CN113161403A - 一种显示基板和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示基板和显示装置。显示基板包括衬底、位于所述衬底上的驱动电路层、位于所述驱动电路层远离所述衬底一侧的发光单元、以及位于所述发光单元远离所述衬底一侧的光传输层，所述光传输层包括层叠设置的金属滤光层和透明导电层，所述金属滤光层用于降低来自所述显示基板外部的光线反射率以及作为触控模组的感测电极。本发明实施例设置了金属滤光层，该金属滤光层作为触控模组的感测电极，降低来自显示基板外部的光线反射率，从而不需要进一步设置圆偏光片等降反射膜层，有助于降低显示面板的厚度。

Description

一种显示基板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板和显示装置。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板通常需要设置圆偏光片，以降低对于外部光线的反射效果，并提高对比度，这导致显示模组的尺寸可能较厚，当应用于柔性显示装置时，在折叠、卷曲及拉伸状态下，出现异常的可能性更高。
发明内容
本发明实施例提供一种显示基板和显示装置，以解决现有显示面板厚度可能较厚的问题。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示基板，包括衬底、位于所述衬底上的驱动电路层、位于所述驱动电路层远离所述衬底一侧的发光单元、以及位于所述发光单元远离所述衬底一侧的光传输层，所述光传输层包括层叠设置的金属滤光层和透明导电层，所述金属滤光层用于降低来自所述显示基板外部的光线反射率以及作为触控模组的感测电极。
可选的，所述显示基板还包括不透光的遮光层，所述光传输层包括多个独立且绝缘的光传输图形，所述光传输图形包括所述金属滤光层形成的第一光传输图形和所述透明导电层形成的第二光传输图形，所述第一光传输图形和所述第二光传输图形层叠设置且电连接，相邻的所述光传输图形在所述衬底上的正投影之间具有间隔区，所述间隔区位于所述显示基板的非开口区，且所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖所述间隔区。
可选的，所述显示基板还包括多条走线，所述走线位于所述显示基板的非开口区，多条所述走线沿第二方向排列，所述走线包括沿第一方向延伸的部分，其中，所述第一方向和第二方向为相交，所述走线包括用于传输触控信号的触控走线，所述触控走线与对应的所述光传输图形电连接。
可选的，在所述显示基板的至少部分区域，所述光传输层在所述衬底上的正投影、所述走线在所述衬底上的正投影以及所述遮光层在所述衬底上的正投影均交叠。
可选的，沿所述第一方向上，相邻两个所述光传输图形之间的间隔区，与所述触控走线和所述光传输图形的连接处相邻。
可选的，所述光传输图形包括镂空区，所述镂空区在所述衬底上的正投影与所述走线在所述衬底上的正投影交叠。
可选的，所述镂空区位于所述显示基板的非开口区，所述镂空区沿所述第一方向延伸，沿所述第二方向上，所述镂空区的尺寸小于或等于相邻的开口区之间的距离，且大于或等于所述走线的尺寸。
可选的，所述金属滤光层为单层结构，且所述金属滤光层的厚度不大于150埃。
可选的，所述金属滤光层包括第一金属子层和第二金属子层，所述第一金属子层、所述透明导电层和所述第二金属子层依次层叠设置，且直接接触，所述第一金属子层和所述第二金属子层的厚度均为50至80埃。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括第一方面中任一项所述的显示基板。
本发明实施例提供了一种显示基板，包括衬底、位于所述衬底上的驱动电路层、位于所述驱动电路层远离所述衬底一侧的发光单元、以及位于所述发光单元远离所述衬底一侧的光传输层，所述光传输层包括层叠设置的金属滤光层和透明导电层，所述金属滤光层用于降低来自所述显示基板外部的光线反射率以及作为触控模组的感测电极。本发明实施例设置了金属滤光层，该金属滤光层作为触控模组的感测电极，降低来自显示基板外部的光线反射率，从而不需要进一步设置圆偏光片等降反射膜层，有助于降低显示面板的厚度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。
图1是本发明一实施例提供的显示基板的结构示意图；
图2是本发明一实施例提供的又一显示基板的结构示意图；
图3是本发明一实施例提供的又一显示基板的结构示意图；
图4A是本发明一实施例中光传输层的结构示意图；
图4B是本发明一实施例中光传输层的又一结构示意图；
图4C是本发明一实施例中光传输层的又一结构示意图；
图4D是本发明一实施例中光传输层的又一结构示意图；
图5A是本发明一实施例中走线和光传输层的结构示意图；
图5B是图5A中A处的局部放大示意图；
图6是本发明一实施例中走线和光传输层的又一结构示意图；
图7A是本发明一实施例提供的又一显示基板的结构示意图；
图7B是本发明一实施例提供的又一显示基板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本实施例提供了一种显示基板。
如图1至图3所示，在一个实施例中，显示基板包括衬底100、位于衬底100上的驱动电路层200、位于驱动电路层200远离衬底100一侧的发光单元、以及位于发光单元远离衬底100一侧的光传输层400。
