CN113166412A - 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜 - Google Patents
聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113166412A CN113166412A CN201980077603.2A CN201980077603A CN113166412A CN 113166412 A CN113166412 A CN 113166412A CN 201980077603 A CN201980077603 A CN 201980077603A CN 113166412 A CN113166412 A CN 113166412A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- structural unit
- mol
- polyimide
- film
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 164
- 239000002966 varnish Substances 0.000 title claims abstract description 71
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 126
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 51
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 14
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 110
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 85
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 62
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 51
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 47
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 46
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 41
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 33
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 31
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 27
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 26
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 24
- LJMPOXUWPWEILS-UHFFFAOYSA-N 3a,4,4a,7a,8,8a-hexahydrofuro[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1C2C(=O)OC(=O)C2CC2C(=O)OC(=O)C21 LJMPOXUWPWEILS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 19
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 19
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 18
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 17
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 15
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 102100031503 Barrier-to-autointegration factor-like protein Human genes 0.000 description 12
- 101000729827 Homo sapiens Barrier-to-autointegration factor-like protein Proteins 0.000 description 12
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 11
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- -1 3 ' Chemical compound 0.000 description 9
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 6
- NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenyl]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KIFDSGGWDIVQGN-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-aminophenyl)fluoren-9-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1(C=2C=CC(N)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 KIFDSGGWDIVQGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- QWBBPBRQALCEIZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C QWBBPBRQALCEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYYNAJVZFGKDEQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC(C)=C1 JYYNAJVZFGKDEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 2,5-xylenol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(O)=C1 NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 3,4-xylenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 3,5-xylenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(O)=C1 TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraglyme Chemical compound COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BEBFJOSPYYGOKL-UHFFFAOYSA-N (3-ethylphenyl)methanamine Chemical compound CCC1=CC=CC(CN)=C1 BEBFJOSPYYGOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGXUCUWVGKLACF-UHFFFAOYSA-N (3-methylphenyl)methanamine Chemical compound CC1=CC=CC(CN)=C1 RGXUCUWVGKLACF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCNBXBQGBCGTPB-UHFFFAOYSA-N (4-dodecylphenyl)methanamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(CN)C=C1 RCNBXBQGBCGTPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAGEFUEKIORSQ-UHFFFAOYSA-N (4-ethylphenyl)methanamine Chemical compound CCC1=CC=C(CN)C=C1 DGAGEFUEKIORSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMTSWYPNXFHGEP-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)methanamine Chemical compound CC1=CC=C(CN)C=C1 HMTSWYPNXFHGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGSKOGYKWHUSLC-UHFFFAOYSA-N 1-(4-aminophenyl)-1,3,3-trimethyl-2h-inden-5-amine Chemical compound C12=CC=C(N)C=C2C(C)(C)CC1(C)C1=CC=C(N)C=C1 CGSKOGYKWHUSLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUFFULVDNCHOFZ-UHFFFAOYSA-N 2,4-xylenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C)=C1 KUFFULVDNCHOFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3-(1h-imidazol-5-ylmethyl)benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(CC=2NC=NC=2)=C1O RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-methylpyridine Natural products CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLVXRPNNDKMMO-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrafluorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1C(O)=O YJLVXRPNNDKMMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UENRXLSRMCSUSN-UHFFFAOYSA-N 3,5-diaminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC(N)=CC(C(O)=O)=C1 UENRXLSRMCSUSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1 ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTEBLARUAVEBRF-UHFFFAOYSA-N 4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl)aniline Chemical compound NC1=CC=C(C(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 XTEBLARUAVEBRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWQOXRDNGHWDBS-UHFFFAOYSA-N 4-(2-phenylphenoxy)aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZWQOXRDNGHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPZRPCNEISCANI-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F JPZRPCNEISCANI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHYXYOGWAIYVBD-UHFFFAOYSA-N 4-(4-propylphenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(CCC)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KHYXYOGWAIYVBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVSOOROWXIVZSH-UHFFFAOYSA-N 4-(9H-fluoren-1-yl)-2-fluoroaniline Chemical compound NC1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC1=2)F HVSOOROWXIVZSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGVHBPPWCQVMDR-UHFFFAOYSA-N 4-(9h-fluoren-1-yl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=CC2=C1CC1=CC=CC=C21 RGVHBPPWCQVMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSDBTLHMCVFQMS-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 SSDBTLHMCVFQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRKVLGUIGNRYJX-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-amino-3-methylphenyl)fluoren-9-yl]-2-methylaniline Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 YRKVLGUIGNRYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVIPPHSQIBKWSA-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1C(O)=O DVIPPHSQIBKWSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-M 4-hydroxybenzoate Chemical compound OC1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APZQJHBPRHHRBX-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-aminophenyl)benzene-1,4-dicarboxamide Chemical compound C1=CC(C(=O)N)=CC=C1C(=O)NC1=CC=C(N)C=C1 APZQJHBPRHHRBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 4415-87-6 Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1C(=O)OC(=O)C12 YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 241000202785 Calyptronoma Species 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- ZPAKUZKMGJJMAA-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)CC1C(O)=O ZPAKUZKMGJJMAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N N-methylcaprolactam Chemical compound CN1CCCCCC1=O ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCCC(CN)C1 QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000003660 carbonate based solvent Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- ILUAAIDVFMVTAU-UHFFFAOYSA-N cyclohex-4-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC=CCC1C(O)=O ILUAAIDVFMVTAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASJCSAKCMTWGAH-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC1C(O)=O ASJCSAKCMTWGAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000006081 fluorescent whitening agent Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000001641 gel filtration chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXHDAWYDNSXJQM-ONEGZZNKSA-N trans-hex-3-enoic acid Chemical compound CC\C=C\CC(O)=O XXHDAWYDNSXJQM-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000326 ultraviolet stabilizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1042—Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1046—Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
- C08G73/1064—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D179/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
- C09D179/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C09D179/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
- C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
一种聚酰亚胺树脂、以及包含该聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜,所述聚酰亚胺树脂具有源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B,结构单元A包含源自下述式(a‑1)所示的化合物的结构单元(A‑1)、源自下述式(a‑2)所示的化合物的结构单元(A‑2),结构单元B包含源自下述式(b‑1)所示的化合物的结构单元(B‑1),结构单元B中的结构单元(B‑1)的比率为70摩尔%以上。
Description
技术领域
本发明涉及聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜。
背景技术
正在研究聚酰亚胺树脂在电气/电子部件等领域中的各种利用。例如,以装置的轻量化、挠性化为目的,期望用塑料基板代替液晶显示器、OLED显示器等图像显示装置中使用的玻璃基板,正在进行适于作为该塑料基板的聚酰亚胺薄膜的研究。
图像显示装置中,由显示元件发出的光通过塑料基板射出时,对塑料基板要求无色透明性,进而,光通过相位差薄膜、偏光板时(例如,液晶显示器、触摸面板等),除无色透明性外,还要求光学各向同性高(即,Rth低)。
