CN113192426A - 显示面板、显示模组及电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请主要是涉及显示面板、显示模组及电子设备，显示面板划分为显示区和围绕显示区的非显示区，显示区内层叠设置有像素驱动层和与像素驱动层电性连接的发光层，非显示区内设置有与像素驱动层电性连接的第一金属走线层和覆盖第一金属走线层的第一光阻层。本申请提供的显示面板通过第一光阻层能够遮蔽第一金属走线层，使得第一金属走线层难以显露，并在显示面板与透明盖板贴合时能够代替相关技术中的油墨层，进而取消油墨，使得油墨层引起的段差、贴合公差等也随之得以消除。

Description

显示面板、显示模组及电子设备

技术领域

本申请涉及电子设备的技术领域，具体是涉及显示面板、显示模组及电子设备。

背景技术

随着电子设备的不断普及，电子设备已经成为人们日常生活中不可或缺的社交、娱乐工具，人们对于电子设备的要求也越来越高。

发明内容

本申请实施例提供了一种显示面板，其中，显示面板划分为显示区和围绕显示区的非显示区，显示区内层叠设置有像素驱动层和与像素驱动层电性连接的发光层，非显示区内设置有与像素驱动层电性连接的第一金属走线层和覆盖第一金属走线层的第一光阻层。

本申请实施例提供了一种显示模组，其中，显示模组包括透明盖板、胶层和上述实施例所述的显示面板，显示面板通过胶层与透明盖板连接，发光层相较于像素驱动层更靠近透明盖板。

本申请实施例提供了一种电子设备，电子设备包括壳体和上述实施例所述的显示模组，显示模组与壳体连接。

本申请的有益效果是：本申请提供的显示面板通过第一光阻层能够遮蔽第一金属走线层，使得第一金属走线层难以显露，并在显示面板与透明盖板贴合时能够代替相关技术中的油墨层，进而取消油墨，使得油墨层引起的段差、贴合公差等也随之得以消除。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请提供的电子设备一实施例的分解结构示意图；

图2是图1中显示模组一实施例的层叠结构示意图；

图3是图2中显示面板一实施例的层叠结构示意图；

图4是图3中像素控制层一实施例的层叠结构示意图；

图5是图3中发光层一实施例的层叠结构示意图；

图6是图2中显示面板另一实施例的层叠结构示意图；

图7是图1中显示模组另一实施例的层叠结构示意图；

图8是图7中胶层一实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本申请作进一步的详细描述。特别指出的是，以下实施例仅用于说明本申请，但不对本申请的范围进行限定。同样的，以下实施例仅为本申请的部分实施例而非全部实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本申请所描述的实施例可以与其他实施例相结合。

共同参阅图1及图2，图1是本申请提供的电子设备一实施例的分解结构示意图，图2是图1中显示模组一实施例的层叠结构示意图。

本申请中，电子设备10可以是手机、平板电脑、笔记本电脑、可穿戴设备等便携装置。其中，本实施例以电子设备10为手机为例进行示例性的说明。

结合图1，电子设备10可以包括显示模组11、中框12和后盖13。其中，显示模组11和后盖13可以分别设置在中框12的相对两侧，并可以通过卡接、胶接、焊接、螺纹连接等组装方式中的一种或其组合与中框12组装连接，以形成显示模组11与后盖13一同夹持中框12的基本结构。基于此，本申请所述的壳体可以包括中框12和后盖13，两者可以为一体连接的结构件；该壳体可以与显示模组11连接。进一步地，显示模组11与后盖13之间还可以形成一具有一定容积的腔体(图1中未示出)，该腔体可以用于设置摄像头模组14、主板15、电池16等结构件，以使得电子设备10能够实现相应的功能。其中，显示模组11、摄像头模组14等结构件可以通过柔性电路板(Flexible Printed Circuit,FPC)分别与主板15、电池16等电性连接，以使得它们能够得到电池16的电能供应，并能够在主板15的控制下执行相应的指令。

本申请中，显示模组11可以是LCD(Liquid Crystal Display)这类显示屏，也可以是OLED(Organic Light-Emitting Diode)、QLED(Quantum Dot Light Emitting Diode)这类显示屏，还可以是Mini-LED、Micro-LED这类显示屏。其中，本实施例以显示模组11为OLED这类显示屏为例进行示例性的说明。

