CN114937681A - 显示面板、显示装置及显示面板的制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，显示面板包括基板和设置于基板的第一电极层、像素定义层和第一遮挡层。第一电极层包括本体部和镂空部一。第一遮挡层包括第一遮挡部和镂空部二，且镂空部一在基板上的正投影与镂空部二在基板上的正投影重叠，在第一电极层的制备过程中，第一遮挡部起到掩膜板的作用，由基板背离像素定义层的一侧朝向第一电极层出射激光，激光穿过所述镂空部二将所述第一电极层刻蚀出镂空部一。第一遮挡层设置于隔离部和第一电极层之间，第一遮挡层和第一电极层之间的距离较近，能够避免激光衍射导致的本体部朝向镂空部一的边缘翻折而影响后续封装工艺的封装效果。

Description

显示面板、显示装置及显示面板的制备方法

技术领域

本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法。

背景技术

随着电子设备的快速发展，用户对显示效果的要求越来越高，使得电子设备的屏幕显示受到业界越来越多的关注。

为了提高电子设备屏幕的显示效果，现有技术中在制备电子设备屏幕时会将阴极进行图形化处理，例如采用激光刻蚀的方法刻蚀阴极，从而提高屏幕的透过率。但在对阴极进行刻蚀的过程中，阴极材料一般在刻蚀区域会向内翻起(Peeling)，对后续封装造成影响。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，实现显示面板的至少部分区域可透光且可显示，便于感光组件的屏下集成。

本申请第一方面实施例提供一种显示面板，显示面板包括：基板；

像素定义层，位于基板上，像素定义层包括隔离部和由隔离部围合形成的像素开口，至少部分像素电极由像素开口露出；

第一电极层，位于像素定义层背离基板的一侧，第一电极层包括本体部和贯穿本体部的镂空部一，镂空部一在基板上的正投影位于隔离部在基板上的正投影之内；

第一遮挡层，第一遮挡层位于隔离部和第一电极层之间；第一遮挡层包括第一遮挡部和镂空部二，第一遮挡部在基板上的正投影位于隔离部在基板上的正投影之内，镂空部一在基板上的正投影与镂空部二在基板上的正投影重叠。

根据本申请第一方面的实施方式，第一遮挡层与第一电极层相接触。

根据本申请第一方面的实施方式，第一遮挡部和像素开口对应设置，至少部分第一遮挡部设置于像素开口两侧。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，第一遮挡部包括：

多个第一分部，第一分部沿第一方向延伸呈条状，每个像素开口的两侧各设有一第一分部，其中，第一方向平行于基板的上表面。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，多个第一分部沿第二方向并排设置，其中，第二方向平行于基板的上表面，且第一方向与第二方向垂直。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，第一遮挡部还包括：

多个第二分部，第二分部沿第二方向延伸呈条状，且每个像素开口的两侧各设有一第二分部。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，第二分部的两端分别连接一第一分部。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，第一分部在第二方向上的宽度为2.2μm～3μm。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，还包括第二遮挡层，第二遮挡层位于基板中，第二遮挡层包括第二遮挡部，像素开口在基板上的正投影位于第二遮挡部在基板上的正投影之内。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，至少部分第二遮挡部的边缘在基板上的正投影位于第一遮挡部在基板上的正投影之内。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，第二遮挡部沿第一方向延伸呈条状，且第二遮挡部上与第一方向平行的边缘在基板上的正投影位于第一分部在基板上的正投影之内。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，多个第二遮挡部沿第二方向并排设置。

