CN113041810B - 废气处理系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及气体处理技术领域,提供一种废气处理系统,包括:反应容器,反应容器包括容器本体和盖体,容器本体与盖体限制出第一腔体和环绕与第一腔体外周的第二腔体,第一腔体的第一端用于通入待处理的第一气体,第一腔体的第二端与第二腔体连通,第二端为朝向盖体的一端;盖体构造有用于通入第二气体的进气腔,盖体包括封闭部和环绕封闭部的连通部,连通部连通进气腔与第二腔体,封闭部的投影覆盖第二端。本发明提出的废气处理系统,封闭部与连通部配合,使得第一气体与第二气体在第二腔体内发生反应,阻止第一气体与第二气体在第一腔体内发生反应,解决第一腔体容易堵塞的问题,降低设备维护成本。
Description
技术领域
本发明涉及气体处理技术领域,尤其涉及废气处理系统。
背景技术
半导体制造工艺中,涉及多种特殊的气体包括氢化物(超纯氢、硅烷、磷烷等),氟化物(六氟化硫、三氟化氮、四氟化硅等),碳氟化合物(四氟化碳、六氟乙烷等)。吸入高浓度的硅烷会引起头痛、恶心、头晕并刺激上呼吸道,过度吸入硅烷会引起肺炎和肾病。氟化物对于人体的危害,氟化物会使骨骼受害,主要表现为肢体活动障碍,并且使人的牙齿变得脆弱,还会出现斑点、损害皮肤,出现疼痛、湿疹及各种皮炎,影响工作人员的生命健康。
目前市场上的废气处理设备往往存在以下问题:半导体废气处理系统气体入口的制程废气不受控制,在设备停机的情况下,废气进入系统,造成废气未被处理或者气体泄露造成环境和人员健康;制程废气容易在气体入口堵塞,维护成本大;半导体废气处理系统气体入口负压的负压波动过大,维护成本大;半导体废气处理系统水箱内液位传感器与水箱水液接触,造成传感器腐蚀而失效;半导体废气处理系统反应容器的顶盖温度过高,易造成人员烫伤;干燥空气进入反应腔,制程废气与干燥空气提前反应,生成的二氧化硅结晶堆积,造成系统堵塞,维护成本增加;反应腔外壁与反应腔内壁之间热量流失,系统处理效率低下并且反应腔外壁温度过高,易造成人员伤害;反应腔出口易堵塞,导致系统停机,维护成本增加;半导体废气处理系统出气口湿度过大而结露,系统出气口易被腐蚀和堵塞,造成设备成本增加。
结合上述,相关技术中的废气处理设备,存在诸多问题,亟待解决。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种废气处理系统,封闭部与连通部配合,使得第一气体与第二气体在第二腔体内发生反应,阻止第一气体与第二气体在第一腔体内发生反应,解决第一腔体容易堵塞的问题,降低设备维护成本。
根据本发明实施例的废气处理系统,包括:
反应容器,包括容器本体和盖体,所述容器本体与所述盖体限制出第一腔体和环绕与所述第一腔体外周的第二腔体,所述第一腔体的第一端用于通入待处理的第一气体,所述第一腔体的第二端与所述第二腔体连通,所述第二端为朝向所述盖体的一端;所述盖体构造有用于通入第二气体的进气腔,所述盖体包括封闭部和环绕所述封闭部的连通部,所述连通部连通所述进气腔与所述第二腔体,所述封闭部的投影覆盖所述第二端。
根据本发明的一个实施例,所述盖体包括限制出所述进气腔的盖本体和孔板,所述盖本体上连接有供气管路,所述连通部为所述孔板上的通孔,所述通孔对应于所述第一腔体的外周。
根据本发明的一个实施例,所述容器本体包括限制出所述第一腔体的第一壳体和环绕于所述第一壳体外周的第二壳体,所述第二壳体上设有排气口,所述排气口处设有喷头,所述喷头的喷淋方向与所述排气口的排气方向相同。
根据本发明的一个实施例,所述第一壳体的所述排气口处设有排气管,所述排气管包括连接于所述排气口的连接部和与所述连接部形成夹角的折弯部,所述喷头上连接有供液管,所述供液管包括在所述折弯部内延伸的供液部以及伸出所述折弯部的固定部。
根据本发明的一个实施例,还包括第一冷却管路,所述盖体构造有保温腔,所述保温腔与所述第一冷却管路连通。
根据本发明的一个实施例,还包括前处理装置和水箱,所述前处理装置通过所述水箱的气体区与所述第一腔体连通,所述前处理装置包括用于通入所述第一气体的进气管;
所述进气管的进气端连接有进气吹扫管路与压力检测管路中的至少一个,所述压力检测管路安装有限流器;和/或,所述进气管的外侧包覆有加热带。
