，所述评估所述零级衍射光场与所述第一目标光场的光通量比值包括根据衍射光学元件的设计偏差和加工误差中的至少一者估算所述光通量比值。
7.如权利要求4所述的衍射光学元件设计方法，其中，所述第二设计距离被设定为使得所述零级衍射光场的光强小于或等于所述第一目标光场的光强。
8.如权利要求1所述的衍射光学元件设计方法，其中，所述第一目标光场包括至少一个覆盖所述零级衍射光场的匀光光场。
9.如权利要求8所述的衍射光学元件设计方法，其中，所述第一目标光场包括多个光强不同的匀光光场。
10.如权利要求1-4中任一项所述的衍射光学元件设计方法，其中，所确定的零级衍射光场的范围具有与用于产生所述入射光的光源的出射光束的横截面形状相对应的形状。
11.一种激光投射模组，包括：
激光光源；
透镜，用于将来自所述激光光源的出射光束整形为基本上准直的入射光束；以及
衍射光学元件，其接收所述基本上准直的入射光束，用于在距离所述衍射光学元件第一设计距离的目标平面上投射出至少覆盖零级衍射光场的目标光场，
其中，所述激光光源与所述透镜相距第二设计距离，并且该第二设计距离设置为使得所述激光光源经所述透镜成像在偏离所述目标平面的位置上。
12.如权利要求11所述的激光投射模组，其中，所述第二设计距离设置为使得所述激光光源经所述透镜成像在与所述衍射光学元件相距第三设计距离的位置上，并且所述第三设计距离与所述第一设计距离的差值大于或等于所述第一设计距离的50％。
13.如权利要求11所述的激光投射模组，其中，所述衍射光学元件为根据权利要求1-10任一项所述的衍射光学元件设计方法所设计的。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024104038A1 (zh) * 2022-11-15 2024-05-23 青岛海信激光显示股份有限公司 投影设备及投影系统

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120223218A1 (en) * 2011-03-03 2012-09-06 Asahi Glass Company, Limited Diffractive optical element and measuring apparatus
CN102735428A (zh) * 2012-06-08 2012-10-17 中国科学院上海光学精密机械研究所 衍射光学元件光学性能的测量装置及测量方法
CN103399414A (zh) * 2013-07-22 2013-11-20 中国科学院上海光学精密机械研究所 消除衍射光学元件零级衍射光斑的方法
CN107589622A (zh) * 2017-09-01 2018-01-16 深圳奥比中光科技有限公司 零级衍射可调的激光投影装置
CN109342028A (zh) * 2018-10-17 2019-02-15 深圳奥比中光科技有限公司 衍射光学元件检测方法与系统
US20190339541A1 (en) * 2017-09-08 2019-11-07 Shenzhen Orbbec Co., Ltd. Diffractive optical element and preparation method
US20200004036A1 (en) * 2018-06-28 2020-01-02 Viavi Solutions Inc. Diffractive optical device providing structured light
CN111879500A (zh) * 2020-04-26 2020-11-03 浙江水晶光电科技股份有限公司 衍射光学元件的检测系统及方法
CN111913304A (zh) * 2020-06-12 2020-11-10 嘉兴驭光光电科技有限公司 分区匀光照明光学系统、分区匀光照明投射系统及电子设备

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120223218A1 (en) * 2011-03-03 2012-09-06 Asahi Glass Company, Limited Diffractive optical element and measuring apparatus
CN102735428A (zh) * 2012-06-08 2012-10-17 中国科学院上海光学精密机械研究所 衍射光学元件光学性能的测量装置及测量方法
CN103399414A (zh) * 2013-07-22 2013-11-20 中国科学院上海光学精密机械研究所 消除衍射光学元件零级衍射光斑的方法
CN107589622A (zh) * 2017-09-01 2018-01-16 深圳奥比中光科技有限公司 零级衍射可调的激光投影装置
US20190339541A1 (en) * 2017-09-08 2019-11-07 Shenzhen Orbbec Co., Ltd. Diffractive optical element and preparation method
US20200004036A1 (en) * 2018-06-28 2020-01-02 Viavi Solutions Inc. Diffractive optical device providing structured light
CN109342028A (zh) * 2018-10-17 2019-02-15 深圳奥比中光科技有限公司 衍射光学元件检测方法与系统
CN111879500A (zh) * 2020-04-26 2020-11-03 浙江水晶光电科技股份有限公司 衍射光学元件的检测系统及方法
CN111913304A (zh) * 2020-06-12 2020-11-10 嘉兴驭光光电科技有限公司 分区匀光照明光学系统、分区匀光照明投射系统及电子设备

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ETIENNE CUCHE: "Spatial filtering for zero-order and twin-image elimination in digital off-axis holography", 《APPLIED OPTICS》 *
孙杰: "数字全息中几种消零级方法的比较及改进", 《光电技术应用》 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024104038A1 (zh) * 2022-11-15 2024-05-23 青岛海信激光显示股份有限公司 投影设备及投影系统

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