根据本申请第一方面前述任一实施方式，第二遮挡部上与第二方向平行的边缘在基板上的正投影位于第二分部在基板上的正投影之内。

本申请第二方面的实施例提供一种显示装置，其包括上述任一实施方式的显示面板。

本申请第三方面的实施例提供一种显示面板的制备方法，包括：

在基板上形成像素定义层，像素定义层包括隔离部和由隔离部围合形成的像素开口，至少部分像素电极由像素开口露出；

在像素定义层背离基板的一侧制备第一导电材料层；

在制备第一导电材料层步骤之前，制备第一遮挡层，第一遮挡层位于隔离部和第一导电材料层之间，第一遮挡层包括第一遮挡部和镂空部二；

由基板背离像素定义层的一侧对第一导电材料层进行激光刻蚀处理，激光穿过镂空部二将第一导电材料层刻蚀出镂空部一，第一导电材料层未刻蚀区域作为本体部。

根据本申请实施例的显示面板，显示面板包括基板和设置于基板的第一电极层、像素定义层和第一遮挡层。第一电极层包括本体部和镂空部一。第一遮挡层包括第一遮挡部和镂空部二，第一遮挡部在基板上的正投影位于隔离部在基板上的正投影之内，第一遮挡部与像素开口错位设置，能够避免第一遮挡部影响显示面板的显示。且镂空部一在基板上的正投影与镂空部二在基板上的正投影重叠，在第一电极层的制备过程中，第一遮挡部起到掩膜板的作用，由基板背离像素定义层的一侧朝向第一电极层出射激光，激光穿过所述镂空部二将所述第一导电材料层刻蚀出镂空部一。一方面，在第一导电材料层上形成镂空部一，能够减小第一电极层上本体部的分布面积，进而提高显示面板的透光率；另一方面，第一遮挡层设置于隔离部和第一电极层之间，第一遮挡层和第一电极层之间的距离较近，能够有效避免激光衍射导致的本体部朝向镂空部一的边缘翻折而影响后续封装工艺的封装效果。

因此，本申请实施例的显示面板在制备过程中能够令第一遮挡层中的第一遮挡部起到掩膜板的作用，在第一导电材料层上形成镂空部一而提高显示面板的透光率。且由于第一遮挡层和第一电极层之间的距离较近，能够有效避免激光衍射导致的本体部朝向镂空部一的边缘翻折而影响后续封装工艺的封装效果。

附图说明

通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显，其中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征，附图并未按照实际的比例绘制。

图1是本申请第一方面实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2是图1中A-A处的剖视图；

图3是图1中Q处的局部放大结构示意图；

图4是一种显示面板又一实施例的剖视图；

图5是一种显示面板又一实施例中的局部放大结构示意图；

图6是本申请第三方面实施例提供的一种显示面板的制备方法流程示意图。

附图标记说明：

10、显示面板；

100、基板；

200、第二电极层；210、像素电极；

300、像素定义层；310、隔离部；320、像素开口；

400、第一电极层；410、本体部；420、镂空部一；

500、第一遮挡层；510、第一遮挡部；511、第一分部；512、第二分部；520、镂空部二；

600、第二遮挡层；610、第二遮挡部；；

700、发光单元；

AA1、第一显示区；AA2、第二显示区；

X、第一方向；Y、第二方向；Z、厚度方向。

具体实施方式

下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本申请，并不被配置为限定本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。

在诸如手机、平板电脑等电子设备上，需要在设置显示面板的一侧集成诸如前置摄像头、红外光传感器、接近光传感器等感光组件。在一些实施例中，可以在上述电子设备上设置透光显示区，将感光组件设置在透光显示区背面，为了提高感光组件感光性能，需提高其透光率。

为了提高显示面板的透光率，在一些相关技术中，对公共电极进行了图案化处理。令公共电极在显示面板的透光区域内形成镂空，以提高公共电极的透光率，进而能够提高显示面板透光区域的透光率。相关技术中一般采用激光刻蚀等手段实现公共电极的图案化处理。

然而工艺条件的限制，在相关技术中利用激光对公共电极进行图案化处理时，通常是在衬底上形成阵列基板、发光层和公共电极后，从衬底背离阵列基板的一侧对公共电极进行激光照射，利用阵列基板内的遮光金属层作为掩膜板，实现公共电极的激光刻蚀和图形化处理。但发明人发现，在对公共电极进行激光刻蚀图案化处理后，公共电极的边缘容易内翻，对后续的薄膜封装等工艺造成影响，从而影响封装的可靠性。

为解决上述问题，本申请实施例提供了一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，以下将结合附图对显示面板、显示装置及显示面板的制备方法的各实施例进行说明。

