CN113031391B - 一种简易紫外纳米压印光刻装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种简易紫外纳米压印光刻装置，包括气动压印系统、紫外照明系统、气控系统、电控系统和壳体。气动压印系统通过球头紧锁螺钉定位夹紧及弹性薄膜均匀布压，保证了压印过程中图案转移的横纵向精准度；紫外照明系统通过紫外LED灯照明及匀光器布光实现压印过程中光刻胶的均衡交联固化；气控系统用于控制压印夹紧操作；电控系统主要用于控制曝光时间、触控面板操作；壳体为不锈钢材质，对整个装置起保护集成作用。本发明可实现快速连续图案化结构生产，加工精度不受“衍射极限限制”且结构紧凑、操作方便，具有低成本、高精度和高通量的优点。
Description
技术领域
本发明涉及纳米尺度图形加工技术领域，尤其涉及一种简易紫外纳米压印光刻装置。
背景技术
纳米压印技术由美国普林斯顿大学华裔科学家周郁在1995年首次提出，作为基于机械压印原理的非传统光刻技术，克服了光学曝光技术中光衍射现象造成的分辨率极限问题，具备高分辨率、高效率、低成本、适合工业化生产等优势，在众多微纳米结构制备工艺种脱颖而出，成为纳米结构大规模批量化制备最有潜力的技术之一。
经过二十几年的发展，当今常见的纳米压印方式包括热压印、紫外光固化压印技术、软印刷技术等。其中，紫外纳米压印技术由德州大学教授C GWillson首次提出，该技术可在低温低压条件下工作，消除了由于热膨胀系数差异而产生的畸变误差，模板与基片变形小，图形分辨率高，广泛应用于高密度存储、光子晶体、太阳能电池、微传感器、生物芯片、微电子器件等领域。当前，国内已成功研制一些纳米压印装置，但也存在气泡排除困难而导致的结构成型缺陷问题、压印装置设计缺陷而导致的图案转移准确度和精确度不足问题、以及装置结构复杂而导致的成本和重量问题。
发明内容
本发明目的在于提出一种简易紫外纳米压印光刻装置，该装置在小型化、轻量化的同时可实现纳米级图案的精准转移，具有结构紧凑、成本低、操作方便、模板基片对准精度高、结构成型均匀的优点。
为解决上述技术问题，本发明提供一种简易紫外纳米压印光刻装置，包括：气动压印系统、紫外照明系统、气控系统、电控系统和壳体。所述气动压印系统位于紫外照明系统上方，与气控系统相连，通过弹性薄膜均匀布压，保证微纳结构的均匀成型；所述紫外照明系统与电控系统连接，在紫外LED灯照明及匀光器作用下实现压印胶的均匀固化；所述壳体用于整机的智能化操作与集成保护。
进一步地，所述气动压印系统由气嘴、压力腔室、压力腔室定位槽、压力腔室球头紧锁螺钉、压力腔室螺母、压力腔室把手、压力腔室铰链、弹性薄膜、上腔体密封压圈组成。所述气嘴安装于压力腔室顶面，与气控系统连接，向压力腔室输入气流；所述压力腔室与LED照明腔室通过铰链连接，并由压力腔室球头紧锁螺钉与压力腔室螺母配合紧锁，确保压印地精确夹紧定位；所述压力腔室位槽含三个，沿径向以120°夹角均匀分布，用于压力腔室球头紧锁螺钉与压力腔室螺母安装；所述压力腔室把手包含两个，呈1800夹角安装于压力腔室顶面；所述弹性薄膜位于压力腔室下表面，用于均布气压，保证压印图案的精准转移；所述上腔体密封压圈位于弹性薄膜下方，用于压力腔室密封。
进一步地，所述弹性薄膜位于压力腔室与上腔体密封压圈之间；所述压力腔室与上腔体密封压圈边缘设置有螺纹孔，压力腔室通过上腔体密封压圈突起密封环压紧并由螺钉密封。
进一步地，所述紫外照明系统由紫外LED灯、LED转接板、匀光器、LED照明罩壳、LED照明基板连接杆、LED照明腔室、石英基底、模板、压印胶、基片组成。所述紫外LED灯固定于LED转接板，与电控系统连接，为紫外压印胶固化光源；所述匀光器安装在LED照明罩壳内壁，均布紫外光进而保证压印胶的均衡交联固化；所述LED照明罩壳通过LED照明基板连接杆固定于LED照明腔室与LED转接板之间；所述LED转接板由螺母紧锁，固连于LED照明罩壳下方；所述LED照明基板连接杆包含四个，呈900夹角正方排列，用于照明腔室的密封和固定；所述石英基底内嵌于LED照明腔室，允许紫外光透过，作为压印基底；所述模板为带有转移图案对象；所述压印胶为紫外固化压印胶；所述基片为待转移图案对象。
进一步地，所述气控系统位于装置底部，与压力腔室顶面气嘴连接进而通入气流，充分利用气体各向同性特性，有效保证纳米图形的均匀性。
进一步地，所述电控系统可实现紫外LED灯、触控面板及整机电路的综合控制。
进一步地，所述壳体由钣金外壳、外罩、触控面板组成。所述钣金外壳对整机保护集成作用；所述外罩为整机顶盖，与钣金外壳通过铰链连接，可实现开合，便于压印过程中的模板与基片装卸；所述触控面板为人机交互界面，用于压印过程的智能化操作。
本发明与现有技术相比的优势在于：
(1)、本发明结构精巧，可实现基片多尺寸压印，压印尺寸范围大，同时具备纳米尺度高分辨力，最高精度可达50nm，具有结构紧凑、操作方便，低成本、高精度和高通量的优点。
