CN113130559B - 显示装置 - Google Patents

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CN113130559B CN202011504048.8A CN202011504048A CN113130559B CN 113130559 B CN113130559 B CN 113130559B CN 202011504048 A CN202011504048 A CN 202011504048A CN 113130559 B CN113130559 B CN 113130559B
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Abstract

公开了一种显示装置，该显示装置包括显示区域、围绕显示区域的非显示区域以及形成在非显示区域的至少一侧中的弯曲区域。该显示装置包括：被设置在显示区域中的第一玻璃衬底；被设置在非显示区域中的第二玻璃衬底；被设置成与弯曲区域交叠的抗蚀刻构件；以及形成在抗蚀刻构件上方并且形成为与非显示区域交叠的链接线部。

Description

显示装置
对相关申请的交叉引用
本申请要求于2019年12月31日提交的韩国专利申请第10-2019-0180114号的优先权，该韩国专利申请通过引用并入本文，如同在本文中完全阐述一样。
技术领域
本公开内容涉及显示装置。
背景技术
通常，显示装置被广泛用作诸如移动通信终端、电子日记、电子书、便携式多媒体播放器(PMP)、导航器、超移动PC(UMPC)、移动电话、智能电话、平板个人计算机(PC)、手表电话、电子板、可佩戴设备、便携式信息设备、车辆控制显示设备、电视、笔记本电脑和显示器的各种电子设备的显示屏幕。
近来，正在进行可以通过在相同显示面板的尺寸中使其中未显示图像的边框区域减小来体现最大屏幕的显示装置的研究与开发。
对于边框弯曲，激光剥离工艺被应用于应用了常规玻璃衬底的显示装置，从而如下问题出现：由激光剥离工艺引起的缺陷可能出现并且制造成本增加。
发明内容
本公开内容的发明人一直在研究和开发可以替代激光释放工艺的技术，并且已经发明了新结构的显示装置，所述显示装置可以在没有激光释放工艺的情况下被制造。
本公开内容的目的是提供一种提高了可靠性并且可以使边框区域的宽度最小化的显示装置。
除了如上所述的本公开内容的目的之外，本领域技术人员将根据本公开内容的以下描述清楚地理解本公开内容的附加目的和特征。
根据本公开内容的一个方面，可以通过提供一种显示装置来实现上述和其他目的。该显示装置包括显示区域、围绕显示区域的非显示区域以及形成在非显示区域的至少一侧中的弯曲区域，其中，该显示装置包括：第一玻璃衬底，第一玻璃衬底被设置在显示区域中；第二玻璃衬底，第二玻璃衬底被设置在非显示区域中；抗蚀刻构件，抗蚀刻构件被设置成与弯曲区域交叠；以及链接线部，链接线部形成在抗蚀刻构件上方并且形成为与非显示区域交叠。
根据本公开内容的另一方面，可以通过提供一种显示装置来实现上述和其他目的。该显示装置包括显示区域、围绕显示区域的非显示区域以及形成在非显示区域的至少一侧中的弯曲区域，其中，该显示装置包括：第一玻璃衬底，第一玻璃衬底被设置在显示区域中；第二玻璃衬底，第二玻璃衬底被设置在非显示区域中；抗蚀刻构件，抗蚀刻构件被设置成与弯曲区域交叠；第一平坦化层，第一平坦化层被设置成覆盖抗蚀刻构件；链接线部，链接线部被部分地布置在第一平坦化层上方；第二平坦化层，第二平坦化层被设置成覆盖链接线部和第一平坦化层。
本公开内容可以提供一种可以在没有用于玻璃衬底的激光释放工艺的情况下被制造的显示装置。此外，本公开内容可以提供一种提高了可靠性并且可以使边框区域的宽度最小化的显示装置。
在根据本公开内容的一个实施方式的显示装置中，由于在与显示区域相对应的区域中未布置柔性衬底，所以可以改善由于柔性衬底导致的显示区域的亮度特性和残留图像特性。
除了如上所述的本公开内容的效果之外，本领域技术人员将根据本公开内容的以上描述清楚地理解本公开内容的附加优点和特征。
附图说明
根据以下结合附图的详细描述，将更清楚地理解本公开内容的上述和其他目的、特征和其他优点，其中：
图1是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图；
图2是沿着图1所示的线I-I’截取的横截面图；
图3A是沿着图1所示的线II-II’截取的横截面图，以及图3B是沿着图1所示的线II-II’截取的另一横截面图；
图4是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图；
图5A是沿着图4所示的线III-III’截取的横截面图，图5B是沿着图4所示的线III-III’截取的另一横截面图，以及图5C是沿着图4所示的线III-III’截取的又一横截面图；
图6A是沿着图4所示的线III-III’截取的另一横截面图，图6B是沿着图4所示的线III-III’截取的又一横截面图，图6C是沿着图4所示的线III-III’截取的又一横截面图，以及图6D是沿着图4所示的线III-III’截取的又一横截面图；
图7是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图；
图8是沿着图7所示的线IV-IV’截取的横截面图；
图9A是沿着图7所示的线V-V’截取的横截面图，以及图9B是沿着图7所示的线V-V’截取的另一横截面图；
图10是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图；以及
图11是沿着图10所示的线VI-VI’截取的横截面图。
具体实施方式
将通过参照附图描述的以下实施方式来阐明本公开内容的优点和特征及其实现方法。然而，本公开内容可以以不同的形式来实施，并且不应被解释为限于本文中阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本公开内容将是透彻和完整的，并将向本领域技术人员充分传达本公开内容的范围。此外，本公开内容仅由权利要求的范围限定。
在附图中公开的用于描述本公开内容的实施方式的形状、尺寸、比率、角度和数量仅是示例，因此，本公开内容不限于所示出的细节。在整个说明书中，相同的附图标记指代相同的元件。在以下描述中，当确定相关的已知功能或配置的详细描述不必要地使本公开内容的要点模糊时，将省略该详细描述。
在使用本说明书中描述的“包括”、“具有”和“包含”的情况下，可以添加另一部分，除非使用“仅......”。单数形式的术语可以包含复数形式，除非有相反指示。
