CN113061850A - 一种用于pic镀膜设备的敲击杆装置 - Google Patents
一种用于pic镀膜设备的敲击杆装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113061850A CN113061850A CN202110298331.8A CN202110298331A CN113061850A CN 113061850 A CN113061850 A CN 113061850A CN 202110298331 A CN202110298331 A CN 202110298331A CN 113061850 A CN113061850 A CN 113061850A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- knocking
- rod
- dwang
- carbon head
- carbon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Testing Of Devices, Machine Parts, Or Other Structures Thereof (AREA)
- Portable Nailing Machines And Staplers (AREA)
Abstract
本发明涉及一种用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,包括敲击杆,敲击杆的一端装配有用于引弧的触发碳头,敲击杆的另一端装配在转动杆的一端,敲击杆和转动杆呈夹角状布置,转动杆通过轴承座转动安装在敲击安装座上,敲击安装座上设置有用于调节转动杆进行转动的转动调节组件。本发明提供的方案,可有效解决敲击杆在敲击过程中松动、敲击不到位和粘靶的问题,且触发碳头不易脱落,避免触发碳头过快损耗,降低故障率,有效保证镀膜的稳定进行。
Description
技术领域
本发明涉及溅射镀膜设备领域,具体涉及一种用于PIC镀膜设备的敲击杆装置。
背景技术
纯离子镀膜技术(Pure Ion Coating–PIC)作为新的一种制备Ta-C涂层的技术,目前已广泛应用于军工、航空航天、机加工、汽车、3C消费电子、半导体等领域。通过PIC技术制备的涂层具有极高的硬度、耐磨和耐腐蚀性能。PIC设备作为新型镀膜设备,在设计上仍有较多需要优化的地方,如敲击杆装置,现有的敲击杆装置在使用过程中往往会出现敲击杆松动、触发碳头脱落、触发碳头过快损耗、动力传动不顺、敲击不到位等问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其至少可以克服上述一种缺陷。
一种用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:包括敲击杆,敲击杆的一端装配有用于引弧的触发碳头,敲击杆的另一端装配在转动杆的一端,敲击杆和转动杆呈夹角状布置,转动杆通过轴承座转动安装在敲击安装座上,敲击安装座上设置有用于调节转动杆进行转动的转动调节组件。
进一步的方案为:
敲击杆远离转动杆的端部设置有装配孔,装配孔的孔深方向与敲击杆的杆长方向、转动杆的杆长方向均呈垂直状布置,触发碳头插设状装配在装配孔内,触发碳头的局部延伸至装配孔一端的外部用于敲击碳靶,装配孔的另一端设置有用于抵靠触发碳头的抵靠部。
敲击杆远离转动杆的端部装配有碳头安装块,碳头安装块上设置有所述的装配孔,装配孔为通孔,所述的抵靠部为碳头安装块上设置的碳头抵靠块的构成,碳头抵靠块的外表面和触发碳头相贴合抵靠。
碳头安装块沿敲击杆的杆长方向活动可调节式装配在敲击杆上,碳头抵靠块和碳头安装块可拆卸式装配。
进一步的方案为:
转动杆的旁侧设置有用于检测转动杆转动状态的检测组件,检测组件将检测的信号输送到调控组件进行分析处理,调控组件依据分析处理的结果调控转动调节组件的运行状态。
转动杆上设置有标记处,检测组件检测标记处的位置信号。
转动杆的杆中部安装在轴承座上,转动杆的另一端设置有传感片,标记处为传感片周边设置的缺口构成。
检测组件由传感片外周设置的A、B传感器组成,A、B传感器装配在敲击安装座上设置的传感器支架上。
转动调节组件包括转动杆上设置的A齿轮和敲击安装座上设置的旋转气缸,旋转气缸的动力输出转轴上设置有B齿轮,A、B齿轮传动啮合连接,调控组件调控旋转气缸的运行状态。
控制组件包括PC端、正转速度控制器和反转速度控制器,PC端接收A、B传感器检测的信号进行分析处理,正转速度控制器和反转速度控制器通过调控通气状态调整旋转气缸的动力输出转轴进行正、反转,PC端发送指令调控正、反转速度控制器的通气状态。
转动杆的一端设置有A螺纹杆段,敲击杆通过螺纹防松结构装配在A螺纹杆段处。
敲击杆的端部设置有螺纹安装孔,敲击杆通过螺纹安装孔装配在A螺纹杆段上,触发碳头敲击碳靶时,碳靶作用于触发碳头的反作用力使得螺纹安装孔具有拧紧的趋势。