该衬底100可以是刚性的衬底100，例如玻璃衬底，也可以是柔性的衬底100，例如聚酰亚胺(PI)等柔性材料。驱动电路层200用于控制发光单元发光，主要包括多个用于驱动发光单元发光的薄膜晶体管(TFT)等像素驱动电路，发光单元可以包括层叠设置的第一电极、发光层和第二电极，发光单元能够在像素驱动电路的控制下发光。一般来说，发光单元包括多个像素单元，每一像素单元包括多个不同颜色的子像素301。发光单元通过封装结构302封装。
该衬底100、驱动电路层200和发光单元的具体结构可以一定程度上参考相关技术，此处不做进一步限定和描述。
如图1至图3所示，本实施例中的显示基板还包括光传输层400，光传输层400具体包括层叠设置的金属滤光层401和透明导电层402，金属滤光层401用于降低来自显示基板外部的光线反射率以及作为触控模组的感测电极，而透明导电层402用于确保金属滤光层401的导电效果。
应当理解的是，如果金属滤光层401的厚度过大，则可能影响其光学效果，即影响对于光线的降反射效果，而透明导电层402主要用于提高导电效果。
如图4A至图4C所示，在其中一些实施例中，金属滤光层401为单层结构，且金属滤光层401的厚度不大于150埃，金属滤光层401可以设置于透明导电层402靠近衬底100的一侧，也可以设置于透明导电层402远离衬底100的一侧，还可以在金属滤光层401的两侧均设置透明导电层402。
如图4D所示，在另外一些实施例中，金属滤光层401包括第一金属子层4011和第二金属子层4012，第一金属子层4011、透明导电层402和第二金属子层4012依次层叠设置，且直接接触，第一金属子层4011和第二金属子层4012的厚度均为50至80埃。
经过测试发现，金属滤光片的面电阻约在几百至几千欧姆，且电阻波动过大，为了确保金属滤光层401的光学效果，金属滤光层401的厚度不能过厚，通过设置透明导电层402，能够提高整体的导电效果，使得光传输层400的整体面电阻在100欧姆以下，即不会对光学效果造成影响，也能够确保具有较佳的降反射效果。
由于设置了具有降反射功能的金属滤光层401，能够降低显示基板的反光率，从而不需要设置降反射的圆偏光片或COE(Color Filter on Encapsulation，封装层上的彩色滤光片)膜层，能够降低显示面板的厚度。
本发明实施例设置了金属滤光层401，该金属滤光层401作为触控模组的感测电极，降低来自显示基板外部的光线反射率，从而不需要进一步设置圆偏光片等降反射膜层，有助于降低显示面板的厚度。
如图2和图3所示，在其中一些实施例中，显示基板还包括不透光的遮光层700(BM)，光传输层400包括多个独立且绝缘的光传输图形，光传输图形包括金属滤光层401形成的第一光传输图形和透明导电层402形成的第二光传输图形，第一光传输图形和第二光传输图形层叠设置且电连接，相邻的光传输图形在衬底100上的正投影之间具有间隔区，间隔区位于显示基板的非开口区，本实施例中，开口区指的是显示基板上像素单元的有效发光区，非开口区指的是有效发光区之外的区域，从而避免对于显示效果造成影响，且遮光层700在衬底上的正投影覆盖间隔区。
为了实现光传输层400作为触控模组的感测电极使用，需要将光传输层400图形化，形成多个相互独立且绝缘的光传输图形，实施时，一部分金属滤光层401和一部分透明导电层402的材料被刻蚀掉，从而形成多个光传输图形之间的间隔区。该间隔区通过遮光层700遮挡，以避免该刻蚀掉的区域与未刻蚀的区域形成反光差异，导致在某些特定视角下其具体形状可见，对显示效果造成影响。
该遮光层700位于光传输层400远离衬底100的一侧，如图2所示，在其中一些实施例中，可以在完成光传输层400的制作之后，先涂覆光学胶600，再制作遮光层700。在其他一些实施例中，遮光层700可以在制作完成光传输层400之后直接制作，然后在遮光层700远离衬底100的一侧制作其他结构，例如光学胶600的涂覆等。
请同时参阅图1、图2和图3，在其中一些实施例中，显示基板还包括多条走线501，走线501通过绝缘层502与光传输层400绝缘设置。
走线501位于显示基板的非开口区，如图5A和图5B所示，走线501位于像素界定层(PDL)限定出的间隔区域(PDL Gap)，
显示基板还包括多条走线501，走线501位于显示基板的非开口区，多条走线501沿第二方向排列，走线501包括沿第一方向延伸的部分，其中，第一方向和第二方向相交，走线501包括用于传输触控信号的触控走线，触控走线与对应的光传输图形电连接。
本实施例中的走线501包括触控走线，在其中一些实施例中，走线501还可以包括辅助走线，辅助走线的设置方向和排列顺序等均可参考触控走线，辅助走线和触控走线的主要区别在于辅助走线不与光传输图形相连，而是起到结构上的作用，提高显示基板各个区域厚度的均匀性。
如图7A所示，走线501中的触控走线可以仅延伸至与该触控走线相连的光传输层400处，即触控走线包括由相应的控制电路延伸至相对应的光传输层400的第一部分5011，如图7B所示，也可以沿第一方向由显示基板的一端延伸至相对的另一端，即触控走线包括由相应的控制电路延伸至相对应的光传输层400的第一部分5011，还包括由光传输层400处延伸至光传输层400远离控制电路一侧的第二部分5012，通过设置第一部分5011和第二部分5022，能够提高显示基板不同区域厚度的均匀性。