在解释元件时，尽管没有明确的描述，但是该元件被解释为包括误差范围。
在描述位置关系时，例如，当将位置关系描述为“在......上”、“在...之上”、“在......之下”和“在...附近”时，除非使用“恰好”或“直接”，否则可以在两个其他部分之间布置一个或更多个部分。
在描述时间关系时，例如，当时间顺序被描述为“在......之后”、“随后”、“接下来”和“在......之前”时，除非使用“恰好”或“直接”，否则可以包括不连续的情况。
将理解，尽管在本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于区分一个元件和另一元件。例如，在不脱离本公开内容的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件可以被称为第一元件。
术语“至少一个”应被理解为包括相关联的所列项中的一个或更多个项的任何组合和所有组合。例如，“第一项、第二项和第三项中的至少一个”的含义表示从第一项、第二项和第三项中的两个或更多个项中提出的所有项的组合以及第一项、第二项或第三项。
如本领域技术人员可以充分理解的，本公开内容的各个实施方式的特征可以部分或整体地彼此耦合或组合，并且可以彼此不同地互操作并且在技术上被驱动。本公开内容的实施方式可以彼此独立地执行，或者可以以相互依存的关系一起执行。
在下文中，将参照附图详细描述根据本公开内容的显示装置。在整个附图中，将尽可能使用相同的附图标记指代相同或相似的部件。由于为了便于描述，附图中所示的每个元件的比例与实际比例不同，因此本公开内容不限于所示比例。
图1是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图，以及图2是沿着图1所示的线I-I’截取的横截面图。
参照图1和图2，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置包括显示区域，围绕该显示区域的非显示区域以及形成在该非显示区域的至少一侧中的弯曲区域。
显示区域DA是显示图像的区域，并且可以包括多个像素。显示区域DA可以由第一玻璃衬底110的第一平坦表面110a支承。多个像素可以以矩阵的形式布置，每个像素可以包括子像素。显示区域DA可以大体上具有矩形形状。然而，本公开内容的实施方式不限于矩形形状，并且显示区域DA可以具有随机的多边形形状。例如，根据显示装置的形状，显示区域DA可以具有三角形、五边形和六边形。在本公开内容中，为了便于描述，将描述根据矩形形状的显示装置的具有矩形形状的显示区域DA。
非显示区域NDA是围绕显示区域DA的区域，并且非显示区域NDA中可以布置有用于驱动显示区域DA的元件和电路线。
弯曲区域BA可以被限定为设置成使得显示装置被部分地弯曲的区域。因此，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置可以根据弯曲区域BA的弯曲而弯曲成具有一定的曲率半径。
此外，在根据本公开内容的一个实施方式的显示装置中，可以限定平坦区域FA、弯曲区域BA和后平坦区域RFA。在此情况下，由于弯曲区域BA与前述弯曲区域相同，因此将省略其描述。
平坦区域FA可以被限定为与第一玻璃衬底110的第一平坦表面110a交叠的区域。此外，平坦区域FA可以是包括预定非显示区域NDA、与显示区域DA交叠、围绕显示区域DA的区域。
后平坦区域RFA可以被限定为与第二玻璃衬底120的第二平坦表面120a交叠并且不与弯曲区域BA交叠的区域。后平坦区域RFA可以设置有面板驱动电路900。
此外，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置包括：第一玻璃衬底110，其设置在显示区域DA中；第二玻璃衬底120，其设置在非显示区域NDA中；抗蚀刻构件200，其设置成与弯曲区域BA交叠；以及链接线部410，其形成在抗蚀刻构件200上方并形成为与非显示区域NDA交叠。
第一玻璃衬底110可以包括设置成与弯曲区域BA交叠的第一蚀刻表面110b。在此情况下，第一蚀刻表面110b与弯曲区域BA交叠的情况可以意指第一蚀刻表面110b朝向与弯曲区域BA交叠的抗蚀刻构件200的后表面。此外，如果显示装置的弯曲区域BA未设置有第一蚀刻表面110b，则由于显示装置不可以弯曲，因此显示装置的弯曲区域BA可以被限定成与第一蚀刻表面110b交叠。
此外，第一玻璃衬底110可以包括第一平坦表面110a以及被布置在第一平坦表面110a的一侧处的第一蚀刻表面110b，并且还可以包括面对第一平坦表面110a的第一后表面110c。
此外，第一玻璃衬底110可以由作为在第一平坦表面110a与第一蚀刻表面110b之间的边界的第一端E1以及作为在第一蚀刻表面110b与第一后表面110c之间的边界的第二端E2限定。第一蚀刻表面110b的倾斜可以由连接第一端E1和第二端E2的倾斜表面限定。参照图1和图2，尽管第一蚀刻表面110b被示出为具有凸形弯曲表面，但是本公开内容的实施方式不限于该示例。稍后将参照图5A至图5C以及图6A至图6D描述第一蚀刻表面110b的各种形状。
第二玻璃衬底120可以包括设置成与弯曲区域BA交叠的第二蚀刻表面120b。在此情况下，第二蚀刻表面120b与弯曲区域BA交叠的情况可以意指第二蚀刻表面120b朝向与弯曲区域BA交叠的抗蚀刻构件200的后表面。此外，如果显示装置的弯曲区域BA未设置有第二蚀刻表面120b，则由于显示装置不可以弯曲，因此显示装置的弯曲区域BA可以被限定为与第二蚀刻表面120b交叠。
此外，第二玻璃衬底120可以包括第二平坦表面120a以及被布置在第二平坦表面120a的一侧处的第二蚀刻表面120b，并且还可以包括面对第二平坦表面120a的第二后表面120c。
此外，第二玻璃衬底120可以由作为在第二平坦表面120a与第二蚀刻表面120b之间的边界的第三端E3以及作为在第二蚀刻表面120b与第二后表面120c之间的边界的第四端E4限定。第二蚀刻表面120b的倾斜可以由连接第三端E3和第四端E4的倾斜表面限定。参照图1和图2，尽管第二蚀刻表面120b被示出为具有凸形弯曲表面，但是本公开内容的实施方式不限于该示例。稍后将参照图5A至图5C以及图6A至图6D描述第二蚀刻表面120b的各种形状。在第二玻璃衬底120的第二平坦表面120a中可以设置焊盘区域，并且可以设置有面板驱动电路900。
第一玻璃衬底110和第二玻璃衬底120可以包括玻璃材料。根据一个示例的第一玻璃衬底110和第二玻璃衬底120可以具有0.01mm至1.0mm的厚度，以保持第一平坦表面110a和第二平坦表面120a的平坦度或者防止水或氧气渗透至显示装置中。然而，第一玻璃衬底110和第二玻璃衬底120的厚度不限于上述示例，并且可以根据显示装置的设计条件而改变。
此外，如果第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b如图2所示形成，可以认为蚀刻表面具有底切UC结构或倒锥形形状。在此情况下，底切UC可以意指：当假设第二端E2和第四端E4对应于开口图案时，第一端E1和第三端E3形成为比用于蚀刻的开口图案更宽。稍后将参照图5A至图5C以及图6A至图6D描述第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的详细结构。
抗蚀刻构件200可以布置成与弯曲区域BA交叠。例如，抗蚀刻构件200可以布置成仅与弯曲区域BA交叠。
抗蚀刻构件200可以是用于当执行根据本公开内容的一个实施方式的制备第一玻璃衬底110和第二玻璃衬底120所需的蚀刻工艺时防止与第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b交叠的显示装置被蚀刻损坏的元件。因此，抗蚀刻构件200可以布置成与显示装置的弯曲区域BA交叠。
此外，抗蚀刻构件200可以包括弯曲区域BA，并且可以与延伸至弯曲区域BA的一侧的第一玻璃衬底110的第一平坦表面110a交叠并且与延伸至弯曲区域BA的另一侧的第二玻璃衬底120的第二平坦表面120a交叠。
在此情况下，抗蚀刻构件200可以由基于有机物的材料、具体地为具有对玻璃蚀刻溶液具有抵抗力的材料制成。例如，作为用于玻璃蚀刻的蚀刻溶液，可以使用包括氢氟酸HF或硝酸HNO3的蚀刻溶液，并且玻璃蚀刻可以是湿蚀刻工艺。抗蚀刻构件200可以包括基于硅酮的有机物质、尿烷(urethane)、聚酰亚胺(polyimide)和光丙烯酸(photo acryl)中的至少一种。
抗蚀刻构件200用于在形成第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的处理中保护被布置在其上的元件。抗蚀刻构件200可以具有比与第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b交叠的区域更宽的尺寸，或者可以具有比弯曲区域BA更宽的尺寸。
根据一个示例的抗蚀刻构件200可以防止显示装置被用于形成第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的玻璃蚀刻工艺的蚀刻溶液损坏。抗蚀刻构件200可以由对用于玻璃蚀刻工艺的蚀刻溶液具有耐腐蚀性(或耐受性)的材料制成。
根据一个示例，抗蚀刻构件200可以以将材料喷射至通过诸如狭缝涂布机、喷墨器和分配器的机械方式设定的位置的形式来制备，或者可以通过使用光刻掩模的图形化工艺来制备。
以这种方式，由于根据本公开内容的一个实施方式的显示装置包括被布置在第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b与第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b之间的抗蚀刻构件200，抗蚀刻构件200与弯曲区域BA和链接线部410交叠，所以可以防止显示装置被形成第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的玻璃蚀刻工艺损坏。
抗蚀刻构件200可以被称为蚀刻停止图案、蚀刻阻挡图案、蚀刻掩模图案等。
此外，考虑到在形成第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b与第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的处理中基于蚀刻的工艺裕度，抗蚀刻构件200可以形成为甚至与延伸至弯曲区域BA的一侧和另一侧的区域交叠。详细地，抗蚀刻构件200可以形成为与第一玻璃衬底110的第一平坦表面110a和第二玻璃衬底120的第二平坦表面120a交叠多达预定面积。如果抗蚀刻构件200形成为延伸至弯曲区域BA的一侧和另一侧，则可以改善用于形成第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b与第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的蚀刻工艺的稳定性。
此外，如图4所示，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置还可包括粘合构件800，粘合构件800用于在弯曲区域BA弯曲的情况下将第一玻璃衬底110的第一后表面110c固定至第二玻璃衬底120的第二后表面120c，使得第一玻璃衬底110的第一后表面110c设置成面对第二玻璃衬底120的第二后表面120c。
粘合构件800可以是但不限于光学透明粘合剂(OCA)、光学透明树脂(OCR)、压敏粘合剂(PSA)、双面粘合剂或双面胶带。
第一玻璃衬底110可以包括第一平坦表面110a和被布置在第一平坦表面110a的一侧处的第一蚀刻表面110b，并且还可以包括面对第一平坦表面110a的第一后表面110c。
第一玻璃衬底110的第一平坦表面110a可以与显示区域DA和显示装置的平坦区域FA交叠。
第一玻璃衬底110是显示区域DA的基础衬底，并且在第一玻璃衬底110上方可以布置有与包括稍后将描述的像素阵列层310的显示区域DA相对应的元件。
第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b可以形成为与抗蚀刻构件200交叠。
第一蚀刻表面110b可以形成在除了来自第一玻璃衬底110与显示区域DA和弯曲区域BA交叠的上表面的第一平坦表面110a之外的其他部分中。根据本公开内容，可以对具有平板型的第一玻璃衬底110执行蚀刻工艺以部分地去除(或蚀刻)第一平坦表面110a，从而可以以同时具有非平坦结构的流线型凸面截面形状形成第一蚀刻表面110b。此外，第一蚀刻表面110b可以设置成具有与第一平坦表面110a连续的表面。
第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b可以具有倒锥形形状和弯曲表面，并且可以设置成与抗蚀刻构件200接触。稍后将参照图4、图5A至图5C以及图6A至图6D描述包括第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的弯曲区域BA的详细结构。
此外，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置还可以包括依次形成在显示区域DA的第一玻璃衬底110的第一平坦表面110a上方的像素阵列层310、外覆层320、触摸传感器层330和功能膜340。
像素阵列层310包括设置在由设置在显示区域DA上方的像素驱动线限定的像素区域中的多个像素，从而根据提供至像素驱动线的信号来显示图像。在此情况下，像素驱动线可以包括数据线、栅极线和像素驱动电源。每个像素可以包括像素电路层、阳极电极层、自发光二极管层和阴极电极层。
根据本公开内容的一个实施方式的像素阵列层310可以直接形成在第一玻璃衬底110上方，而无需牺牲层、层间电介质层或缓冲层。
像素电路层设置在每个像素区域的晶体管区域中，并且根据从相邻像素驱动线提供的信号来被驱动以控制自发光二极管层的发光。根据一个示例的像素电路层可以包括至少两个薄膜晶体管和至少一个电容器，该至少两个薄膜晶体管包括设置在第一玻璃衬底110上方限定的每个像素区域的晶体管区域中的驱动薄膜晶体管。在此情况下，像素电路层可以包括非晶薄膜晶体管(a-SiTFT)、多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFT)、氧化物TFT和有机TFT中的至少一个TFT。阳极电极层可以与驱动薄膜晶体管电连接。
自发光二极管层形成在阳极电极层上方，阳极电极层设置在每个像素的开口区域中。在此情况下，每个像素区域的开口区域可以由堤部图案限定，堤部图案形成在外覆层上方以覆盖阳极电极层的边缘。
根据一个示例的自发光二极管层可以包括有机发光二极管、量子点发光二极管或无机发光二极管。例如，自发光二极管层可以形成在依次沉积的空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和电极注入层的沉积结构中。在此情况下，可以省略空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的一个或两个或更多个。有机发光层可以形成为每个像素发射相同颜色的光例如白光，或者可以形成为每个像素发射不同颜色的光例如红光、绿光或蓝光。
阴极电极层形成在第一玻璃衬底110上方以共同地连接至每个像素区域中设置的自发光二极管层。
此外，像素阵列层310还可以包括焊盘部分和栅极驱动电路。
焊盘部分可以包括设置在第一玻璃衬底110的至少一侧的边缘处的多个焊盘电极。多个焊盘电极中的每一个焊盘电极通过多个链接线中的每一个链接线与设置在像素阵列层310中的像素驱动线电连接，并且与栅极驱动电路电连接。焊盘部分与面板驱动电路900电连接，并且通过链接线部410将从面板驱动电路900提供的信号提供至设置在像素阵列层310中的像素驱动线和栅极驱动电路。
栅极驱动电路可以设置在第一玻璃衬底110的左边缘和/或右边缘处，以与多个栅极线中的每一个栅极线的一端和/或另一端连接。栅极驱动电路响应于通过焊盘部分提供的栅极控制信号而生成栅极信号，并将所生成的栅极信号提供至多个栅极线中的每一个栅极线。栅极驱动电路可以是但不限于使用每个像素的薄膜晶体管的制造工艺一起形成的栅极内置电路。
外覆层320形成在第一玻璃衬底110上方以围绕像素阵列层310。外覆层320可以形成为保护像素阵列层310免受外部冲击，并且可以用于防止氧气和/或水和颗粒渗透至像素阵列层310中。外覆层320可以被称为封装层。
根据一个示例的外覆层320可以包括至少一个无机膜。外覆层320还可以包括至少一个有机膜。例如，外覆层320可以包括第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。第一无机封装层和第二无机封装层可以包括氧化硅SiOx、氮化硅SiNx、氧氮化硅SiON、氧化钛TiOx和氧化铝AlOx中的至少一种无机材料。有机封装层可以由丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂和苯并环丁烯树脂中的任何一种有机材料制成。有机封装层可以表示为颗粒覆盖层。
触摸传感器层330可以设置在外覆层320的上表面上方。触摸传感器层包括互电容型或自电容型触摸传感器或者具有根据用户的触摸产生的电容变化的触摸电极。
功能膜340设置在触摸传感器层330上方，并且通过使从像素阵列层310的每个像素发出的光偏振或防止外部光反射来改善显示装置的光学特性。例如，功能膜340通过将由薄膜晶体管和/或设置在每个像素中的线反射的外部光改变成圆偏振状态来改善显示装置的可视性和对比度。例如，根据一个示例的功能膜340可以包括圆偏振器。可选地，可以以包括圆偏振器的膜类型形成偏振层，并且通过粘合剂将该偏振层附接至触摸传感器层上。
此外，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置还可以包括：第一平坦化层430，其被布置在链接线部410上方的非显示区域中；以及微覆层600，其覆盖第一平坦化层430。
链接线部410可以是但不限于数据链接线和栅极链接线中的一个。
根据一个示例，链接线部410可以由具有优异的柔韧性和导电性的材料形成，以减少在弯曲区域BA的弯曲期间的裂纹的出现。例如，链接线部410可以由与构成像素阵列层310的薄膜晶体管的源电极或漏电极的导电材料相同的导电材料通过相同的工艺形成，但也可以由另一材料形成而不限于上面的示例。
第一平坦化层430可以由与构成显示区域DA的像素阵列层310的平坦化层的材料相同的材料通过相同的工艺形成，并且可以通过图案化从平坦化层识别出第一平坦化层430，但是第一平坦化层430也可以由另一材料形成而不限于上面的示例。第一平坦化层430可以由诸如光丙烯酸或BCB的有机基绝缘材料制成。
微覆层600可以形成在弯曲区域BA和后平坦表面RFA的第一玻璃衬底110、第二玻璃衬底120、链接线部410和抗蚀刻构件200上方。
微覆层600可以用作通过在弯曲位置以薄厚度形成树脂来保护线，因为可能由于在弯曲期间作用于被布置在抗蚀刻构件200上方的链接线部410中的拉力而产生裂纹。微覆层600可以由基于丙烯酸的材料例如丙烯酸酯聚合物制成。
微覆层600可以控制弯曲区域BA的中性平面。中性平面可以意指虚拟平面，对于该虚拟平面，当结构弯曲时，未作为压缩力施加的应力与施加于结构的张力是平衡的。如果两个或更多个结构被沉积，则可以在结构之间形成虚拟中性平面。如果结构在一个方向上被弯曲，则通过弯曲来压缩基于中性平面在弯曲方向上布置的结构，从而将压缩力施加至结构。相反，通过弯曲来拉伸基于中性平面在与弯曲方向相反的方向上布置的结构，从而将张力施加至所述结构。由于所述结构对于张力比压缩力更容易受到损伤，因此当将张力施加于所述结构时，很可能出现裂纹。