转动杆通过A、B轴承和A、B油封转动装配在轴承座上,A轴承、B轴承、A油封、B油封沿着转动杆的长度方向依次布置,A、B轴承之间的转动杆身上设置有A垫片,A、B油封之间的转动杆身上设置有B垫片,轴承座包括轴承座本体和轴承座本体端部设置的轴承座盖。
A齿轮介于传感片和轴承座之间。
本发明提供的上述方案,具有如下优点:
1、解决了敲击杆在敲击过程中松动的问题;本发明通过反向螺纹杆段和敲击杆连接,敲击杆在敲击过程中,会越敲越紧,不会造成敲击松动的情况,保证引弧顺利进行。
2、新结构触发碳头不易脱落;本发明使用碳头固定块来装配触发碳头,由于触发碳头后面有整体阻隔,不会造成受力不均情况而形成的脱落。
3、避免触发碳头过快损耗。本发明通过正转速度控制器、反转速度控制器来调节敲击的力度,保持触发碳头与碳靶碰撞时力度适中,可以有效避免碳头过快损耗。
4、通过齿轮组和旋转气缸结构传动,结构简单,故障率低。
5、有效解决敲击不到位和粘靶问题。使用检测组件来检测敲击杆的敲击位和敲击回位,可以避免敲击过程中触发碳头和碳靶的长时间粘接造成的烧靶问题,保证镀膜的稳定进行。
附图说明
图1为本发明中敲击杆处于敲击回位时的结构示意图;
图2为敲击杆处于敲击位时的结构示意图;
图3为本发明中转动杆和轴承座的装配结构图;
图4为敲击杆110的结构示意图。
110-敲击杆、111-螺纹安装孔、120-碳头安装块、130-碳头抵靠块、140-触发碳头、200-转动杆、201-A螺纹杆段、202-B螺纹杆段、210-传感片、211-V形缺口、221-A传感器、222-B传感器、223-传感器支架、230-轴承座、231-轴承座本体、232-轴承座盖、233-A轴承、234-B轴承、235-A油封、236-B油封、237-A垫片、238-B垫片、241-A齿轮、242-B齿轮、243-正向速度控制器、244-反向速度控制器、245-旋转气缸、250-敲击安装座、260-PC端、270-碳靶。
具体实施方式
为了使本发明的目的及优点更加清楚明白,以下结合实施例对本发明进行具体明。应当理解,以下文字仅仅用以描述本发明的一种或几种具体的实施方式,并不对本发明具体请求的保护范围进行严格限定。
如图1、2、3、4所示,一种用于PIC镀膜设备的敲击杆110装置,包括敲击杆110,敲击杆110的一端装配有用于引弧的触发碳头140,敲击杆110的另一端装配在转动杆200的一端,敲击杆110和转动杆200呈夹角状布置,具体可垂直布置,转动杆200通过轴承座230转动安装在敲击安装座250上,敲击安装座250上设置有用于调节转动杆200进行转动的转动调节组件。敲击杆110远离转动杆200的端部设置有装配孔,装配孔的孔深方向与敲击杆110的杆长方向、转动杆200的杆长方向均呈垂直状布置,触发碳头140插设状装配在装配孔内,触发碳头140的局部延伸至装配孔一端的外部用于敲击碳靶270,装配孔的另一端设置有用于抵靠触发碳头140的抵靠部。敲击杆110远离转动杆200的端部装配有碳头安装块,碳头安装块上设置有所述的装配孔,装配孔为通孔,所述的抵靠部为碳头安装块上设置的碳头抵靠块130的构成,碳头抵靠块130的外表面和触发碳头140相贴合抵靠。碳头安装块120沿敲击杆110的杆长方向活动可调节式装配在敲击杆110上,碳头抵靠块130和碳头安装块120可以通过螺栓可拆卸式装配。
进一步的方案为:转动杆200的旁侧设置有用于检测转动杆200转动状态的检测组件,检测组件将检测的信号输送到调控组件进行分析处理,调控组件依据分析处理的结果调控转动调节组件的运行状态。转动杆200上设置有标记处,检测组件检测标记处的位置信号。转动杆200的杆中部安装在轴承座230上,转动杆200的另一端设置有传感片210,标记处为传感片210周边设置的缺口构成,缺口为V形缺口211。检测组件由传感片210外周设置的A、B传感器221、222组成,A、B传感器221、222装配在敲击安装座250上设置的传感器支架223上。转动调节组件包括转动杆200上设置的A齿轮241和敲击安装座250上设置的旋转气缸245,旋转气缸245的动力输出转轴上设置有B齿轮242,A、B齿轮242传动啮合连接,调控组件调控旋转气缸245的运行状态。控制组件包括PC端260、正转速度控制器和反转速度控制器,PC端260接收A、B传感器222检测的信号进行分析处理,正转速度控制器和反转速度控制器通过调控通气状态调整旋转气缸245的动力输出转轴进行正、反转,PC端260发送指令调控正、反转速度控制器的通气状态。转动杆200的一端设置有A螺纹杆段201,敲击杆110通过螺纹防松结构装配在A螺纹杆段处。具体的如图4所示,敲击杆110的端部设置有螺纹安装孔111,敲击杆110通过螺纹安装孔111装配在A螺纹杆段201上,触发碳头140敲击碳靶270时,碳靶270作用于触发碳头140的反作用力使得螺纹安装孔111具有拧紧的趋势。这样,在触发碳头140敲击碳靶270时,就不会出现松动的现象,反而会越敲越紧。详细的,转动杆200的另一端设置B螺纹杆段202,A、B螺纹段的旋向相反,传感片210通过螺纹组件装配在B螺纹杆段202处。具体的,可将A螺纹杆段201设为反向螺纹杆段,B螺纹杆段202为正向螺纹杆段。