为了满足像上述的要求性能,对各种聚酰亚胺树脂进行开发。例如,作为提供无色透明且Rth低、韧性优异的聚酰亚胺薄膜的聚酰亚胺树脂,专利文献1记载了将3,3’-二氨基二苯基砜(第一二胺)和4,4’-二氨基二苯基砜等特定的二胺(第二二胺)的组合用于二胺成分而制造的聚酰亚胺树脂。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2016/158825号
发明内容
发明要解决的问题
然而,为了使聚酰亚胺薄膜适于基板,不仅是无色透明性及光学各向同性,而且耐化学药品性(耐溶剂性、耐酸性及耐碱性)也是重要的物性。
例如,为了在聚酰亚胺薄膜上形成其他树脂层(例如,滤色片、抗蚀层)而将该树脂层形成用的清漆涂布在聚酰亚胺薄膜上时,对聚酰亚胺薄膜要求对于该清漆中包含的溶剂的耐性。聚酰亚胺薄膜的耐溶剂性不充分时,有由于薄膜的溶解、溶胀导致其失去作为基板的意义的担忧。
另外,将聚酰亚胺薄膜用作ITO(Indium Tin Oxide)膜形成用的基板时,对聚酰亚胺薄膜要求对于ITO膜的蚀刻中使用的酸的耐性。聚酰亚胺薄膜的耐酸性不充分时,有薄膜黄变而无色透明性受损的担忧。
另外,制造聚酰亚胺薄膜时使用的玻璃板等支撑体(涂布聚酰亚胺清漆的支撑体)的清洗中,主要使用氢氧化钠水溶液、氢氧化钾水溶液等碱水溶液。基于碱水溶液的清洗有也以在玻璃板等支撑体上制膜有聚酰亚胺薄膜的状态进行的可能性。因此,对聚酰亚胺薄膜还要求对于碱的耐性。
然而,专利文献1中,未对耐化学药品性进行评价。
本发明是鉴于这样的状況而做出的,本发明的课题在于提供:能够形成无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性(耐溶剂性、耐酸性及耐碱性)优异的薄膜的聚酰亚胺树脂、以及包含该聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜。
用于解决问题的方案
本发明人等发现:包含特定的结构单元的组合的聚酰亚胺树脂可以解决上述课题,从而完成了发明。
即,本发明涉及下述的[1]~[4]。
[1]
一种聚酰亚胺树脂,其具有源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B,
结构单元A包含源自下述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1)和源自下述式(a-2)所示的化合物的结构单元(A-2),
结构单元B包含源自下述式(b-1)所示的化合物的结构单元(B-1),
结构单元B中的结构单元(B-1)的比率为70摩尔%以上。
[2]
根据上述[1]所述的聚酰亚胺树脂,其中,
结构单元A中的结构单元(A-1)的比率为5~95摩尔%,
结构单元A中的结构单元(A-2)的比率为5~95摩尔%。
[3]
一种聚酰亚胺清漆,其是由上述[1]或[2]所述的聚酰亚胺树脂溶解在有机溶剂中而成的。
[4]
一种聚酰亚胺薄膜,其包含上述[1]或[2]所述的聚酰亚胺树脂。
发明的效果
通过本发明,可以形成无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性(耐溶剂性、耐酸性及耐碱性)优异的薄膜。
具体实施方式
[聚酰亚胺树脂]
本发明的聚酰亚胺树脂具有源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B,结构单元A包含源自下述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1)和源自下述式(a-2)所示的化合物的结构单元(A-2),结构单元B包含源自下述式(b-1)所示的化合物的结构单元(B-1),结构单元B中的结构单元(B-1)的比率为70摩尔%以上。
<结构单元A>
结构单元A为聚酰亚胺树脂中的源自四羧酸二酐的结构单元,包含源自下述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1)和源自下述式(a-2)所示的化合物的结构单元(A-2)。
式(a-1)所示的化合物为1,2,4,5-环己烷四羧酸二酐。
式(a-2)所示的化合物为4,4’-氧双邻苯二甲酸酐。
结构单元A通过包含结构单元(A-1)和结构单元(A-2)这两者,可以使薄膜的无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性提高。结构单元(A-1)特别有助于无色透明性及光学各向同性的提高,结构单元(A-2)特别有助于耐化学药品性的提高。
结构单元A中的结构单元(A-1)的比率优选为5~95摩尔%,更优选为15~95摩尔%,从使薄膜的无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性提高的观点来看,进一步优选为20~90摩尔%,特别优选为50~90摩尔%。另一方面,特别是从光学各向同性和耐酸性的观点来看,进一步优选为70~95摩尔%,特别优选为85~95摩尔%。
结构单元A中的结构单元(A-2)的比率优选为5~95摩尔%,更优选为5~85摩尔%,从使薄膜的无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性提高的观点来看,进一步优选为10~80摩尔%,特别优选为10~50摩尔%。另一方面,特别是从光学各向同性和耐酸性的观点来看,进一步优选为5~30摩尔%,特别优选为5~15摩尔%。
结构单元A中的结构单元(A-1)及(A-2)的总计的比率优选为50摩尔%以上,更优选为70摩尔%以上,进一步优选为90摩尔%以上,特别优选为99摩尔%以上。结构单元(A-1)及(A-2)的总计的比率的上限值并无特别限定,即,为100摩尔%。结构单元A也可仅包含结构单元(A-1)和结构单元(A-2)。
结构单元A也可包含结构单元(A-1)及(A-2)以外的结构单元。作为提供这样的结构单元的四羧酸二酐,并无特别限定,可举出均苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐、9,9’-双(3,4-二羧基苯基)芴二酐、及4,4’-(六氟异亚丙基)二苯二甲酸酐等芳香族四羧酸二酐(其中,式(a-2)所示的化合物除外);1,2,3,4-环丁烷四羧酸二酐及降冰片烷-2-螺-α-环戊酮-α’-螺-2”-降冰片烷-5,5”,6,6”-四羧酸二酐等脂环式四羧酸二酐(其中,式(a-1)所示的化合物除外);及1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐等脂肪族四羧酸二酐。
需要说明的是,本说明书中,芳香族四羧酸二酐是指包含1个以上芳香环的四羧酸二酐,脂环式四羧酸二酐是指包含1个以上脂环、且不包含芳香环的四羧酸二酐,脂肪族四羧酸二酐是指不包含芳香环和脂环的四羧酸二酐。
结构单元A中任选包含的结构单元(即,结构单元(A-1)及(A-2)以外的结构单元)任选1种或2种以上。
<结构单元B>
结构单元B为聚酰亚胺树脂中的源自二胺的结构单元,包含源自下述式(b-1)所示的化合物的结构单元(B-1)。
式(b-1)所示的化合物为3,3’-二氨基二苯基砜。
通过使结构单元B包含结构单元(B-1),可以使薄膜的光学各向同性及耐化学药品性提高。其中,可以使耐酸性提高。
结构单元B中的结构单元(B-1)的比率为70摩尔%以上。该比率优选为75摩尔%以上,更优选为80摩尔%以上。结构单元(B-1)的比率的上限值可以为90摩尔%,可以为95摩尔%,可以为99摩尔%,可以为100摩尔%。结构单元B也可仅包含结构单元(B-1)。
通过使结构单元B在结构单元B中包含70摩尔%以上的结构单元(B-1),可以维持薄膜的耐化学药品性,并且均匀地溶解在后述的聚酰亚胺清漆使用的有机溶剂中。因此,认为得到的薄膜的无色透明性也优异。
结构单元B也可包含结构单元(B-1)以外的结构单元。作为提供这样的结构单元的二胺,并无特别限定,可举出1,4-苯二胺、对二亚甲苯二胺、3,5-二氨基苯甲酸、1,5-二氨基萘、2,2’-二甲基联苯-4,4’-二胺、2,2’-双(三氟甲基)联苯胺、4,4’-二氨基二苯基醚、4,4’-二氨基二苯甲烷、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷、4,4’-二氨基二苯基砜、4,4’-二氨基苯甲酰苯胺、1-(4-氨基苯基)-2,3-二氢-1,3,3-三甲基-1H-茚-5-胺、α,α’-双(4-氨基苯基)-1,4-二异丙基苯、N,N’-双(4-氨基苯基)对苯二甲酰胺、4,4’-双(4-氨基苯氧基)联苯、2,2-双〔4-(4-氨基苯氧基)苯基〕丙烷、2,2-双(4-(4-氨基苯氧基)苯基)六氟丙烷、9,9-双(4-氨基苯基)芴、及4,4’-二氨基-2,2’-双三氟甲基二苯基醚等芳香族二胺(其中,式(b-1)所示的化合物除外);1,3-双(氨基甲基)环己烷及1,4-双(氨基甲基)环己烷等脂环式二胺;以及乙二胺及六亚甲基二胺等脂肪族二胺。
需要说明的是,本说明书中,芳香族二胺是指包含1个以上芳香环的二胺,脂环式二胺是指包含1个以上脂环、且不包含芳香环的二胺,脂肪族二胺是指不包含芳香环和脂环的二胺。
结构单元B中任选包含的结构单元(即,结构单元(B-1)以外的结构单元)任选1种或2种以上。
作为提供结构单元B中任选包含的结构单元的二胺,优选下述式(b-2-1)所示的化合物、下述式(b-2-2)所示的化合物、下述式(b-2-3)所示的化合物、及下述式(b-2-4)所示的化合物。即,本发明的一个方式的聚酰亚胺树脂中,结构单元B也可包含选自由源自下述式(b-2-1)所示的化合物的结构单元(B-2-1)、源自下述式(b-2-2)所示的化合物的结构单元(B-2-2)、源自下述式(b-2-3)所示的化合物的结构单元(B-2-3)、及源自下述式(b-2-4)所示的化合物的结构单元(B-2-4)组成的组中的至少1种结构单元(B-2)。
(式(b-2-2)中,R分别独立地为氢原子、氟原子或甲基。)
式(b-2-1)所示的化合物为4,4’-二氨基-2,2’-双三氟甲基二苯基醚。
通过使结构单元B包含结构单元(B-2-1),可以使薄膜的无色透明性提高。
式(b-2-2)中,R分别独立地为氢原子、氟原子、或甲基,优选氢原子。作为式(b-2-2)所示的化合物,可举出9,9-双(4-氨基苯基)芴、9,9-双(3-氟-4-氨基苯基)芴、及9,9-双(3-甲基-4-氨基苯基)芴等,优选9,9-双(4-氨基苯基)芴。
通过使结构单元B包含结构单元(B-2-2),可以使薄膜的光学各向同性及耐热性提高。
式(b-2-3)所示的化合物为2,2-双(4-(4-氨基苯氧基)苯基)六氟丙烷。
通过使结构单元B包含结构单元(B-2-3),可以使薄膜的无色透明性和光学各向同性提高。
式(b-2-4)所示的化合物为2,2’-双(三氟甲基)联苯胺。
通过使结构单元B包含结构单元(B-2-4),可以使薄膜的无色透明性、耐化学药品性、耐热性及机械特性提高。