结合图2，显示模组11可以包括层叠设置的透明盖板111和显示面板112，显示面板112可以通过胶层113与透明盖板111连接。其中，胶层113可以为光学胶(Optically ClearAdhesive,OCA)、压敏胶(Pressure Sensitive Adhesive,PSA)等胶体。进一步地，显示模组11还可以包括光学膜片114，光学膜片114可以夹设在透明盖板111与显示面板112之间，也可以直接形成在透明盖板111靠近显示面板112的一侧。其中，本实施例以光学膜片114通过光学胶、压敏胶等胶体(图2中未示出)与显示面板112胶接，并通过胶层113与透明盖板111胶接为例进行示例性的说明。如此，透明盖板111可以主要是用于保护显示面板112，并作为电子设备10的外表面，以便于用户进行点击、按压、滑动等触控操作。因此，透明盖板111可以为强化玻璃等刚性基体，也可以是聚酰亚胺(Polyimide,PI)膜、无色聚酰亚胺(Colorless Polyimide,CPI)膜、超薄柔性玻璃(Ultra Thin Glass,UTG)等柔性基体。进一步地，显示面板112可以主要是用于显示画面，并作为用户与电子设备10之间的交互界面，以引导用户进行前述触控操作。其中，光学膜片114可以包括层叠设置的偏光片和1/4波长相位膜(图2中均未示出)，也即是光学膜片114可以为圆偏光片，主要是用于消除环境光照射到显示面板112之后的反射光，从而增加显示模组11的对比度。进一步地，显示模组11还可以包括层叠设置在显示面板112背离透明盖板111一侧的散热膜115，例如铜箔，以便于对显示模组11进行散热。

进一步地，显示面板112一般可以划分为显示区(Active Area,AA)和围绕显示区的非显示区(Non-active Area,NA)；显示区主要是用于显示画面，非显示区主要是用于设置显示面板112的金属走线，后文中会进行示例性的说明。其中，由于金属一般具有较高的反射率，使得显示模组11的边缘一般需要设置油墨层116，例如油墨层116丝印在透明盖板111的边缘，以遮蔽前述金属走线而避免用户看到，进而改善显示模组11的外观品质，还可以避免显示模组11的边缘反光。除此之外，油墨层116还可以用于遮蔽显示模组11的边缘漏光。基于此，由于油墨层116具有一定的厚度，使得胶层113需要吸收油墨层116的厚度所带来的段差，导致胶层113的厚度较厚。不仅如此，受制于贴合精度，上述各个膜层之间可能存在一定的贴合公差，导致显示模组11的边缘出现黑边过大、漏光等不良现象，也即是不利于显示模组11的品控。对此，本申请的一个发明构思可以为：对显示面板112的结构进行相应的改进，使得非显示区的金属走线难以显露，进而能够取消油墨层116，以消除油墨层116引起的段差、贴合公差等，还能够改善显示模组11的边缘反光。

共同参阅图3至图5，图3是图2中显示面板一实施例的层叠结构示意图，图4是图3中像素控制层一实施例的层叠结构示意图，图5是图3中发光层一实施例的层叠结构示意图。

结合图3，显示区内可以层叠设置有像素驱动层1121和与像素驱动层1121电性连接的发光层1122，以便于像素驱动层1121控制发光层1122发出光线，进而使得显示面板112能够显示画面。相应地，非显示区内可以设置有与像素驱动层1121电性连接的第一金属走线层1123，第一金属走线层1123主要是用于给像素驱动层1121供电及传输控制信号。其中，由于像素驱动层1121可以包括多个阵列排布的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)，每一晶体管又具有有源层、栅极、源极、漏极等，使得第一金属走线层1123在非显示区内的排线密度非常大。当然，第一金属走线层1123也可以包括多个子走线层，本实施例并未进一步加以细分，其基本结构为本领域的技术人员所熟知，在此不再赘述。进一步地，结合图2，发光层1122相较于像素驱动层1211可以更靠近透明盖板111。

进一步地，非显示区内还设置有覆盖第一金属走线层1123的第一光阻层1124。其中，第一光阻层1124对可见光的透过率可以小于或者等于10％，使得可见光难以穿过第一光阻层1124到达第一金属走线层1123和/或第一金属走线层1123反射的可见光难以穿过第一光阻层1124，进而使得第一金属走线层1123在第一光阻层1124的遮蔽下难以显露。此时，第一光阻层1124可以代替油墨层116，进而取消油墨层116，使得油墨层116引起的段差、贴合公差等也随之得以消除。优选地，第一光阻层1124对可见光的透过率可以小于或者等于4％。在一具体实施方式中，第一光阻层1124可以为黑色有机光阻。进一步地，第一光阻层1124的厚度可以大于或者等于2μm，以更好地遮蔽第一金属走线层1123。当然，第一金属走线层1123对可见光的反射率可以小于或者等于20％，使之更易被遮蔽，更不易反光。优选地，第一金属走线层1123对可见光的反射率可以小于或者等于10％。在一具体实施方式中，第一金属走线层1123可以为TiAlTi、Mo等其他金属或其合金。

