CN113161399A - 显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开涉及显示技术领域，提供了一种显示面板和显示装置。显示面板包括显示区和围绕所述显示区的外围区；所述显示区包括第一显示区和第二显示区；所述第二显示区的透光率大于所述第一显示区的透光率；所述显示面板包括设置有支撑柱的支撑区域，所述支撑区域包括第一支撑区域和第二支撑区域；所述第二支撑区域中的所述支撑柱的分布密度大于所述第一支撑区域中的所述支撑柱的分布密度；所述支撑区域的边缘，位于所述显示区的边缘和所述外围区的外边缘之间；所述第二显示区与所述第二支撑区域至少部分重叠。该显示面板能够改善有机封装层在第二显示区的形貌。

Description

显示面板和显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术

屏下摄像头可以将摄像头设置在显示屏下方，进而可以提高屏占比。在OLED(有机电致发光二极管)显示面板中，为了提高摄像头区域的透光率，摄像头区域的像素和电路设计往往与其他显示区域存在一定的差异。在制备薄膜封装层时，液态有机材料在摄像头区域往往难以充分流平，导致有机封装层的形貌存在倾斜而引起光斑变形，进而降低了摄像头的解析度。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，改善有机封装层在第二显示区的形貌。

根据本公开的一个方面，提供一种显示面板，包括显示区和围绕所述显示区的外围区；所述显示区包括第一显示区和第二显示区；所述第二显示区的透光率大于所述第一显示区的透光率；

所述显示面板包括设置有支撑柱的支撑区域，所述支撑区域包括第一支撑区域和第二支撑区域；所述第二支撑区域中的所述支撑柱的分布密度大于所述第一支撑区域中的所述支撑柱的分布密度；

所述支撑区域的边缘，位于所述显示区的边缘和所述外围区的外边缘之间；所述第二显示区与所述第二支撑区域至少部分重叠。

根据本公开的一种实施方式，所述第二显示区位于所述第二支撑区域内。

根据本公开的一种实施方式，所述支撑区域具有最靠近所述第二显示区的第一边缘；

所述第二显示区与所述第一边缘之间的区域位于所述第二支撑区域内。

根据本公开的一种实施方式，所述支撑区域具有最靠近所述第二显示区的第一边缘；

沿所述第一边缘的延伸方向，位于所述第二显示区两侧的所述第一显示区的部分区域，位于所述第二支撑区域内。

根据本公开的一种实施方式，所述第二支撑区域的边缘与所述第二显示区的边缘之间形成连贯的环形区域。

根据本公开的一种实施方式，所述第二支撑区域中的所述支撑柱的分布密度，为所述第一支撑区域中的所述支撑柱的分布密度的1.5～4倍。

根据本公开的一种实施方式，在所述第一支撑区域内，所述支撑柱均匀分布；和/或，

在所述第二支撑区域内，所述支撑柱均匀分布。

根据本公开的一种实施方式，所述显示面板包括依次层叠设置的衬底基板、驱动电路层、像素层和薄膜封装层；所述支撑柱设置于所述像素层；

所述像素层还设置有子像素；所述第二显示区中的所述子像素的分辨率小于所述第一显示区中的所述子像素的分辨率。

根据本公开的一种实施方式，所述显示面板包括依次层叠设置的衬底基板、驱动电路层、像素层和薄膜封装层；所述支撑柱设置于所述像素层；

所述像素层还设置有子像素；所述第二显示区中的所述子像素的分辨率与所述第一显示区中的所述子像素的分辨率相同。

根据本公开的一种实施方式，所述显示面板包括子像素和驱动所述子像素的像素驱动电路；所述第二显示区中的所述子像素的像素驱动电路，设置于所述第一显示区。

根据本公开的一种实施方式，位于所述第二支撑区域中的所述支撑柱在所述衬底基板上的正投影的面积，大于位于所述第一支撑区域中的所述支撑柱在所述衬底基板上的正投影的面积。

根据本公开的一种实施方式，所述支撑柱在所述第一支撑区域中具有第一分布密度；所述支撑柱在所述第二显示区中具有第二分布密度；所述第一分布密度小于所述第二分布密度；

在所述第二支撑区域与所述第一显示区交叠的区域，沿靠近所述第二显示区的方向，所述支撑柱的分布密度逐渐增大至所述第二分布密度。

根据本公开的另一个方面，提供一种显示装置，包括上述的显示面板。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本公开一种实施方式中显示面板的结构示意图。