从使薄膜的各种性能提高的观点来看,结构单元B优选包含选自由源自式(b-2-1)所示的化合物的结构单元(B-2-1)、源自式(b-2-2)所示的化合物的结构单元(B-2-2)、源自式(b-2-3)所示的化合物的结构单元(B-2-3)、及源自式(b-2-4)所示的化合物的结构单元(B-2-4)组成的组中的至少1种作为结构单元(B-2),特别是从使薄膜的无色透明性和光学各向同性提高的观点来看,结构单元B优选包含源自式(b-2-3)所示的化合物的结构单元(B-2-3)。
结构单元B包含结构单元(B-1)及结构单元(B-2)时,结构单元B中的结构单元(B-1)的比率优选为70~95摩尔%,更优选为75~95摩尔%,进一步优选为75~90摩尔%,结构单元B中的结构单元(B-2)的比率优选为5~30摩尔%,更优选为5~25摩尔%,进一步优选为10~25摩尔%。
结构单元B中的结构单元(B-1)和结构单元(B-2)的总计的比率优选为75摩尔%以上,更优选为80摩尔%以上,进一步优选为90摩尔%以上,特别优选为99摩尔%以上。结构单元(B-1)和结构单元(B-2)的总计的比率的上限值并无特别限定,即,为100摩尔%。结构单元B也可仅包含结构单元(B-1)和结构单元(B-2)。
结构单元(B-2)可以仅为结构单元(B-2-1),可以仅为结构单元(B-2-2),可以仅为结构单元(B-2-3),或可以仅为结构单元(B-2-4)。
另外,结构单元(B-2)也可以为选自由结构单元(B-2-1)~(B-2-4)组成的组中的2种以上结构单元的组合。
从得到的聚酰亚胺薄膜的机械强度的观点来看,本发明的聚酰亚胺树脂的数均分子量优选为5000~200000。需要说明的是,聚酰亚胺树脂的数均分子量例如可以通过基于凝胶过滤色谱测定的标准聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)换算值求出。
本发明的聚酰亚胺树脂也可包含除聚酰亚胺链(结构单元A与结构单元B进行酰亚胺键合而成的结构)以外的结构。作为聚酰亚胺树脂中可以包含的聚酰亚胺链以外的结构,可举出例如包含酰胺键的结构等。
本发明的聚酰亚胺树脂优选包含聚酰亚胺链(结构单元A与结构单元B进行酰亚胺键合而成的结构)作为主要结构。因此,本发明的聚酰亚胺树脂中的聚酰亚胺链的比率优选为50质量%以上,更优选为70质量%以上,进一步优选为90质量%以上,特别优选为99质量%以上。
通过使用本发明的聚酰亚胺树脂,可以形成无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性优异的薄膜,该薄膜具有的优选物性值如下。
制成厚度10μm的薄膜时,总透光率优选为88%以上,更优选为88.5%以上,进一步优选为89%以上。
制成厚度10μm的薄膜时,黄色指数(YI)优选为4.0以下,更优选为2.5以下,进一步优选为2.0以下。
制成厚度10μm的薄膜时,b*优选为2.0以下,更优选为1.2以下,进一步优选为1.0以下。
制成厚度10μm的薄膜时,厚度相位差(Rth)的绝对值优选为70nm以下,更优选为60nm以下,进一步优选为50nm以下。
制成厚度10μm的薄膜时,混酸ΔYI优选为1.5以下,更优选为1.3以下,进一步优选为1.0以下。
制成厚度10μm的薄膜时,混酸Δb*优选为0.8以下,更优选为0.6以下,进一步优选为0.5以下。
需要说明的是,混酸ΔYI及混酸Δb*分别是指将聚酰亚胺薄膜浸渍在磷酸、硝酸及乙酸的混合物中时的浸渍前后的YI的差及b*的差,具体而言,可以用实施例记载的方法测定。ΔYI及Δb*越小,意味着耐酸性越优异。通过使用本发明的聚酰亚胺树脂,可以形成耐化学药品性优异的薄膜,对酸也显示优异的耐性。特别是对混酸(例如,磷酸50~97质量%、硝酸1~20质量%、乙酸1~10质量%、及水1~20质量%的混合溶液,优选磷酸63~87质量%、硝酸5~15质量%、乙酸3~7质量%、及水5~15质量%的混合溶液)显示优异的耐性。
可以使用本发明的聚酰亚胺树脂形成的薄膜的机械特性及耐热性也良好,具有如下的优选物性值。
拉伸强度优选为60MPa以上,更优选为70MPa以上,进一步优选为80MPa以上。
拉伸弹性模量优选为2.0GPa以上,更优选为2.5GPa以上,进一步优选为3.0GPa以上。
玻璃化转变温度(Tg)优选为230℃以上,更优选为250℃以上,进一步优选为270℃以上。
需要说明的是,本发明中上述的物性值具体而言可以用实施例记载的方法测定。
[聚酰亚胺树脂的制造方法]
本发明的聚酰亚胺树脂可以通过使包含提供上述的结构单元(A-1)的化合物及提供上述的结构单元(A-2)的化合物的四羧酸成分与包含70摩尔%以上的提供上述的结构单元(B-1)的化合物的二胺成分反应来制造。
作为提供结构单元(A-1)的化合物,可举出式(a-1)所示的化合物,但并不限定于此,在提供相同结构单元的范围内也可以为其衍生物。作为该衍生物,可举出与式(a-1)所示的四羧酸二酐对应的四羧酸(即,1,2,4,5-环己烷四羧酸)及该四羧酸的烷基酯。作为提供结构单元(A-1)的化合物,优选式(a-1)所示的化合物(即,二酐)。
同样地,作为提供结构单元(A-2)的化合物,可举出式(a-2)所示的化合物,但并不限定于此,在提供相同结构单元的范围内也可以为其衍生物。作为该衍生物,可举出与式(a-2)所示的四羧酸二酐对应的四羧酸及该四羧酸的烷基酯。作为提供结构单元(A-2)的化合物,优选式(a-2)所示的化合物(即,二酐)。
四羧酸成分优选包含5~95摩尔%、更优选包含15~95摩尔%的提供结构单元(A-1)的化合物,从使薄膜的无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性提高的观点来看,进一步优选包含20~90摩尔%、特别优选包含50~90摩尔%。另一方面,特别是从光学各向同性和耐酸性的观点来看,进一步优选包含70~95摩尔%,特别优选包含85~95摩尔%。
四羧酸成分优选包含5~95摩尔%、更优选包含5~85摩尔%的提供结构单元(A-2)的化合物,从使薄膜的无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性提高的观点来看,进一步优选包含10~80摩尔%、特别优选包含10~50摩尔%。另一方面,特别是从光学各向同性和耐酸性的观点来看,进一步优选包含5~30摩尔%、特别优选包含5~15摩尔%。
四羧酸成分总计优选包含50摩尔%以上、更优选包含70摩尔%以上、进一步优选包含90摩尔%以上、特别优选包含99摩尔%以上的提供结构单元(A-1)的化合物及提供结构单元(A-2)的化合物。提供结构单元(A-1)的化合物及提供结构单元(A-2)的化合物的总计的含有比率的上限值并无特别限定,即,为100摩尔%。四羧酸成分也可仅包含提供结构单元(A-1)的化合物和提供结构单元(A-2)的化合物。
四羧酸成分也可包含提供结构单元(A-1)的化合物及提供结构单元(A-2)的化合物以外的化合物,作为该化合物,可举出上述的芳香族四羧酸二酐、脂环式四羧酸二酐、及脂肪族四羧酸二酐、及它们的衍生物(四羧酸、四羧酸的烷基酯等)。
四羧酸成分中任选包含的化合物(即,除提供结构单元(A-1)的化合物及提供结构单元(A-2)的化合物以外的化合物)任选1种或2种以上。
作为提供结构单元(B-1)的化合物,可举出式(b-1)所示的化合物,但并不限定于此,在提供相同结构单元的范围内也可以为其衍生物。作为该衍生物,可举出与式(b-1)所示的二胺对应的二异氰酸酯。作为提供结构单元(B-1)的化合物,优选式(b-1)所示的化合物(即,二胺)。
二胺成分包含70摩尔%以上的提供结构单元(B-1)的化合物。二胺成分优选包含75摩尔%以上、更优选包含80摩尔%以上的提供结构单元(B-1)的化合物。提供结构单元(B-1)的化合物的含有比率的上限值可以为90摩尔%,可以为95摩尔%,可以为99摩尔%,可以为100摩尔%。二胺成分也可仅包含提供结构单元(B-1)的化合物。
二胺成分可以包含提供结构单元(B-1)的化合物以外的化合物,作为该化合物,可举出上述的芳香族二胺、脂环式二胺、及脂肪族二胺、及它们的衍生物(二异氰酸酯等)。
二胺成分中任选包含的化合物(即,除提供结构单元(B-1)的化合物以外的化合物)任选1种或2种以上。
作为二胺成分中任选包含的化合物,优选提供结构单元(B-2)的化合物(即,选自由提供结构单元(B-2-1)的化合物、提供结构单元(B-2-2)的化合物、提供结构单元(B-2-3)的化合物、及提供结构单元(B-2-4)的化合物组成的组中的至少1种以上),其中更优选提供结构单元(B-2-3)的化合物。
作为提供结构单元(B-2)的化合物,可举出式(b-2-1)所示的化合物、式(b-2-2)所示的化合物、式(b-2-3)所示的化合物、及式(b-2-4)所示的化合物,但并不限定于此,在可以形成相同结构单元的范围内也可以为其衍生物。作为该衍生物,可举出与式(b-2-1)~式(b-2-4)所示的二胺对应的二异氰酸酯。作为提供结构单元(B-2)的化合物,优选式(b-2-1)~式(b-2-4)所示的化合物(即,二胺)。
二胺成分包含提供结构单元(B-1)的化合物及提供结构单元(B-2)的化合物时,二胺成分优选包含70~95摩尔%、更优选包含75~95摩尔%、进一步优选包含75~90摩尔%的提供结构单元(B-1)的化合物,优选包含5~30摩尔%、更优选包含5~25摩尔%、进一步优选包含10~25摩尔%的提供结构单元(B-2)的化合物。
二胺成分总计优选包含75摩尔%以上、更优选包含80摩尔%以上、进一步优选包含90摩尔%以上、特别优选包含99摩尔%以上的提供结构单元(B-1)的化合物和提供结构单元(B-2)的化合物。提供结构单元(B-1)的化合物和提供结构单元(B-2)的化合物的总计的含有比率的上限值并无特别限定,即,为100摩尔%。二胺成分也可仅包含提供结构单元(B-1)的化合物和提供结构单元(B-2)的化合物。
提供结构单元(B-2)的化合物可以仅为提供结构单元(B-2-1)的化合物,可以仅为提供结构单元(B-2-2)的化合物,可以仅为提供结构单元(B-2-3)的化合物,或可以仅为提供结构单元(B-2-4)的化合物。
另外,提供结构单元(B-2)的化合物也可以为选自由提供结构单元(B-2-1)~(B-2-4)的化合物组成的组中的2种以上的化合物的组合。
本发明中,对于聚酰亚胺树脂的制造中使用的四羧酸成分和二胺成分的投入量比,相对于1摩尔四羧酸成分优选二胺成分为0.9~1.1摩尔。
另外,本发明中,在聚酰亚胺树脂的制造中,除了前述的四羧酸成分及二胺成分外,也可使用封端剂。作为封端剂,优选一元胺类或二羧酸类。作为导入的封端剂的投入量,优选相对于1摩尔四羧酸成分为0.0001~0.1摩尔,特别优选为0.001~0.06摩尔。作为一元胺类封端剂,例如推荐甲胺、乙胺、丙胺、丁胺、苄胺、4-甲基苄胺、4-乙基苄胺、4-十二烷基苄胺、3-甲基苄胺、3-乙基苄胺、苯胺、3-甲基苯胺、4-甲基苯胺等。这些之中,可以适宜地使用苄胺、苯胺。作为二羧酸类封端剂,优选二羧酸类,也可对其一部分进行闭环。例如推荐苯二甲酸、苯二甲酸酐、4-氯苯二甲酸、四氟苯二甲酸、2,3-二苯甲酮二羧酸、3,4-二苯甲酮二羧酸、环戊烷-1,2-二羧酸、4-环己烯-1,2-二羧酸等。这些之中,可以适宜地使用苯二甲酸、苯二甲酸酐。