更为具体的如图3所示,转动杆200通过A、B轴承234和A、B油封236转动装配在轴承座230上,A轴承233、B轴承234、A油封235、B油封236沿着转动杆200的长度方向依次布置,A、B轴承233、234之间的转动杆200身上设置有A垫片237,A、B油封235、236之间的转动杆200身上设置有B垫片238,轴承座230包括轴承座本体231和轴承座本体231端部设置的轴承座盖232。
本发明的工作状态分为两种,如图1、2所示,将A传感器221和B传感器222同时通电,并同时将正向速度控制器243和反向速度控制器244同时通气。如图1所示,为敲击杆110处于敲击回位状态,图2为敲击杆110处于敲击位状态。正转速度控制器和反转速度控制器控制旋转气缸245的动力输出转轴正常正转运行和反转运行,区分正转运行和反转运行由PC端260的程序设定控制,因此可设定正向速度控制器243为正转控制器和设定反向速度控制器244为反转控制器。当PC端260下发正转指令时,正向速度控制器243通气给旋转气缸245带动动力输出转轴正向转动同时带动B齿轮242转动随之带动A齿轮241转动,由此带动转动杆200转动,同时带动传感片210转动同时带动敲击杆110转动,由敲击回位状态(图1)转变至敲击位(图2),传感片210上的V形缺口211也随之转动到B传感器222位置,同时B传感器222收到信号并反馈至PC端260。
更进一步的:当PC端260下发反向转指令时,反向速度控制器244通气给旋转气缸245并使动力输出转轴反转,同时带动B齿轮242反向转动随之带动A齿轮241转动,由此带动旋转杆转动,同时带动传感片210转动同时带动敲击杆110转动由敲击位状态(图2)转变至敲击回位(图1),传感片210的V形缺口211也随之转动到A传感器221位置,同时A传感器221收到信号并反馈至PC端260,如此循环工作运行。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。本发明中未具体描述和解释说明的结构、装置以及操作方法,如无特别说明和限定,均按照本领域的常规手段进行实施。
Claims (14)
1.一种用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:包括敲击杆,敲击杆的一端装配有用于引弧的触发碳头,敲击杆的另一端装配在转动杆的一端,敲击杆和转动杆呈夹角状布置,转动杆通过轴承座转动安装在敲击安装座上,敲击安装座上设置有用于调节转动杆进行转动的转动调节组件。
2.根据权利要求1所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:敲击杆远离转动杆的端部设置有装配孔,装配孔的孔深方向与敲击杆的杆长方向、转动杆的杆长方向均呈垂直状布置,触发碳头插设状装配在装配孔内,触发碳头的局部延伸至装配孔一端的外部用于敲击碳靶,装配孔的另一端设置有用于抵靠触发碳头的抵靠部。
3.根据权利要求2所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:敲击杆远离转动杆的端部装配有碳头安装块,碳头安装块上设置有所述的装配孔,装配孔为通孔,所述的抵靠部为碳头安装块上设置的碳头抵靠块的构成,碳头抵靠块的外表面和触发碳头相贴合抵靠。
4.根据权利要求1所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:转动杆的旁侧设置有用于检测转动杆转动状态的检测组件,检测组件将检测的信号输送到调控组件进行分析处理,调控组件依据分析处理的结果调控转动调节组件的运行状态。
5.根据权利要求4所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:转动杆上设置有标记处,检测组件检测标记处的位置信号。
6.根据权利要求5所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:转动杆的杆中部安装在轴承座上,转动杆的另一端设置有传感片,标记处为传感片周边设置的缺口构成。
7.根据权利要求6所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:检测组件由传感片外周设置的A、B传感器组成,A、B传感器装配在敲击安装座上设置的传感器支架上。
8.根据权利要求4或7所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:转动调节组件包括转动杆上设置的A齿轮和敲击安装座上设置的旋转气缸,旋转气缸的动力输出转轴上设置有B齿轮,A、B齿轮传动啮合连接,调控组件调控旋转气缸的运行状态。
9.根据权利要求8所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:控制组件包括PC端、正转速度控制器和反转速度控制器,PC端接收A、B传感器检测的信号进行分析处理,正转速度控制器和反转速度控制器通过调控通气状态调整旋转气缸的动力输出转轴进行正、反转,PC端发送指令调控正、反转速度控制器的通气状态。