在其中一些实施例中，在显示基板的至少部分区域，光传输层400在衬底100上的正投影、走线501在衬底100上的正投影以及遮光层700在衬底100上的正投影均交叠。经过测试发现，每一感测电极的长度及宽度约在几毫米左右，如果仅在光传输层400的间隔区处设置遮光层700，可能形成肉眼可见的图案，通过在其他设置有走线501的区域也设置遮光层700，能够提高显示基板整体的均一性，避免对显示效果造成影响。
在其中一些实施例中，沿第一方向上，相邻两个光传输图形之间的间隔区与触控走线和光传输图形的连接处相邻，从而确保触控走线能够与光传输图形搭接，且不会延伸至开口区，减低对显示效果可能造成的不利影响。
在其中一些实施例中，该显示基板仅用于实现手指的触控识别，每一光传输图形可以为实心的整面结构。
如图6所示，在另外一些实施例中，该显示基板还用于与主动式触控笔相配合，在该实施例中，光传输图形包括镂空区403，镂空区403在衬底100上的正投影与走线501在衬底100上的正投影交叠。
本实施例中的镂空区403的位置与走线501的位置相对应，该镂空区403主要用于降低光传输图形与走线501之间的寄生电容，从而提高对于主动式触控笔发出的控制信号的识别精度。
在其中一些实施例中，镂空区403位于显示基板的非开口区，镂空区403沿第一方向延伸，沿第二方向上，镂空区403的尺寸小于或等于相邻的开口区之间的距离，且大于或等于走线501的尺寸。
可以理解为，本实施例中的镂空区403大致呈长条状，且沿着走线501的方向延伸，在镂空区403与走线501交叠的区域，镂空区403覆盖走线501。镂空区403沿第二方向上的尺寸也可以理解为镂空区403的宽度，镂空区403的宽度控制在5至20微米，具体的，镂空区403的宽度大于或等于走线501的宽度，从而实现控制镂空区403覆盖相应区域的走线501，镂空区403的宽度小于开口区之间的宽度，以避免镂空区403延伸至显示基板的开口区对显示效果造成不利影响。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括以上任一项的显示基板。
本发明实施例的显示装置包括上述显示基板实施例的全部技术方案，因此至少能够实现上述全部技术效果，此处不再赘述。
以上，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底、位于所述衬底上的驱动电路层、位于所述驱动电路层远离所述衬底一侧的发光单元、以及位于所述发光单元远离所述衬底一侧的光传输层，所述光传输层包括层叠设置的金属滤光层和透明导电层，所述金属滤光层用于降低来自所述显示基板外部的光线反射率以及作为触控模组的感测电极。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括不透光的遮光层，所述光传输层包括多个独立且绝缘的光传输图形，所述光传输图形包括所述金属滤光层形成的第一光传输图形和所述透明导电层形成的第二光传输图形，所述第一光传输图形和所述第二光传输图形层叠设置且电连接，相邻的所述光传输图形在所述衬底上的正投影之间具有间隔区，所述间隔区位于所述显示基板的非开口区，且所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖所述间隔区。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括多条走线，所述走线位于所述显示基板的非开口区，多条所述走线沿第二方向排列，所述走线包括沿第一方向延伸的部分，其中，所述第一方向和第二方向为相交，所述走线包括用于传输触控信号的触控走线，所述触控走线与对应的所述光传输图形电连接。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，在所述显示基板的至少部分区域，所述光传输层在所述衬底上的正投影、所述走线在所述衬底上的正投影以及所述遮光层在所述衬底上的正投影均交叠。
5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，沿所述第一方向上，相邻两个所述光传输图形之间的间隔区，与所述触控走线和所述光传输图形的连接处相邻。
6.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述光传输图形包括镂空区，所述镂空区在所述衬底上的正投影与所述走线在所述衬底上的正投影交叠。
7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述镂空区位于所述显示基板的非开口区，所述镂空区沿所述第一方向延伸，沿所述第二方向上，所述镂空区的尺寸小于或等于相邻的开口区之间的距离，且大于或等于所述走线的尺寸。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述金属滤光层为单层结构，且所述金属滤光层的厚度不大于150埃。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述金属滤光层包括第一金属子层和第二金属子层，所述第一金属子层、所述透明导电层和所述第二金属子层依次层叠设置，且直接接触，所述第一金属子层和所述第二金属子层的厚度均为50至80埃。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至9中任一项所述的显示基板。
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