图2为本公开一种实施方式中显示面板的结构示意图。

图3为本公开一种实施方式中显示装置的结构示意图。

图4为本公开一种实施方式中显示面板的结构示意图。

图5为本公开一种实施方式中显示面板的结构示意图。

图6为支撑柱均匀设置的方案中，有机封装层形貌示意图。

图7为本公开一种实施方式中显示面板的结构示意图。

图8为本公开一种实施方式中显示面板的结构示意图。

图9为本公开一种实施方式中，显示面板的局部结构示意图。

图10为摄像头透过显示面板的第二显示区所采集的光斑的图像的局部放大图，其中，显示面板的支撑柱均匀设置而引起有机封装层的表面在第二显示区倾斜。

图11为摄像头透过本公开的一种显示面板的第二显示区所采集的光斑的图像的局部放大图。

图12为本公开的一种显示面板的制备方法的流程示意图。

图13为本公开一种实施方式中，显示面板的局部结构示意图。

附图标记说明：

PNL、显示面板；AA、显示区；A1、第一显示区；A2、第二显示区；BB、外围区；B1、绑定区；F100、衬底基板；F200、驱动电路层；F300、像素层；C100、像素驱动电路；C101、第一像素驱动电路；C102、第二像素驱动电路；C200、发光元件；C201、第一发光元件；C202、第二发光元件；C300、感光组件；F300D1、像素电极；F300D11、电极本体；F300D12、电极延伸引线；F100、衬底基板；F200、驱动电路层；F200M、晶体管；F201、阻隔层；F202、缓冲层；F203、半导体层；F204、栅极绝缘层；F205、栅极层；F206、层间电介质层；F207、源漏金属层；F208、平坦化层；F300、像素层；F301、像素电极层；F302、像素定义层；F303、支撑柱层；F304、有机发光功能层；F305、公共电极层；F400、薄膜封装层；F401、第一无机封装层；F402、有机封装层；F403、第二无机封装层；F500、降反层；F600、触控功能层；DD、支撑区域；D1、第一支撑区域；D2、第二支撑区域；PS、支撑柱；L1、第一边缘；H1、行方向；H2、列方向。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本公开将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。此外，附图仅为本公开的示意性图解，并非一定是按比例绘制。

用语“一个”、“一”、“该”、“所述”和“至少一个”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”和“第三”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。

本公开提供一种显示面板。参见图1、图2、图7和图8，显示面板PNL包括显示区AA和围绕显示区AA的外围区BB；显示区AA包括第一显示区A1(图7中低密度点阵所示的区域)和第二显示区A2(图7中高密度点阵所示的区域)；第二显示区A2的透光率大于第一显示区A1的透光率。

参见图7、图8和图9，显示面板PNL包括设置有支撑柱PS的支撑区域DD，支撑区域DD包括第一支撑区域D1(图8中长虚线阴影所示的区域)和第二支撑区域D2(图8中短虚线阴影所示的区域)；第二支撑区域D2中的支撑柱PS的分布密度大于第一支撑区域D1中的支撑柱PS的分布密度；

参见图7和图8，支撑区域DD的边缘位于显示区AA的边缘和外围区BB的外边缘之间；第二显示区A2与第二支撑区域D2至少部分重叠。

根据本公开提供的显示面板PNL，支撑柱PS在第二支撑区域D2具有更大的分布密度；当在制备显示面板PNL的薄膜封装层时，第二支撑区域D2的支撑柱PS可以发挥更强的引流作用，进而从第一支撑区域D1吸入更多的液态有机材料，使得第二显示区A2的至少部分区域能够充分流平。这样，可以提高薄膜封装层的有机封装层在第二显示区A2形貌平整程度。

下面，结合附图对本公开提供的显示面板的结构、原理和效果做进一步地解释和说明。

图1和图2为本公开提供的显示面板PNL的一种俯视结构图。参见图1和图2，显示面板PNL可以包括显示区AA和围绕显示区AA的外围区BB。其中，显示区AA可以包括第一显示区A1和第一显示区A1一侧的至少一个第二显示区A2。参见图5，在第一显示区A1和第二显示区A2内，像素层F300均可以设置有发光元件C200，以便使得第一显示区A1和第二显示区A2均能够实现画面显示。

参见图3，应用该显示面板PNL的显示装置可以包括至少一个感光组件C300。其中，感光组件C300可以与第二显示区A2一一对应设置，且感光组件C300可以正对对应的第二显示区A2，以便接收从第二显示区A2透射的光线。感光组件C300可以具有用于感测光线的感光区域，感光区域在衬底基板F100上的正投影可以位于第二显示区A2内。感光组件C300可以为一个或者多个光线传感器，例如可以为摄像头、光学指纹识别芯片、光强传感器等。在一些实施方式中，感光组件C300可以为一摄像头，例如可以为一个CCD(电荷耦合器件)摄像头；如此，该显示装置可以实现屏下摄像，提高显示装置的屏占比。

可选地，参见图1和图2，第二显示区A2可以嵌于第一显示区A1中，即第一显示区A1环绕第二显示区A2。当第二显示区A2的数量为多个时，第二显示区A2可以分散设置，也可以相邻设置。当然地，在本公开的其他实施方式中，第二显示区A2也可以位于第一显示区A1的一侧。例如，参见图6和图7，第二显示区A2的边缘可以与外围区BB的内边缘部分交叠，使得第二显示区A2设置于显示区AA的边缘位置。

