CN113206134A - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

提供了一种显示装置。所述显示装置，包括：第一层，具有包括像素的显示区域和围绕显示区域的非显示区域；第二层，设置在第一层上，并且包括中间无机膜和中间有机膜；第三层，设置在第二层上，并且包括显示元件；第一坝结构，设置在中间有机膜的边缘外部，并且沿着中间有机膜的边缘延伸；第四层，包括第一封装无机膜和第二封装无机膜以及封装有机膜；第五层，设置在第四层上；第六层，设置在第五层上，并且包括光阻挡层、多个滤色器和覆盖光阻挡层和多个滤色器的第七层；以及第二坝结构，设置在非显示区域上，并且限定第七层的边界。

Description

显示装置
本申请要求于2020年2月3日提交的第10-2020-0012781号韩国专利申请的优先权和权益，出于所有目的，该韩国专利申请通过引用被包含于此，如同这里充分阐述的一样。
技术领域
发明的示例性实施方式通常涉及一种显示装置，更具体地，涉及一种具有抗反射构件的显示装置。
背景技术
显示装置显示图像。显示装置包括诸如有机发光显示面板或液晶显示面板的显示面板，所述显示面板包括有机发光二极管(OLED)元件或量子点电致发光(QD-EL)元件。
移动电子装置通常包括向用户提供图像的显示装置。具有与常规移动电子装置的体积或厚度相同或者更小的体积或厚度的更大显示屏幕的移动电子装置的数量正在增加，并且也正在开发仅在使用时能够折叠和展开以提供更大屏幕的可折叠显示装置。
近来，为了改善可折叠显示装置的折叠特性和光效率，已经研究了利用使用光阻挡层和滤色器来代替厚偏振片的抗反射构件的方法。
在本背景技术部分中公开的上述信息仅用于理解发明构思的背景技术，因此，它可以包含不构成现有技术的信息。
发明内容
申请人发现，当在显示装置的制造中使用偏振片时，偏振片会增大显示装置的厚度并且降低显示装置的光效率。
根据发明的原理和示例性实施方式构造的显示装置能够减小显示面板的厚度并且防止亮度的降低。例如，根据发明的原理和一些示例性实施方式构造的抗反射构件包括光阻挡层和滤色器，从而避免对另一偏振片的需要。
根据发明的原理制造抗反射构件的方法能够减少用于形成抗反射构件的掩模工艺的数量，从而降低制造成本和复杂性。例如，根据发明的原理和一些示例性实施方式，在抗反射构件的光阻挡层和滤色器的图案化工艺期间同时形成用于形成外涂层的边界的坝结构，因此显示装置能够通过使用与相关技术所需的工艺数量相比而减少的掩模工艺来形成抗反射构件。
将在下面的描述中阐述发明构思的附加特征，并且发明构思的附加特征在一定程度上通过描述将是清楚的，或者可以通过实践发明构思来习得发明构思的附加特征。
根据发明的一个方面，显示装置包括：第一层，具有包括像素的显示区域和围绕显示区域的非显示区域；第二层，设置在第一层上，并且包括中间无机膜和中间有机膜，中间无机膜与显示区域和非显示区域叠置，中间有机膜设置在中间无机膜上并且将中间无机膜的在非显示区域中的一部分暴露；第三层，设置在第二层上，并且在显示区域中包括显示元件；第一坝结构，设置在中间有机膜的边缘外部，并且沿着中间有机膜的边缘延伸；第四层，包括第一封装无机膜和第二封装无机膜以及封装有机膜，第一封装无机膜和第二封装无机膜与第三层和第一坝结构叠置，封装有机膜置于第一封装无机膜与第二封装无机膜之间并且具有与第一坝结构的侧部相邻的端部部分；第五层，设置在第四层上；第六层，设置在第五层上，并且包括光阻挡层、多个滤色器和覆盖光阻挡层和多个滤色器的第七层；以及第二坝结构，设置在非显示区域上，并且限定第七层的边界，其中，第二坝结构由与光阻挡层和多个滤色器中的至少一者相同的材料形成。
第二层可以是电路元件层，并且可以包括电连接到显示元件的信号线和连接到信号线的端部的信号垫，并且非显示区域可以具有其中设置有信号垫的垫区域。
第一坝结构的一部分和第二坝结构的一部分可以设置为与垫区域基本平行。
第二坝结构可以设置在显示区域与垫区域之间。
第一坝结构可以包括第一坝部，并且第二坝结构包括与第一坝部叠置的第二坝部。
像素中的每个像素可以包括：第一子像素，用于发射第一颜色光；第二子像素，用于发射第二颜色光；以及第三子像素，用于发射第三颜色光，并且其中，滤色器可以包括：第一滤色器，与第一子像素叠置；第二滤色器，与第二子像素叠置；以及第三滤色器，与第三子像素叠置。
第二坝结构可以包括第八层、第九层、第十层和第十一层，并且其中：第八层可以与光阻挡层由相同的材料同时形成，第九层可以与第一滤色器由相同的材料同时形成，第十层可以与第二滤色器由相同的材料同时形成，并且第十一层可以与第三滤色器由相同的材料同时形成。
第一滤色器可以是绿色滤色器，第二滤色器可以是蓝色滤色器，第三滤色器可以是红色滤色器。
第七层可以是外涂层，外涂层还包括由选自TiO2、Al2O3和SiO2中的至少一种形成的散射体。
第三层可以包括显示元件层，显示元件层还包括像素限定膜，像素限定膜具有限定发射区域的开口。
显示装置还可以包括：间隔件，从像素限定膜在厚度方向上突出，其中，第一坝结构可以包括第八层和第九层，第八层可以与像素限定膜由相同的材料同时形成，第九层可以与间隔件由相同的材料同时形成。
光阻挡层可以在厚度方向上与像素限定膜叠置。
光阻挡层可以在一个方向上在其端部之间具有第一宽度，像素限定膜可以在所述一个方向上在其端部之间具有第二宽度，并且第一宽度可以比第二宽度小。
像素限定膜可以包括光吸收材料，并且光吸收材料包括选自碳基黑色颜料、铬(Cr)、钼(Mo)、钼和钛的合金(MoTi)、钨(W)、钒(V)、铌(Nb)、钽(Ta)、锰(Mn)、钴(Co)和镍(Ni)中的至少一种。
中间有机膜可以包括：第一中间有机膜，设置在中间无机膜上；以及第二中间有机膜，设置在第一中间有机膜上。
非显示区域可以包括第一不可弯曲区域、第二不可弯曲区域和可弯曲区域，第二不可弯曲区域在第一方向上与第一不可弯曲区域间隔开，可弯曲区域被限定在第一不可弯曲区域与第二不可弯曲区域之间，并且其中，可弯曲区域可以弯曲，使得弯曲轴可以被限定为沿着与第一方向正交的第二方向。
中间无机膜可以具有暴露第一层的非显示区域的一部分的凹槽，并且虚设有机图案设置在凹槽内部。
第二层可以是电路元件层，并且包括电连接到显示元件的信号线和连接到信号线的端部的信号垫，并且第二不可弯曲区域可以包括其中设置有信号垫的垫区域。
第二坝结构可以设置在第一不可弯曲区域中。
第一坝结构可以包括第一坝部，并且第二坝结构包括与第一坝部叠置的第二坝部。
应当理解的是，前面的总体描述和后面的详细描述都是示例性的和说明性的，并且意图提供对要求保护的发明的进一步解释。
附图说明
包括附图以提供对发明的进一步理解，附图包含在本说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了发明的示例性实施例，并且和描述一起用于解释发明构思。
图1是根据发明的原理构造的显示装置的示例性实施例的透视图。
图2是图1的显示装置的剖视图。
图3是图2的显示面板的平面图。
图4是图3的代表性像素的等效电路图。
图5是图2的显示面板的放大剖视图。