本申请实施例提供一种显示面板，该显示面板可以是有机发光二极管(OrganicLight Emitting Diode，OLED)显示面板。

请一并参阅图1和图2，图1是本申请第一方面实施例提供的一种显示面板的结构示意图，图2是图1中A-A处的剖视图。

如图1和图2所示，本申请第一方面实施例提供一种显示面板10，显示面板10包括：基板100和位于基板100的像素定义层300，像素定义层300包括隔离部310和由隔离部310围合形成的像素开口320，至少部分像素电极210由像素开口320露出，本实施例中的像素像素定义层300在制备过程中采用透明的聚酰亚胺等透明材料制备而成；第一电极层400，位于像素定义层300背离基板100的一侧，第一电极层400包括本体部410和贯穿本体部410的镂空部一420；第一遮挡层500，位于隔离部310和第一电极层400之间，第一遮挡层500包括第一遮挡部510和镂空部二520，第一遮挡部510在基板100上的正投影位于隔离部310在基板100上的正投影之内，镂空部一420在基板100上的正投影与镂空部二520在基板100上的正投影重叠。

根据本申请实施例的显示面板10，显示面板10包括基板100和设置于基板100上的第一电极层400、像素定义层300和第一遮挡层500。第一电极层400包括本体部410和镂空部一420，第一遮挡层500包括第一遮挡部510和镂空部二520，第一遮挡部510在基板100上的正投影位于隔离部310在基板100上的正投影之内，能够避免第一遮挡部510影响显示面板10的显示，镂空部一420在基板100上的正投影与镂空部二520在基板100上的正投影重叠，在第一电极层400的制备过程中，第一遮挡部510起到掩膜板的作用，由基板100背离像素定义层300的一侧朝向第一电极层400出射激光，激光穿过所述镂空部二520将所述第一电极层400刻蚀出镂空部一420。

在本申请提供的显示面板10中制备第一电极层400时，先制备一整层第一导电材料层，之后利用第一遮挡层500作为遮挡层，例如利用第一遮挡部510掩膜板，由基板100背离像素定义层300的一侧朝向第一导电材料层出射激光，对第一导电材料层进行激光刻蚀从而形成镂空部一420。一方面，在第一电极层400设置镂空部一420，能够减小本体部410的分布面积，进而提高显示面板10的透光率，能够使在显示面板10的非显示侧的感光组件在进行信息采集的过程中获取更多的信息，使得信息获取更加准确。另一方面，第一遮挡部510和第一电极层400均设置于像素定义层300背离基板100的一侧，且第一遮挡层500位于隔离部310和第一电极层400之间，第一遮挡部510和第一电极层400之间的距离较近，能够避免激光衍射导致的本体部410朝向镂空部一420的边缘翻折而影响后续封装工艺的封装效果。

值得说明的是，本申请实施例中的第一遮挡层500为金属遮挡层，从而能够对激光进行有效遮挡，可以位于隔离部310中；也可以位于隔离部310远离基板100一侧的表面上；或者，位于发光材料层中，该发光材料层可以包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层中至少任一层；只要使第一遮挡层500位于隔离部310和第一导电材料层之间即可。

优选的，本实施例中的第一遮挡层500与第一电极层400相接触。

因此，本申请实施例的显示面板10在制备过程中能够令第一遮挡层500中的第一遮挡部510起到掩膜板的作用，在第一导电材料层上形成镂空部一420而提高显示面板10的透光率。且由于第一遮挡层500和第一电极层400之间的距离较近，能够避免激光衍射导致的本体部410朝向镂空部一420的边缘翻折而影响后续封装工艺的封装效果。由于第一遮挡部510的存在，第一导电材料层进行整层蒸镀后，通过激光刻蚀掉位于隔离部310区域中两第一遮挡部510之间的区域的第一导电材料层，从而形成第一电极层400的镂空部一420，第一导电材料层剩余的部分形成第一电极层400的本体部410。

可选的，显示面板10还包括位于像素定义层300和基板100之间的第一电极层200，第一电极层200包括像素电极210。

可选的，第一遮挡部510位于隔离部310和第一电极层400之间，进一步缩短第一遮挡部510和第一电极层400之间的距离，能够进一步避免激光衍射导致的本体部410朝向镂空部一420的边缘翻折而影响后续封装工艺的封装效果。

可选的，在隔离部310区域，像素电极210的边缘在基板100上的正投影位于第一遮挡部510在基板100上的正投影之内。使得第一遮挡部510和像素电极210在基板100上的正投影之间不存在间隙，在对第一导电材料层进行激光刻蚀时，保证刻蚀区域仅存在于第一遮挡部510之间。