使前述的四羧酸成分与二胺成分反应的方法并没有特别限制,可以使用公知的方法。
作为具体的反应方法,可举出(1)将四羧酸成分、二胺成分、及反应溶剂投入反应器,在室温(约20℃)~80℃下搅拌0.5~30小时,之后升温而进行酰亚胺化反应的方法;(2)将二胺成分及反应溶剂投入反应器使其溶解后,投入四羧酸成分,根据需要在室温(约20℃)~80℃下搅拌0.5~30小时,之后升温而进行酰亚胺化反应的方法;(3)将四羧酸成分、二胺成分、及反应溶剂投入反应器,立即升温而进行酰亚胺化反应的方法等。
聚酰亚胺树脂的制造中使用的反应溶剂只要不抑制酰亚胺化反应、可以溶解生成的聚酰亚胺即可。可举出例如非质子性溶剂、酚系溶剂、醚系溶剂、碳酸酯系溶剂等。
作为非质子性溶剂的具体例,可举出N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-甲基己内酰胺、1,3-二甲基咪唑啉酮、四甲基脲等酰胺系溶剂、γ-丁内酯、γ-戊内酯等内酯系溶剂、六甲基磷酰胺、六甲基膦三酰胺等含磷系酰胺系溶剂、二甲基砜、二甲基亚砜、环丁砜等含硫系溶剂、丙酮、环己酮、甲基环己酮等酮系溶剂、皮考啉、吡啶等胺系溶剂、乙酸(2-甲氧基-1-甲基乙基)酯等酯系溶剂等。
作为酚系溶剂的具体例,可举出苯酚、邻甲酚、间甲酚、对甲酚、2,3-二甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、2,6-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚等。
作为醚系溶剂的具体例,可举出1,2-二甲氧基乙烷、双(2-甲氧基乙基)醚、1,2-双(2-甲氧基乙氧基)乙烷、双〔2-(2-甲氧基乙氧基)乙基〕醚、四氢呋喃、1,4-二噁烷等。
另外,作为碳酸酯系溶剂的具体例,可举出碳酸二乙酯、碳酸甲乙酯、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯等。
上述反应溶剂之中,优选酰胺系溶剂或内酯系溶剂。另外,上述的反应溶剂可以单独使用或混合使用两种以上。
酰亚胺化反应中,优选使用迪安-斯达克榻装置等,边将制造时生成的水去除边进行反应。通过进行这样的操作,可以使聚合度及酰亚胺化率更为上升。
上述的酰亚胺化反应中,可以使用公知的酰亚胺化催化剂。作为酰亚胺化催化剂,可举出碱催化剂或酸催化剂。
作为碱催化剂,可举出吡啶、喹啉、异喹啉、α-皮考啉、β-皮考啉、2,4-二甲基吡啶、2,6-二甲基吡啶、三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三乙二胺、咪唑、N,N-二甲基苯胺、N,N-二乙基苯胺等有机碱催化剂、氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钾、碳酸钠、碳酸氢钾、碳酸氢钠等无机碱催化剂。
另外,作为酸催化剂,可举出巴豆酸、丙烯酸、反-3-己酸、肉桂酸、苯甲酸、甲基苯甲酸、羟基苯甲酸、对苯二甲酸、苯磺酸、对甲苯磺酸、萘磺酸等。上述的酰亚胺化催化剂可以单独使用或组合使用两种以上。
上述之中,从处理性的观点来看,优选使用碱催化剂,更优选使用有机碱催化剂,进一步优选使用三乙胺,特别优选组合使用三乙胺和三乙二胺。
从反应率及凝胶化等的抑制的观点来看,酰亚胺化反应的温度优选为120~250℃,更优选为160~200℃。另外,反应时间在生成水的馏出开始后,优选为0.5~10小时。
[聚酰亚胺清漆]
本发明的聚酰亚胺清漆是由本发明的聚酰亚胺树脂溶解于有机溶剂而成的。即,本发明的聚酰亚胺清漆包含本发明的聚酰亚胺树脂及有机溶剂,该聚酰亚胺树脂溶解在该有机溶剂中。
有机溶剂只要溶解聚酰亚胺树脂即可,并无特别限定,作为聚酰亚胺树脂的制造中使用的反应溶剂,优选单独或混合2种以上使用上述化合物。
本发明的聚酰亚胺清漆可以为利用聚合法得到的聚酰亚胺树脂溶解在反应溶剂中而成的聚酰亚胺溶液本身,或者也可以为对该聚酰亚胺溶液进一步追加稀释溶剂而成者。
本发明的聚酰亚胺树脂具有溶剂溶解性,因此可以制成在室温下稳定的高浓度的清漆。本发明的聚酰亚胺清漆优选包含5~40质量%、更优选包含10~30质量%的本发明的聚酰亚胺树脂。聚酰亚胺清漆的粘度优选为1~200Pa·s,更优选为2~100Pa·s。聚酰亚胺清漆的粘度为使用E型粘度计在25℃下测定的值。
另外,本发明的聚酰亚胺清漆在不损害聚酰亚胺薄膜的要求特性的范围内,也可包含无机填料、粘接促进剂、剥离剂、阻燃剂、紫外线稳定剂、表面活性剂、流平剂、消泡剂、荧光增白剂、交联剂、聚合引发剂、光敏剂等各种添加剂。
本发明的聚酰亚胺清漆的制造方法并无特别限定,可以应用公知的方法。
[聚酰亚胺薄膜]
本发明的聚酰亚胺薄膜包含本发明的聚酰亚胺树脂。因此,本发明的聚酰亚胺薄膜的无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性(耐溶剂性、耐酸性及耐碱性)优异。本发明的聚酰亚胺薄膜具有的优选物性值如上所述。
本发明的聚酰亚胺薄膜的制造方法并没有特别限制,可以使用公知的方法。可举出如下方法等:例如将本发明的聚酰亚胺清漆涂布在玻璃板、金属板、塑料等平滑的支撑体上,或成形为薄膜状后,通过加热将该清漆中包含的反应溶剂、稀释溶剂等有机溶剂去除。
作为涂布方法,可举出旋转涂布、狭缝涂布、刮刀涂布等公知的涂布方法。其中,从控制分子间取向且提高耐化学药品性、操作性的观点来看,优选狭缝涂布。
作为通过加热将清漆中包含的有机溶剂去除的方法,优选在150℃以下的温度下使有机溶剂蒸发而使其不粘手后,以使用的有机溶剂的沸点以上的温度(并无特别限定,优选为200~500℃)干燥。另外,优选在空气气氛下或氮气气氛下干燥。干燥气氛的压力为减压、常压、加压均可。
将制膜在支撑体上的聚酰亚胺薄膜从支撑体上剥离的方法并无特别限定,可举出激光剥离法、使用剥离用牺牲层的方法(事先在支撑体的表面涂布脱模剂的方法)。
另外,本发明的聚酰亚胺薄膜也可使用聚酰胺酸溶解于有机溶剂而成的聚酰胺酸清漆来制造。
前述聚酰胺酸清漆中包含的聚酰胺酸为本发明的聚酰亚胺树脂的前体,是包含提供上述的结构单元(A-1)的化合物及提供上述的结构单元(A-2)的化合物的四羧酸成分与包含70摩尔%以上的提供上述的结构单元(B-1)的化合物的二胺成分的加聚反应的产物。通过对该聚酰胺酸进行酰亚胺化(脱水闭环),可以得到作为最终产物的本发明的聚酰亚胺树脂。
作为前述聚酰胺酸清漆中包含的有机溶剂,可以使用本发明的聚酰亚胺清漆中包含的有机溶剂。
本发明中,聚酰胺酸清漆可以为在反应溶剂中使四羧酸成分与二胺成分进行加聚反应而成的聚酰胺酸溶液本身,或也可以为对该聚酰胺酸溶液进一步追加稀释溶剂而成者。
使用聚酰胺酸清漆制造聚酰亚胺薄膜的方法并没有特别限制,可以使用公知的方法。例如,可以将聚酰胺酸清漆涂布在玻璃板、金属板、塑料等平滑的支撑体上,或成形为薄膜状,通过加热将该清漆中包含的反应溶剂、稀释溶剂等有机溶剂去除而得到聚酰胺酸薄膜,并通过加热对该聚酰胺酸薄膜中的聚酰胺酸进行酰亚胺化,由此制造聚酰亚胺薄膜。
作为使聚酰胺酸清漆干燥而得到聚酰胺酸薄膜时的加热温度,优选为50~120℃。作为通过加热对聚酰胺酸进行酰亚胺化时的加热温度,优选为200~400℃。
需要说明的是,酰亚胺化的方法并不限定于热酰亚胺化,也可应用化学酰亚胺化。
本发明的聚酰亚胺薄膜的厚度可以根据用途等适当选择,优选为1~250μm,更优选为5~100μm,进一步优选为10~80μm的范围。通过厚度为1~250μm,可以作为自支撑膜实际使用。
聚酰亚胺薄膜的厚度可以通过调节聚酰亚胺清漆的固体成分浓度、粘度来容易地控制。
本发明的聚酰亚胺薄膜可以作为滤色器、挠性显示器、半导体部件、光学构件等各种构件用的薄膜适宜地使用。本发明的聚酰亚胺薄膜可以特别适合用作液晶显示器、OLED显示器等图像显示装置的基板。
实施例
以下,通过实施例对本发明进行具体说明。但本发明并不受这些实施例的任何限制。
实施例及比较例中,各物性通过以下示出的方法测定。
(1)薄膜厚度
薄膜厚度使用株式会社三丰制的测微计测定。
(2)拉伸强度、拉伸弹性模量
依据JIS K7127:1999,使用东洋精机株式会社制的拉伸试验机“StrongGraph VG-1E”测定拉伸强度及拉伸弹性模量。卡盘间距离设为50mm、试验片尺寸设为10mm×70mm、试验速度设为20mm/分钟。
(3)玻璃化转变温度(Tg)
使用Hitachi High-Tech Science Corporation制的热机械分析装置“TMA/SS6100”,在拉伸模式下以试样尺寸2mm×20mm、荷重0.1N、升温速度10℃/分钟的条件,升温至足以去除残留应力的温度而去除残留应力,之后冷却至室温。之后,以与用于去除前述残留应力的处理相同的条件进行试验片伸长率的测定,将观察到伸长率的拐点处作为玻璃化转变温度而求出。
(4)总透光率、黄色指数(YI)、b*
依据JIS K7105:1981,使用日本电色工业株式会社制的色彩/浊度同时测定器“COH400”测定总透光率、YI及b*。
(5)厚度相位差(Rth)
使用日本分光株式会社制的椭偏仪“M-220”测定厚度相位差(Rth)。测定在波长590nm下的厚度相位差的值。需要说明的是,将聚酰亚胺薄膜的面内的折射率之中最大值设为nx、最小值设为ny、厚度方向的折射率设为nz、薄膜的厚度设为d时,Rth通过下述式表示。
Rth=[{(nx+ny)/2}-nz]×d
(6)耐溶剂性
在制膜于玻璃板上的聚酰亚胺薄膜上,在室温下滴加溶剂,确认薄膜表面有无变化。需要说明的是,作为溶剂,使用丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)。
耐溶剂性的评价基准如下。
A:薄膜表面无变化。
B:薄膜表面有轻微裂纹。
C:薄膜表面有裂纹、或薄膜表面溶解。
(7)耐酸性(混酸ΔYI及混酸Δb*)
将制膜于玻璃板上的聚酰亚胺薄膜浸渍在加热为40℃的混酸(H3PO4(70质量%)+HNO3(10质量%)+CH3COOH(5质量%)+H2O(15质量%)的混合溶液)中4分钟后,水洗。水洗后,擦除水分,用加热板在240℃下加热50分钟,干燥。试验前后测定YI及b*,求出其变化(ΔYI及Δb*)。需要说明的是,此处的YI测定及b*测定以玻璃板上制膜有聚酰亚胺薄膜的状态(玻璃板+聚酰亚胺薄膜的状态)进行。
(8)耐碱性
将制膜于玻璃板上的聚酰亚胺薄膜在室温下浸渍于3质量%浓度的氢氧化钾水溶液中5分钟后,水洗。水洗后,确认薄膜表面有无变化。
耐碱性的评价基准如下。
A:薄膜表面无变化。
B:薄膜表面有轻微裂纹。
C:薄膜表面有裂纹、或薄膜表面溶解。
实施例及比较例中使用的四羧酸成分及二胺成分、及其简称如下。
<四羧酸成分>
HPMDA:1,2,4,5-环己烷四羧酸二酐(三菱瓦斯化学株式会社制;式(a-1)所示的化合物)
ODPA:4,4’-氧双邻苯二甲酸酐(Manac Inc.制;式(a-2)所示的化合物)
<二胺成分>
3,3’-DDS:3,3’-二氨基二苯基砜(Seika Co.,Ltd.制;式(b-1)所示的化合物)
6FODA:4,4’-二氨基-2,2’-双三氟甲基二苯基醚(ChinaTech Chemical(Tianjin)Co.,Ltd.制;式(b-2-1)所示的化合物)