10.根据权利要求4或7所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:转动杆的一端设置有A螺纹杆段,敲击杆通过螺纹防松结构装配在A螺纹杆段处。
11.根据权利要求3所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:碳头安装块沿敲击杆的杆长方向活动可调节式装配在敲击杆上,碳头抵靠块和碳头安装块可拆卸式装配。
12.根据权利要求10所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:敲击杆的端部设置有螺纹安装孔,敲击杆通过螺纹安装孔装配在A螺纹杆段上,触发碳头敲击碳靶时,碳靶作用于触发碳头的反作用力使得螺纹安装孔具有拧紧的趋势。
13.根据权利要求10所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:转动杆通过A、B轴承和A、B油封转动装配在轴承座上,A轴承、B轴承、A油封、B油封沿着转动杆的长度方向依次布置,A、B轴承之间的转动杆身上设置有A垫片,A、B油封之间的转动杆身上设置有B垫片,轴承座包括轴承座本体和轴承座本体端部设置的轴承座盖。
14.根据权利要求10所述的用于PIC镀膜设备的敲击杆装置,其特征在于:A齿轮介于传感片和轴承座之间。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110298331.8A CN113061850A (zh) | 2021-03-19 | 2021-03-19 | 一种用于pic镀膜设备的敲击杆装置 |
CN202110771331.5A CN113403589B (zh) | 2021-03-19 | 2021-07-08 | 一种用于pic镀膜设备的敲击杆装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110298331.8A CN113061850A (zh) | 2021-03-19 | 2021-03-19 | 一种用于pic镀膜设备的敲击杆装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113061850A true CN113061850A (zh) | 2021-07-02 |
Family
ID=76562510
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110298331.8A Pending CN113061850A (zh) | 2021-03-19 | 2021-03-19 | 一种用于pic镀膜设备的敲击杆装置 |
CN202110771331.5A Active CN113403589B (zh) | 2021-03-19 | 2021-07-08 | 一种用于pic镀膜设备的敲击杆装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110771331.5A Active CN113403589B (zh) | 2021-03-19 | 2021-07-08 | 一种用于pic镀膜设备的敲击杆装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (2) | CN113061850A (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115437235A (zh) * | 2022-09-24 | 2022-12-06 | 安徽纯源镀膜科技有限公司 | 一种用于自适应调整靶材燃烧面位置的方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9503305D0 (en) * | 1995-02-20 | 1995-04-12 | Univ Nanyang | Filtered cathodic arc source |
US20080308425A1 (en) * | 2007-06-12 | 2008-12-18 | Honeywell International, Inc. | Corrosion and wear resistant coating for magnetic steel |
CN201166042Y (zh) * | 2008-02-29 | 2008-12-17 | 薛茂明 | 利用反向螺纹防松的连接螺栓 |
CN201605316U (zh) * | 2009-12-30 | 2010-10-13 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 真空镀膜用遮挡装置 |
US9085821B2 (en) * | 2011-12-14 | 2015-07-21 | Intermolecular, Inc. | Sputter gun having variable magnetic strength |