由于基于中性平面被布置在下部的抗蚀刻构件200被压缩，因此可以将压缩力施加至抗蚀刻构件200，并且可以将张力施加至被布置在上部的链接线部410，从而可能由于张力而出现裂纹。因此，微覆层600可以被布置在中性平面上以使施加至链接线部410的张力最小化。
微覆层600可以被布置在弯曲区域BA上以沿向上的方向上升中性平面，并且中性平面可以形成在与线相同的位置处，或者该线可以布置成比中性平面更高，从而在弯曲期间可以不施加应力或者可以施加压缩力来减少裂纹的出现。
面板驱动电路900可以被封装在第二玻璃衬底120中，以将用于显示图像的信号提供至像素阵列层310。根据一个示例的面板驱动电路900可以包括柔性电路膜930和驱动集成电路910。柔性电路膜930可以通过膜附接工艺附接至第二玻璃衬底120的一侧。
驱动集成电路910通过芯片接合工艺或表面封装工艺被封装在柔性电路膜930中。驱动集成电路910基于时序同步信号和从外部显示驱动系统提供的图像数据来生成数据信号和栅极控制信号，将数据信号提供至每个像素的数据线，并且将栅极控制信号提供至外部栅极驱动电路。
可选地，驱动集成电路910可以通过被封装在第二玻璃衬底120中而不被封装在柔性电路膜930中来电连接至焊盘部分，并且可以电连接至像素驱动信号线和栅极驱动电路中的每一个。在此情况下，柔性电路膜930用作中继焊盘部分与显示驱动系统之间的信号传输。
图3A是沿着图1所示的线II-II’截取的横截面图，以及图3B是沿着图1所示的线II-II’截取的另一横截面图。由于图3A和图3B中的显示装置除了弯曲区域BA的切割表面之外与图1和图2中描述的显示装置相同，因此将省略重复的描述。
如图3A和图3B所示，链接线部410可以形成在抗蚀刻构件200上并且与另一链接部以预定间隔间隔开，以及第一平坦化层430可以布置成覆盖链接线部410。
第一平坦化层430可以由诸如光丙烯酸或BCB的有机基绝缘材料制成。此外，可以通过与形成显示区域DA的像素阵列层时所使用的平坦化层相同的工艺来制备第一平坦化层430，但是本公开内容的实施方式不限于该示例。
如图3B所示，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置还可以包括被布置在抗蚀刻构件200下方的弹性构件700。在此情况下，弹性构件700可以用作诸如防潮构件、填充构件或伸长构件的术语。弹性构件700可以被布置在与弯曲区域BA交叠的抗蚀刻构件200的后表面下方。
具有优异的防潮特性的材料可以用作弹性构件700，例如，诸如凝灰岩的材料可以用作弹性构件700。弹性构件700可以应用于沉积在抗蚀刻构件200的后表面下方，并且可以形成为与弯曲区域BA交叠。
弹性构件700可以被填充(或掩埋)以与第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b、第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b和抗蚀刻构件200交叠。弹性构件700可以防止水或氧气通过与第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b相邻的抗蚀刻构件200渗透至显示装置中。此外，弹性构件700可以防止与第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b相邻的抗蚀刻构件200在显示装置的反复弯曲(或折叠)期间被损坏。
由于弹性构件700形成为与与显示装置的弯曲区域BA交叠的抗蚀刻构件200、以及第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b交叠，所以基于弹性构件700的宽度和厚度的形状可以基于下述中性平面的位置来设置：所述中性平面的位置基于在显示装置的弯曲区域BA的弯曲(或折叠)期间施加至显示装置的弯曲区域BA的压缩应力和张应力。
根据一个示例的弹性构件700可以以如下方式形成：通过喷射工艺或分配工艺在抗蚀刻构件200和第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b以及第二玻璃衬底的第二蚀刻表面120b中填充(或埋入)例如有机树脂的液体树脂，然后通过光硬化工艺硬化。
当弹性构件700由液态树脂制成时，弹性构件700可以被填充(或渗透)至抗蚀刻构件200与玻璃衬底之间的与第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b相邻的间隙中。为此，弹性构件700可以包括具有防潮特性同时具有粘合特性的材料，并且可以包括通过UV硬化的光学结合剂。例如，弹性构件700可以包括基于丙烯酸或基于硅酮的有机粘合材料。弹性构件700可以具有100％或更大的伸长率。
此外，由于根据本公开内容的一个实施方式的显示装置还包括被填充成与抗蚀刻构件200以及第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b交叠的弹性构件700，因此可以使显示装置的弯曲可靠性最大化或者防止显示装置的弯曲可靠性劣化，并且可以更大的改善对于水或氧气的可靠性。
因此，即使没有激光释放工艺也可以制造根据本公开内容的一个实施方式的显示装置，并且可以提高对于水或氧气的可靠性以及弯曲可靠性。此外，由于可以在没有激光释放工艺的情况下设置设置有弯曲区域BA的显示装置，因此可以提高生产率。
图4是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图，以及图5A是沿着图4所示的线III-III’截取的横截面图。示出了图4和图5A的显示装置以180°向内弯曲，使得图1中的显示装置的第二玻璃衬底120被布置在第一玻璃衬底110的后表面下方。
如图4以及图5A至图5C中所示，第二玻璃衬底120可以以180°朝向显示装置的内侧弯曲，并且可以弯曲成使得第二玻璃衬底120的第二后表面120c面对第一玻璃衬底110的第一后表面110c。此外，在第二玻璃衬底120的第二后表面120c与第一玻璃衬底110的第一后表面110c之间还可以布置用于将第二玻璃衬底120的第二后表面120c固定至第一玻璃衬底110的第一后表面110c的粘合构件800。
由于弯曲区域布置成以弯曲形状通过玻璃蚀刻工艺在第一玻璃衬底110上方的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120上方的第二蚀刻表面112b上方弯曲，因此根据本公开内容的一个实施方式的显示装置可以具有最小化的边框区域。更详细地，不同于常规显示装置，由于第一玻璃衬底110的第一后表面110c和第二玻璃衬底120的第二后表面120c不被布置在同一线上，因此第二玻璃衬底120的第二后表面120c具有弯曲结构以面对第一玻璃衬底110的第一后表面110c，从而可以设置非显示区域NDA被最小化的显示装置。