BAFL:9,9-双(4-氨基苯基)芴(田冈化学工业株式会社制;式(b-2-2)所示的化合物)
HFBAPP:2,2-双(4-(4-氨基苯氧基)苯基)六氟丙烷(Seika Co.,Ltd.制;式(b-2-3)所示的化合物)
TFMB:2,2’-双(三氟甲基)联苯胺(Seika Co.,Ltd.制;式(b-2-4)所示的化合物)
<实施例1>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中,投入3,3’-DDS 32.841g(0.132摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)63.328g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 23.720g(0.106摩尔)、ODPA 8.206g(0.026摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.832g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.669g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流约5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)160.841g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表1。
<实施例2>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中,投入3,3’-DDS 31.073g(0.125摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)63.077g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 14.027g(0.063摩尔)、ODPA 19.410g(0.063摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.769g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.633g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流约5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.154g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表1。
<实施例3>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中,投入3,3’-DDS 29.486g(0.119摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)62.851g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 5.324g(0.024摩尔)、ODPA29.470g(0.095摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.713g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.601g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流约5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.436g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表1。
<比较例1>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中,投入3,3’-DDS 34.192g(0.137摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)63.495g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 30.746g(0.0137摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.874g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.693g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度保持为190℃进行回流约5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)160.631g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表1。
<比较例2>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中,投入3,3’-DDS 28.588g(0.115摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)62.704g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加ODPA 35.541g(0.115摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.676g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.580g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流约5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.620g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表1。
<比较例3>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入BAFL 36.092g(0.103摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)63.309g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 11.598g(0.052摩尔)、ODPA 16.035g(0.052摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.577g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.523g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流约5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)162.113g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表1。
<实施例4>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 25.353g(0.102摩尔)、6FODA8.547g(0.025摩尔)、及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)63.142g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 22.797g(0.102摩尔)、ODPA 7.880g(0.025摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.785g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.643g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.073g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<实施例5>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 24.042g(0.096摩尔)、6FODA 8.106g(0.024摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)62.910g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 13.512g(0.060摩尔)、ODPA 18.681g(0.060摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.728g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.609g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.362g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<实施例6>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 25.822g(0.103摩尔)、6FODA 8.706g(0.026摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)63.225g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 26.121g(0.116摩尔)、ODPA 4.013g(0.013摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.806g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.654g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)160.969g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<实施例7>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 