图6A是图2的触摸感测单元的示例性实施例的剖视图。
图6B是图6A的触摸感测单元的平面图。
图7A是图2的触摸感测单元的另一示例性实施例的剖视图。
图7B是图7A的触摸感测单元的平面图。
图8A是沿着图6B的线I-I’截取的剖视图。
图8B是沿着图6B的线II-II’截取的剖视图。
图8C是沿着图6B的线III-III’截取的剖视图。
图9是图2的触摸感测单元的另一示例性实施例的平面图。
图10是沿着图9的线II-II’截取的剖视图。
图11A和图11B是根据发明的原理构造的显示装置的另一示例性实施例的透视图。
图12是图11A和图11B的触摸感测单元的平面图。
图13是沿着图12的线II-II’截取的剖视图。
具体实施方式
在下面的描述中，出于解释的目的，阐述了许多具体细节，以提供对发明的各种示例性实施例或实施方式的透彻理解。如这里使用的，“实施例”和“实施方式”是可互换的词语，它们是采用这里公开的一个或更多个发明构思的装置或者方法的非限制性示例。然而，明显的是，可以在没有这些具体细节或者具有一个或更多个等同布置的情况下实践各种示例性实施例。在其它情况下，以框图形式示出了公知的结构和装置，以避免不必要地模糊各种示例性实施例。此外，各种示例性实施例可以是不同的，但不必是排他的。例如，在不脱离发明构思的情况下，可以在另一示例性实施例中使用或者实现示例性实施例的特定形状、构造和特性。
除非另有说明，否则示出的示例性实施例应当被理解为提供其中可以在实践中实现发明构思的一些方式的不同细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离发明构思的情况下，可以另外组合、分离、互换并且/或者重新布置各种实施例的特征、组件、模块、层、膜、面板、区域和/或方面等(在下文中，单独或者统称为“元件”)。
通常提供附图中的交叉影线和/或阴影的使用，以阐明相邻元件之间的边界。如此，除非另有说明，否则交叉影线或阴影的存在或不存在都不传达或者指示对特定材料、材料性质、尺寸、比例、示出的元件之间的共性和/或元件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述的目的，可以夸大元件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实现示例性实施例时，可以与描述的顺序不同地执行特定工艺顺序。例如，可以基本同时执行或者以与描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的元件。
当元件或层被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”或者“结合到”另一元件或层时，它可以直接在所述另一元件或层上、连接到或者结合到所述另一元件或层，或者可以存在中间元件或层。然而，当元件或层被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或者“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或层。为此，术语“连接”可以指具有或者不具有中间元件的物理、电气和/或流体连接。此外，DR1轴、DR2轴和DR3轴不限于直角坐标系的三个轴，诸如x轴、y轴和z轴，并且可以在更广泛的意义上进行解释。例如，DR1轴、DR2轴和DR3轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。出于本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”和“选自由X、Y和Z组成的组中的至少一个”可以被解释为仅X、仅Y、仅Z，或者X、Y和Z中的两个或更多个的任何组合，诸如以XYZ、XYY、YZ和ZZ为例。如这里使用的，术语“和/或”包括相关联的所列项目中的一个或更多个的任何组合和所有组合。
尽管这里可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种类型的元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不脱离公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件可以被称为第二元件。
诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下面”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高”、“侧(侧面)”(例如，如在“侧壁”中)等的空间相对术语可以在这里用于描述目的，从而描述如附图中所示的一个元件与另一(另外)元件的关系。除了附图中描绘的方位之外，空间相对术语意图涵盖设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果附图中的设备被翻转，那么被描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件随后将被定向为“在”所述其它元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以涵盖上方和下方两种方位。此外，设备可以另外定向(例如，旋转90度或者处于其它方位)，并且如此，相应地解释这里使用的空间相对描述语。
这里使用的术语是为了描述特定实施例的目的，并且不意图是限制性的。如这里使用的，单数形式“一”、“一个(种/者)”和“该(所述)”也意图包括复数形式，除非上下文另有明确指示。此外，当在本说明书中使用时，术语“包括”和/或“包含”指定陈述的特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或其组的存在，但是不排除存在或者添加一个或更多个其它特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或其组。还注意的是，如这里使用的，术语“基本”、“约”和其它类似术语用作近似术语而不是程度术语，并且如此，用于解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供值上的固有偏差。
除非另有定义，否则这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开作为一部分的领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。诸如在通用词典中定义的那些术语应被解释为具有与其在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且不应以理想化或过于正式的意义来解释，除非这里明确地如此定义。
在下文中，将参照附图描述特定实施例。
图1是根据发明的原理构造的显示装置DD的透视图。图2是图1的显示装置DD的剖视图。