一般地，显示面板112中各个膜层的形成大多涉及沉积、显影等工序，使得第一金属走线层1123可以与像素驱动层1121中的某一层或者某几层共用同一工步。如此，既可以方便第一金属走线层1123与像素驱动层1121中每一薄膜晶体管的栅极、源极、漏极电性连接，又可以简化显示面板112的制作工艺。此时，第一金属走线层1123可以与像素驱动层1121中的某一层或者某几层同层设置。类似地，第一光阻层1124可以与像素驱动层1121中的某一层或者某几层共用同一工步，也可以与发光层1122中的某一层或者某几层共用同一工步，进而简化显示面板112的制作工艺。此时，第一光阻层1124可以与像素驱动层1121、发光层1122中的某一层或者某几层同层设置，并可以延伸至显示区内。如此，第一光阻层1124还可以遮蔽像素驱动层1121，并可以改善像素驱动层1121的反光，进而改善显示模组11的对比度。当然，第一光阻层1124也可以完全独立于像素驱动层1121和发光层1122，也即是第一光阻层1124仅存在于非显示区内。

进一步地，显示面板112还可以包括封装层1125，封装层1125可以基于薄膜封装(Thin Film Encapsulation,TFE)技术形成在发光层1122背离像素驱动层1121的一侧，以避免水氧等对发光层1122的侵蚀。其中，封装层1125可以为无机阻挡层、有机缓冲层、无机阻挡层依次交替的多层结构。

结合图5，发光层1122可以包括设置在像素驱动层1121上的像素定义层(PixelDefine Layer,PDL)和像素点(如图5中虚线框所示)。其中，像素定义层呈网格状设置，以在显示面板112的延展方向上间隔像素点，进而使得像素点呈阵列分布，也便于像素点与像素驱动层1121电性连接。

进一步地，像素点至少包括依次层叠设置的阳极金属层11221、空穴注入传输层11222、电致发光层11223、电子注入传输层11224和阴极金属层11225。其中，阳极金属层11221可以为氧化铟锡等功函数较高的物质，并可以借助物理气相沉积(Physical VaporDeposition,PVD)技术形成在像素驱动层1121上；主要是用于在显示面板112通电之后提供空穴，空穴经过空穴注入传输层11222到达电致发光层11223。阴极金属层11225可以为镁、银等功函数较低的物质，主要用于在显示面板112通电之后提供电子；电子经过电子注入传输层11224到达电致发光层11223。进一步地，电致发光层11223可以分别对应RGB子像素中的任意一个，空穴与电子结合之后释放出光能，以使得像素点发光并呈现相应的颜色。

基于上述的相关描述，并结合图5，第一光阻层1124可以包括第一子光阻层11241。其中，第一子光阻层11241可以进一步延伸至显示区内，并可以用作发光层1122的像素定义层。换言之，第一光阻层1124与像素定义层可以基于同一工序制作，而主要区别在于：第一子光阻层11241用作像素定义层的部分还需要进行显影等后续工步，以便于像素定义层呈网格状设置，并留有像素点与像素驱动层1121电性连接的开口(图5中未标注)。进一步地，第一子光阻层11241的厚度可以大于或者等于1.5μm，以兼顾像素定义层的厚度需求。

结合图4，像素驱动层1121可以包括基体层11211、阻挡层11212、有源层11213、绝缘层11214、栅极走线层11215、介电层11216和源漏极走线层11217。其中，基体层11211可以为聚酰亚胺膜、无色聚酰亚胺等柔性基体；阻挡层11212可以硅氧化合物、硅氮化合物等，并可以借助化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)技术形成在基体层11211上；主要是用于阻挡阻挡层11212两侧的膜层中原子之间的相互扩散。有源层11213可以为低温多晶硅层，并可以借助准分子激光退火(Excimer Laser Annealing,ELA)技术形成在阻挡层11212上。绝缘层11214可以为硅氧化合物、硅氮化合物等，并覆盖有源层11213。栅极走线层11215形成在绝缘层11214上，介电层11216可以为硅氧化合物、硅氮化合物等，并覆盖栅极走线层11215。进一步地，绝缘层11214和介电层11216设有通孔(图4中未标注)，以使得形成在介电层11216上的源漏极走线层11217分别通过相应的通孔与有源层11213电性连接。