(2)、本发明充分利用气体各向同性优势，运用气压方式进行压紧操作；同时采用触摸屏人机交互界面，能精确检测并操纵压印操作流程。
附图说明
图1为本发明实施例的简易紫外纳米压印光刻装置侧剖总体结构示意图，其中，100为气动压印系统，200为紫外照明系统，300为气控系统，400为电控系统，500为壳体；
图2为本发明实施例的气动压印系统结构示意图，其中，101为气嘴，102为压力腔室，103为压力腔室定位槽，104为压力腔室球头紧锁螺钉，105为压力腔室螺母，106为压力腔室把手，107为压力腔室铰链，108为弹性薄膜，109为上腔体密封压圈；
图3为本发明实施例的压力腔室密封的结构示意图，其中，102为压力腔室，108为弹性薄膜，109为上腔体密封压圈；
图4(a)为本发明实施例的紫外照明系统主视图，其中，204为LED照明罩壳，205为LED照明基板连接杆，206为LED照明腔室；
图4(b)为图4(a)中A-A向的剖视图，其中，201为紫外LED灯，202为LED转接板，203为匀光器，207为石英基底，208为模板，209为压印胶，210为基片；
图5为本发明实施例的壳体结构示意图，其中，501为钣金外壳，502为外罩，503为触控面板。
具体实施方式
为使本发明的特征、优势更明显易懂，下面结合附图和具体实施例对本发明的技术方案作进一步详细说明。
如图1所示，本发明一种简易紫外纳米压印装置包括气动压印系统100、紫外照明系统200、气控系统300、电控系统400和壳体500。所述气动压印系统100位于紫外照明系统200上方，与气控系统300相连，通过弹性薄膜均匀布压，保证微纳结构的均匀成型；所述紫外照明系统200与电控系统400连接，在紫外LED灯照明及匀光器作用下实现压印胶的均匀固化；所述壳体500用于整机的智能化操作与集成保护。
其中，气控系统300位于装置底部，与压力腔室102顶面气嘴101连接进而通入气流，充分利用气体各向同性特性，有效保证纳米图形的均匀性。
其中，电控系统400可实现紫外LED灯201、触控面板503及整机电路的综合控制。
如图1-2所示，气动压印系统100由气嘴101、压力腔室102、压力腔室定位槽103、压力腔室球头紧锁螺钉104、压力腔室螺母105、压力腔室把手106、压力腔室铰链107、弹性薄膜108、上腔体密封压圈109组成；所述气嘴101安装于压力腔室102顶面，与气控系统300连接，向压力腔室102输入气流；所述压力腔室102与LED照明腔室206通过铰链107连接，并由压力腔室球头紧锁螺钉104与压力腔室螺母105配合紧锁，确保压印地精确夹紧定位；所述压力腔室位槽103包含三个，沿径向以120°夹角均匀分布，用于压力腔室球头紧锁螺钉104与压力腔室螺母105安装；所述压力腔室把手106包含两个，呈1800夹角安装于压力腔室102顶面；所述弹性薄膜108位于压力腔室102下表面，用于均布气压，保证压印图案的精准转移；所述上腔体密封压圈109位于弹性薄膜108下方，用于压力腔室密封。
如图3所示，弹性薄膜108位于压力腔室102与上腔体密封压圈109之间；压力腔室102与上腔体密封压圈109边缘设置有螺纹孔，压力腔室102通过上腔体密封压圈109突起密封环压紧并由螺钉密封。
如图1、4所示，紫外照明系统200由紫外LED灯201、LED转接板202、匀光器203、LED照明罩壳204、LED照明基板连接杆205、LED照明腔室206、石英基底207、模板208、压印胶209、基片210组成。所述紫外LED灯201固定于LED转接板202，与电控系统400连接，为紫外压印胶固化光源；所述匀光器203安装在LED照明罩壳内壁204，均布紫外光进而保证压印胶209的均衡交联固化；所述LED照明罩壳204通过LED照明基板连接杆205固定于LED照明腔室206与LED转接板202之间；所述LED转接板202由螺母紧锁，固连于LED照明罩壳204下方；所述LED照明基板连接杆205包含四个，呈900夹角正方排列，用于照明腔室206的密封和固定；所述石英基底207内嵌于LED照明腔室206，允许紫外光透过，作为压印基底；所述模板208为带有转移图案对象；所述压印胶209为紫外固化压印胶；所述基片210为待转移图案对象。
如图4、5所示，壳体由钣金外壳501、外罩502、触控面板503组成；所述钣金外壳501对整机保护集成作用；所述外罩502为整机顶盖，与钣金外壳501通过铰链连接，可实现开合，便于压印过程中的模板208与基片210装卸；所述触控面板503为人机交互界面，用于压印过程的智能化操作。
上述描述仅是对本发明具体实施例的阐述，并非对本发明范围的任何限定。凡依本发明权利要求范围所作的均等变化与修饰，皆应属本发明权利要求的涵盖范围。
Claims (6)