可以通过基于过蚀刻条件的玻璃蚀刻工艺形成根据本公开内容的一个实施方式的第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b。在此情况下，过蚀刻条件可以由在参考蚀刻时间或更长时间内执行的玻璃蚀刻工艺来限定，该蚀刻时间被设置成蚀刻一定厚度的玻璃。
第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b可以以下述方式形成：在玻璃衬底(未示出)的后表面下方形成掩模图案，该掩模图案与除了弯曲区域BA以外的其他区域FA和RFA交叠，并且然后通过玻璃蚀刻工艺、使用掩模图案作为掩模、基于过蚀刻条件以倾斜形状蚀刻与弯曲区域BA交叠的玻璃衬底的区域。在此情况下，玻璃衬底(未示出)意指在通过玻璃蚀刻工艺将第一玻璃衬底110和第二玻璃衬底120彼此分离之前的玻璃衬底。
第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b可以形成为具有凸形弯曲形状的倾斜表面。在此情况下，第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的横截面积可以随着这些蚀刻表面变得远离第一平坦表面110a和第二平坦表面120a而增大。例如，第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b的横截面积和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的横截面积可以由基于与第一平坦表面110a和第二平坦表面120a平行的水平面切割的水平切割平面的尺寸来限定。第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b可以被指定为具有倒锥形形状。
根据本公开内容的一个实施方式的显示装置还可以包括被布置在功能膜340上方的粘合层350和设置在粘合层350上方的盖窗500。
粘合层350可以包括压敏粘合剂、泡沫型粘合剂、液体粘合剂、光固化粘合剂或另一合适的粘合剂材料。在一些实施方式中，粘合层350可以由压缩材料形成或包括压缩材料，并且因此可以用作用于被粘合层350粘合的部分的缓冲构件。例如，粘合层350的材料可以被压缩。粘合层350可以形成在多层结构中，该多层结构包括被布置在粘合材料层的上层和下层之间的缓冲层。
盖窗500可以布置成覆盖显示装置的前表面和弯曲区域BA，并且可以用于保护显示装置免受外部冲击。根据一个示例的盖窗500可以由透明材料、玻璃材料或增强玻璃材料制成。
此外，显示装置还可以包括用于将第一玻璃衬底110的第一后表面110c固定至第二玻璃衬底120的第二后表面120c的粘合构件800，但是可以根据显示装置的设计省略粘合构件800。
如图4以及图5A至图5C中所示，根据本公开内容的一个实施方式，与弯曲区域BA交叠的第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b可以设置成与抗蚀刻构件200直接接触。此时，由于第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b可以引导抗蚀刻构件200以及弯曲区域的链接线部410的弯曲，这些蚀刻表面被称为弯曲引导部。
图5B是沿着图4所示的线III-III’截取的另一横截面图，以及图5C是沿着图4所示的线III-III’截取的另一横截面图。由于图5B和图5C的显示装置鉴于第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的形状而不同于图5A的显示装置，因此将省略重复的描述。
参照图5B，第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的至少一部分具有倒锥形形状或底切UC结构，并且可以包括大体上平行于第三方向Z的垂直蚀刻表面。第一方向X和第二方向Y可以指示在平面上彼此正交的随机方向，并且在本公开内容中，与基于图1的显示装置的短边平行的方向被限定为第一方向X，并且与第一方向正交的方向被限定为第二方向Y。接着，第三方向Z被限定为垂直于由第一方向X和第二方向Y设置的平面的方向。
因此，可以设置图5B所示的显示装置，使得第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的至少一部分与抗蚀刻构件200接触，并且第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的至少一部分不与抗蚀刻构件200接触。因此，在图5B的显示装置中，与弯曲区域BA交叠的抗蚀刻构件200、链接线部410、第一平坦化层430和微覆层600可以以预定距离彼此间隔开以具有自由度。
如图5C的截面图所示，如果第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的至少一部分不与抗蚀刻构件200接触，则可以在抗蚀刻构件200下方附加的设置弹性构件700。因此，由于在抗蚀刻构件200的下方附加的设置了弹性构件700，因此弹性构件700可以支承与弯曲区域BA交叠的抗蚀刻构件200。由于弹性构件700与图3B中描述的弹性构件相同，因此，将省略其重复描述。此外，尽管图5C示出了在第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b与抗蚀刻构件200之间未沉积有弹性构件700，但是可以设置弹性构件700以填充在第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b与抗蚀刻构件200之间的微小间隙。
图6A是沿着图4所示的线III-III’截取的另一横截面图，图6B是沿着图4所示的线III-III’截取的又一横截面图，图6C是沿着图4所示的线III-III’截取的又一横截面图，以及图6D是沿着图4所示的线III-III’截取的又一横截面图。
参照图6A至图6D，第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b可以具有正锥形形状和弯曲表面，并且可以设置成不与抗蚀刻构件200接触。