在一些实施例中，在像素定义层300背离基板100的一侧制备第一电极层400之前，首先在像素定义层300上制备具有第一金属遮挡部510的第一遮挡层500后，然后在像素定义层300背离基板100的一侧制备第一电材料层，并对第一导电材料层进行图案化处理形成第一电极层400。第一电极层400能够直接位于第一遮挡层500的第一遮挡部510上，进一步减小第一电极层400和第一遮挡部510之间的距离。

可选的，第一电极层400的本体部410的厚度要小于第一遮挡部510的厚度。一般地，本体部410的厚度范围为9-20nm，第一遮挡部510的厚度范围为30nm以上。

基板100的设置方式还有多种，基板100例如可以包括衬底和设置于衬底的阵列基板。或者基板100即衬底。或者基板100包括背离衬底一侧的缓冲层和支撑板等。

第二电极层200例如为阳极层，第一电极层400为阴极层。在利用第二电极层200和第一电极层400驱动像素开口320内的发光单元700发光时，第二电极层200中的像素电极210作为阳极，第一电极层400的本体部410作为阴极。

请继续参阅图1，在一些可选的实施例中，显示面板10具有第一显示区AA1、第二显示区AA2以及围绕第一显示区AA1、第二显示区AA2的非显示区，第一显示区AA1的透光率大于第二显示区AA2的透光率。

在本申请中，可选的第一显示区AA1的透光率大于等于15％。为确保第一显示区AA1的透光率大于15％，甚至大于40％，甚至具有更高的透光率，本实施例中显示面板10的各个功能膜层的透光率均大于80％，甚至至少部分功能膜层的透光率均大于90％。

根据本申请实施例的显示面板10，第一显示区AA1的透光率大于第二显示区AA2的透光率，使得显示面板10在第一显示区AA1的感光组件在进行信息采集的过程中获取更多的信息，使得获取信息更加精确，同时第一显示区AA1能够显示画面，提高显示面板10的显示面积，实现显示装置的全面屏设计。

可选的，第一电极层400的镂空部一420可以位于第一显示区AA1以提高第一显示区AA1的透光率。在其他实施例中，第一电极层400的镂空部一420还可以同时位于第一显示区AA1和第二显示区AA2，以提高整个显示区域的透光率。

请一并参阅图1至图3，图3是图1中Q处的局部放大结构示意图。为了更好的展示本申请显示面板的结构。

如图1至图3所示，在一些可选的实施例中，第一遮挡部510和像素开口320对应设置，至少部分第一遮挡部510设置于像素开口320两侧。

在这些可选的实施例中，各像素开口320均对应设置有两部分第一遮挡部510，两部分第一遮挡部510位于像素开口320的两侧，用于在相邻像素开口320之间形成镂空部二520，激光穿过镂空部二520能够形成镂空部一420，能够增大镂空部一420的分布面积，减小本体部410的分布面积，提高显示面板10的透光率。此外，第一遮挡部510设置于像素开口320两侧，能够保证第一遮挡部510和像素开口320错位，避免第一遮挡部510影响像素开口320内发光单元700的发光。

请继续参阅图2和图3，第一遮挡部510的形状设置方式有多种，例如，在一些可选的实施例中，第一遮挡部510包括：多个第一分部511，沿第一方向X延伸呈条状，每个像素开口的320两侧各设有一第一分部511，其中，第一方向X平行于基板100的上表面。

在这些可选的实施例中，第一分部511设置于像素开口320两侧，第一分部511起到掩膜板的作用，在第一导电材料层上形成镂空部一420而提高显示面板10的透光率。

可选的，多个第一分部511沿第二方向Y并排设置，第二方向Y平行于基板100的上表面，且第一方向X与第二方向Y垂直。

在这些可选的实施例中，多个第一分部511沿第二方向Y并排设置，在像素开口320之间形成镂空部二520，激光穿过镂空部二520能够形成镂空部一420，能够增大镂空部一420的分布面积，减小本体部410的分布面积，提高显示面板10的透光率。

在一些可选的实施例中，第一遮挡部还包括：多个第二分部512，第二分部512沿第二方向Y延伸呈条状，且每个像素开口320的两侧各设有一第二分部512。

在这些可选的实施例中，第二分部512设置于像素开口320两侧，使得在第一方向X上的第二分部512起到掩膜板的作用，在第一导电材料层上形成镂空部一420而提高显示面板10的透光率。

