CN113126348A - 液晶显示基板及液晶显示基板的制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种液晶显示基板及液晶显示基板的制作方法，包括衬底；透明导电层，所述透明导电层设置于所述衬底上；导电部，所述导电部设置于所述透明导电层上，所述导电部包括多个桥接段，任意两个相邻的所述桥接段之间具有间隙；隔断结构，所述隔断结构将所述透明导电层分为接收高电位的多个第一子区域和接收低电位的多个第二子区域，所述隔断结构从所述间隙穿过。可以防止因高电位区和低电位区导通而造成的液晶配向异常。

Description

液晶显示基板及液晶显示基板的制作方法

技术领域

本申请属于液晶显示面板领域，尤其涉及一种液晶显示基板及液晶显示基板的制作方法。

背景技术

在液晶显示基板的生产中，需要将透明导电层划分成H区和L区，H区供给高电位信号，L区供给低电位信号，以便在组装制程中实现液晶配向。同时，需要在L区并联导电金属层以降低L区的阻抗，减小信号延迟。但在液晶显示基板的生产过程中，但激光设备扎针位置与大板排版往往不匹配。所以，在划分H区和L区时，由于制造工艺限制，相邻的H区和L区存在导通的情况，H区和L区的导通会导致信号异常，进而导致组装制程中液晶配向异常。

发明内容

本申请实施例提供一种液晶显示基板及液晶显示基板的制作方法，可以避免因高电压区和低电压区的导通而造成液晶配向异常。

第一方面，本申请实施例提供一种液晶显示基板，包括：

衬底；

透明导电层，透明导电层设置于衬底上；

导电部，导电部设置于透明导电层上，导电部包括多个桥接段，任意两个相邻的桥接段之间具有间隙；

隔断结构，隔断结构将透明导电层分为接收高电位的多个第一子区域和接收低电位的多个第二子区域，隔断结构从所述间隙穿过。

可选的，位于间隙内的隔断结构分别与相邻的两个桥接段之间具有空隙。

可选的，导电部包括多个导电单元，导电单元包括延伸段和多个桥接段，延伸段沿第一方向延伸，多个桥接段设置于透明导电层上相对设置的两侧，延伸段位于所述第二子区域内，且延伸段的两端分别与设置于透明导电层两侧的桥接段连接。

可选的，各桥接段均沿第二方向延伸，第二方向垂直于第一方向。

可选的，隔断结构包括多个第一分区结构和多个第二分区结构，第一分区结构将透明导电层分成沿第二方向排列的多个加工区域；

在至少一加工区域内，第二分区结构穿过相邻桥接段形成的所述间隙，并将加工区域分为第一子区域和第二子区域。

可选的，每一导电单元至少包括沿第二方向依次排列的第一桥接段、第二桥接段以及第三桥接段，第一桥接段与第二桥接段形成第一间隙，第二桥接段与第三桥接段形成第二间隙；

在一加工区域内，一第二分区结构沿第一间隙穿过；

在另一加工区域内，另一第二分区结构沿第二间隙穿过。

可选的，桥接段包括端部和位于端部之间的中间部，端部的宽度大于中间部的宽度。

可选的，隔断结构由对透明导电层激光照射或者光刻工艺处理形成。

第二方面，本申请实施例还提供一种液晶显示基板的制作方法，包括：

提供一衬底；

在衬底的一面上沉积透明导电层；

在透明导电层上制作导电部，导电部包括多个桥接段，任意两个相邻的桥接段之间具有间隙；

在透明导电层上制作从间隙穿过的隔断结构，隔断结构将透明导电层分为接收高电位的多个第一子区域和接收低电位的多个第二子区域区。

可选的，在透明导电层上制作从间隙穿过的隔断结构，隔断结构将透明导电层分为接收高电位的多个第一子区域和接收低电位的多个第二子区域区包括：

在透明导电层上制作多个第一分区结构，将透明导电层分成沿第二方向排列的多个加工区域；

在每一加工区域上制作从间隙穿过的第二分区结构，第二分区结构将加工区域分成第一子区域和第二子区域，每一导电单元至少包括沿第二方向依次排列的第一桥接段、第二桥接段以及第三桥接段，第一桥接段与第二桥接段形成第一间隙，第二桥接段与第三桥接段形成第二间隙，在一加工区域内，第二分区结构沿第一间隙穿过，在另一加工区域内，第二分区结构沿第二间隙穿过。