如图1中所示，显示表面IS可以平行于由第一方向DR1和第二方向DR2限定的表面。第三方向DR3可以指示显示表面IS的法线方向(即，显示装置DD的厚度方向)。每个构件的前表面(或上表面)和后表面(或下表面)在第三方向DR3上分离。然而，由第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3指示的方向是相对方向，并且可以转换为其它方向。在下文中，为了便于描述，第一方向、第二方向和第三方向可以分别表示与第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3相同的附图标记。
根据示例性实施例的显示装置DD可以是柔性显示装置。例如，显示装置DD可以包括柔性基底。柔性基底可以是膜基底和包括聚合物有机材料的塑料基底中的一种。例如，基底可以是聚酰亚胺膜。显示装置DD可以根据折叠和展开位置而被划分为多个区域。例如，显示装置DD可以被划分为其中显示装置DD被折叠的可折叠区域FA以及基本平坦的两个不可折叠区域NFA1和NFA2。不可折叠区域NFA1和NFA2沿着第一方向DR1布置，并且可折叠区域FA设置在两个不可折叠区域NFA1和NFA2之间。在示出的示例性实施例中，一个可折叠区域FA被限定在显示装置DD中。然而，示例性实施例不限于此，并且可以在显示装置DD中限定多个可折叠区域。显示装置DD可以应用于诸如电视和监视器的大型电子装置以及诸如移动电话、平板电脑、汽车导航装置、游戏机、智能手表等的中小型电子装置。
如图1中所示，显示装置DD可以包括在其上显示图像的显示区域DD-DA和与显示区域DD-DA相邻的非显示区域DD-NDA。非显示区域DD-NDA是不显示图像的区域。显示区域DD-DA可以具有大致四边形形状。非显示区域DD-NDA可以围绕显示区域DD-DA。然而，示例性实施例不限于此，并且可以相对地设计显示区域DD-DA和非显示区域DD-NDA的形状。
参照图2，显示装置DD可以包括显示面板DP、触摸感测单元TS(或触摸感测层)和抗反射层RFL。显示装置DD还可以包括设置在显示面板DP的下表面上的保护构件以及设置在抗反射层RFL的上表面上的窗构件。
显示面板DP可以是发光显示面板，但是示例性实施例不限于此。例如，显示面板DP可以是有机发光显示面板或量子点发光显示面板。在有机发光显示面板中，发射层可以包括有机发光材料。在量子点发光显示面板中，发射层可以包括量子点和量子棒。在下文中，为了便于描述，将显示面板DP描述为有机发光显示面板。
显示面板DP可以包括基体层SUB、设置在基体层SUB上的电路元件层DP-CL、显示元件层DP-OLED和薄膜封装层TFE。例如，显示面板DP还可以包括诸如抗反射层和折射率控制层的功能层。
基体层SUB可以包括至少一个塑料膜。基体层SUB是柔性基底，并且可以包括塑料基底、玻璃基底、金属基底、有机/无机复合基底等。
可以在基体层SUB中相同地限定参照图1描述的显示区域DD-DA和非显示区域DD-NDA。
电路元件层DP-CL可以包括至少一个中间绝缘层和电路元件。中间绝缘层可以包括至少一个中间无机膜和至少一个中间有机膜。电路元件可以包括信号线、像素的驱动电路等。下面将提供其详细描述。
显示元件层DP-OLED可以至少包括有机发光二极管。显示元件层DP-OLED还可以包括诸如像素限定膜的有机膜。
薄膜封装层TFE可以密封显示元件层DP-OLED。薄膜封装层TFE可以包括至少一个无机膜(在下文中，被称为封装无机膜)。薄膜封装层TFE还可以包括至少一个有机膜(在下文中，被称为封装有机膜)。封装无机膜可以保护显示元件层DP-OLED免受湿气或氧的影响。此外，封装有机膜可以保护显示元件层DP-OLED免受诸如灰尘颗粒的外来物质的影响。封装无机膜可以包括氮化硅层、氮氧化硅层和氧化硅层、氧化钛层、氧化铝层等。封装有机膜可以包括丙烯酰类有机膜，但是示例性实施例不限于此。
触摸感测单元TS可以获取外部输入的坐标信息。触摸感测单元TS直接设置在显示面板DP(有机发光显示面板DP)上。如这里使用的，“直接设置”是指通过连续工艺形成而不使用单独的粘合层。在另一示例性实施例中，触摸感测单元TS间接地设置在显示面板DP(有机发光显示面板DP)上，使得中间层(诸如粘合层)可以设置在它们之间。
触摸感测单元TS可以具有多层结构。触摸感测单元TS可以包括单个导电层或多个导电层。触摸感测单元TS可以包括单个绝缘层或多个绝缘层。
例如，触摸感测单元TS可以以电容方法感测外部输入。然而，触摸感测单元TS的操作方法不特别限于此。在示例性实施例中，触摸感测单元TS可以以电磁感应方法或压力感测方法感测外部输入。
抗反射层RFL可以设置在触摸感测单元TS上。抗反射层RFL可以用于防止外部光的反射。例如，抗反射层RFL可以包括由光阻挡材料形成的光阻挡层。因此，由于可以省略单独的偏振片以有利于抗反射层RFL，所以可以在防止显示装置DD的亮度的下降的同时使显示面板DP的厚度最小化。稍后将参照图8A至图8C提供抗反射层RFL的详细描述。
图3是图2的显示面板DP的平面图。图4是图3的代表性像素PX的等效电路图。图5是图2的显示面板DP的放大剖视图。
如图3中所示，显示面板DP可以包括显示区域DA和非显示区域NDA。在示例性实施例中，可以沿着显示区域DA的边缘限定非显示区域NDA。显示面板DP的显示区域DA和非显示区域NDA可以分别对应于图1中所示的显示装置DD的显示区域DD-DA和非显示区域DD-NDA。例如，显示面板DP的显示区域DA和非显示区域NDA可以分别与显示装置DD的显示区域DD-DA和非显示区域DD-NDA基本相同。可选地，显示面板DP的显示区域DA和非显示区域NDA可以不同于显示装置DD的显示区域DD-DA和非显示区域DD-NDA，并且可以根据显示面板DP的结构或设计而改变。
显示面板DP可以包括驱动电路、多条信号线SGL和多个像素PX。多个像素PX设置在显示区域DA中。像素PX中的每个可以包括有机发光二极管和与有机发光二极管连接的像素驱动电路。驱动电路、多条信号线SGL和像素驱动电路可以被包括在图2中所示的电路元件层DP-CL中。
驱动电路可以包括扫描驱动电路GDC。扫描驱动电路GDC可以生成多个扫描信号，并且将多个扫描信号顺序地输出到多条扫描线GL，这将在后面描述。扫描驱动电路GDC还可以将另一控制信号输出到像素PX的驱动电路。
扫描驱动电路GDC可以包括通过与形成像素PX的驱动电路的工艺相同的工艺(例如，低温多晶硅(LTPS)工艺或低温多晶氧化物(LTPO)工艺)形成的多个薄膜晶体管。
多条信号线SGL可以包括扫描线GL、数据线DL、电力线PL和控制信号线CSL。扫描线GL分别连接到多个像素PX中的对应像素PX，数据线DL分别连接到多个像素PX中的对应像素PX。电力线PL连接到多个像素PX。控制信号线CSL可以向扫描驱动电路GDC提供控制信号。
显示面板DP可以包括连接到信号线SGL的端部的信号垫(pad，又被称为“焊盘”)DP-PD。信号垫DP-PD可以是一种电路元件。非显示区域NDA中的其中设置有信号垫DP-PD的区域被限定为垫区域NDA-PD。例如，连接到后面将描述的触摸信号线的触摸垫TS-PD也可以设置在垫区域NDA-PD中。