CN104451579B (zh) * | 2014-11-17 | 2017-02-22 | 中国科学院力学研究所 | 一种用于磁控溅射的高低压转换装置 |
CN105417945B (zh) * | 2015-12-29 | 2018-09-14 | 郑州旭飞光电科技有限公司 | 玻璃基板划线切割装置的刀架总成和刀架 |
CN205774779U (zh) * | 2016-05-31 | 2016-12-07 | 安徽纯源镀膜科技有限公司 | 真空镀膜设备 |
CN207452247U (zh) * | 2017-11-24 | 2018-06-05 | 上海仟纳真空镀膜科技有限公司 | 真空镀膜设备 |
CN207452246U (zh) * | 2017-11-24 | 2018-06-05 | 上海仟纳真空镀膜科技有限公司 | 一种真空镀膜设备 |
CN209522905U (zh) * | 2018-11-24 | 2019-10-22 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 | 一种用于高真空镀膜机专用的热阻蒸发用的回转机构 |
CN110592511A (zh) * | 2019-07-24 | 2019-12-20 | 扬州市佳佳镀锌有限公司 | 一种具有遮挡功能的安全可靠性高的热镀锌设备 |
CN110860881A (zh) * | 2019-12-19 | 2020-03-06 | 台州宏鑫曲轴有限公司 | 用于曲轴的曲柄上正时链轮的压装装置 |
-
2021
- 2021-03-19 CN CN202110298331.8A patent/CN113061850A/zh active Pending
- 2021-07-08 CN CN202110771331.5A patent/CN113403589B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113403589B (zh) | 2023-08-18 |
CN113403589A (zh) | 2021-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN113061850A (zh) | 一种用于pic镀膜设备的敲击杆装置 | |
CN110394480B (zh) | 一种用于建筑工地的散热效果好的智能机械设备 | |
CN214496459U (zh) | 一种用于pic镀膜设备的敲击杆装置 | |
CN108544374A (zh) | 一种多维力反馈柔性浮动打磨动力头及其使用方法 | |
CN110586976A (zh) | 一种用于家具制造的高精度智能型钻孔设备 | |
CN113073296B (zh) | 一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置 | |
CN110595662B (zh) | 一种轨道车辆螺栓连接后实际扭矩检测方法及装置 | |
JPH1199948A (ja) | 動力舵取装置及びその舵角検出装置 | |
CN210346710U (zh) | 一种农机导航检测装置 | |
CN201786715U (zh) | 用于调整排污自吸泵中叶轮和耐磨板间间隙的机构 | |
CN201496561U (zh) | 电子膨胀阀 | |
CN117585127A (zh) | 可测水流压力且具有推力补偿的水下推进器及控制方法 | |
CN217208601U (zh) | 水轮机摆度传感器固定支架 | |
CN207272870U (zh) | 一种高精度电主轴热伸长检测装置 | |
CN112815906B (zh) | 一种旋挖钻机的回转角度检测装置 | |
CN112276672B (zh) | 一种具有主轴校正功能的数控机床及主轴校正方法 | |
CN219032335U (zh) | 一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置 | |
CN201850895U (zh) | 一种可调节安装的滚轮组件 | |
CN203141073U (zh) | 自动锁螺丝机批头 | |
CN219888861U (zh) | 一种蜗轮蜗杆蝶阀机械锁定装置 | |
CN201170243Y (zh) | 调节螺栓及滑动部件位置调节装置 | |
CN220964567U (zh) | 一种具有编码器的电动机 | |
CN213331575U (zh) | 一种挖泥泵转速、温度的监测系统 | |
CN219436809U (zh) | 一种伺服电机编码器 | |
CN219753928U (zh) | 可调底托的快速调节机构 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20210702 |