本申请实施例中，导电部包括多个间隔设置的桥接段，任意两个相邻的桥接段之间具有间隙。相邻桥接段之间的间隙可以避让隔断结构，以使隔断结构沿间隙穿过。现有技术常采用激光加工隔断结构，激光对导电部的去除可能不完全，导电部可能会在隔断结构中有残留，进而导致第一子区域和第二子区域导通，造成后续的液晶配向异常。本申请中提供的导电部包括多个间隔设置的桥接段，隔断结构从相邻两个桥接段的间隙中穿过。因此，在激光加工的过程中，激光加工路线不会和导电部发生干涉，即激光加工不需要去除掉干涉位置的导电部。进一步地，也就不存在由于导电部去除不完全而造成的第一子区域与第二子区域导通的问题，避免了因第一子区域和第二子区域导通而导致的信号异常和配向异常。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其有益效果显而易见。

图1为本申请实施例提供的液晶显示基板的一种结构示意图。

图2为图1中所示A的局部放大图。

图3为现有技术中液晶显示基板的结构示意图。

图4为本申请实施例提供的液晶显示基板的制作方法的第一种流程示意图。

图5为本申请实施例提供的液晶显示基板的制作方法的第二种流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在液晶显示面板的生产中，一般先在一个大板上排布多个薄膜晶体管阵列或者多个彩膜基板。多个薄膜晶体管阵列基板排布于一个整面的大板上，同样，与薄膜晶体管阵列基板对应的数个彩膜基板排布于另一个整面的大板上。当排布了数个薄膜晶体管阵列基板的大板和排布了数个彩膜基板的大板加工完成之后，需要在彩膜基板或者薄膜晶体管基板上滴注液晶材料，然后将两块大板贴合固定，并驱动液晶分子转动实现液晶配向。最后将大板切割成多个液晶显示面板。

请参阅图1和图2，图1为本申请实施例提供的液晶显示基板的一种结构示意图，图2为图1中所示A的局部放大图。本发明提供了一种液晶显示基板100，可以避免因高电压区和低电压区的导通而造成液晶配向异常。液晶显示基板100包括衬底1、透明导电层3、导电部5、以及隔断结构7。

其中，衬底1起到支撑其他结构的作用，衬底1一般为玻璃基板。

透明导电层3设置于衬底1上，具体的，透明导电层3的材料为透明导电金属化物，优选的，透明导电金属氧化物为氧化铟锡。

导电部5设置于透明导电层3上，导电部5包括多个桥接段511，任意两个相邻的桥接段511之间具有间隙514。隔断结构7将透明导电层3分为接收高电位的多个第一子区域311和接收低电位的多个第二子区域313，隔断结构7从间隙514穿过。

请参阅图3，3为现有技术中液晶显示基板的结构示意图。液晶配向是成盒工艺流程中的关键步骤。在两块大板中滴注了液晶材料后，需要在液晶材料两端分别施加高电位信号和低电位信号，从而驱动液晶分子转动，显示图像，完成液晶配向。为了实现液晶配向，大板加工时会在需要在滴注液晶的区域的两端划分出两个相互绝缘的区域，一个为施加高电位信号H区域311(本申请中为第一子区域)，另一个区域施加低电位信号的L区域313(本申请中为第二子区域)。若H区域311和L区域313导通则会导致信号异常，造成后期的液晶配向异常。每一L区域313都与导电单元51并联，以降低L区域313的电压、减小信号延迟。导电单元51由金属制成，应该完全位于L区域313内。