可选地，任意一个第二显示区A2的形状可以为圆形、方形、菱形、正六边形或者其他形状。在本公开的一种实施方式中，第二显示区A2的形状可以为圆形。

第二显示区A2的数量可以为一个，也可以为多个，以满足感光组件C300的设置为准。在本公开的一种实施方式中，第二显示区A2的数量为一个。如此，显示装置可以设置一个屏下感光组件C300，例如可以设置一个屏下摄像头或者屏下光学指纹识别芯片。在本公开的另一种实施方式中，第二显示区A2的数量为多个。如此，该显示装置可以设置多个感光组件C300，任意两个感光组件C300可以相同或者不相同。示例性地，参见图2，第二显示区A2的数量为三个且相邻设置。如此，显示装置可以设置有与三个第二显示区A2一一对应的不同的感光组件C300，例如设置有成像摄像头、深景摄像头、红外摄像头三种不同的感光组件C300。

在本公开的一些实施方式中，发光元件C200可以为有机电致发光二极管(OLED)，如此，该显示面板可以为一种OLED显示面板。当然的，发光元件C200也可以为其他结构的发光器件，例如可以为QD-OLED(量子点-有机发光二极管)、Micro LED(微发光二极管)、MiniLED(迷你发光二极管)或者其他类型的发光器件。

下面，以显示面板为OLED显示面板为例，对本公开提供的显示面板的膜层结构做示例性地解释和说明。可以理解的是，当显示面板的类型改变时，显示面板的膜层结构也将适应的改变。

参见图4，从膜层结构上，本公开示例的OLED显示面板PNL可以包括依次层叠设置的衬底基板F100、驱动电路层F200和像素层F300。

衬底基板F100可以为无机材料的衬底基板F100，也可以为有机材料的衬底基板F100。举例而言，在本公开的一种实施方式中，衬底基板F100的材料可以为钠钙玻璃(soda-lime glass)、石英玻璃、蓝宝石玻璃等玻璃材料，或者可以为不锈钢、铝、镍等金属材料。在本公开的另一种实施方式中，衬底基板F100的材料可以为聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)、聚乙烯醇(Polyvinyl alcohol，PVA)、聚乙烯基苯酚(Polyvinylphenol，PVP)、聚醚砜(Polyether sulfone，PES)、聚酰亚胺、聚酰胺、聚缩醛、聚碳酸酯(Poly carbonate，PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，PET)、聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylene naphthalate，PEN)或其组合。在本公开的另一种实施方式中，衬底基板F100也可以为柔性衬底基板F100，例如衬底基板F100的材料可以为聚酰亚胺(polyimide，PI)。衬底基板F100还可以为多层材料的复合，举例而言，在本公开的一种实施方式中，衬底基板F100可以包括依次层叠设置的底膜层(Bottom Film)、压敏胶层、第一聚酰亚胺层和第二聚酰亚胺层。

可选地，在驱动电路层F200中，设置有用于驱动各个子像素的像素驱动电路。任意一个像素驱动电路可以包括有晶体管F200M和存储电容。进一步地，晶体管F200M可以为薄膜晶体管，薄膜晶体管可以为顶栅型薄膜晶体管、底栅型薄膜晶体管或者双栅型薄膜晶体管；薄膜晶体管的有源层的材料可以为非晶硅半导体材料、低温多晶硅半导体材料、金属氧化物半导体材料、有机半导体材料或者其他类型的半导体材料；薄膜晶体管可以为N型薄膜晶体管或者P型薄膜晶体管。在本公开的一种实施方式中，薄膜晶体管为低温多晶硅晶体管。

可以理解的是，像素驱动电路中的各个晶体管中，任意两个晶体管之间的类型可以相同或者不相同。示例性地，在一种实施方式中，在一个像素驱动电路中，部分晶体管可以为N型晶体管且部分晶体管可以为P型晶体管。再示例性地，在本公开的另一种实施方式中，在一个像素驱动电路中，部分晶体管的有源层的材料可以为低温多晶硅半导体材料，且部分晶体管的有源层的材料可以为金属氧化物半导体材料。

晶体管可以具有第一端、第二端和控制端，第一端和第二端中的一个可以为晶体管的源极且另一个可以为晶体管的漏极，控制端可以为晶体管的栅极。可以理解的是，晶体管的源极和漏极为两个相对且可以相互转换的概念；当晶体管的工作状态改变时，例如电流方向改变时，晶体管的源极和漏极可以互换。

可选地，驱动电路层F200可以包括层叠于衬底基板F100和像素层F300之间的半导体层F203、栅极绝缘层F204、栅极层F205、层间电介质层F206和源漏金属层F207等。各个薄膜晶体管和存储电容可以由半导体层F203、栅极绝缘层F204、栅极层F205、层间电介质层F206、源漏金属层F207等膜层形成。其中，各个膜层的位置关系可以根据薄膜晶体管的膜层结构确定。举例而言，在本公开的一种实施方式中，驱动电路层F200可以包括依次层叠设置的半导体层F203、栅极绝缘层F204、栅极层F205、层间电介质层F206和源漏金属层F207，如此所形成的薄膜晶体管为顶栅型薄膜晶体管。再举例而言，在本公开的另一种实施方式中，驱动电路层F200可以包括依次层叠设置的栅极层F205、栅极绝缘层F204、半导体层F203、层间电介质层F206和源漏金属层F207，如此所形成的薄膜晶体管为底栅型薄膜晶体管。驱动电路层F200还可以采用双栅极层F205结构，即栅极层F205可以包括第一栅极层和第二栅极层，栅极绝缘层F204可以包括用于隔离半导体层F203和第一栅极层的第一栅极绝缘层，以及包括用于隔离第一栅极层和第二栅极层的第二栅极绝缘层。举例而言，在本公开的一种实施方式中，驱动电路层F200可以包括依次层叠设置于衬底基板F100一侧的半导体层F203、第一栅极绝缘层、第一栅极层、第二栅极绝缘层、第二栅极层、层间电介质层F206和源漏金属层F207。

可选地，驱动电路层F200还可以包括有钝化层，钝化层可以设于源漏金属层F207远离衬底基板F100的表面，以便保护源漏金属层F207。

可选地，驱动电路层F200还可以包括设于衬底基板F100与半导体层F203之间的缓冲材料层，且半导体层F203、栅极层F205等均位于缓冲材料层远离衬底基板F100的一侧。缓冲材料层的材料可以为氧化硅、氮化硅等无机绝缘材料。缓冲材料层可以为一层无机材料层，也可以为多层层叠的无机材料层。示例性地，在本公开的一种实施方式中，参见图4，缓冲材料层可以包括靠近衬底基板F100一侧的阻隔层F201和位于阻隔层F201远离衬底基板F100一侧的缓冲层F202。阻隔层F201用于阻挡衬底基板F100中的离子等组分向驱动电路层F200渗透，使得驱动电路层F200保持性能稳定。缓冲层F202可以提高驱动电路层F200与衬底基板F100之间的结合力，并为驱动电路层F200提供稳定环境。

可选地，驱动电路层F200还可以包括位于源漏金属层F207和像素层F300之间的平坦化层F208，平坦化层F208可以为像素电极提供平坦化表面。可选地，平坦化层F208的材料可以为有机材料。

可选地，像素层F300可以设置于驱动电路层F200远离衬底基板F100的一侧，其可以包括依次层叠设置的像素电极层F301、像素定义层F302、支撑柱层F303、有机发光功能层F304和公共电极层F305。其中，像素电极层F301在显示面板PNL的显示区具有多个像素电极；像素定义层F302在显示区具有与多个像素电极一一对应设置的多个贯通的像素开口，任意一个像素开口暴露对应的像素电极的至少部分区域。支撑柱层F303在显示区包括多个支撑柱PS，且支撑柱PS位于像素定义层F302远离衬底基板F100的表面，以便在蒸镀制程中支撑精细金属掩模版(Fine Metal Mask，FMM)。有机发光功能层F304至少覆盖被像素定义层F302所暴露的像素电极。其中，有机发光功能层F304可以包括有机电致发光材料层，以及可以包括有空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层中的一种或者多种。可以通过蒸镀工艺制备有机发光功能层F304的各个膜层，且在蒸镀时可以采用精细金属掩模版或者开放式掩膜板(Open Mask)定义各个膜层的图案。公共电极层F305在显示区可以覆盖有机发光功能层F304。如此，像素电极、公共电极层F305和位于像素电极和公共电极层F305之间的有机发光功能层F304形成有机发电致光二极管F300D，任意一个有机电致发光二极管可以作为显示面板PNL的一个子像素。

在一些实施方式中，像素层F300还可以包括位于公共电极层F305远离衬底基板F100一侧的光取出层，以增强有机发光二极管的出光效率。

可选地，参见图4，显示面板PNL还可以包括薄膜封装层F400。薄膜封装层F400设于像素层F300远离衬底基板F100的表面，可以包括交替层叠设置的无机封装层和有机封装层。其中，无机封装层可以有效的阻隔外界的水分和氧气，避免水氧入侵有机发光功能层F304而导致材料降解。可选地，无机封装层的边缘可以位于外围区BB。有机封装层位于相邻的两层无机封装层之间，以便实现平坦化和减弱无机封装层之间的应力。其中，有机封装层的边缘，可以位于显示区AA的边缘和无机封装层的边缘之间。示例性地，薄膜封装层F400包括依次层叠于像素层F300远离衬底基板F100一侧的第一无机封装层F401、有机封装层F402和第二无机封装层F403。

在本公开提供的显示面板PNL的制备过程中，第一无机封装层的表面形貌随着支撑柱层的表面形貌的起伏而起伏。在支撑柱的分布密度大的区域，第一无机封装层的起伏间距(pitch)更小，使得单位区域面积上的无机材料的表面积更大，进而能够达成对液态有机材料更强的引流作用。

可选地，参见图4，显示面板PNL还可以包括降反层F500，降反层F500可以设置于薄膜封装层F400远离像素层F300的一侧，用于降低显示面板PNL对环境光线的反射，进而降低环境光线对显示效果的影响。在本公开的一种实施方式中，降反层F500可以包括层叠设置的彩膜层和黑矩阵层，如此可以在实现降低环境光线干扰的同时，可以避免降低显示面板PNL的透光率。在本公开的另一种实施方式中，降反层F500可以为偏光片，例如可以为图案化的涂布型圆偏光片。

可选地，参见图4，显示面板PNL还可以包括触控功能层F600，触控功能层F600设于薄膜封装层F400远离衬底基板F100的一侧，用于实现显示面板PNL的触控操作。在本公开的一种实施方式中，触控功能层F600可以设于薄膜封装层F400和降反层F500之间。在本公开的另一种实施方式中，降反层F500可以位于触控功能层F600远离衬底基板F100的表面。

在本公开的一种实施方式中，第二显示区中的子像素的分辨率(PPI)度小于第一显示区中的所述子像素的分辨率相同。如此，可以减小第二显示区中的子像素的数量，进而降低子像素的面积占比，提高第二显示区的透光率。

当然的，在本公开的另一种实施方式中，第二显示区中的子像素的分辨率也可以与第一显示区中的所述子像素的分辨率相同。这样，可以使得第一显示区和第二显示区的发光更为均一，利于提高显示面板的显示质量。可以理解的是，在进一步地实施方式中，还可以通过减小子像素的面积的方式，减小子像素在第二显示区中的面积占比，进而在不减小第二显示区的分辨率的情况下提高第二显示区的透光率。

参见图5，在一些实施方式中，在第二显示区A2可以不设置像素驱动电路C100，以便降低像素驱动电路C100对透光率的影响并提高发光元件C200在第二显示区A2的开口率，提高第二显示区A2的透光率。位于第二显示区A2的各个发光元件C200的像素驱动电路C100，可以设置于第一显示区A1内。进一步地的，位于第二显示区A2的各个发光元件C200的像素电极F300D1包括相互连接的电极本体F300D11和电极延伸引线F300D12。其中，电极本体F300D11位于第二显示区A2内且用于作为发光元件C200的阴极或者阳极；电极延伸引线F300D12设于第一显示区A1和第二显示区A2，其一端与电极本体F300D11连接，另一端与该发光元件C200对应的像素驱动电路C100电连接。在一些实施方式中，电极延伸引线F300D12可以采用透明导电材料，例如采用透镜金属氧化物。示例性地，电极延伸引线F300D12的材料可以为ITO(氧化铟锡)。在本公开的一种实施方式中，电极延伸引线F300D12的材料可以与电极本体F300D11的材料相同且同层设置，这使得电极延伸引线F300D12与电极本体F300D11可以在相同的工序中制备出来。

换言之，在该实施方式中，本公开的显示面板PNL中的发光元件C200根据所处的位置，可以分为位于第一显示区A1的第一发光元件C201和位于第二显示区A2的第二发光元件C202。本公开的显示面板PNL中的像素驱动电路C100可以根据其所驱动的发光元件C200，分为用于驱动第一发光元件C201的第一像素驱动电路C101和用于驱动第二发光元件C202的第二像素驱动电路C102。其中，第一像素驱动电路C101的输出端与第一发光元件C201的像素电极F300D1电连接，第二像素驱动电路C102的输出端与第二发光元件C202的像素电极F300D1的电极延伸引线F300D12电连接。换言之，电极延伸引线F300D12的两端分别连接第二发光元件C202的像素电极F300D1的电极本体F300D11和第二像素驱动电路C102的输出端。

在本公开的一种实施方式中，第一显示区A1可以包括与第二显示区A2相邻的辅助显示区，第二像素驱动电路C102可以设置于辅助显示区内。

在本公开提供的一些实施方式中，第二显示区A2内不设置像素驱动电路C100，参见图5和图6，这使得像素层F300在第二显示区A2的表面低于在第一显示区A1的表面而呈现出凹坑。如此，当在制备薄膜封装层F400时，在通过喷墨打印提供液态有机材料的时候，第二显示区A2相较于第一显示区A1区域，需要更多的液态有机材料。对液态有机材料起到引流作用的支撑柱PS，如果在第一显示区A1和第二显示区A2中的分布密度相同，则不会向第二显示区A2中引入足够多的液态有机材料，这会导致液态有机材料固化所形成的有机封装层的表面在第二显示区A2倾斜，即参见图6，有机封装层F402的表面(远离衬底基板F100的表面)在第一显示区A1和第二显示区A2不共平面。该有机封装层F402的表面在第二显示区A2倾斜，将会使得透过第二显示区A2的光线发生不同程度的弯折，进而使得感光组件所检测的图像发生变形，例如摄像头感测的光斑存在变形而导致解析度下降。

而在本公开提供的技术方案中，支撑柱PS在第二显示区A2的至少部分具有更大的分布密度，这使得第二显示区A2中的支撑柱PS具有更强的引流作用，可以更好地引导第一显示区A1中的液态有机材料向第二显示区A2中流动，实现第二显示区A2从第一显示区A1“吸”液态有机材料的效果。这样，被额外引流来的液态有机材料可以更充分的填充像素层F300在第二显示区A2所形成的凹坑，实现更充分的流平，进而消除有机封装层F402的表面在第二显示区A2的倾斜，避免感光组件所感测到的图案发生形变，提高所感测的图案的解析度。示例性地，当感光组件为摄像头时，摄像头通过本公开的显示面板PNL的第二显示区A2所拍摄的图像，克服了光斑形变和解析度降低的问题，实现了更佳的拍照效果。

在本公开的一种实施方式中，参见图7和图8，第二显示区A2位于第二支撑区域D2内。如此，液态有机材料在第二显示区A2可以更充分的流平，消除有机封装层在第二显示区A2的形貌倾斜，进而更显著地提升拍照效果。

本公开还验证了不同显示面板，对摄像效果的影响。图10为摄像头透过一种显示面板的第二显示区所采集的光斑的图像，该显示面板为支撑柱均匀设置显示面板。图11为摄像头透过本公开提供的显示面板的第二显示区所采集的光斑的图像，该显示面板为支撑柱的分布密度在第二显示区增大。比较图10和图11可知，图10中的光斑发生明显形变且解析度降低；而图11中的光斑的解析度更高。

可选地，参见图7～图9，支撑区域DD的边缘位于显示区AA的边缘和外围区BB的外边缘之间，即支撑区域DD的边缘完全位于外围区BB。如此，支撑柱PS的分布区域覆盖显示区AA且向外围区BB延伸，这便于液态有机材料在显示区AA区的充分流平，以及便于将液态有机材料向外围区BB引流，以使得薄膜封装层F400的有机封装层F402的边缘位于外围区BB。

在本公开的一些实施方式中，参见图7～图9，第二显示区A2靠近显示区AA的边缘设置。换言之，第二显示区A2的边缘与外围区BB的内侧边缘部分重合，例如可以相切。这样可以尽量减少第二显示区A2的显示质量对整个显示质量的影响。在该种实施方式中，像素层F300在第二显示区A2处的凹坑靠近显示面板PNL的边缘，因此在喷墨打印形成F400的有机封装层F402时，不适宜在该位置额外增大液态有机材料的用量，以避免液态有机材料从外围区的挡坝溢出。而在本公开中，通过增大第二支撑区域D2中的支撑柱PS的分布密度，可以使得第二显示区A2处的凹坑从显示面板PNL的其他位置“吸”入更多的墨水，实现液态有机材料的充分流平。

可选地，参见图8，显示面板PNL在外围区BB设置有绑定区B1，绑定区B1设置有用于绑定电路板或者驱动芯片的绑定焊盘。第二显示区A2可以设置于显示面板PNL远离绑定区B1的一侧。

参见图7～图9，支撑区域DD具有最靠近第二显示区A2的第一边缘L1。即支撑区域DD的各个边缘中，最靠近第二显示区A2的边缘可以为第一边缘L1。在本公开的一种实施方式中，参见图7～图9，支撑区域DD的第一边缘L1位于支撑区域DD远离绑定区B1的一侧，且沿行方向H1延伸。

在本公开的一种实施方式中，参见图8、图9和图13，第二显示区A2与第一边缘L1之间的区域D3(图13中用阴影示出)位于第二支撑区域D2内。换言之，在第二显示区A2与第一边缘L1之间的区域，支撑柱PS的分布密度也增大。如此，第二显示区A2与第一边缘L1之间的区域也可以借助支撑柱PS进行引流而吸取液态有机材料，避免第二显示区A2从该区域吸取液态有机材料而导致液态有机材料不能有效流平至挡坝。

在本公开的一种实施方式中，参见图13，第二显示区A2在行方向上具有相对的端点P和端点Q，端点P和端点Q将第二显示区A2的边缘分成第一部分和第二部分，第一部分靠近第一边缘L1设置，且第二部分位于第一部分的远离第一边缘L1的一侧。第二显示区A2的边缘的第一部分，与第一边缘L1之间的区域，为第二显示区A2与第一边缘L1之间的区域D3。在行方向上，该区域D3具有相对设置的两个边缘，其中一个边缘为端点P与第一边缘L1之间的垂直线段，另一个边缘为端点Q与第一边缘L1之间的垂直线段。

在本公开的一种实施方式中，沿第一边缘L1的延伸方向，位于第二显示区A2两侧的第一显示区A1的部分区域，位于第二支撑区域D2内。换言之，支撑柱PS增大的区域，从第二显示区A2的两侧向第一显示区A1扩展，使得第二显示区A2能够从距离第二显示区A2更远的区域吸入液态有机材料，提高第二显示区A2能够吸入的液态有机材料量并减小吸入液态有机材料对周边的第一显示区A1的影响。

当然地，支撑柱PS分布密度增大的第二支撑区域D2还可以有其他设置方式，以能够满足第二显示区A2借助增大分布密度的支撑柱PS从周边的第二显示区A2吸入更多的液态有机材料为准。示例性地，在本公开的另一种实施方式中，参见图9，第二支撑区域D2的边缘与第二显示区A2的边缘之间形成连贯的环形区域。即，第二显示区A2完全位于第二支撑区域D2内，第二显示区A2周围的区域的支撑柱PS分布密度均增大。可以理解的是，本公开中，环形并不限定为严格意义上的圆环，例如还可以为方环、正五边环、正六边环或者其他规则或者不规则的环形，或者在规则或者不规则的环形的任意位置存在一个或者多个突出区域或者凹陷区域。在本公开中的连贯的环形区域，以其能够环绕第二显示区A2为准；本公开不对其内侧边缘的形状和外侧边缘的形状进行特殊的限定。

可选地，参见图9，在第一支撑区域D1内，支撑柱PS均匀分布。如此，可以提高显示面板PNL在第一支撑区域D1的均一性，也便于显示面板PNL的设计和制备。

可选地，参见图9，在第二支撑区域D2内，支撑柱PS均匀分布。如此，可以提高显示面板PNL在第二支撑区域D2的均一性，也便于显示面板PNL的设计和制备。

可选地，第二支撑区域D2中的支撑柱PS的分布密度，为第一支撑区域D1中的支撑柱PS的分布密度的1.5～4倍。如此，既可以使得第二支撑区域D2中的支撑柱PS的分布密度适度增大以增强其引流效果，又可以避免支撑柱PS的分布密度增大太多而降低显示面板PNL的均一性。

在本公开的一种实施方式中，参见图9，在第二支撑区域D2中支撑柱PS的分布密度，为第一支撑区域D1中支撑柱PS的分布密度的两倍。

示例性地，参见图9，在第一支撑区域D1中，各个支撑柱PS呈沿行方向H1、列方向H2的阵列分布。即，在第一支撑区域D1中，支撑柱PS排列成多个支撑柱行和多个支撑柱列，相邻两个支撑柱行之间的距离为第一距离，相邻两个支撑柱列之间的距离为第二距离。在同一支撑柱行中，相邻两个支撑柱PS之间的距离为第二距离；在同一支撑柱列中，相邻两个支撑柱PS之间的距离为第一距离。

参见图9，在第二支撑区域D2中，各个支撑柱PS也呈阵列分布，也可以形成多个支撑柱行和多个支撑柱列。相邻两个支撑柱行之间交错设置，相邻两个支撑柱列之间交错设置。其中，在同一支撑柱行中，相邻两个支撑柱PS之间的距离为第二距离；在同一支撑柱列中，相邻两个支撑柱PS之间的距离为第一距离。相邻两个支撑柱行之间的距离为第三距离，第三距离为第一距离的一半；相邻两个支撑柱列之间的距离为第四距离，第四距离为第二距离的一半。如此，第二支撑区域D2中支撑柱PS的分布密度，为第二支撑区域D2中支撑柱PS的分布密度的两倍。

在本公开的一种实施方式中，位于第二支撑区域中的支撑柱在衬底基板上的正投影的面积，大于位于第一支撑区域中的支撑柱在衬底基板上的正投影的面积。如此，可以使得第二支撑区域中的支撑柱具有更大的表面积，进而提高在第二显示区中对液态有机材料进行引流的引流表面积，增强引流效果。

在本公开的另一种实施方式中，支撑柱在第一支撑区域中具有第一分布密度；支撑柱在第二显示区中具有第二分布密度；第一分布密度小于第二分布密度。在第二支撑区域与第一显示区交叠的区域，沿靠近第二显示区的方向，支撑柱的分布密度逐渐增大至第二分布密度。如此，在第二显示区与第一支撑区域之间的区域，支撑柱的分布密度渐变，可以提高显示面板的均一性，降低支撑柱的分布密度改变对显示均一性的影响。

本公开实施方式还提供一种显示装置，该显示装置包括上述显示面板实施方式所描述的任意一种显示面板PNL。该显示装置可以为智能手机屏幕、智能手表、笔记本电脑屏幕或者其他类型的显示装置。由于该显示装置具有上述显示面板实施方式所描述的任意一种显示面板PNL，因此具有相同的有益效果，本公开在此不再赘述。

本公开实施方式还提供一种显示面板的制备方法，参见图12和图4，该制备方法包括：

步骤S110，提供显示背板，显示背板包括依次层叠设置的衬底基板F100、驱动电路层F200和像素层F300；显示背板包括显示区和围绕显示区的外围区；显示区包括第一显示区和第二显示区；第二显示区的透光率大于第一显示区的透光率；显示背板包括设置有支撑柱PS的支撑区域DD，支撑区域DD包括第一支撑区域D1和第二支撑区域D2；第二支撑区域D2中的支撑柱PS的分布密度大于第一支撑区域D1中的支撑柱PS的分布密度；第二显示区A2与第二支撑区域D2至少部分重合；支撑区域DD的边缘，位于显示区AA的边缘和外围区BB的外边缘之间。

步骤S120，在像素层F300远离衬底基板F100的一侧，制备薄膜封装层F400。

本公开提供的显示面板的制备方法中，显示背板在第二显示区A2处的支撑柱PS分布密度增大，利于在步骤S120中从其他位置引流液态有机材料，进而保证液态有机材料在第二显示区A2处流平，避免薄膜封装层F400的有机封装层在第二显示区A2处出现表面倾斜的问题。

可选地，可以通过如下方法实现步骤S110：

步骤S210，在衬底基板F100的表面形成驱动电路层F200；

步骤S220，在驱动电路层F200远离衬底基板F100的表面形成像素电极层F301；

步骤S230，在像素电极层F301远离衬底基板F100的表面形成像素定义层F302和支撑柱层F303；其中，支撑柱层F303形成有支撑柱，支撑柱子啊第二支撑区域的分布密度大于在第一支撑区域的分布密度；

步骤S240，在支撑柱层F303远离衬底基板F100的一侧依次形成有机发光功能层F304和公共电极层F305。

如此，可以通过步骤S210～步骤S240形成显示背板。

在本公开的一种实施方式中，在步骤S230中，可以先形成像素定义材料层并对像素定义材料层进行图案化操作，以形成像素定义层F302；然后再形成支撑柱材料层并对支撑柱材料层进行图案化操作，以形成支撑柱层F303。

在本公开的另一种实施方式中，在步骤S230中，可以先形成一层有机层，然后利用灰阶掩膜对该有机层进行图案化操作，以同时形成像素定义层F302和支撑柱层F303。

可选地，可以通过如下方法实现步骤S120：

步骤S310，在公共电极层F305远离衬底基板F100的一侧形成第一无机封装层F401。可选地，可以通过气相化学沉积法形成第一无机封装层F401。

步骤S320，在第一无机封装层F401远离衬底基板F100的表面形成有机封装层F402。其中，可以通过喷墨打印的方法形成该有机封装层。具体的，可以将液态有机材料滴加至第一无机封装层F401的表面，然后液态有机材料在支撑柱PS的引流作用下流平，并在固化后形成该有机封装层F402。

步骤S330，在有机封装层远离衬底基板F100的表面形成第二无机封装层F403。可选地，可以通过气相化学沉积法形成第二无机封装层F403。

需要说明的是，尽管在附图中以特定顺序描述了本公开中显示面板的制备方法的各个步骤，但是，这并非要求或者暗示必须按照该特定顺序来执行这些步骤，或是必须执行全部所示的步骤才能实现期望的结果。附加的或备选的，可以省略某些步骤，将多个步骤合并为一个步骤执行，以及/或者将一个步骤分解为多个步骤执行等。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由所附的权利要求指出。

Claims (13)

1.一种显示面板，包括显示区和围绕所述显示区的外围区；所述显示区包括第一显示区和第二显示区；所述第二显示区的透光率大于所述第一显示区的透光率；

所述显示面板包括设置有支撑柱的支撑区域，所述支撑区域包括第一支撑区域和第二支撑区域；所述第二支撑区域中的所述支撑柱的分布密度大于所述第一支撑区域中的所述支撑柱的分布密度；

所述支撑区域的边缘，位于所述显示区的边缘和所述外围区的外边缘之间；所述第二显示区与所述第二支撑区域至少部分重叠。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第二显示区位于所述第二支撑区域内。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述支撑区域具有最靠近所述第二显示区的第一边缘；

所述第二显示区与所述第一边缘之间的区域位于所述第二支撑区域内。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述支撑区域具有最靠近所述第二显示区的第一边缘；

沿所述第一边缘的延伸方向，位于所述第二显示区两侧的所述第一显示区的部分区域，位于所述第二支撑区域内。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第二支撑区域的边缘与所述第二显示区的边缘之间形成连贯的环形区域。

6.根据权利要求1～5任意一项所述的显示面板，其中，所述第二支撑区域中的所述支撑柱的分布密度，为所述第一支撑区域中的所述支撑柱的分布密度的1.5～4倍。

7.根据权利要求1～5任意一项所述的显示面板，其中，在所述第一支撑区域内，所述支撑柱均匀分布；和/或，

在所述第二支撑区域内，所述支撑柱均匀分布。

8.根据权利要求1～5任意一项所述的显示面板，其中，所述显示面板包括依次层叠设置的衬底基板、驱动电路层、像素层和薄膜封装层；所述支撑柱设置于所述像素层；

所述像素层还设置有子像素；所述第二显示区中的所述子像素的分辨率小于所述第一显示区中的所述子像素的分辨率。

9.根据权利要求1～5任意一项所述的显示面板，其中，所述显示面板包括依次层叠设置的衬底基板、驱动电路层、像素层和薄膜封装层；所述支撑柱设置于所述像素层；

所述像素层还设置有子像素；所述第二显示区中的所述子像素的分辨率与所述第一显示区中的所述子像素的分辨率相同。

10.根据权利要求1～5所述的显示面板，其中，所述显示面板包括子像素和驱动所述子像素的像素驱动电路；所述第二显示区中的所述子像素的像素驱动电路，设置于所述第一显示区。

11.根据权利要求1～5所述的显示面板，其中，位于所述第二支撑区域中的所述支撑柱在所述衬底基板上的正投影的面积，大于位于所述第一支撑区域中的所述支撑柱在所述衬底基板上的正投影的面积。

12.根据权利要求2～5所述的显示面板，其中，所述支撑柱在所述第一支撑区域中具有第一分布密度；所述支撑柱在所述第二显示区中具有第二分布密度；所述第一分布密度小于所述第二分布密度；

在所述第二支撑区域与所述第一显示区交叠的区域，沿靠近所述第二显示区的方向，所述支撑柱的分布密度逐渐增大至所述第二分布密度。

13.一种显示装置，包括权利要求1～12任意一项所述的显示面板。

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