根据示例性实施例，显示面板DP可以包括至少一个坝结构，诸如第一坝部DMP1。例如，显示面板DP可以包括两个第一坝部，例如，第一第一坝部DMP1-1和第二第一坝部DMP1-2。第一第一坝部DMP1-1可以沿着显示区域DA的边缘延伸。第一第一坝部DMP1-1可以围绕显示区域DA。第二第一坝部DMP1-2可以沿着第一第一坝部DMP1-1的边缘延伸。第二第一坝部DMP1-2可以围绕第一第一坝部DMP1-1。第一坝部DMP1的一部分可以与垫区域NDA-PD平行地设置。
此外，显示面板DP可以包括至少一个第二坝部DMP2。例如，显示面板DP可以包括两个第二坝部，例如，第一第二坝部DMP2-1和第二第二坝部DMP2-2。根据示例性实施例，第二坝部DMP2可以在厚度方向(第三方向DR3)上与第一坝部DMP1叠置。第一第二坝部DMP2-1可以设置在第一第一坝部DMP1-1上，并且可以沿着显示区域DA的边缘延伸。第一第二坝部DMP2-1可以围绕显示区域DA。第二第二坝部DMP2-2可以与第二第一坝部DMP1-2叠置，并且可以沿着第一第二坝部DMP2-1的边缘延伸。第二坝部DMP2的一部分可以与垫区域NDA-PD平行地设置。
在图4中，像素PX可以与任何一条扫描线GL、任何一条数据线DL和电力线PL连接。像素PX的构造不限于此，并且可以修改为具有各种结构。
有机发光二极管OLED可以是前表面发光二极管或后表面发光二极管。像素PX可以包括作为用于驱动有机发光二极管OLED的像素驱动电路的元件的第一晶体管T1(例如，开关晶体管)、第二晶体管T2(例如，驱动晶体管)和电容器Cst。第一电力电压ELVDD被提供到第二晶体管T2，第二电力电压ELVSS被提供到有机发光二极管OLED。第二电力电压ELVSS可以是比第一电力电压ELVDD低的电压。
第一晶体管T1可以响应于施加到扫描线GL的扫描信号而将施加到数据线DL的数据信号输出到电容器Cst。电容器Cst可以充有与从第一晶体管T1接收的数据信号对应的电压。
第二晶体管T2连接到有机发光二极管OLED。第二晶体管T2可以与存储在电容器Cst中的电荷量对应地控制流过有机发光二极管OLED的驱动电流。有机发光二极管OLED可以在第二晶体管T2的导通时段期间发光。
图5是与图4中所示的等效电路对应的显示面板DP的局部剖视图。电路元件层DP-CL、显示元件层DP-OLED和薄膜封装层TFE顺序地设置在基体层SUB上。
电路元件层DP-CL可以包括至少一个无机膜、至少一个有机膜和电路元件。电路元件层DP-CL包括具有无机膜的缓冲膜BFL、第一中间无机膜10和第二中间无机膜20，并且可以包括具有有机膜的中间有机膜30。
无机膜可以包括氮化硅、氮氧化硅、氧化硅等。有机膜可以包括丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、聚异戊二烯、乙烯基类树脂、环氧类树脂、聚氨酯类树脂、纤维素类树脂、硅氧烷类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂和苝类树脂中的至少一种。电路元件可以包括导电图案和/或半导体图案。
缓冲膜BFL改善了基体层SUB与导电图案或半导体图案之间的结合力。例如，用于阻挡外来物质进入装置内部的阻挡层可以进一步设置在基体层SUB的上表面上。可以选择性地设置或者省略缓冲膜BFL和阻挡层。
第一晶体管T1的半导体图案OSP1(在下文中，被称为第一半导体图案)和第二晶体管T2的半导体图案OSP2(在下文中，被称为第二半导体图案)设置在缓冲膜BFL上。第一半导体图案OSP1和第二半导体图案OSP2可以由非晶硅、多晶硅和金属氧化物半导体中的至少一种形成。
第一中间无机膜10设置在第一半导体图案OSP1和第二半导体图案OSP2上。第一晶体管T1的控制电极GE1(在下文中，被称为第一控制电极)和第二晶体管T2的控制电极GE2(在下文中，被称为第二控制电极)设置在第一中间无机膜10上。第一控制电极GE1和第二控制电极GE2可以通过与形成扫描线GL(参照图3)的光刻工艺相同的光刻工艺形成。
覆盖第一控制电极GE1和第二控制电极GE2的第二中间无机膜20设置在第一中间无机膜10上。第一晶体管T1的输入电极DE1(在下文中，被称为第一输入电极)和输出电极SE1(在下文中，被称为第一输出电极)以及第二晶体管T2的输入电极DE2(在下文中，被称为第二输入电极)和输出电极SE2(在下文中，被称为第二输出电极)设置在第二中间无机膜20上。
第一输入电极DE1和第一输出电极SE1分别通过穿过第一中间无机膜10和第二中间无机膜20的第一通孔CH1和第二通孔CH2与第一半导体图案OSP1连接。第二输入电极DE2和第二输出电极SE2分别通过穿过第一中间无机膜10和第二中间无机膜20的第三通孔CH3和第四通孔CH4与第二半导体图案OSP2连接。在另一示例性实施例中，第一晶体管T1和第二晶体管T2中的一些可以被修改为具有底栅结构。
覆盖第一输入电极DE1、第二输入电极DE2、第一输出电极SE1和第二输出电极SE2的中间有机膜30设置在第二中间无机膜20上。中间有机膜30可以具有平坦表面。
中间有机膜30可以包括单层或多层。例如，中间有机膜30可以包括在第二中间无机膜20上覆盖第一输入电极DE1、第二输入电极DE2、第一输出电极SE1和第二输出电极SE2的第一中间有机膜31以及设置在第一中间有机膜31上的第二中间有机膜32。当中间有机膜30由多个层形成时，可以改善中间有机膜30的平坦化特性。
显示元件层DP-OLED设置在第二中间有机膜32上。显示元件层DP-OLED可以包括像素限定膜PDL和有机发光二极管OLED。像素限定膜PDL可以包括如中间有机膜30中所包括的有机材料。第一电极AE设置在第二中间有机膜32上。第一电极AE通过穿过中间有机膜30的第五通孔CH5连接到第二输出电极SE2。开口OP被限定在像素限定膜PDL中。像素限定膜PDL的开口OP暴露第一电极AE的至少一部分。
此外，像素限定膜PDL可以包括光吸收材料。此外，像素限定膜PDL可以涂覆有光吸收剂，以吸收从外部引入的光。例如，像素限定膜PDL可以包括碳基黑色颜料。然而，示例性实施例不限于此，并且像素限定膜PDL可以包括具有高光吸收的不透明金属材料，诸如铬(Cr)、钼(Mo)、钼和钛的合金(MoTi)、钨(W)、钒(V)、铌(Nb)、钽(Ta)、锰(Mn)、钴(Co)或镍(Ni)。
像素PX可以设置在像素区域中。像素区域可以包括发射区域PXA和与发射区域PXA相邻的非发射区域NPXA。非发射区域NPXA可以围绕发射区域PXA。在示例性实施例中，发射区域PXA被限定为与第一电极AE的由开口OP暴露的部分区域对应。
空穴控制层HCL可以共同地设置在发射区域PXA和非发射区域NPXA中。例如，可以在多个像素PX(参照图3)中共同地形成公共层(例如，空穴控制层HCL)。
发射层EML设置在空穴控制层HCL上。发射层EML可以设置在与开口OP对应的区域中。例如，发射层EML可以在多个相应像素PX中单独地形成。发射层EML可以包括有机材料和/或无机材料，以发射预定颜色。例如，像素PX可以包括第一子像素至第三子像素。第一子像素至第三子像素中的每者可以发射红光、绿光或蓝光。