25.218g(0.101摩尔)、BAFL 8.821g(0.025摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)63.118g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 22.676g(0.101摩尔)、ODPA 7.838g(0.025摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.780g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.639g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.102g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<实施例8>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 23.921g(0.096摩尔)、BAFL 8.367g(0.024摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)62.889g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 13.444g(0.060摩尔)、ODPA 18.587g(0.060摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.722g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.606g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.389g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<实施例9>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 23.530g(0.094摩尔)、HFBAPP 12.247g(0.024摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)62.820g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 21.158g(0.094摩尔)、ODPA 7.313g(0.024摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.705g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.596g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.475g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<实施例10>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 22.397g(0.090摩尔)、HFBAPP 11.657g(0.022摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)62.620g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 12.587g(0.056摩尔)、ODPA 17.402g(0.056摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.655g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.568g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.725g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<实施例11>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中,投入3,3’-DDS 23.933g(0.096摩尔)、HFBAPP 12.457g(0.024摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)62.891g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 24.211g(0.108摩尔)、ODPA 3.719g(0.012摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.723g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.607g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.386g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<实施例12>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 26.000g(0.104摩尔)、TFMB 8.351g(0.026摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)63.256g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 26.302g(0.117摩尔)、ODPA 4.041g(0.013摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.814g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.659g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)160.930g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<比较例4>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 15.356g(0.062摩尔)、BAFL 21.485g(0.062摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)63.004g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 27.594g(0.123摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.751g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.623g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.246g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<比较例5>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 13.053g(0.052摩尔)、BAFL 18.263g(0.052摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)62.353g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加ODPA 32.455g(0.105摩尔)和γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.588g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.529g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)162.059g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
<比较例6>
在具备安装有不锈钢制半月型搅拌叶片、氮气导入管、冷凝管的迪安-斯达克榻装置、温度计、玻璃制端盖的300mL的五口圆底烧瓶中投入3,3’-DDS 14.109g(0.057摩尔)、BAFL 19.740g(0.057摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)62.651g,在体系内温度70℃、氮气气氛下、以转速200rpm进行搅拌而得到溶液。
在该溶液中一并添加HPMDA 12.687g(0.057摩尔)、ODPA 17.540g(0.057摩尔)及γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)15.663g后,投入作为酰亚胺化催化剂的三乙胺(关东化学株式会社制)0.572g,用有罩加热器加热,用约20分钟将反应体系内温度提升至190℃。收集蒸馏除去的成分,根据粘度上升调节转速,并将反应体系内温度保持为190℃进行回流5小时。
之后,以固体成分浓度成为20质量%的方式添加γ-丁内酯(三菱化学株式会社制)161.686g,将反应体系内温度冷却至100℃后,进而搅拌约1小时使其均匀化,得到聚酰亚胺清漆。
然后,通过旋转涂布将得到的聚酰亚胺清漆涂布到玻璃板上,用加热板保持80℃20分钟,之后,在空气气氛下,在热风干燥机中,以260℃加热30分钟,使溶剂蒸发,得到薄膜。将结果示于表2。
[表1]
表1
需要说明的是,比较例1的薄膜在耐酸性的试验中浸渍于混酸后,显著劣化,因此未能测定浸渍后的YI及b*。因此,未能求出比较例1的ΔYI及Δb*。
[表2]
如表1所示,实施例1~3的聚酰亚胺薄膜组合使用HPMDA和ODPA作为四羧酸成分,使用3,3’-DDS作为二胺成分进行制造。其结果,无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性(耐溶剂性、耐酸性及耐碱性)优异。
另一方面,比较例1的聚酰亚胺薄膜仅使用HPMDA作为四羧酸成分进行制造。其结果,耐酸性差。
比较例2的聚酰亚胺薄膜仅使用ODPA作为四羧酸成分进行制造。其结果,无色透明性及光学各向同性差。
比较例3的聚酰亚胺薄膜未使用3,3’-DDS作为二胺成分,仅使用BAFL进行制造。其结果,耐酸性差。