可选的，第二分部512的两端分别连接一第一分部511。

在这些可选的实施例子，第二分部512与第一分部511连接，使得像素开口320被第一遮挡部510环绕，第一分部511和第二分部512都起到掩膜板的作用，在各像素开口之间，相邻的第一分部与第一分部、相邻的第二分部与第二分部之间均形成镂空部二520，激光穿过镂空部二520能够形成镂空部一420，能够增大镂空部一420的分布面积，减小本体部410的分布面积，提高显示面板10的透光率。

在一些可选的实施例中，第一分部511在第二方向Y上的宽度为2.2μm～3μm，正常结构像素电极210边界距离隔离部310边界约3μm，使得在隔离部310区域，部分像素电极210的边缘在基板100上的正投影位于第一遮挡部510在基板100上的正投影之内，使得显示面板10在制备过程中利用第一遮挡层500中的第一遮挡部510，在第一导电材料层上形成镂空部一420而提高显示面板10的透光率。

请一并参阅图4和图5，图4是显示面板又一实施例中的剖视图，图5是显示面板又一实施例中的局部放大结构示意图。

如图4和图5所示，在另一些实施例中，显示面板10还包括第二遮挡层600，第二遮挡层600位于基板100中，即该基板100为多层结构，如第二遮挡层600为阵列基板中的金属屏蔽层(BSM)，该阵列基板为多层结构；第二遮挡层600包括第二遮挡部610，且像素开口320在基板100上的正投影位于第二遮挡部610在基板100上的正投影之内。

可选的，至少部分第二遮挡部610的边缘在基板100上的正投影位于第一遮挡部510在基板100上的正投影之内。使得在隔离部310区域的第一遮挡部510和第二遮挡部610在基板100上的正投影之间不存在间隙，在对第一导电材料层进行激光刻蚀时，保证刻蚀区域仅存在于第一遮挡部510之间。

在这些可选的实施例中，通过设置第二遮挡层600，当在基板100背离第一电极层200的一侧朝向第一电极层400出射激光时，第二遮挡层600的第二遮挡部610能够遮挡激光，进而使得部分第二遮挡层600对应的第一导电材料层能够不被刻蚀保留。因此，由于第二遮挡部610的存在，第二遮挡部610所在区域能够形成第一电极层400的部分本体部410，第一电极层400的镂空部一420形成于镂空部520所在的区域。像素开口320在基板100上的正投影位于第二遮挡部610在基板100上的正投影之内，使得第二遮挡部610保护TFT器件层以及部分金属走线和发光单元700不受激光影响。

优选的，本实施例中的第二遮挡部610为块状，例如第二遮挡部610在基板100上的正投影覆盖一个像素开口320在基板100上的正投影；也可以第二遮挡部610在基板100上的正投影覆盖多个像素开口320，如2*2个像素开口320。本实施例中的第二遮挡部610的边缘在基板100上的正投影位于第一分部511在基板100上的正投影之内以及位于第二分部在基板100上的正投影之内。

在一些可选的实施例中，第二遮挡部610沿第一方向X延伸呈条状，且第二遮挡部610上与第一方向X平行的边缘在基板100上的正投影位于第一分部511在基板100上的正投影之内。

可选的，多个第二遮挡部610沿第二方向Y并排设置。在一些可选的实施例中，第二遮挡部610也可以沿第二方向Y延伸呈条状，且第二遮挡部610上与第二方向Y平行的部分边缘在基板100上的正投影位于第二分部512在基板100上的正投影之内。

可选的，多个第二遮挡部610沿第二方向X并排设置。

以第二遮挡部610沿第一方向X延伸呈条状为例，第一方向X上的像素开口320均位于第二遮挡部610内，通过第二遮挡部610的遮挡作用，保护TFT器件层以及部分金属走线基板100和发光单元700不受激光影响，且能够形成与第二遮挡部610同分布区域和同尺寸的部分本体部410。第二遮挡部610上与第一方向X平行的边缘在基板100上的正投影位于第一分部511在基板100上的正投影之内，第二遮挡部610在第二方向Y上与第一分部511交叠，使得第一分部511与像素开口320之间的区域被第二遮挡部610遮挡，避免因操作不当使得激光刻蚀掉第一电极层400在除镂空部二510以外的部分，保证本体部410的完整。