然而，示例性实施例不限于此。例如，发射层EML可以共同地设置在多个像素PX中。在这种情况下，发射层EML可以发射白光。
电子控制层ECL设置在发射层EML上。例如，电子控制层ECL可以共同地形成在多个像素PX(参照图3)中。
第二电极CE设置在电子控制层ECL上。第二电极CE共同设置在多个像素PX中。
如图8B中所示，当单独的间隔件SPC进一步设置在像素限定膜PDL上时，第二电极CE可以设置在间隔件SPC上。
薄膜封装层TFE设置在第二电极CE上。薄膜封装层TFE共同地设置在多个像素PX中。在示出的示例性实施例中，薄膜封装层TFE可以直接设置在第二电极CE上。在示例性实施例中，覆盖第二电极CE的盖层可以进一步设置在薄膜封装层TFE与第二电极CE之间。在这种情况下，薄膜封装层TFE可以直接设置在盖层上。
图6A是图2的触摸感测单元TS的示例性实施例的剖视图。图6B是图6A的触摸感测单元TS的平面图。图7A是图2的触摸感测单元TS的另一示例性实施例的剖视图。图7B是图7A的触摸感测单元TS的平面图。
如图6A中所示，触摸感测单元TS可以包括第一导电层TS-CL1、第一绝缘层TS-IL1(在下文中，被称为第一触摸绝缘层)、第二导电层TS-CL2和第二绝缘层TS-IL2(在下文中，被称为第二触摸绝缘层)。第一导电层TS-CL1直接设置在薄膜封装层TFE上。示例性实施例不限于此，并且可以在第一导电层TS-CL1与薄膜封装层TFE之间进一步设置另一无机层或有机层。
第一导电层TS-CL1和第二导电层TS-CL2中的每者可以具有沿着第三方向DR3堆叠的单层结构或多层结构。多层结构中的导电层可以包括多种透明导电层和多种金属层中的至少两种。多层结构中的导电层可以包括包含不同金属的金属层。透明导电层可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锡锌(ITZO)、PEDOT、金属纳米线或石墨烯。金属层可以包括钼、银、钛、铜、铝或其合金。例如，第一导电层TS-CL1和第二导电层TS-CL2中的每者可以具有钛/铝/钛的三层结构。
第一导电层TS-CL1和第二导电层TS-CL2中的每者可以包括多个图案。在下文中，第一导电层TS-CL1包括第一导电图案，第二导电层TS-CL2包括第二导电图案。第一导电图案和第二导电图案中的每者可以包括触摸电极和触摸信号线。
第一触摸绝缘层TS-IL1和第二触摸绝缘层TS-IL2中的每者可以包括无机材料或有机材料。第一触摸绝缘层TS-IL1和第二触摸绝缘层TS-IL2中的至少一者可以包括无机膜。无机膜可以包括氧化铝、氧化钛、氧化硅、氮氧化硅、氧化锆和氧化铪中的至少一种。
第一触摸绝缘层TS-IL1和第二触摸绝缘层TS-IL2中的至少一者可以包括有机膜。有机膜可以包括丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、聚异戊二烯、乙烯基类树脂、环氧类树脂、聚氨酯类树脂、纤维素类树脂、硅氧烷类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂和苝类树脂中的至少一种。在示出的示例性实施例中，为了便于描述，第一触摸绝缘层TS-IL1被描述为触摸无机膜，第二触摸绝缘层TS-IL2被描述为触摸有机膜。
如图6B中所示，触摸感测单元TS可以包括第一触摸电极TE1-1至TE1-5、连接到第一触摸电极TE1-1至TE1-5的第一触摸信号线SL1-1至SL1-5、第二触摸电极TE2-1至TE2-4、连接到第二触摸电极TE2-1至TE2-4的第二触摸信号线SL2-1至SL2-4以及连接到第一触摸信号线SL1-1至SL1-5和第二触摸信号线SL2-1至SL2-4的触摸垫TS-PD。第一触摸信号线SL1-1至SL1-5分别连接到第一触摸电极TE1-1至TE1-5的一端。第二触摸信号线SL2-1至SL2-4分别连接到第二触摸电极TE2-1至TE2-4的两端。在另一示例性实施例中，第一触摸信号线SL1-1至SL1-5也分别连接到第一触摸电极TE1-1至TE1-5的两端，或者第二触摸信号线SL2-1至SL2-4可以分别连接到第二触摸电极TE2-1至TE2-4的一端。
图6B附加地示出了设置在显示面板DP中的第一坝部DMP1，以示出第一坝部DMP1相对于触摸感测单元TS的相对位置。第一触摸电极TE1-1至TE1-5中的每者可以具有其中限定有多个触摸开口的网格形状。第一触摸电极TE1-1至TE1-5中的每者可以包括多个第一触摸传感器部SP1和多个第一连接部CP1。第一触摸传感器部SP1沿着第二方向DR2布置。第一连接部CP1中的每个可以将两个相邻的第一触摸传感器部SP1连接。例如，第一触摸信号线SL1-1至SL1-5也可以具有网格形状。
第二触摸电极TE2-1至TE2-4可以与第一触摸电极TE1-1至TE1-5绝缘并相交。第二触摸电极TE2-1至TE2-4中的每者可以具有其中限定有多个触摸开口的网格形状。第二触摸电极TE2-1至TE2-4中的每者可以包括多个第二触摸传感器部SP2和多个第二连接部CP2。第二触摸传感器部SP2沿着第一方向DR1布置。第二连接部CP2中的每者可以将两个相邻的第二触摸传感器部SP2连接。第二触摸信号线SL2-1至SL2-4也可以具有网格形状。
第一触摸电极TE1-1至TE1-5和第二触摸电极TE2-1至TE2-4静电耦合。例如，可以通过第一触摸电极TE1-1至TE1-5与第二触摸电极TE2-1至TE2-4之间的静电耦合来一起操作第一触摸电极TE1-1至TE1-5和第二触摸电极TE2-1至TE2-4。例如，当物体靠近触摸感测单元TS时，第一触摸传感器部SP1与第二触摸传感器部SP2之间的电容改变。此外，当触摸感测信号施加到第一触摸电极TE1-1至TE1-5时，检测到第一触摸传感器部SP1与第二触摸传感器部SP2之间的电容的变化。
多个第一触摸传感器部SP1、多个第一连接部CP1、第一触摸信号线SL1-1至SL1-5、多个第二触摸传感器部SP2、多个第二连接部CP2和多条第二触摸信号线SL2-1至SL2-4中的一些可以通过图案化图6A中所示的第一导电层TS-CL1来形成。多个第一触摸传感器部SP1、多个第一连接部CP1、第一触摸信号线SL1-1至SL1-5、多个第二触摸传感器部SP2、多个第二连接部CP2和多条第二触摸信号线SL2-1至SL2-4中的其它可以通过图案化图6A中所示的第二导电层TS-CL2来形成。例如，可以通过图案化第一导电层TS-CL1来形成多个第一连接部CP1。例如，可以通过图案化第二导电层TS-CL2来形成多个第一触摸传感器部SP1、第一触摸信号线SL1-1至SL1-5、多个第二触摸传感器部SP2、多个第二连接部CP2和第二触摸信号线SL2-1至SL2-4。然而，示例性实施例不限于此。