然而，由于激光设备的扎针位置与大板排版往往不匹配，每个L区域313的尺寸并不都是完全相同，所以导电单元51并不总是完全位于L区域313内。当采用激光设备划分出H区域311和L区域313时，激光除了刻蚀透明导电层3，还需要刻蚀导电单元51，才能划分出相互绝缘的H区域311和L区域313。但是激光刻蚀不一定能把导电单元51完全去除掉，这就导致导电单元51可能会有残留。激光刻蚀后形成的隔断结构7本应该实现H区域311和L区域313的绝缘，但导电单元51的残留有可能引起H区域311和L区域313导通，导致信号异常，进而造成后期的液晶配向异常。

请结合参阅图1，本申请实施例中，导电部5包括多个间隔设置的桥接段511，任意两个相邻的桥接段511之间具有间隙514。相邻桥接段511之间的间隙514对隔断结构7形成避让，隔断结构7沿间隙514穿过。现有技术中导电部5的桥接段511仅有一个，当采用激光加工隔断结构7时，激光对导电部5的去除可能不完全，导电部5可能会在隔断结构7中有残留，进而导致第一子区域311和第二子区域313导通，造成后续的液晶配向异常。本申请中提供的导电部5包括多个间隔设置的桥接段511，隔断结构7从相邻两个桥接段511的间隙514中穿过。那么在激光加工的过程中，激光加工路线不会和桥接段511发生干涉，即激光加工不需要去除掉干涉位置的导电部5。进一步地，也就不存在由于导电部5去除不完全而造成的第一子区域311与第二子区域313导通的问题，避免了因第一子区域311和第二子区域313导通而导致的信号异常和配向异常。

其中，隔断结构7分别与相邻的两个桥接段511之间具有空隙。

请结合参阅图2，图2为图1中所示A的局部放大图。可以理解的是，当隔断结构7从相邻的桥接段511形成的间隙514中穿过时，则可保证第一子区域311与第二子区域313不导通，但当该间隙514过小时，仍然可能存在隔断结构7与桥接段511干涉的情况。为了完全避免这种隔断结构7与桥接段511的干涉情况，可以使桥接段511之间的间隙514的宽度D1大于隔断结构7的宽度D2，即保证隔断结构7分别与相邻的两个桥接段511之间具有空隙。需要说明的是，桥接段511之间的间隙514也不宜设计地过大。第二子区域313的范围较小，设置导电部5的目的是降低第二子区域313的阻抗，为了充分利用第二子区域313的空间，应该再增加导电部5的覆盖面积，桥接段511之间的间隙514过大则会减少导电部5的覆盖面积，因此桥接段511之间的间隙514不宜设计地过大。

请继续参阅图1，导电部5包括多个导电单元51，导电单元51包括延伸段513和多个桥接段511，延伸段513沿第一方向X延伸，桥接段511设置于透明导电层3上靠近衬底1边缘的两端，延伸段513全部位于第二子区域313内，延伸段513的两端均与位于衬底1边缘的桥接段511连接。

其中，导电部5通过图形化处理制作而成，每个导电单元51的形状都相同。在一个导电单元51中，延伸段513沿第一方向X延伸，从衬底1的一端延伸到另外一端，进而连接起分别设置于透明导电层3两端的桥接段511。可以理解的是，桥接段511可以降低第二子区域313的阻抗，同时也需要与隔断结构7相互配合实现第一子区域311和第二子区域313的绝缘，延伸段513则仅仅起到降低第二子区域313阻抗的作用。

导电单元51中，各桥接段511均沿第二方向Y延伸，第二方向Y垂直于第一方向X。

在一些具体的实施例中，隔断结构7包括多个第一分区结构71和多个第二分区结构72，第一分区结构71将透明导电层3划分成沿第二方向Y排列的多个加工区域31；

在至少一加工区域31内，第二分区结构72穿过相邻桥接段511形成的间隙514，并将加工区域31分为第一子区域311和第二子区域313。

每一导电单元51至少包括沿第二方向Y依次排列的第一桥接段511a、第二桥接段511b以及第三桥接段511c，第一桥接段511a与第二桥接段511b形成第一间隙514a，第二桥接段511b与第三桥接段511c形成第二间隙514b；