可以通过根据软蚀刻条件的玻璃蚀刻工艺形成根据本公开内容的一个实施方式的第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b。在此情况下，软蚀刻条件可以由玻璃蚀刻工艺来限定，该玻璃蚀刻工艺所执行的时间小于设置成蚀刻一定厚度的玻璃的参考蚀刻时间。
第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b可以以下述方式形成：在玻璃衬底(未示出)的后表面下方形成掩模图案，该掩模图案与除了弯曲区域BA之外的其他区域FA和RFA交叠，并且然后通过玻璃蚀刻工艺、使用掩模图案作为掩模、基于软蚀刻条件以倾斜形状蚀刻与弯曲区域BA交叠的玻璃衬底的区域。在此情况下，玻璃衬底(未示出)意指在通过玻璃蚀刻工艺将第一玻璃衬底110和第二玻璃衬底120彼此分离之前的玻璃衬底。
第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b可以形成为具有凸形弯曲形状或线性形状的倾斜表面。在此情况下，第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的截面积可以随着这些蚀刻表面变得远离第一平面110a和第二平坦表面120a而减小。例如，第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b的截面积和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的截面积可以由基于与第一平坦表面110a和第二平坦表面120a平行的水平面切割的水平切割平面的尺寸来限定。第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b可以被指定为具有正锥形形状。
如图6A至图6C所示，根据本公开内容的一个实施方式的第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b可以具有正锥形结构，并且因此可以不与抗蚀刻构件200接触。此外，如图6C所示，显示装置还可以包括设置在抗蚀刻构件200下方的弹性构件700。
参照图6D，第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b可以具有不锋利的圆形边缘端或残端。具有圆形边缘端或残端的第一玻璃衬底110的第一蚀刻表面110b和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的结构可以是在支承抗蚀刻构件200时应力缓慢分散的结构，从而可以提高显示装置的可靠性。此外，尽管图6D示出了在第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b与抗蚀刻构件200之间未沉积弹性构件700，但是可以设置弹性构件700以填充在第一蚀刻表面110b和第二蚀刻表面120b与抗蚀刻构件200之间的微小间隙。
图7是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图，以及图8是沿着图7所示的线IV-IV’截取的横截面图。由于图7和图8的显示装置除了非显示区域和弯曲区域的结构被修改之外与图1至图6D中的显示装置相同，因此将省略重复的描述。
参照图7和图8，根据本公开内容的一个实施方式的显示装置包括：第一玻璃衬底110，其设置在显示区域DA中；第二玻璃衬底120，其设置在非显示区域NDA中；抗蚀刻构件200，其设置成与弯曲区域BA交叠；以及链接线部410，其形成在抗蚀刻构件200上方且形成为与非显示区域NDA交叠，其中，链接线部410还可以包括被布置在非显示区域NDA的抗蚀刻构件200上方的第一平坦化层430和被布置在第一平坦化层430上方的第二平坦化层450。
第一平坦化层430可以由与构成显示区域DA的像素阵列层310的平坦化层的材料相同的材料通过相同的工艺形成，并且可以通过图案化从平坦化层中识别出第一平坦化层430，但是第一平坦化层430也可以由另一材料形成而不限于上面的示例。第一平坦化层430可以由诸如光丙烯酸或BCB的有机基绝缘材料制成。
第二平坦化层450可以由但不限于与第一平坦化层430的厚度和材料相同的厚度和相同的材料形成。例如，第一平坦化层430可以以第一厚度形成，以及第二平坦化层450可以以第二厚度形成，其中，第一厚度和第二厚度可以彼此不同。
此时，可以在第一平坦化层430与第二平坦化层450之间设置链接线部410。详细地，可以在第一平坦化层430上方设置链接线部410。此外，可以在第一平坦化层430上方设置面板驱动电路900的柔性电路膜930。
抗蚀刻构件200可以包括Cr、Al、Pt、Au和Ni中的至少一种。
此时，如果抗蚀刻构件200设置有包括Cr、Al、Pt、Au和Ni中的至少一种的金属并且布置成与形成在抗蚀刻构件200上方的链接线部410接触，则可能出现链接线部的驱动问题。因此，链接线部410可以形成在第一平坦化层430上方并且与抗蚀刻构件200间隔开。
图9A是沿着图7所示的线V-V’截取的横截面图，以及图9B是沿着图7所示的线V-V’截取的另一横截面图。
参照图9A，在第一平坦化层430上方可以布置有链接线部410，并且在第一平坦化层430和链接线部410上方可以布置有第二平坦化层。因此，链接线部410可以形成在第一平坦化层430上方，并且与抗蚀刻构件200间隔开。以这种方式，形成两层的平坦化层的结构可以应用于根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的非显示区域。因此，尽管形成两层的平坦化层的结构可以应用于根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的显示区域，但是本公开内容的实施方式不限于此示例，因为显示区域DA的结构和非显示区域NDA的结构可以形成为彼此不同。
图10是示出根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的透视图，以及图11是沿着图10所示的线VI-VI’截取的横截面图。由于图10和图11的显示装置除了非显示区域的结构被修改之外与图4和图6A的显示装置相同，因此将省略重复的描述。
如图10和图11所示，在第一平坦化层430上方可以布置有链接线部410，并且在第一平坦化层430和链接线部410上方可以布置有第二平坦化层450。形成两层的平坦化层的结构可以应用于根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的非显示区域。因此，尽管形成两层的平坦化层的结构可以应用于根据本公开内容的一个实施方式的显示装置的显示区域，但是本公开内容的实施方式不限于此示例，因为显示区域DA的结构和非显示区域NDA的结构可以形成为彼此不同。