根据本发明的一个实施例,所述进气管的进气端连接有三通阀,所述三通阀的第一端安装于所述进气端,所述三通阀的第二端连接制程气体管路,所述三通阀的第三端连接旁通管路,所述进气吹扫管路与所述压力检测管路中的至少一个与所述旁通管路连接于一条总管路。
根据本发明的一个实施例,所述进气管连接有第二冷却管路,所述第二冷却管路与所述水箱中的液体区连通。
根据本发明的一个实施例,还包括水箱和冷却装置,所述反应容器的排气口通过所述水箱的气体区与所述冷却装置连通,所述冷却装置包括除湿器和多级冷却器,至少一个所述冷却器通过第三冷却管路与所述水箱的液体区连通,至少一个所述冷却器通过第四冷却管路与新水管路连通,所述除湿器位于最后一级冷却器的下游。
根据本发明的一个实施例,还包括外壳,所述外壳安装有烟雾传感器、门警传感器、照明部件中的至少一个,所述烟雾传感器对应于所述盖体安装,所述门警传感器安装于门体,所述照明部件安装于所述外壳内。
本发明实施例中的上述一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果之一:
本发明实施例的废气处理系统,包括反应容器,反应容器包括容器本体和盖体,容器本体与盖体限制出相连通第一腔体和第二腔体,第一腔体的第一端用于通入第一气体,盖体的连通部用于向第二腔体通入第二气体,以使第一气体与第二气体在第二腔体内发生反应,盖体的封闭部阻止第二气体通入第一腔体,阻止第一气体与第二气体在第一腔体内发生反应,因此,避免第一气体与第二气体在第一腔体内发生反应而产生结晶,进而避免第一腔体堵塞,有助于增长反应容器的清洁周期,降低清洁成本以及设备维护成本。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的废气处理系统的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的废气处理系统的反应容器的结构示意图;
图3是图2中A-A的剖视结构示意图;
图4是本发明实施例提供的废气处理系统的反应容器的俯视结构示意图;
图5是图4中B-B的剖视结构示意图;
图6是本发明实施例提供的废气处理系统的防堵装置的立体结构示意图;
图7是本发明实施例提供的废气处理系统的防堵装置的侧视结构示意图;
图8是本发明实施例提供的废气处理系统的反应容器的孔板的俯视结构示意图;
图9是本发明实施例提供的废气处理系统的反应容器的孔板的立体结构示意图;
图10是本发明实施例提供的废气处理系统的进气管的立体结构示意图;
图11是本发明实施例提供的废气处理系统的进气管的侧视结构示意图;
图12是本发明实施例提供的废气处理系统的水箱的立体结构示意图;
图13是本发明实施例提供的废气处理系统的水箱的侧视结构示意图;
图14是本发明实施例提供的废气处理系统的冷却装置的结构示意图;
图15是本发明实施例提供的废气处理系统的除湿器的结构示意图。
附图标记:
1:反应容器;11:盖体;111:盖本体;112:孔板;1121:封闭部;1122:通孔;1123:安装孔;113:第一冷却管路;114:供气管路;1141:第一压力开关;1142:第一阀门;1143:第二阀门;1144:第一流量计;1145:第三阀门;12:容器本体;121:第一壳体;1211:第一腔体;122:第二壳体;1221:第二腔体;1222:排气口;123:排气管;1231:连接部;1232:折弯部;13:防堵装置;131:喷头;132:供液管;1321:供液部;1322:固定部;14:加热组件;15:保温夹层;
2:前处理装置;21:进气管;22:进气吹扫管路;221:第五阀门;222:第二流量计;223:进气加热器;23:压力检测管路;231:限流器;232:第六阀门;233:第七阀门;234:分配器;24:三通阀;25:旁通管路;26:总管路;261:第二压力开关;262:第四阀门;27:第二冷却管路;28:集气器;
3:水箱;31:第一开口;32:第二开口;33:第三开口;34:第四开口;35:检测旁路;351:液位传感器;36:温度传感器;37:第四流量计;38:循环泵;39:排水调节阀;
4:冷却装置;41:第一冷却器;411:第三冷却管路;42:第二冷却器;421:第四冷却管路;43:除湿器;431:辅助气管路;
5:新水管路;51:过滤器;52:第一隔膜阀;53:第三流量计;54:第二隔膜阀;55:水箱补水阀;56:新水调节阀;