尽管示出了其中多个第一连接部CP1和多个第二连接部CP2彼此交叉的触摸感测单元TS，但是示例性实施例不限于此。例如，第二连接部CP2中的每个可以变形为V形，以不与多个第一连接部CP1叠置。V形的第二连接部CP2可以与第一触摸传感器部SP1叠置。在示出的示例性实施例中，示出了具有大致菱形或三角形形状的第一触摸传感器部SP1和第二触摸传感器部SP2，但是示例性实施例不限于此。
如图7A中所示，触摸感测单元TS可以是包括导电层TS-CL和绝缘层TS-IL(触摸绝缘层)的单层型触摸感测单元。单层型触摸感测单元可以通过自电容方法获得坐标信息。
导电层TS-CL可以具有沿着第三方向DR3堆叠的单层结构或多层结构。多层结构的导电层可以包括多种透明导电层和多种金属层中的至少两种。导电层TS-CL可以包括多个图案，诸如触摸电极和触摸信号线。触摸绝缘层TS-IL可以至少包括无机膜。触摸绝缘层TS-IL还可以包括有机膜。
如图7B中所示，触摸感测单元TS可以包括彼此间隔开的触摸电极TE和触摸信号线SL。触摸电极TE可以以矩阵形式布置，并且分别连接到触摸信号线SL。触摸电极TE的形状和布置没有特别限制。触摸信号线SL中的一些可以设置在显示区域DA中，并且触摸信号线SL中的一些可以设置在非显示区域NDA中。
图8A是沿着图6B的线I-I’截取的剖视图。图8B是沿着图6B的线II-II’截取的剖视图。图8C是沿着图6B的线III-III’截取的剖视图。图8B示出了与数据线DL叠置的剖面，图8C示出了未与数据线DL叠置的剖面。
设置在显示区域DA中的电路元件层DP-CL、显示元件层DP-OLED和薄膜封装层TFE的堆叠结构与参照图5描述的结构相同，因此将省略其详细描述以避免冗余。然而，空穴控制层HCL和电子控制层ECL未在图8A和图8B中示出。触摸感测单元TS的堆叠结构也与参照图6A和图6B描述的结构相同，因此将省略其详细说明以避免冗余。此外，图8A示出了包括在触摸感测单元TS中的触摸信号线SL。示出了包括第一封装无机膜IOL1、第二封装无机膜IOL2和设置在第一封装无机膜IOL1与第二封装无机膜IOL2之间的封装有机膜OL的薄膜封装层TFE。
如图8A中所示，构造电路元件层DP-CL的扫描驱动电路GDC设置在非显示区域NDA中。扫描驱动电路GDC可以包括通过与第二晶体管T2相同的工艺形成的至少一个晶体管GDC-T。扫描驱动电路GDC可以包括设置在与第二晶体管T2的输入电极DE2相同的层上的信号线GDC-SL。例如，扫描驱动电路GDC还可以包括设置在与第二晶体管T2的控制电极GE2相同的层上的信号线。
提供第二电力电压ELVSS的电力电极PWE设置在扫描驱动电路GDC的外部。电力电极PWE可以从外部装置接收第二电力电压ELVSS。连接电极E-CNT设置在中间有机膜30上。连接电极E-CNT可以将电力电极PWE和第二电极CE彼此连接。由于连接电极E-CNT通过与第一电极AE相同的工艺形成，因此连接电极E-CNT可以具有与第一电极AE相同的层结构和相同的材料。连接电极E-CNT和第一电极AE可以具有基本相同的厚度。
例如，在图8B中示出了设置在第二中间无机膜20上的一条数据线DL。信号垫DP-PD连接到数据线DL的端部。
如图8A至图8C中所示，显示面板DP可以包括至少一个第一坝部DMP1。例如，显示面板DP可以包括两个第一坝部DMP1-1和DMP1-2。第一第一坝部DMP1-1可以具有多层结构。下部DM1可以与像素限定膜PDL由相同的材料同时形成。上部DM2可以与间隔件SPC由相同的材料同时形成。此外，第二第一坝部DMP1-2可以具有多层结构。下部DM3可以与中间有机膜30由相同的材料同时形成。中间部DM4可以与像素限定膜PDL由相同的材料同时形成。上部DM5可以与间隔件SPC由相同的材料同时形成。第二第一坝部DMP1-2可以具有比第一第一坝部DMP1-1大中间有机膜30的厚度的高度。例如，第二第一坝部DMP1-2的顶表面可以位于比第一第一坝部DMP1-1的顶表面高的水平处。
第一坝部DMP1可以防止液体有机材料在形成封装有机膜OL的工艺中扩散或者泄漏到外部。封装有机膜OL可以通过喷墨方法(inkjet method)在第一封装无机膜IOL1上形成液体有机材料。在这种情况下，第一坝部DMP1可以设定或者限定设置有液体有机材料的区域的边界。
第一封装无机膜IOL1和第二封装无机膜IOL2可以与第一坝部DMP1的顶部叠置。第一封装无机膜IOL1可以接触第二中间无机膜20。在图8B中，数据线DL的一部分设置在第二中间无机膜20与第一封装无机膜IOL1之间。然而，如图8C中所示，第一封装无机膜IOL1和第二中间无机膜20可以在未设置有数据线DL的区域中彼此接触。
触摸绝缘层TS-IL1和TS-IL2可以与第一坝部DMP1叠置，如图8A中所示。第一触摸绝缘层TS-IL1可以接触第一封装无机膜IOL1、第二封装无机膜IOL2和第二中间无机膜20。在图8B中，数据线DL设置在第一触摸绝缘层TS-IL1与第二中间无机膜20之间。然而，如图8C中所示，第一触摸绝缘层TS-IL1和第二中间无机膜20可以在未设置有数据线DL的另一区域中彼此接触。
抗反射层RFL可以设置在触摸感测单元TS上，如图8B中所示。因为抗反射层RFL可以阻挡外部光反射，所以可以省略单独的偏振器以有利于抗反射层RFL。因此，如上所述，可以在防止显示装置DD的亮度的降低的同时使显示面板DP的厚度最小化。
抗反射层RFL可以包括光阻挡层BM和滤色器CF1、CF2和CF3。
光阻挡层BM可以设置在第二绝缘层TS-IL2上。
光阻挡层BM可以包括光吸收材料。例如，光阻挡层BM可以涂覆有光吸收剂以吸收从外部引入的光。在这种情况下，光阻挡层BM可以包括碳基黑色颜料。然而，示例性实施例不限于此，并且光阻挡层BM可以包括具有高光吸收的不透明金属材料，诸如铬(Cr)、钼(Mo)、钼和钛的合金(MoTi)、钨(W)、钒(V)、铌(Nb)、钽(Ta)、锰(Mn)、钴(Co)或镍(Ni)。
光阻挡层BM可以在厚度方向上(即，在第三方向DR3上)与像素限定膜PDL叠置。
根据示例性实施例，光阻挡层BM在一个方向上的宽度可以不同于像素限定膜PDL在所述一个方向上的宽度。此外，光阻挡层BM在所述一个方向上的宽度可以与像素限定膜PDL在所述一个方向上的宽度相同。例如，光阻挡层BM在所述一个方向上的宽度可以比像素限定膜PDL在所述一个方向上的宽度小。这里，像素限定膜PDL在所述一个方向上的宽度是指设置在相邻发射层EML之间的像素限定膜PDL的端部之间在所述一个方向上的间隙。光阻挡层BM在所述一个方向上的宽度是指设置在相邻滤色器CF1、CF2和CF3之间的光阻挡层BM的端部之间在所述一个方向上的间隙。
当光阻挡层BM的宽度比像素限定膜PDL的宽度小时，可以使从发射层EML发射到光阻挡层BM的光的吸收最小化。因此，可以改善侧面亮度比，并且可以增强白色角度依赖性(white angular dependency，WAD)。这里，WAD是指根据观察者的视角在显示装置DD的边缘处识别出绿色(或另一颜色)色相(hue)的问题。
然而，当光阻挡层BM的宽度极小时，光阻挡层BM的外部光吸收功能降低，因此考虑到侧面亮度比、WAD和反射率可以调节光阻挡层BM的宽度。
滤色器CF1、CF2和CF3可以设置在光阻挡层BM上。