在一加工区域31内，一第二分区结构72沿第一间隙514a穿过；

在另一加工区域31内，另一第二分区结构72沿第二间隙514b穿过。

其中，隔断部由激光照射或者光刻工艺对透明导电层3图形化处理形成。光刻工艺包括曝光、显影及蚀刻制程，制程复杂。因此，优选的，可以采用激光照射的方法对透明导电层3进行图形化处理。

请继续参阅图1和图2，多个第一分区结构71用于将透明导电层3进行初步的划分，第二分区结构72对每一加工区域31进一步的划分。可以理解的是，第二分区结构72在沿第二方向Y上的第一距离L1，由于激光设备的扎针位置与大板不匹配，各第二分区结构72的第一距离(L1a和L1b)不总是相等。第一距离L1不同，则第二分区结构72从不同的间隙514中穿过。具体的，L1a比L1b长，则长度为L1a的第二分区结构72从第一间隙514a穿过，则长度为L1b的第二分区结构72从第二间隙514b穿过。为了尽量保证各第二分区结构72都能有与之匹配的间隙514以供穿过，可以预估计算激光设备的扎针位置，并缩短桥接段511的长度，设计尽量多的桥接段511。

可以理解的是，为了保证阻抗的降低效果，桥接段511包括端部5113和位于端部5113之间的中间部5111，端部5113的宽度大于中间部5111的宽度。这样可以尽量扩大导电部5的覆盖面积。

本申请提供一种液晶显示基板的制作方法，请参阅图4，图4为本申请实施例提供的液晶显示基板的制作方法的第一种流程示意图。液晶显示基板的制作方法包括：

201，提供一衬底。

可以理解的是，衬底用于支撑其他结构。

202，在衬底的一面上沉积透明导电层。

透明导电层设置于衬底上，具体的，透明导电层的材料为透明导电金属化物，优选的，透明导电金属氧化物为氧化铟锡。

203，在透明导电层上制作导电部，导电部包括多个桥接段，任意两个相邻的桥接段之间具有间隙；

其中，导电部一般用于降低覆盖区域的阻抗。导电部包括多个导电单元，导电单元包括多个桥接段和延伸段，多个桥接段沿第一方向延伸且沿第一方向依次间隔设置，桥接段位于透明导电层靠近衬底边缘的位置，延伸段沿第二方向延伸，延伸段的两端与位于衬底边缘的位置的桥接段连接，其中，第一方向垂直于第二方向。

204，在透明导电层上制作从间隙穿过的隔断结构，隔断结构将透明导电层分为接收高电位的多个第一子区域和接收低电位的多个第二子区域区。

隔断部由激光照射或者光刻工艺对透明导电层处理形成。导电部通常设置在第二子区域内。

请参阅图5，图5为本申请实施例提供的液晶显示基板的制作方法的第二种流程示意图。本申请提供的液晶显示基板的另一种制作方法，包括：

401，提供一衬底。

402，在衬底的一面上沉积透明导电层。

403，在透明导电层上制作导电部，导电部包括多个桥接段，任意两个相邻的桥接段之间具有间隙。

404，在透明导电层上制作多个第一分区结构，将透明导电层分成沿第二方向排列的多个加工区域；

需要说明的是，第一分区结构可以为直线型，第一分区结构初步地将透明导电层划分。

405，在每一加工区域上制作从间隙穿过的第二分区结构，第二分区结构将加工区域分成第一子区域和第二子区域，每一导电单元至少包括沿第二方向依次排列的第一桥接段、第二桥接段以及第三桥接段，第一桥接段与第二桥接段形成第一间隙，第二桥接段与第三桥接段形成第二间隙，在一加工区域内，第二分区结构沿第一间隙穿过，在另一加工区域内，第二分区结构沿第二间隙穿过。