进一步地，像素驱动层1121还可以包括设置在介电层11216背离基体层11211一侧的平坦层(Planar，PLN)，平坦层主要是用于覆盖源漏极走线层11217，使得像素驱动层1121朝向发光层1122的一侧尽可能地平整，以便于在其上形成像素定义层。其中，平坦层设有通孔(图4中未标注)，以使得阳极金属层11221分别通过相应的通孔与源漏极走线层11217电性连接。

基于上述的相关描述，并结合图4及图5，第一光阻层1124还可以包括第二子光阻层11242。其中，第二子光阻层11242可以进一步延伸至显示区内，并可以用作像素驱动层1121的平坦层。换言之，第一光阻层1124与平坦层可以基于同一工序制作，而主要区别在于：第二子光阻层11242用作平坦层的部分还需要进行显影等后续工步，以便于留有阳极金属层11221与源漏极走线层11217电性连接的通孔(图4中未标注)。进一步地，第二子光阻层11242的厚度可以大于或者等于1.5μm，以兼顾平坦层的厚度需求。

参阅图6，图6是图2中显示面板另一实施例的层叠结构示意图。

与上述实施例的主要区别在于：结合图6，显示区内还可以设置有位于发光层1122背离像素驱动层1121一侧的触控层1126，以使得显示面板112不仅具有显示功能，还具有触控功能。相应地，非显示区内还可以设置有与触控层1126电性连接的第二金属走线层1127，第二金属走线层1127设置在第一光阻层1124背离第一金属走线层1123一侧。其中，第二金属走线层1127主要是用于给触控层1126供电及传输触控信号。然而，由于第二金属走线层1127相较于第一金属走线层1123更靠近透明盖板111，而无法被第一光阻层1124遮蔽，使得第二金属走线层1127也需要单独地进行遮蔽处理，以避免第二金属走线层1127显露。

类似地，非显示区内还设置有覆盖第二金属走线层1127的第二光阻层1128。其中，第二光阻层1128对可见光的透过率可以小于或者等于10％，使得可见光难以穿过第二光阻层1128到达第二金属走线层1127，进而难以到达第一光阻层1124及第一金属走线层1123，和/或，第二金属走线层1127和/或第一金属走线层1123反射的可见光难以穿过第二光阻层1128，进而使得第二金属走线层1127及第一金属走线层1123在第二光阻层1128及第一光阻层1124的遮蔽下难以显露。此时，第二光阻层1128及第一光阻层1124可以代替油墨层116，进而取消油墨层116，使得油墨层116引起的段差、贴合公差等也随之得以消除。优选地，第二光阻层1128对可见光的透过率可以小于或者等于4％。在一具体实施方式中，第二光阻层1128可以为黑色有机光阻。进一步地，第二光阻层1124的厚度可以大于或者等于1.5μm，以更好地遮蔽第二金属走线层1127。当然，第二金属走线层1127对可见光的反射率可以小于或者等于20％，使之更易被遮蔽，更不易反光。优选地，第二金属走线层1127对可见光的反射率可以小于或者等于10％。在一具体实施方式中，第二金属走线层1127可以为TiAlTi、Mo等其他金属或其合金。

一般地，触控层1126中各个膜层的形成大多涉及沉积、显影等工序，使得第二金属走线层1127可以与触控层1126中的某一层或者某几层共用同一工步。如此，既可以方便第二金属走线层1127与触控层1126中触控驱动层、触控感应层电性连接，又可以简化显示面板112的制作工艺。此时，第二金属走线层1127可以与触控层1126中的某一层或者某几层同层设置。类似地，第二光阻层1128可以与触控层1126中的某一层或者某几层共用同一工步，进而简化显示面板112的制作工艺。此时，第二光阻层1128可以与触控层1126中的某一层或者某几层同层设置，并可以延伸至显示区内。如此，第二光阻层1128还可以遮蔽触控层1126，并可以改善触控层1126的反光，进而改善显示模组11的对比度。当然，第二光阻层1128也可以完全独立于触控层1126，也即是第二光阻层1128仅存在于非显示区内。