6:烟雾传感器;7:门警传感器。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不能用来限制本发明的范围。
在本发明实施例的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明实施例和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明实施例的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明实施例的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明实施例中的具体含义。
在本发明实施例中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明实施例的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
本发明的实施例,参考图1至图15所示,提供一种废气处理系统,包括:反应容器1,反应容器1包括容器本体12和盖体11,容器本体12与盖体11限制出第一腔体1211和环绕与第一腔体1211外周的第二腔体1221,第一腔体1211的第一端用于通入待处理的第一气体,第一腔体1211的第二端与第二腔体1221连通,第二端为朝向盖体11的一端;盖体11构造有用于通入第二气体的进气腔,盖体11包括封闭部1121和环绕封闭部1121的连通部,连通部连通进气腔与第二腔体1221,封闭部1121的投影覆盖第二端。
本实施例以及下述实施例,以第一气体为半导体制程的废气为例进行说明,如工艺气体中的硅烷、乙硅烷、DCS等易燃性气体,反应过程中,第一气体与第二气体(氧化性气体,如氧气、空气等)反应生成SiO2而形成结晶堆积,容易造成反应位置的堵塞。第一气体不限于制程废气,一般可以理解为气态与粉尘的混合物,其流动性与气态物料相近,所以称之为气体。
反应容器1为待处理的第一气体提供反应空间,也就是反应容器1内形成连通的第一腔体1211和第二腔体1221,第一气体从第一腔体1211的第一端进入,并沿第一腔体1211流动至其第二端,第一腔体1211的第二端的第一气体向第一腔体1211外周的第二腔体1221扩散,从盖体11的连通部进入第二腔体1221的第二气体与扩散到第二腔体1221内的第一气体发生反应,反应产生的结晶直接落入第二腔体1221。其中,盖体11的封闭部1121对应于第一腔体1211的第二端,阻止第一气体与第二气体在第一腔体1211的第二端进行反应,保证第一气体与第二气体在第二腔体1221内反应,不会堵塞第一腔体1211的第二端,以解决第一腔体1211的第二端容易发生堵塞的问题,提升反应容器1的运行稳定性,有助于减少停机清洁次数,提高生产效率。
本实施例的废气处理设备,通过盖体11上设置封闭部1121,阻止半导体制程废气与干燥空气提前反应,避免在第一腔体1211的第二端生成硅结晶堆积而造成设备停机,减少系统维护频率。
参考图2所示,盖体11上连接有供气管路114,供气管路114用于向盖体11通入第二气体。第二气体可以为氧气、空气等多种。一般情况下,供气管路114用于向反应容器1内通入干燥压缩空气。盖体11设置在容器本体12的顶部,第一腔体1211的第一端位于容器本体12的下端,第一腔体1211的第二端位于容器本体12的上端,有助于第一气体在第一腔体1211内顺畅流动。第二腔体1221环绕于第一腔体1211的外周,第二腔体1221可以为一个整体的腔体空间,或第二腔体1221还可以被分隔为多个小腔体,具体可根据需要选择。
在一些实施例中,参考图1至图3以及图8和图9所示,盖体11包括限制出进气腔的盖本体111和孔板112,盖本体111上连接有供气管路114,连通部为孔板112上的通孔1122,通孔1122对应于第一腔体1211的外周。进气腔是通过盖本体111和孔板112限制出,孔板112的结构简单,盖本体111可以为法兰结构,盖体11的整体结构简单且方便加工和安装。孔板112的结构,起到阻止半导体制程废气与干燥空气提前反应的作用,减少因结晶而堵塞的问题。