第二绝缘层TS-IL2的一个表面可以通过由光阻挡层BM限定的开口而暴露。滤色器CF1、CF2和CF3可以设置在通过光阻挡层BM限定的开口中。在这种情况下，滤色器CF1、CF2和CF3可以直接接触开口中的第二绝缘层TS-IL2。此外，滤色器CF1、CF2和CF3可以从开口的边缘延伸到光阻挡层BM的上表面，并且直接接触光阻挡层BM的上表面。
滤色器CF1、CF2和CF3可以与像素PX的发射层EML叠置。
例如，第一滤色器CF1可以是与第一子像素的发射层EML1叠置的绿色滤色器，第二滤色器CF2可以是与第二子像素的发射层EML2叠置的蓝色滤色器，第三滤色器CF3可以是与第三子像素的发射层EML3叠置的红色滤色器。
如图8B和图8C中所示，由于光阻挡层BM和滤色器CF1、CF2和CF3设置在第二绝缘层TS-IL2上，因此在光阻挡层BM与滤色器CF1、CF2和CF3上形成高度的阶梯差。因此，抗反射层RFL可以包括外涂层OC以使光阻挡层BM与滤色器CF1、CF2和CF3上的阶梯差平坦化。外涂层OC可以是由诸如丙烯酸类树脂、环氧类树脂或聚酰亚胺类树脂的有机材料形成的有机膜。
外涂层OC可以在厚度方向DR3上与整个显示区域DA叠置，并且可以在厚度方向DR3上与非显示区域NDA的一部分叠置。例如，外涂层OC可以在厚度方向DR3上与第一第一坝部DMP1-1的一部分叠置。外涂层OC可以接触光阻挡层BM、滤色器CF1、CF2和CF3以及第二绝缘层TS-IL2。根据示例性实施例，外涂层OC的厚度可以为约5μm至30μm。例如，外涂层OC的厚度是指第二绝缘层TS-IL2的上表面与外涂层OC的上表面之间的最短距离。
外涂层OC可以包括多个散射体SCT(诸如光散射元件)。散射体SCT可以散射入射在外涂层OC上的光，以增大从外涂层OC发射的光量。例如，散射体SCT可以散射入射在外涂层OC上的光，使得前亮度和侧面亮度基本均匀。散射体SCT可以包括选自TiO2、Al2O3和SiO2中的至少一种，但是示例性实施例不限于此。
显示面板DP可以包括至少一个第二坝部DMP2。例如，显示面板DP可以包括两个第二坝部DMP2-1和DMP2-2。
第一第二坝部DMP2-1和第二第二坝部DMP2-2可以设置在非显示区域NDA中，而不设置在垫区域NDA-PD中。例如，第一第二坝部DMP2-1可以在厚度方向DR3上与第一第一坝部DMP1-1叠置，并且第二第二坝部DMP2-2可以在厚度方向DR3上与第二第一坝部DMP1-2叠置。
第二坝部DMP2可以具有包括至少两个层的多层结构。例如，如图8A至图8C中所示，第二坝部DMP2可以由四个层形成。第二坝部DMP2可以由与光阻挡层BM和滤色器CF1、CF2和CF3中的至少一者相同的材料形成。
在抗反射层RFL的光阻挡层BM和滤色器CF1、CF2和CF3的图案化工艺期间，可以同时形成第二坝部DMP2。第一层DM6和DM10可以与光阻挡层BM由相同的材料同时形成。第二层DM7和DM11可以与第一滤色器CF1由相同的材料同时形成。第三层DM8和DM12可以与第二滤色器CF2由相同的材料同时形成。第四层DM9和DM13可以与第三滤色器CF3由相同的材料同时形成。
在形成外涂层OC的工艺中，第二坝部DMP2可以防止液体有机材料扩散或者泄漏到第一中间无机膜10和第二中间无机膜20的外部，并且防止液体有机材料覆盖垫区域NDA-PD。可以通过喷墨方法在第二绝缘层TS-IL2上形成液体有机材料来实现外涂层OC。在这种情况下，第二坝部DMP2可以设定或者限定设置有液体有机材料的区域的边界。
在形成作为设置有液体有机材料的区域的边界的第二坝部DMP2之后，通过喷墨方法来形成外涂层OC。因此，通过形成第二坝部DMP2减少了用于形成抗反射层RFL的掩模工艺的数量。
在下文中，将描述其它示例性实施例。在下面的示例性实施例中，将省略或者简化与已经描述的实施例相同的构造，并且将主要描述差异，以避免冗余。
图9是图2的触摸感测单元TS的另一示例性实施例的平面图。图10是沿着图9的线II-II’截取的剖视图。
图9和图10与图6B的实施例的不同之处在于：第二坝部DMP2设置为不与第一坝部DMP1叠置。
具体地，根据该示例性实施例，显示面板DP可以包括至少一个第一坝部DMP1。例如，显示面板DP可以包括两个第一坝部DMP1-1和DMP1-2。第一第一坝部DMP1-1可以沿着显示区域DA的边缘延伸。第一第一坝部DMP1-1可以围绕显示区域DA。第二第一坝部DMP1-2可以沿着第一第一坝部DMP1-1的边缘延伸。第二第一坝部DMP1-2可以围绕第一第一坝部DMP1-1。可以与垫区域NDA-PD基本平行地设置第一坝部DMP1的一部分。
此外，显示面板DP可以包括至少一个第二坝部DMP2。例如，显示面板DP可以包括两个第二坝部DMP2-1和DMP2-2。
第一第二坝部DMP2-1和第二第二坝部DMP2-2可以在第一坝部DMP1与垫区域NDA-PD之间设置在非显示区域NDA中。例如，第二坝部DMP2可以设置为在厚度方向DR3上不与第一坝部DMP1叠置。第一第二坝部DMP2-1可以沿着第二第一坝部DMP1-2的边缘延伸。第一第二坝部DMP2-1可以围绕第二第一坝部DMP1-2。第二第二坝部DMP2-2可以沿着第一第二坝部DMP2-1的边缘延伸。第二第二坝部DMP2-2可以围绕第一第二坝部DMP2-1。
外涂层OC可以在厚度方向DR3上与整个显示区域DA叠置，并且可以在厚度方向DR3上与非显示区域NDA的一部分叠置。例如，外涂层OC可以在厚度方向DR3上与第一第一坝部DMP1-1和第二第一坝部DMP1-2叠置。外涂层OC可以接触光阻挡层BM、滤色器CF1、CF2和CF3以及第二绝缘层TS-IL2。根据示例性实施例，外涂层OC的厚度可以为约5μm至30μm。例如，外涂层OC的厚度是指第二绝缘层TS-IL2的上表面与外涂层OC的上表面之间的最短距离。
图11A和图11B是根据发明的原理构造的显示装置DD的另一示例性实施例的透视图。图12是图11A和图11B的触摸感测单元TS的平面图。图13是沿着图12的线II-II’截取的剖视图。
图11A至图13与图6B的实施例的不同之处在于：图11A至图13的实施例包括可弯曲区域。
具体地，显示装置DD可以是基本平坦的刚性显示装置。在这种情况下，显示装置DD可以包括刚性基底。刚性基底可以由玻璃、石英、铝硅酸盐、硼硅酸盐、硼铝硅酸盐中的至少一种材料形成。
显示装置DD包括第一不可弯曲区域NBA1、在第一方向DR1上与第一不可弯曲区域NBA1间隔开的第二不可弯曲区域NBA2以及限定在第一不可弯曲区域NBA1与第二不可弯曲区域NBA2之间的可弯曲区域BA。显示区域DD-DA可以被包括在第一不可弯曲区域NBA1中。非显示区域DD-NDA的部分与第二不可弯曲区域NBA2和可弯曲区域BA分别对应，并且非显示区域DD-NDA的与显示区域DD-DA相邻的部分被包括在第一不可弯曲区域NBA1中。
可弯曲区域BA可以弯曲，使得弯曲轴BX被限定为沿着与第一方向DR1正交的第二方向DR2。第二不可弯曲区域NBA2面向第一不可弯曲区域NBA1。可弯曲区域BA和第二不可弯曲区域NBA2可以具有比第一不可弯曲区域NBA1的在第二方向DR2上的宽度小的在第二方向DR2上的宽度。例如，图1中所示的显示装置DD也可以包括与可弯曲区域BA对应的可弯曲区域。