在一些可选的实施例子，第二遮挡部610上与第二方向Y平行的部分边缘在基板100上的正投影位于第二分部512在基板100上的正投影之内。

在这些可选的实施例中，第二遮挡部610位于第一分部511和第二分部512围合成的区域内，遮挡位于第一分部511和第二分部512之间的像素开口320。在第一方向X上，相邻两像素开口320之间的镂空部二520未被第二遮挡部610遮挡，激光穿过镂空部二520能够形成镂空部一420，能够增大镂空部一420的分布面积，减小本体部410的分布面积，提高显示面板10的透光率。

可选的，第一遮挡层500和/或第二遮挡层600包括金属材料例如Mo(钼)。在一些实施例中，第一遮挡层500和/或第二遮挡层600为金属复合材料层，例如Ti/Al/Ti(钛/铝/钛)，ITO/Ag/ITO(氧化铟锡/银/氧化铟锡)等。

值得说明的是，当显示面板中仅含有第一遮挡层500时，可应用于屏下摄像头用显示面板，可拉伸显示面板，透明显示面板等；对于屏下摄像头用显示面板而言，第一遮挡层500可以仅存在于第一显示区AA1中，对于第二显示区AA2而言，在第二显示区AA2中的第一电极层400上不设置镂空部一420，可以采用现有的结构设计；此外，第一遮挡层500也可以同时存在于第一显示区AA1和第二显示区AA2中。

当显示面板中含有第一遮挡层500和第二遮挡层600时，也可应用至屏下摄像头用显示面板，但为了提高显示面板的透过率，其第一显示区AA1中仅含有第一遮挡层500，其第二显示区AA2中含有第一遮挡层500和第二遮挡层600；此外，也可应用至可拉伸显示面板，透明显示面板中。

对于本实施例中的结构设计，可应用至其他显示面板中，具体可依据实际情况进行选择，本申请不对其进行具体限制。

本发明第二方面的实施例还提供一种显示装置，包括上述任一第一方面实施例的显示面板10。由于本发明第二方面实施例提供的显示装置包括上述第一方面任一实施例的显示面板10，因此本发明第二方面实施例提供的显示装置具有上述第一方面任一实施例的显示面板10具有的有益效果，在此不再赘述。

本发明实施例中的显示装置包括但不限于手机、个人数字助理(PersonalDigital Assistant，简称：PDA)、平板电脑、电子书、电视机、门禁、智能固定电话、控制台等具有显示功能的设备。

请参阅图6，图6是本申请第三方面实施例提供的一种显示面板的制备方法流程示意图。该显示面板10可以为上述任一第一方面实施例提供的显示面板10。

请一并参阅图1至图6所示的显示面板10，显示面板10的制备方法包括：

步骤S01：在基板100上制备绝缘材料层，并对绝缘材料层进行图案化处理形成像素定义层300，像素定义层300包括隔离部310和由隔离部310围合形成的像素开口320，至少部分像素电极210由像素开口320露出。

可选的，在步骤S01之后还可以在像素定义层300上设置空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层等层结构。

步骤S02：制备第一遮挡层500，第一遮挡层500包括第一遮挡部510和镂空部二520。

步骤S03：在像素定义层300背离基板100的一侧制备第一导电材料层。

值得说明的是，步骤S02中制备的第一遮挡层500可以位于隔离部310中，因而，在步骤S01制备像素定义层300的过程中制备第一遮挡层500；例如，将像素定义层300分为上下两层，当制备完下层后，制备第一遮挡层500，然后再制备上层；或者，第一遮挡层500位于隔离部310远离基板100一侧的表面上，当制备像素定义层300后，制备第一遮挡层500；此外，在制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层或电子注入层任一层后，都可制备第一遮挡层500，使得第一遮挡层500位于隔离部310和第一导电材料层之间即可。

优选的，本实施例中的第一遮挡层500与第一导电材料层想接触，即制备完发光材料层后，制备第一遮挡层500，然后制备第一导电材料层。。

步骤S04：由像素定义层300背离基板100的一侧对第一导电材料层进行激光刻蚀处理，激光穿过镂空部二520将第一导电材料层刻蚀出镂空部一420，第一导电材料层未刻蚀区域作为本体部410，在整个刻蚀过程中，第一遮挡部510起到掩膜板的作用。