需要说明的是，第二分区结构可以为折线型。同一导电部的可以具备多个间隙，由于激光设备的扎针位置与大板往往不匹配，每个加工区域内的第二分区结构的在第二方向上的第一距离不都完全相同，因此不同的第二分区结构有可能穿过不同的间隙。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的液晶显示基板及液晶显示基板的制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种液晶显示基板，其特征在于，包括：

衬底；

透明导电层，所述透明导电层设置于所述衬底上；

导电部，所述导电部设置于所述透明导电层上，所述导电部包括多个桥接段，任意两个相邻的所述桥接段之间具有间隙；

隔断结构，所述隔断结构将所述透明导电层分为接收高电位的多个第一子区域和接收低电位的多个第二子区域，所述隔断结构从所述间隙穿过。

2.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于，位于所述间隙内的所述隔断结构分别与相邻的两个所述桥接段之间具有空隙。

3.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于，所述导电部包括多个导电单元，所述导电单元包括延伸段和多个桥接段，所述延伸段沿第一方向延伸，多个所述桥接段设置于所述透明导电层上相对设置的两侧，所述延伸段位于所述第二子区域内，且所述延伸段的两端分别与设置于所述透明导电层两侧的所述桥接段连接。

4.根据权利要求3所述的液晶显示基板，其特征在于，各所述桥接段均沿第二方向延伸，所述第二方向垂直于所述第一方向。

5.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于，所述隔断结构包括多个第一分区结构和多个第二分区结构，所述第一分区结构将所述透明导电层分成沿所述第二方向排列的多个加工区域；

在至少一所述加工区域内，所述第二分区结构穿过相邻所述桥接段形成的所述间隙，并将所述加工区域分为所述第一子区域和所述第二子区域。

6.根据权利要求5所述的液晶显示基板，其特征在于，每一所述导电单元至少包括沿所述第二方向依次排列的第一桥接段、第二桥接段以及第三桥接段，所述第一桥接段与所述第二桥接段形成第一间隙，所述第二桥接段与所述第三桥接段形成第二间隙；

在一所述加工区域内，一所述第二分区结构从所述第一间隙穿过；

在另一所述加工区域内，另一所述第二分区结构从所述第二间隙穿过。

7.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于，所述桥接段包括端部和位于端部之间的中间部，所述端部的宽度大于所述中间部的宽度。

8.根据权利要求1至7任一项所述的液晶显示基板，其特征在于，所述隔断结构由对所述透明导电层激光照射或者光刻工艺处理形成。

9.一种液晶显示基板的制作方法，其特征在于：

提供一衬底；

在衬底的一面上沉积透明导电层；

在所述透明导电层上制作导电部，所述导电部包括多个桥接段，任意两个相邻的所述桥接段之间具有间隙；

在所述透明导电层上制作从所述间隙穿过的隔断结构，所述隔断结构将所述透明导电层分为接收高电位的多个第一子区域和接收低电位的多个第二子区域区。

10.根据权利要求9所述的液晶显示基板的制作方法，其特征在于，在所述透明导电层上制作从所述间隙穿过的隔断结构，所述隔断结构将所述透明导电层分为接收高电位的多个第一子区域和接收低电位的多个第二子区域区包括：

在所述透明导电层上制作多个第一分区结构，将所述透明导电层分成沿所述第二方向排列的多个加工区域；

在每一所述加工区域上制作从所述间隙穿过的第二分区结构，所述第二分区结构将所述加工区域分成所述第一子区域和所述第二子区域，每一导电单元至少包括沿所述第二方向依次排列的第一桥接段、第二桥接段以及第三桥接段，所述第一桥接段与所述第二桥接段形成第一间隙，所述第二桥接段与所述第三桥接段形成第二间隙，在一所述加工区域内，所述第二分区结构沿所述第一间隙穿过，在另一所述加工区域内，所述第二分区结构沿所述第二间隙穿过。

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