参考图3、图7和图8所示,盖本体111与孔板112之间设有间距,此间距形成进气腔,供气管路114连接于盖本体111的中心位置,以方便第二气体向孔板112的外周均匀扩散,使得第二腔体1221的各个位置均匀进气。第二腔体1221内设置有加热组件14,加热组件14固定于盖体11,孔板112还开设有可供加热组件14穿过的安装孔1123,保证加热组件14稳定安装。参考图3所示,加热组件14在第二腔体1221的周向均匀分布多个,保证第二腔体1221内的温度均匀性。
参考图1所示,供气管路114上连接有第一压力开关1141、第一阀门1142、第二阀门1143、第一流量计1144和第三阀门1145,多个阀门可设置在多个位置,方便在系统的多个位置对供气管路114进行调节,多个阀门的结构可以相同或不同,阀门一般可选用手阀或电磁阀。第一压力开关1141和第一流量计1144配合可根据供气管路114内的气体压力对气体流量进行调节。其中,供气管路114内一般通入清洁的干燥空气,干燥空气的流量一般不超过200sl/m。
在一些实施例中,参考图1至图7所示,容器本体12包括限制出第一腔体1211的第一壳体121和环绕于第一壳体121外周的第二壳体122,第二壳体122上设有排气口1222,排气口1222处设有喷头131,喷头131的喷淋方向与排气口1222的排气方向相同。也就是,反应容器1内设置防堵装置13,防堵装置13包括喷头131,喷头131可向排气口1222进行喷淋,通过喷头131喷淋的冲击力作用,有助于将排气口1222处的结晶物和粉尘清洗并排入水箱3,避免排气口1222发生堵塞,防止系统堵塞,减少系统维护频率。其中,喷头131的喷淋方向与第二腔体1221的排气方向一致,可促进气体和结晶排放,排放效过更好。
参考图3所示,第一壳体121与第二壳体122固定连接,第二壳体122固定于盖体11,第一壳体121与盖体11之间设置有间隙。第一壳体121与第二壳体122均为柱状结构,第一壳体121的底部与水箱3连通,经过前处理装置2预处理的第一气体通过水箱3通入第一腔体1211内,第一气体与第二气体在第二腔体1221内反应后再通过排气口1222排出到水箱3内,水箱3用于承接反应容器1排出的气液混合物,气液混合物在水箱3内进行气液分离,并将分离后的气体通过水箱3导入到冷却装置4。
在一些实施例中,参考图1至图7所示,第一壳体121的排气口1222处设有排气管123,排气管123包括连接于排气口1222的连接部1231和与连接部1231形成夹角的折弯部1232,喷头131上连接有供液管132,供液管132包括在折弯部1232内延伸的供液部1321以及伸出折弯部1232的固定部1322。排气管123包括连接部1231和折弯部1232两部分,连接部1231安装到第二壳体122,折弯部1232连接到水箱3,方便排气管123安装,还方便连通第二腔体1221与水箱3的内部空间,结构简单且方便加工。防堵装置13包括喷头131和供液管132,供液管132用于向喷头131提供喷淋液体,供液部1321从排气管123的外侧延伸到排气管123的内部,固定部1322将供液部1321固定在排气管123上,结构简单,且方便防堵装置13安装。
参考图1、图3和图5所示,排气管123为L型结构,方便将第二腔体1221的排气通入到水箱3中。喷头131的形状为喇叭口形状,方便喷淋。排气管123上还连接有压力传感器,以方便检测排气管123是否发生堵塞。其中,供液管132可以与水箱3的液体区连通,将水箱3内的循环水通入防堵装置13,充分利用废弃处理系统中的水,有助于节约用水。或者,新水管路5与供液管132连通,以将新水通入喷头131进行喷淋处理。第一腔体1211通过水箱3的第二开口32与水箱3的气体区连通,排气管123通过水箱3的第三开口33与水箱3的气体区连通。
在一些实施例中,第二壳体122设有保温夹层15,起到保温隔热作用。保温夹层15可用于安装隔热棉,防止系统热量流失,提高系统处理效率并且降低了反应腔外壁温度,防止人员伤害。保温夹层15内不限于填充隔热棉,还可以充填保温流体,具体可根据需要选择。
在一些实施例中,参考图1所示,废气处理系统还包括第一冷却管路113,盖体11构造有保温腔,保温腔与第一冷却管路113连通。第一冷却管路113为保温腔通入冷却液,以对盖体11起到降温作用。第一冷却管路113可以与水箱3的液体区连通,以将水箱3内的循环水作为冷却液通入保温腔,使用循环水不但降低了顶盖温度而且节约用水。当然,第一冷却管路113不限于与水箱3连通,还可以与新水管路5连通,具体可根据需要选择。
在一些实施例中,盖体11上还可以设置隔热层,隔热层与第一冷却管路113双重降温,盖体11的降温效果更好。