作为示例性地，触控层1126可以包括第一电极层11261、无机层11262、第二电极层11263和有机缓冲层。其中，第一电极层11261可以形成在封装层1125上；无机层11262可以为硅氧化合物、硅氮化合物等，并覆盖第一电极层11261。进一步地，第二电极层11263形成在无机层11262上，有机缓冲层覆盖第二电极层11263。其中，第一电极层11261和第二电极层11263可以分别作为触控驱动层和触控感应层，并与第二金属走线层1127电性连接，其基本结构为本领域的技术人员所熟知，在此不再赘述。

基于上述的相关描述，并结合图6，第二光阻层1128可以进一步延伸至显示区内，且位于触控层1126背离发光层1122一侧，并可以用作触控层1126的有机缓冲层。换言之，第二光阻层1128与有机缓冲层可以基于同一工序制作，而主要区别在于：第二光阻层1128用作有机缓冲层的部分还需要进行显影等后续工步，以形成与发光层1122中每一像素点分别对应的开口(图6中未标注)，进而允许发光层1122发出的光线经开口传播到显示面板112的外部(如图6中箭头所示)。进一步地，第二光阻层1128的厚度可以大于或者等于1.5μm，以兼顾有机缓冲层的厚度需求。

共同参阅图7及图8，图7是图1中显示模组另一实施例的层叠结构示意图，图8是图7中胶层一实施例的结构示意图。

与上述实施例的主要区别在于：结合图8，胶层113可以包括胶体1131和混入胶体1131的颗粒物1132。其中，胶体1131主要是用于实现显示面板112与透明盖板111之间的胶接，以确保显示模组11的可靠性；颗粒物1132主要是用于对显示面板112发出的光线进行散射(如图7中箭头所示)，以增加显示区在用户视觉上的大小。进一步地，颗粒物1132与胶体1131的质量比可以小于或者等于10％，以兼顾胶层113的胶接能力和散射能力。优选地，颗粒物1132与胶体1131的质量比可以小于或者等于4％。在一具体实施方式中，胶体1131可以为光学胶，颗粒物1132可以为粒径在纳米级的钛氧化合物。

通过上述方式，显示模组11能够取消油墨层116，使得油墨层116引起贴合公差等不良得以消除，胶层113的厚度得以减薄，例如减薄0.1mm。进一步地，基于光的散射原理，胶层113能够对显示面板112发出的光线进行散射，使得显示模组11的显示区在用户视觉上得以增加。

以上所述仅为本申请的部分实施例，并非因此限制本申请的保护范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效装置或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (11)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板划分为显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述显示区内层叠设置有像素驱动层和与所述像素驱动层电性连接的发光层，所述非显示区内设置有与所述像素驱动层电性连接的第一金属走线层和覆盖所述第一金属走线层的第一光阻层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一光阻层包括第一子光阻层，所述第一子光阻层进一步延伸至所述显示区内，并用作所述发光层的像素定义层。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一光阻层还包括与所述第一子光阻层层叠设置的第二子光阻层，所述第二子光阻层进一步延伸至所述显示区内，并用作所述像素驱动层的平坦层，所述像素定义层设置在所述平坦层上。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一光阻层的厚度大于或者等于2μm。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示区内还设置有位于所述发光层背离所述像素驱动层一侧的触控层，所述非显示区内还设置有与所述触控层电性连接的第二金属走线层和覆盖所述第二金属走线层的第二光阻层，所述第二金属走线层设置在所述第一光阻层背离所述第一金属走线层一侧。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第二光阻层进一步延伸至所述显示区内，且位于所述触控层背离所述发光层一侧，并设有与所述发光层中每一像素点分别对应的开口，以允许所述发光层发出的光线经所述开口传播到所述显示面板的外部。

7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第二光阻层的厚度大于或者等于1.5μm。

8.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属走线层和所述第二金属走线层对可见光的反射率小于或者等于20％。

9.一种显示模组，其特征在于，所述显示模组包括透明盖板、胶层和权利要求1-8任一项所述的显示面板，所述显示面板通过所述胶层与透明盖板连接，所述发光层相较于所述像素驱动层更靠近所述透明盖板。

10.根据权利要求9所述的显示模组，其特征在于，所述胶层包括胶体和混入所述胶体的颗粒物，所述颗粒物与所述胶体的质量比小于或者等于10％，并用于对所述显示面板发出的光线进行散射。

11.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括壳体和权利要求9或者10所述的显示模组，所述显示模组与所述壳体连接。

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