在一个方向(例如，第二方向DR2)上，可弯曲区域BA的宽度和第二不可弯曲区域NBA2的宽度可以比第一不可弯曲区域NBA1的宽度小。
暴露基体层SUB的非显示区域NDA的凹槽GRV可以被限定在可弯曲区域BA的缓冲膜BFL以及第一中间无机膜10和第二中间无机膜20中。虚设有机图案DOP可以设置在凹槽GRV内部。当在可弯曲区域BA中去除无机膜时，可以减小可弯曲区域BA的应力，并且可以防止第一中间无机膜10和第二中间无机膜20的裂纹。
尽管这里已经描述了一些示例性实施例和实施方式，但是根据该描述，其它实施例和修改将是清楚的。因此，发明构思不限于这样的实施例，而是限于所附权利要求以及如对于本领域普通技术人员将是明显的各种明显的修改和等同布置的更宽范围。

Claims (20)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：
第一层，具有包括像素的显示区域和围绕所述显示区域的非显示区域；
第二层，设置在所述第一层上，并且包括中间无机膜和中间有机膜，所述中间无机膜与所述显示区域和所述非显示区域叠置，所述中间有机膜设置在所述中间无机膜上并且将所述中间无机膜的在所述非显示区域中的一部分暴露；
第三层，设置在所述第二层上，并且在所述显示区域中包括显示元件；
第一坝结构，设置在所述中间有机膜的边缘外部，并且沿着所述中间有机膜的所述边缘延伸；
第四层，包括第一封装无机膜和第二封装无机膜以及封装有机膜，所述第一封装无机膜和所述第二封装无机膜与所述第三层和所述第一坝结构叠置，所述封装有机膜置于所述第一封装无机膜与所述第二封装无机膜之间并且具有与所述第一坝结构的侧部相邻的端部部分；
第五层，设置在所述第四层上；
第六层，设置在所述第五层上，并且包括光阻挡层、多个滤色器和覆盖所述光阻挡层和所述多个滤色器的第七层；以及
第二坝结构，设置在所述非显示区域上，并且限定所述第七层的边界，
其中，所述第二坝结构由与所述光阻挡层和所述多个滤色器中的至少一者相同的材料形成。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第二层是电路元件层，并且包括电连接到所述显示元件的信号线和连接到所述信号线的端部的信号垫，并且
所述非显示区域具有其中设置有所述信号垫的垫区域。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第一坝结构的一部分和所述第二坝结构的一部分设置为与所述垫区域平行。
4.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第二坝结构设置在所述显示区域与所述垫区域之间。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述第一坝结构包括第一坝部，并且所述第二坝结构包括与所述第一坝部叠置的第二坝部。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述像素中的每个像素包括：
第一子像素，用于发射第一颜色光；
第二子像素，用于发射第二颜色光；以及
第三子像素，用于发射第三颜色光，并且
其中，所述滤色器包括：
第一滤色器，与所述第一子像素叠置；
第二滤色器，与所述第二子像素叠置；以及
第三滤色器，与所述第三子像素叠置。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述第二坝结构包括第八层、第九层、第十层和第十一层，并且其中：
所述第八层与所述光阻挡层由相同的材料同时形成，
所述第九层与所述第一滤色器由相同的材料同时形成，
所述第十层与所述第二滤色器由相同的材料同时形成，并且
所述第十一层与所述第三滤色器由相同的材料同时形成。
8.根据权利要求6或7所述的显示装置，其中，所述第一滤色器是绿色滤色器，所述第二滤色器是蓝色滤色器，所述第三滤色器是红色滤色器。
9.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第七层是外涂层，所述外涂层还包括由选自TiO2、Al2O3和SiO2中的至少一种形成的散射体。
10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第三层包括显示元件层，所述显示元件层还包括像素限定膜，所述像素限定膜具有限定发射区域的开口。
11.根据权利要求10所述的显示装置，所述显示装置还包括：
间隔件，从所述像素限定膜在厚度方向上突出，
其中，所述第一坝结构包括第八层和第九层，所述第八层与所述像素限定膜由相同的材料同时形成，所述第九层与所述间隔件由相同的材料同时形成。
12.根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述光阻挡层在厚度方向上与所述像素限定膜叠置。
13.根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述光阻挡层在一个方向上在其端部之间具有第一宽度，所述像素限定膜在所述一个方向上在其端部之间具有第二宽度，并且所述第一宽度比所述第二宽度小。
14.根据权利要求10至13中的任一项所述的显示装置，其中，所述像素限定膜包括光吸收材料，并且
所述光吸收材料包括选自碳基黑色颜料、铬、钼、钼和钛的合金、钨、钒、铌、钽、锰、钴和镍中的至少一种。
15.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述中间有机膜包括：第一中间有机膜，设置在所述中间无机膜上；以及第二中间有机膜，设置在所述第一中间有机膜上。
16.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述非显示区域包括第一不可弯曲区域、第二不可弯曲区域和可弯曲区域，所述第二不可弯曲区域在第一方向上与所述第一不可弯曲区域间隔开，所述可弯曲区域被限定在所述第一不可弯曲区域与所述第二不可弯曲区域之间，并且
其中，所述可弯曲区域被弯曲，使得弯曲轴被限定为沿着与所述第一方向正交的第二方向。
17.根据权利要求16所述的显示装置，其中，所述中间无机膜具有暴露所述第一层的所述非显示区域的一部分的凹槽，并且虚设有机图案设置在所述凹槽内部。
18.根据权利要求16所述的显示装置，其中，所述第二层是电路元件层，并且包括电连接到所述显示元件的信号线和连接到所述信号线的端部的信号垫，并且
所述第二不可弯曲区域包括其中设置有所述信号垫的垫区域。
19.根据权利要求18所述的显示装置，其中，所述第二坝结构设置在所述第一不可弯曲区域中。
20.根据权利要求16至19中的任一项所述的显示装置，其中，所述第一坝结构包括第一坝部，并且所述第二坝结构包括与所述第一坝部叠置的第二坝部。
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