此外，图5A至图5C以及图6A至图6D中的第一玻璃衬底100的第一蚀刻表面110b的结构和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的结构可以应用于图11中的第一玻璃衬底100的第一蚀刻表面110b的结构和第二玻璃衬底120的第二蚀刻表面120b的结构。
根据本公开内容的一个实施方式的显示装置可以描述如下。
根据本公开内容的一个实施方式的显示装置涉及包括显示区域、围绕显示区域的非显示区域以及形成在非显示区域的至少一侧中的弯曲区域的显示装置，并且该显示装置包括：第一玻璃衬底，第一玻璃衬底被设置在显示区域中；第二玻璃衬底，第二玻璃衬底被设置在非显示区域中；抗蚀刻构件，抗蚀刻构件被设置成与弯曲区域交叠；以及链接线部，链接线部形成在抗蚀刻构件上方并且形成为与非显示区域交叠。
根据本公开内容的一些实施方式，第一玻璃衬底可以包括被设置成与弯曲区域交叠的第一蚀刻表面。
根据本公开内容的一些实施方式，第二玻璃衬底可以包括被设置成与弯曲区域交叠的第二蚀刻表面。
根据本公开内容的一些实施方式，抗蚀刻构件可以包括金属或有机物质。
根据本公开内容的一些实施方式，抗蚀刻构件可以包括基于硅酮的有机物质、尿烷、聚酰亚胺和光丙烯酸中的至少一种。
根据本公开内容的一些实施方式，抗蚀刻构件可以包括Cr、Al、Pt、Au和Ni中的至少一种。
根据本公开内容的一些实施方式，显示装置还可以包括覆盖链接线部的第一平坦化层。
根据本公开内容的一些实施方式，显示装置还可以包括：第一平坦化层，第一平坦化层被布置在抗蚀刻构件与链接线部之间；以及第二平坦化层，第二平坦化层被布置在第一平坦化层上方，其中，链接线部可以被布置在第一平坦化层上方。
根据本公开内容的一些实施方式，显示装置还可以包括被布置在抗蚀刻构件下方的弹性构件。
根据本公开内容的一些实施方式，弹性构件可以具有100％或更大的伸长率。
根据本公开内容的一个实施方式的显示装置涉及包括显示区域、围绕显示区域的非显示区域以及形成在非显示区域的至少一侧中的弯曲区域的显示装置，并且该显示装置可以包括：第一玻璃衬底，第一玻璃衬底被设置在显示区域中；第二玻璃衬底，第二玻璃衬底被设置在非显示区域中；抗蚀刻构件，抗蚀刻构件被设置成与弯曲区域交叠；第一平坦化层，第一平坦化层被设置成覆盖抗蚀刻构件；链接线部，链接线部被部分地布置在第一平坦化层上方；以及第二平坦化层，第二平坦化层被设置成覆盖链接线部和第一平坦化层。
根据本公开内容的一些实施方式，抗蚀刻构件可以包括金属或有机物质。
根据本公开内容的一些实施方式，抗蚀刻构件可以包括基于硅酮的有机物质、尿烷、聚酰亚胺和光丙烯酸中的至少一种。
根据本公开内容的一些实施方式，抗蚀刻构件可以包括Cr、Al、Pt、Au和Ni中的至少一种。
对于本领域技术人员来说将明显的是，上述本公开内容不受上述实施方式和附图的限制，并且可以在不脱离本公开内容的精神或范围的情况下，可以在本公开内容中进行各种替换、修改和变型。因此，本公开内容的范围由所附权利要求书限定，并且旨在从权利要求书的含义、范围和等同构思获得的所有变型或修改落入本公开内容的范围内。
可以根据以上详细描述对本实施方式进行这些和其他改变。通常，在所附权利要求书中，所使用的术语不应被解释为将权利要求书限于说明书和权利要求书中公开的具体实施方式，而应被解释为包括所有可能的实施方式以及这样的权利要求书所要求保护的等同内容的全部范围。因此，权利要求不受公开内容的限制。

Claims (12)

1.一种显示装置，所述显示装置包括显示区域、围绕所述显示区域的非显示区域以及形成在所述非显示区域的至少一侧中的弯曲区域，所述显示装置包括：
第一玻璃衬底，所述第一玻璃衬底被设置在所述显示区域中；
第二玻璃衬底，所述第二玻璃衬底被设置在所述非显示区域中；
抗蚀刻构件，所述抗蚀刻构件被设置成与所述弯曲区域交叠；以及
链接线部，所述链接线部形成在所述抗蚀刻构件上方并且形成为与所述非显示区域交叠，
其中，所述抗蚀刻构件包括Cr、Al、Pt、Au和Ni中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一玻璃衬底包括被设置成与所述弯曲区域交叠的第一蚀刻表面。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第二玻璃衬底包括被设置成与所述弯曲区域交叠的第二蚀刻表面。
4.根据权利要求1所述的显示装置，还包括覆盖所述链接线部的第一平坦化层。
5.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
第一平坦化层，所述第一平坦化层被布置在所述抗蚀刻构件与所述链接线部之间；以及
第二平坦化层，所述第二平坦化层被布置在所述第一平坦化层上方，其中，所述链接线部被布置在所述第一平坦化层上方。
6.根据权利要求1所述的显示装置，还包括被布置在所述抗蚀刻构件下方的弹性构件。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述弹性构件具有100％或更大的伸长率。
8.一种显示装置，所述显示装置包括显示区域、围绕所述显示区域的非显示区域以及形成在所述非显示区域的至少一侧中的弯曲区域，所述显示装置包括：
第一玻璃衬底，所述第一玻璃衬底被设置在所述显示区域中；
第二玻璃衬底，所述第二玻璃衬底被设置在所述非显示区域中；
抗蚀刻构件，所述抗蚀刻构件被设置成与所述弯曲区域交叠；
第一平坦化层，所述第一平坦化层被设置成覆盖所述抗蚀刻构件；
链接线部，所述链接线部被部分地布置在所述第一平坦化层上方；以及
第二平坦化层，所述第二平坦化层被设置成覆盖所述链接线部和所述第一平坦化层，
其中，所述抗蚀刻构件包括Cr、Al、Pt、Au和Ni中的至少一种。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述第一玻璃衬底包括被设置成与所述弯曲区域交叠的第一蚀刻表面。
10.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述第二玻璃衬底包括被设置成与所述弯曲区域交叠的第二蚀刻表面。
11.根据权利要求8所述的显示装置，还包括被布置在所述抗蚀刻构件下方的弹性构件。
12.根据权利要求11所述的显示装置，其中，所述弹性构件具有100％或更大的伸长率。
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