在本申请实施例提供的显示面板10的制备方法中，首先通过步骤S01形成像素定义层300，使得发光单元700能够设置于像素开口320内。然后制备第一遮挡层500，。通过步骤S02形成第一遮挡部510和镂空部二520，之后通过步骤S03制备第一导电材料层；最后在激光刻蚀过程中，第一遮挡部510可以作为对步骤S04中第一导电材料层进行遮挡，第一遮挡部510所在区域的第一导电材料层不会被刻蚀掉而形成本体部410。由于第一遮挡部510作为本体部410对第一导电材料层进行图案化处理的掩膜板，通过激光刻蚀掉位于镂空部二520区域的第一导电材料层，从而形成镂空部一420，第一导电材料层剩余的部分形成本体部410。

依照本申请如上文所述的实施例，这些实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然，根据以上描述，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本申请的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本申请以及在本申请基础上的修改使用。本申请仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

基板；

像素定义层，位于所述基板上，所述像素定义层包括隔离部和由所述隔离部围合形成的像素开口，至少部分像素电极由所述像素开口露出；

第一电极层，位于所述像素定义层背离所述基板的一侧，所述第一电极层包括本体部和贯穿所述本体部的镂空部一，所述镂空部一在所述基板上的正投影位于所述隔离部在所述基板上的正投影之内；

第一遮挡层，所述第一遮挡层位于所述隔离部和所述第一电极层之间；所述第一遮挡层包括第一遮挡部和镂空部二，所述第一遮挡部在所述基板上的正投影位于所述隔离部在所述基板上的正投影之内，且所述镂空部一在所述基板上的正投影与所述镂空部二在所述基板上的正投影重叠。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一遮挡层与所述第一电极层相接触。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一遮挡部和所述像素开口对应设置，至少部分所述第一遮挡部设置于所述像素开口两侧；

优选的，所述第一遮挡部包括：

多个第一分部，所述第一分部沿第一方向延伸呈条状，每个所述像素开口的两侧各设有一所述第一分部，其中，所述第一方向平行于所述基板的上表面；

优选的，多个所述第一分部沿第二方向并排设置，其中，所述第二方向平行于所述基板的上表面，且所述第一方向与所述第二方向垂直。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一遮挡部还包括：

多个第二分部，所述第二分部沿所述第二方向延伸呈条状，且每个所述像素开口的两侧各设有一所述第二分部；

优选的，所述第二分部的两端分别连接一所述第一分部。

5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一分部在所述第二方向上的宽度为2.2μm～3μm。

6.根据权利要求4或5中任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括第二遮挡层，所述第二遮挡层位于所述基板中，所述第二遮挡层包括第二遮挡部，所述像素开口在所述基板上的正投影位于所述第二遮挡部在基板上的正投影之内；

优选的，至少部分所述第二遮挡部的边缘在所述基板上的正投影位于所述第一遮挡部在所述基板上的正投影之内。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第二遮挡部沿所述第一方向延伸呈条状，且所述第二遮挡部上与所述第一方向平行的边缘在所述基板上的正投影位于所述第一分部在所述基板上的正投影之内；

优选的，多个所述第二遮挡部沿所述第二方向并排设置。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第二遮挡部上与所述第二方向平行的边缘在所述基板上的正投影位于所述第二分部在所述基板上的正投影之内。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的显示面板。

10.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

在基板上形成像素定义层，所述像素定义层包括隔离部和由所述隔离部围合形成的像素开口，至少部分像素电极由所述像素开口露出；

在所述像素定义层背离所述基板的一侧制备第一导电材料层；

在制备第一导电材料层步骤之前，制备第一遮挡层，所述第一遮挡层位于所述隔离部和所述第一导电材料层之间，所述第一遮挡层包括第一遮挡部和镂空部二；

由所述基板背离所述像素定义层的一侧对所述第一导电材料层进行激光刻蚀处理，激光穿过所述镂空部二将所述第一导电材料层刻蚀出镂空部一，第一导电材料层未刻蚀区域作为本体部。

Images