另外,如表2所示,实施例4~12的聚酰亚胺薄膜不仅使用3,3’-DDS作为二胺成分,还使用除此以外的第二二胺(6FODA、BAFL、HFBAPP、或TFMB)进行制造。其中,以3,3’-DDS的比率为70摩尔%以上的方式组合使用3,3’-DDS与第二二胺。其结果,无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性(耐溶剂性、耐酸性及耐碱性)优异。
另一方面,比较例4的聚酰亚胺薄膜组合使用3,3’-DDS与除此以外的第二二胺(BAFL)作为二胺成分进行制造,但使用的3,3’-DDS的比率小于70摩尔%。进而,仅使用HPMDA作为四羧酸成分。其结果,耐酸性差。
比较例5的聚酰亚胺薄膜组合使用3,3’-DDS与除此以外的第二二胺(BAFL)作为二胺成分进行制造,但使用的3,3’-DDS的比率小于70摩尔%。进而,仅使用ODPA作为四羧酸成分。其结果,无色透明性(总透光率)、光学各向同性、及耐酸性差。
比较例6的聚酰亚胺薄膜组合使用3,3’-DDS与除此以外的第二二胺(BAFL)作为二胺成分进行制造,但使用的3,3’-DDS的比率小于70摩尔%。其结果,光学各向同性及耐酸性差。
Claims (4)
2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺树脂,其中,
结构单元A中的结构单元(A-1)的比率为5~95摩尔%,
结构单元A中的结构单元(A-2)的比率为5~95摩尔%。
3.一种聚酰亚胺清漆,其是由权利要求1或2所述的聚酰亚胺树脂溶解在有机溶剂中而成的。
4.一种聚酰亚胺薄膜,其包含权利要求1或2所述的聚酰亚胺树脂。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018-222894 | 2018-11-28 | ||
JP2018222894 | 2018-11-28 | ||
PCT/JP2019/045814 WO2020110947A1 (ja) | 2018-11-28 | 2019-11-22 | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113166412A true CN113166412A (zh) | 2021-07-23 |
CN113166412B CN113166412B (zh) | 2024-03-08 |
Family
ID=70853223
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201980077603.2A Active CN113166412B (zh) | 2018-11-28 | 2019-11-22 | 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7384170B2 (zh) |
KR (1) | KR20210097095A (zh) |
CN (1) | CN113166412B (zh) |
TW (1) | TWI838426B (zh) |
WO (1) | WO2020110947A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210096064A (ko) * | 2018-11-28 | 2021-08-04 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 폴리이미드 수지, 폴리이미드 바니시 및 폴리이미드 필름 |
CN116157448A (zh) * | 2020-07-16 | 2023-05-23 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 层叠体 |
KR20220032905A (ko) * | 2020-09-08 | 2022-03-15 | 주식회사 엘지화학 | 폴리이미드계 수지 필름 및 이를 이용한 디스플레이 장치용 기판, 및 광학 장치 |
CN116057109B (zh) * | 2020-09-10 | 2024-05-14 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚合物组合物、清漆、和聚酰亚胺薄膜 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1328655A (zh) * | 1999-11-30 | 2001-12-26 | 株式会社日立制作所 | 液晶显示器和塑料组合物 |
WO2017065319A1 (ja) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | 新日鉄住金化学株式会社 | ポリイミド積層体及びその製造方法 |
WO2017073782A1 (ja) * | 2015-10-30 | 2017-05-04 | 株式会社アイ.エス.テイ | ポリイミド膜 |
CN106795372A (zh) * | 2014-10-17 | 2017-05-31 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚酰亚胺树脂组合物、聚酰亚胺薄膜和层叠体 |
CN107428934A (zh) * | 2015-03-31 | 2017-12-01 | 旭化成株式会社 | 聚酰亚胺膜、聚酰亚胺清漆、使用了聚酰亚胺膜的制品、以及层积体 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5824818B2 (ja) * | 2011-02-14 | 2015-12-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 着色遮光ポリイミドフィルム |
CN110028666B (zh) * | 2014-02-14 | 2021-11-09 | 旭化成株式会社 | 聚酰亚胺前体和含有其的树脂组合物 |
-
2019
- 2019-11-22 WO PCT/JP2019/045814 patent/WO2020110947A1/ja active Application Filing
- 2019-11-22 KR KR1020217006670A patent/KR20210097095A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-11-22 CN CN201980077603.2A patent/CN113166412B/zh active Active
- 2019-11-22 JP JP2020557671A patent/JP7384170B2/ja active Active
- 2019-11-26 TW TW108142830A patent/TWI838426B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1328655A (zh) * | 1999-11-30 | 2001-12-26 | 株式会社日立制作所 | 液晶显示器和塑料组合物 |
CN106795372A (zh) * | 2014-10-17 | 2017-05-31 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚酰亚胺树脂组合物、聚酰亚胺薄膜和层叠体 |
CN107428934A (zh) * | 2015-03-31 | 2017-12-01 | 旭化成株式会社 | 聚酰亚胺膜、聚酰亚胺清漆、使用了聚酰亚胺膜的制品、以及层积体 |
WO2017065319A1 (ja) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | 新日鉄住金化学株式会社 | ポリイミド積層体及びその製造方法 |
WO2017073782A1 (ja) * | 2015-10-30 | 2017-05-04 | 株式会社アイ.エス.テイ | ポリイミド膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020110947A1 (ja) | 2020-06-04 |
TWI838426B (zh) | 2024-04-11 |
JPWO2020110947A1 (ja) | 2021-10-21 |
CN113166412B (zh) | 2024-03-08 |
KR20210097095A (ko) | 2021-08-06 |
JP7384170B2 (ja) | 2023-11-21 |
TW202031726A (zh) | 2020-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN113166412B (zh) | 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜 | |
CN113227206B (zh) | 酰亚胺-酰胺酸共聚物和其制造方法、清漆以及聚酰亚胺薄膜 | |
JP7180617B2 (ja) | ポリイミド樹脂組成物及びポリイミドフィルム | |
TWI830823B (zh) | 聚醯亞胺樹脂、聚醯亞胺清漆以及聚醯亞胺薄膜 | |
JP7205491B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
CN113015760A (zh) | 聚酰亚胺树脂、清漆及聚酰亚胺薄膜 | |
CN113166413A (zh) | 聚酰亚胺树脂组合物和聚酰亚胺薄膜 | |
CN114729122B (zh) | 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜 | |
CN114867767B (zh) | 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜 | |
CN114502660A (zh) | 聚酰亚胺树脂组合物、聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜 | |
JP7524894B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
CN114096589B (zh) | 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜 | |
WO2021177145A1 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
CN116323762A (zh) | 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜 | |
CN116323761A (zh) | 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |