CN113140654A - 一种太阳能电池金属基的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种太阳能电池金属基的制备方法，制备步骤如下：（1）金属基板由上层的铝薄层和下层的不锈钢薄层构成，利用压接设备将铝薄层压接在不锈钢薄层上；（2）清洗金属基板铝薄层，去除表面油污、杂质；（3）在金属基板铝薄层的上表面涂上水溶性感光胶，并干燥固化；（4）使用具有掩膜图案的光掩膜板放在金属基板铝薄层的上表面，曝光、显影；（5）对显影保留部分的感光胶清洗、烘干；（6）使用碱性蚀刻溶液对金属基板铝薄层进行蚀刻。本发明将基板设计为双层结构，并在铝薄层上蚀刻圆孔，降低了蚀刻难度，又能保证圆孔上设置非平面电池的要求；降低了生产难度和生产成本；同时下层的不锈钢薄层为完整的板状结构，提升了产品的耐用性。
Description
技术领域
本发明涉及太阳能电池技术领域，具体涉及一种太阳能电池金属基的制备方法。
背景技术
太阳能薄膜太阳电池具有生产成本低、污染小、容易铺设等特点，该电池具有柔软、均匀及一定的硬度和强度，适合在非平整表面贴敷，如大型建筑物的非规则幕墙、汽车顶棚等场所。现有的薄膜太阳电池为了提高铺设单位面积内电能产量，采用了平板状的层叠结构，但太阳能的吸收率和转化率仍较低，因此，需要采用立体、非平板状的电池结构，因此基板的设计和制作将影响到生产成本和产品性能等问题。
发明内容
本发明所要解决的问题是：提供一种太阳能电池金属基的制备方法，采用双层结构和开孔设计，有利于在保证产品性能的同时，降低生产成本。
本发明是通过以下技术方案实现的：
一种太阳能电池金属基的制备方法，其特征在于，制备步骤如下：
（1）金属基板由上层的铝薄层和下层的不锈钢薄层构成，先将不锈钢薄层展开，然后利用压接设备将铝薄层压接在不锈钢薄层上；
（2）清洗金属基板铝薄层的上表面，去除表面油污、杂质；
（3）在金属基板铝薄层的上表面涂上水溶性感光胶，并干燥固化；
（4）使用具有掩膜图案的光掩膜板放在金属基板铝薄层的上表面，用紫外光照射感光胶进行曝光，然后加入显影剂形成蚀刻图案；
（5）对显影保留部分的感光胶清洗、烘干，使保留部分的感光胶形成保护层；
（6）使用碱性蚀刻溶液对金属基板铝薄层进行蚀刻，完成蚀刻后将蚀刻容易清洗干净；
（7）将作为保护层的感光胶剥离掉，完成金属基板制作。
进一步地，所述金属基板总厚度为400-1000μm，铝薄层的厚度占总厚度的为40%-50%。
进一步地，所述的蚀刻图案为圆孔排列成的矩阵形状。
进一步地，所述紫外光的强度250-1000mw/ cm2、曝光时间20-120s。
进一步地，所述的碱性蚀刻溶液为氢氧化钠溶液。
本发明的有益效果是：本发明将基板设计为双层结构，并在铝薄层上蚀刻圆孔，可以降低蚀刻难度，又能保证圆孔上设置非平面电池的要求；降低了生产难度，降低了生产成本；同时下层的不锈钢薄层为完整的板状结构，提升了产品的耐用性。
具体实施方式
下面结合具体实例进一步阐述本发明的技术方案。
一种太阳能电池金属基的制备方法，制备步骤如下：
（1）金属基板由上层的铝薄层和下层的不锈钢薄层构成，所述金属基板总厚度为1000μm，铝薄层的厚度为400μm；先将不锈钢薄层展开，然后利用压接设备将铝薄层压接在不锈钢薄层上；
（2）清洗金属基板铝薄层的上表面，去除表面油污、杂质；
（3）在金属基板铝薄层的上表面涂上水溶性感光胶，并干燥固化；
（4）使用具有掩膜图案的光掩膜板放在金属基板铝薄层的上表面，用紫外光照射感光胶进行曝光，所述紫外光的强度250-1000mw/ cm2、曝光时间20-120s，然后加入显影剂形成蚀刻图案，所述的蚀刻图案为圆孔排列成的矩阵形状；
（5）对显影保留部分的感光胶清洗、烘干，使保留部分的感光胶形成保护层；
（6）使用质量浓度为15%的氢氧化钠溶液对金属基板铝薄层进行蚀刻，蚀刻至露出不锈钢层即完成蚀刻，将蚀刻容易清洗干净；
（7）将作为保护层的感光胶剥离掉，完成金属基板制作。
本发明将金属基板设计为双层结构，并在铝薄层上蚀刻圆孔，可以降低蚀刻难度，又能保证圆孔上设置非平面电池的要求；降低了生产难度，降低了生产成本；同时下层的不锈钢薄层为完整的板状结构，提升了产品的耐用性。
以上实施例仅为本发明较优的实施方式，仅用于解释本发明，而非限制本发明，本领域技术人员在未脱离本发明精神实质与原理下所作的任何改变、替换、组合、简化、修饰等，均应为等效的置换方式，均应包含在本发明的保护范围内。
Claims (5)
1.一种太阳能电池金属基的制备方法，其特征在于，制备步骤如下：
（1）金属基板由上层的铝薄层和下层的不锈钢薄层构成，先将不锈钢薄层展开，然后利用压接设备将铝薄层压接在不锈钢薄层上；
（2）清洗金属基板铝薄层的上表面，去除表面油污、杂质；
（3）在金属基板铝薄层的上表面涂上水溶性感光胶，并干燥固化；
（4）使用具有掩膜图案的光掩膜板放在金属基板铝薄层的上表面，用紫外光照射感光胶进行曝光，然后加入显影剂形成蚀刻图案；
（5）对显影保留部分的感光胶清洗、烘干，使保留部分的感光胶形成保护层；
（6）使用碱性蚀刻溶液对金属基板铝薄层进行蚀刻，完成蚀刻后将蚀刻溶液清洗干净；
（7）将作为保护层的感光胶剥离掉，完成金属基板制作。
2.根据权利要求1所述的太阳能电池金属基的制备方法，其特征在于：所述金属基板总厚度为400-1000μm，铝薄层的厚度占总厚度的为40%-50%。
3.根据权利要求1所述的太阳能电池金属基的制备方法，其特征在于：所述的蚀刻图案为圆孔排列成的矩阵形状。
4.根据权利要求1所述的太阳能电池金属基的制备方法，其特征在于：所述紫外光的强度250-1000mw/ cm2、曝光时间20-120s。
5.根据权利要求1所述的太阳能电池金属基的制备方法，其特征在于：所述的碱性蚀刻溶液为氢氧化钠溶液。
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