在一些实施例中,受反应容器1内部的反应环境影响,盖体11的温度较高,盖体11的位置容易发生火灾,在盖体11的上方设置烟雾传感器6,以对反应容器1的安全性进行监测,及时发现设备故障。
在一些实施例中,参考图1、图10至图13所示,废气处理系统还包括前处理装置2和水箱3,前处理装置2通过水箱3的气体区与第一腔体1211连通,经过前处理装置2预处理的第一气体进入水箱3,在水箱3中进行气液分离,再进入第一腔体1211。
其中,前处理装置2包括用于通入第一气体的进气管21,进气管21的进气端连接有进气吹扫管路22与压力检测管路23中的至少一个。当进气管21上安装进气吹扫管路22,进气吹扫管路22通过向进气管21的进气端通入辅助气体,而避免进气管21的进气端发生堵塞,有助于保证进气管21通畅。当进气管21上连接压力检测管路23,压力检测管路23可以检测进气管21的进气端压力,以监测进气管21的进气端是否发生堵塞。当进气吹扫管路22与压力检测管路23配合,则有效阻止进气管21的进气端堵塞,还充分监测进气管21的进气端是否发生堵塞。
当进气管21连接有压力检测管路23,压力检测管路23安装有限流器231,限流器231有效防止进气管21的进气端压力波动过大,当设备出现误动作而及时停机,提高设备利用率。
压力检测管路23用于通入压力气体,压力检测管路23还连接有压力传感器,通过压力气体与压力检测传感器配合以检测进气管21的进气端气体压力;压力检测管路23还连接有分配器234,分配器234用于将压力气体分配到各个进气管21内。压力检测管路23还连接有第六阀门232和第七阀门233,以调节压力气体的流量和通断,阀门的种类可根据需要选择。
其中,进气吹扫管路22可以向进气管21通入氮气,氮气的性能稳定,并且氮气不会与第一气体发生反应,避免第一气体反应后产生结晶。进气吹扫管路22上连接有第五阀门221、第二流量计222和进气加热器223,第五阀门221用于调节进气吹扫管路22的通断,第二流量计222用于调节进气吹扫管路22内的气体流量,进气加热器223用于对进气吹扫管路22内的辅助气体进行加热,以保证进气吹扫管路22通入进气管21的气体温度,避免第一气体降温而结晶。第五阀门221的种类、第二流量计222的种类以及进气加热器223的结构均可以根据需要选择。
在一些实施例中,压力检测管路23与氮气吹扫管路并联于总管路26与进气管21之间,压力检测管路23与氮气吹扫管路中通入的气体种类相同,减少进气管21中杂质的引入。其中,压力检测管路23与氮气吹扫管路中的气体可以均为氮气,总管路26中氮气的最大流量限制在70sl/m。总管路26连接有第二压力开关261和第四阀门262,以调节总管路26的通断与流量。
参考图1所示,每两个进气管21作为一组,进气管21设置多组,使第一气体可通过多个路径进入水箱3。参考图10所示,进气管21连接于水箱3的第一开口31。每个进气管21上均设置进气吹扫管路22和压力检测管路23,进气吹扫管路22与压力检测管路23在进气管21上并列设置。
在一些实施例中,参考图1、图10至图13所示,进气管21的外侧包覆有加热带,加热带对进气管21起到加热保温的作用,以使进气管21内待处理的第一气体的温度满足要求,避免第一气体在进气管21内降温而结晶。
其中,加热带可以为包覆在进气管21外壁的加热层,如电加热层,结构简单,方便调节温度。
在一些实施例中,进气管21的进气端安装进气吹扫管路22,进气管21的外壁包覆加热带,加热带防止制程气体被水洗的情况下,温度迅速下降造成结晶,堵塞进气口,通过进气吹扫管路22定时给进气口进行吹扫,双层防止进气口堵塞,提高设备处理效率。
其中,进气管21上还连接有集气器28,集气器28为进气管21中的第一气体提供缓冲空间,第一气体经过集气器28缓冲后进入水箱3。
在一些实施例中,参考图1所示,进气管21的进气端连接有三通阀24,三通阀24的第一端安装于进气管21的进气端,三通阀24的第二端连接制程气体管路,三通阀24的第三端连接旁通管路25。也就是三通阀24通过气动调节其通断状态,当三通阀24的第一端与第二端连通,则进气管21进行进气,当三通阀24的第三端与旁通管路25连通,则第一端与第二端断开,进气管21停止进气。
在一些实施例中,进气吹扫管路22与压力检测管路23中的至少一个与旁通管路25连接于一条总管路26。总管路26向进气吹扫管路22与旁通管路25供气、向压力检测管路23与旁通管路25供气或向进气吹扫管路22、压力检测管路23与旁通管路25供气,可简化总的管线结构,还能减少通入进气管21的杂质。参考图1所示,进气吹扫管路22、压力检测管路23与旁通管路25均与总管路26连通。
结合上述,进气管21的进气端增加保护装置,保护装置包括三通阀24、阀位置检测传感器、三通阀24驱动装置、加热带等,在系统正常的情况下,三通阀24直通被打开,第一气体(制程气体)通过三通阀24进入进气管21的进气端,当系统在非正常或者正常停机的情况下,三通阀24自动关闭,切断第一气体进入系统,避免气体泄露,造成人员伤害,提高系统的安全等级。
在一些实施例中,参考图1所示,进气管21连接有第二冷却管路27,第二冷却管路27与水箱3中的液体区连通。液体区的循环液通入第二冷却管路27,第二冷却管路27将循环液通入进气管21为第一气体进行喷淋清洗,初步去除第一气体中的粉尘杂质,可减少系统的用水量,降低处理成本。
其中,水箱3与第二冷却管路27之间的管路上连接循环泵38、第四流量计37和排水调节阀39,方便调节水箱3向第二冷却管路27的供水量;水箱3的此管路上还可以连接其他阀门,以调节第二冷却管路27的循环水流量、流速以及通断状态等。
当然,当废气处理系统包括新水管路5,第二冷却管路27还可以与新水管路5连通,利用新水为第一气体进行前处理。新水管路5上连接多个阀门,以便调节新水管路5与第二冷却管路27的通断、供水流量、供水流速等。其中,新水管路5上的阀门可以为手阀、电磁阀、隔膜阀等,如图1所示,新水管路5上设置第二隔膜阀54。
参考图1所示,新水管路5上连接过滤器51、第一隔膜阀52、第三流量计53、水箱补水阀55以及新水调节阀56,以调节新水管路5的新水流量、通断状态以及保证新水管路5稳定运行。新水管路5采用隔膜阀和双驱动球阀双层保护,防止新水泄漏,造成设备停机。其中,双驱动球阀连接到电气柜的控制器。
在一些实施例中,参考图1、图12至图15所示,废气处理系统还包括水箱3和冷却装置4,反应容器1的排气口1222通过水箱3的气体区与冷却装置4连通,冷却装置4包括除湿器43和多级冷却器,至少一个冷却器通过第三冷却管路411与水箱3的液体区连通,至少一个冷却器通过第四冷却管路421与新水管路5连通,除湿器43位于最后一级冷却器的下游。冷却装置4用于给反应后的气体进行冷却降温,并且,在气体排出冷却装置4之前,通过除湿器43降低气体湿度,以使气体满足排放要求。
其中,冷却装置4包括多级冷却器,对气体进行多级冷却后再排放,保证气体的冷却效果。其中,至少一个冷却器通入水箱3中的循环水,循环水喷淋降温,充分利用系统中的水,节省用水成本;至少一个冷却器通入新水,新水喷淋降温,新水更加清洁,并且经过换热后的新水会回流到水箱3中,可用于调节水箱3内循环水的PH值,以使水箱3内的循环水接近中性,提升安全性。冷却器降温的同时,还可以起到接触式除尘的作用。除湿器43可以通过非接触式冷却降温的方式除湿,还可以通过通入干燥气体的方式除湿。
参考图15所示,除湿器43上连接有辅助气管路431,用于向除湿器43内通入干燥气体,以调节除湿器43内气体温度。当然,除湿器43上还可以设置除湿检测仪、除湿阀等,当除湿器43的出气口的湿度超过标准值时,除湿阀被打开,干燥空气进入除湿器43,降低出气口的湿度,延长系统寿命。
参考图1和图14所示,冷却装置4包括由下向上依次排列的第一冷却器41、第二冷却器42和除湿器43,适于气体流动,第一冷却器41通过第三冷却管路411与水箱3连通以通入循环水,第二冷却器42通过第四冷却管路421与新水管路5连通以通入新水。第一冷却器41通过第四开口34与水箱3的气体区连通。
在一些实施例中,水箱3上设有检测旁路35,检测旁路35上设有液位传感器351,液位传感器351通过非接触的方式测量水箱3液位,液位传感器351与水箱3中的液体非接触,避免了传感器被腐蚀而失效,设备误动作造成人员伤害。液位传感器351在检测旁路35的不同高度上设置多个,提升检测精度。
水箱3上还连接温度传感器36,温度传感器36设置于气体区,用于测量气体区内气体的温度。水箱3上还连接泄漏检测传感器,以检测水箱3是否发生泄漏,及时发现水箱3故障。
在一些实施例中,参考图1所示,废气处理系统还包括外壳(图中未示意),废弃处理系统的各个装置设于外壳内,形成撬装式结构,方便集中安装,节省设备空间。
外壳安装有烟雾传感器6、门警传感器7、照明部件中的至少一个,烟雾传感器6对应于盖体11安装,门警传感器7安装于门体,照明部件安装于外壳内。当外壳内安装烟雾传感器6,系统出现烟雾的情况下,设备立即停机。烟雾传感器6设于反应容器的盖体11位置,用于检测反应容器1对应位置是否有烟雾产生,反应容器1为温度较高的设备,其发生危险的概率较大。当外壳内安装门警传感器7,设备处于工作的状态下,系统被禁止操作,提高系统的安全性。当外壳内安装照明系统,方便维护人员维护系统。当然,外壳内可以同时安装烟雾传感器6、门警传感器7和照明部件,使得设备运行更加安全。
上述实施例的废气处理系统,涉及半导体领域,化工领域,环保领域,智能领域。废气处理系统主要适用于处理半导体生产制造过程中产生对人体或环境有毒或有害的气体,通过热氧化分解使生产制造过程中的气体无害化,相对于之前具有处理制程气体的系统,上述实施例中的废气处理系统维护成本降低且安全等级提高。
以上实施方式仅用于说明本发明,而非对本发明的限制。尽管参照实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,对本发明的技术方案进行各种组合、修改或者等同替换,都不脱离本发明技术方案的精神和范围,均应涵盖在本发明的权利要求范围中。
Claims (10)
1.一种废气处理系统,其特征在于,包括:
反应容器,包括容器本体和盖体,所述容器本体与所述盖体限制出第一腔体和环绕与所述第一腔体外周的第二腔体,所述第一腔体的第一端用于通入待处理的第一气体,所述第一腔体的第二端与所述第二腔体连通,所述第二端为朝向所述盖体的一端;所述盖体构造有用于通入第二气体的进气腔,所述盖体包括封闭部和环绕所述封闭部的连通部,所述连通部连通所述进气腔与所述第二腔体,所述封闭部的投影覆盖所述第二端;
第一气体从所述第一腔体的第一端进入,并沿所述第一腔体流动至其第二端,所述第一腔体的第二端的第一气体向位于所述第一腔体外周的所述第二腔体扩散,从所述连通部进入所述第二腔体的第二气体与扩散到所述第二腔体的第一气体发生反应,反应产生的结晶直接落入所述第二腔体,其中,所述盖体的封闭部对应于所述第一腔体的第二端,阻止第一气体与第二气体在所述第一腔体的第二端进行反应。
2.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,所述盖体包括限制出所述进气腔的盖本体和孔板,所述盖本体上连接有供气管路,所述连通部为所述孔板上的通孔,所述通孔对应于所述第一腔体的外周。
3.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,所述容器本体包括限制出所述第一腔体的第一壳体和环绕于所述第一壳体外周的第二壳体,所述第二壳体上设有排气口,所述排气口处设有喷头,所述喷头的喷淋方向与所述排气口的排气方向相同。
4.根据权利要求3所述的废气处理系统,其特征在于,所述第一壳体的所述排气口处设有排气管,所述排气管包括连接于所述排气口的连接部和与所述连接部形成夹角的折弯部,所述喷头上连接有供液管,所述供液管包括在所述折弯部内延伸的供液部以及伸出所述折弯部的固定部。
5.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,还包括第一冷却管路,所述盖体构造有保温腔,所述保温腔与所述第一冷却管路连通。
6.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,还包括前处理装置和水箱,所述前处理装置通过所述水箱的气体区与所述第一腔体连通,所述前处理装置包括用于通入所述第一气体的进气管;
所述进气管的进气端连接有进气吹扫管路与压力检测管路中的至少一个,所述压力检测管路安装有限流器;和/或,所述进气管的外侧包覆有加热带。
7.根据权利要求6所述的废气处理系统,其特征在于,所述进气管的进气端连接有三通阀,所述三通阀的第一端安装于所述进气端,所述三通阀的第二端连接制程气体管路,所述三通阀的第三端连接旁通管路,所述进气吹扫管路与所述压力检测管路中的至少一个与所述旁通管路连接于一条总管路。
8.根据权利要求6所述的废气处理系统,其特征在于,所述进气管连接有第二冷却管路,所述第二冷却管路与所述水箱中的液体区连通。
9.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,还包括水箱和冷却装置,所述反应容器的排气口通过所述水箱的气体区与所述冷却装置连通,所述冷却装置包括除湿器和多级冷却器,至少一个所述冷却器通过第三冷却管路与所述水箱的液体区连通,至少一个所述冷却器通过第四冷却管路与新水管路连通,所述除湿器位于最后一级冷却器的下游。
10.根据权利要求1至9中任意一项所述的废气处理系统,其特征在于,还包括外壳,所述外壳安装有烟雾传感器、门警传感器、照明部件中的至少一个,所述烟雾传感器对应于所述盖体安装,所述门警传感器安装于门体,所述照明部件安装于所述外壳内。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1360963A (zh) * | 2000-12-21 | 2002-07-31 | 康肯科技股份有限公司 | 废气处理装置的废气处理塔及该处理塔所用的电加热器 |
CN1721045A (zh) * | 2000-12-21 | 2006-01-18 | 康肯科技股份有限公司 | 废气处理装置的废气处理塔及该处理塔所用的电加热器 |
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CN103316561A (zh) * | 2012-03-22 | 2013-09-25 | 康肯科技股份有限公司 | 气体处理装置 |
CN207056302U (zh) * | 2017-07-24 | 2018-03-02 | 济南来益贸易有限公司 | 废气处理装置 |
CN110314516A (zh) * | 2019-05-17 | 2019-10-11 | 安徽京仪自动化装备技术有限公司 | 一种适用于半导体制程废气处理系统 |
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---|---|---|---|---|
KR0172185B1 (ko) * | 1996-01-23 | 1999-02-18 | 김경균 | 폐가스 유해성분 처리장치와 방법 |
US20010048902A1 (en) * | 2000-05-01 | 2001-12-06 | Christopher Hertzler | Treatment system for removing hazardous substances from a semiconductor process waste gas stream |
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Patent Citations (7)
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---|---|---|---|---|
CN1360963A (zh) * | 2000-12-21 | 2002-07-31 | 康肯科技股份有限公司 | 废气处理装置的废气处理塔及该处理塔所用的电加热器 |
CN1721045A (zh) * | 2000-12-21 | 2006-01-18 | 康肯科技股份有限公司 | 废气处理装置的废气处理塔及该处理塔所用的电加热器 |
CN101357296A (zh) * | 2007-07-31 | 2009-02-04 | 康肯科技股份有限公司 | 半导体排放气体处理装置 |
CN103316561A (zh) * | 2012-03-22 | 2013-09-25 | 康肯科技股份有限公司 | 气体处理装置 |
CN207056302U (zh) * | 2017-07-24 | 2018-03-02 | 济南来益贸易有限公司 | 废气处理装置 |
CN110314516A (zh) * | 2019-05-17 | 2019-10-11 | 安徽京仪自动化装备技术有限公司 | 一种适用于半导体制程废气处理系统 |
CN211612131U (zh) * | 2020-01-14 | 2020-10-02 | 孚亨工业科技(昆山)有限公司 | 一种锅炉烟气排放用净化装置 |
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