1.一种简易紫外纳米压印光刻装置，其特征在于，包括气动压印系统（100）、紫外照明系统（200）、气控系统（300）、电控系统（400）和壳体（500），所述气动压印系统（100）位于紫外照明系统（200）上方，与气控系统（300）相连，通过弹性薄膜均匀布压，保证微纳结构的均匀成型；所述紫外照明系统（200）与电控系统（400）连接，在紫外LED灯照明及匀光器作用下实现压印胶的均匀固化；所述壳体（500）用于整机的智能化操作与集成保护；
所述气动压印系统（100）由气嘴（101）、压力腔室（102）、压力腔室定位槽（103）、压力腔室球头紧锁螺钉（104）、压力腔室螺母（105）、压力腔室把手（106）、压力腔室铰链（107）、弹性薄膜（108）、上腔体密封压圈（109）组成，所述气嘴（101）安装于压力腔室（102）顶面，与气控系统（300）连接，向压力腔室（102）输入气流；所述压力腔室（102）与LED照明腔室（206）通过铰链（107）连接，并由压力腔室球头紧锁螺钉（104）与压力腔室螺母（105）配合紧锁，确保压印地精确夹紧定位；所述压力腔室定位槽（103）包含三个，沿径向以120°夹角均匀分布，用于压力腔室球头紧锁螺钉（104）与压力腔室螺母（105）安装；所述压力腔室把手（106）包含两个，呈1800夹角安装于压力腔室（102）顶面；所述弹性薄膜（108）位于压力腔室（102）下表面，用于均布气压，保证压印图案的精准转移；所述上腔体密封压圈（109）位于弹性薄膜（108）下方，用于压力腔室密封。
2.根据权利要求1所述的一种简易紫外纳米压印光刻装置，其特征在于：所述弹性薄膜（108）位于压力腔室（102）与上腔体密封压圈（109）之间；所述压力腔室（102）与上腔体密封压圈（109）边缘设置有螺纹孔，压力腔室（102）通过上腔体密封压圈（109）突起密封环压紧并由螺钉密封。
3.根据权利要求1所述的一种简易紫外纳米压印光刻装置，其特征在于：所述紫外照明系统（200）由紫外LED灯（201）、LED转接板（202）、匀光器（203）、LED照明罩壳（204）、LED照明基板连接杆（205）、LED照明腔室（206）、石英基底（207）、模板（208）、压印胶（209）、基片（210）组成，所述紫外LED灯（201）固定于LED转接板（202），与电控系统（400）连接，为紫外压印胶固化光源；所述匀光器（203）安装在LED照明罩壳（204）内壁，均布紫外光进而保证压印胶（209）的均衡交联固化；所述LED照明罩壳（204）通过LED照明基板连接杆（205）固定于LED照明腔室（206）与LED转接板（202）之间；所述LED转接板（202）由螺母紧锁，固连于LED照明罩壳（204）下方；所述LED照明基板连接杆（205）包含四个，呈900夹角正方排列，用于照明腔室（206）的密封和固定；所述石英基底（207）内嵌于LED照明腔室（206），允许紫外光透过，作为压印基底；所述模板（208）为带有转移图案对象；所述压印胶（209）为紫外固化压印胶；所述基片（210）为待转移图案对象。
4.根据权利要求1所述的一种简易紫外纳米压印光刻装置，其特征在于：所述气控系统（300）位于装置底部，与压力腔室（102）顶面气嘴（101）连接进而通入气流，充分利用气体各向同性特性，有效保证纳米图形的均匀性。
5.根据权利要求1所述的一种简易紫外纳米压印光刻装置，其特征在于：所述电控系统（400）可实现紫外LED灯（201）、触控面板（503）及整机电路的综合控制。
6.根据权利要求1所述的一种简易紫外纳米压印光刻装置，其特征在于：所述壳体（500）由钣金外壳（501）、外罩（502）、触控面板（503）组成，所述钣金外壳（501）对整机保护集成作用；所述外罩（502）为整机顶盖，与钣金外壳（501）通过铰链连接，可实现开合，便于压印过程中的模板（208）与基片（210）装卸；所述触控面板（503）为人机交互界面，用于压印过程的智能化操作。
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Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003234287A (ja) * | 2001-11-19 | 2003-08-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法およびそれにより製造された装置 |
| WO2010033929A2 (en) * | 2008-09-22 | 2010-03-25 | Massachusetts Institute Of Technology | Method and apparatus for modeling deformation of a deformable body embossed with a stamp |
| DE102010043235A1 (de) * | 2009-11-06 | 2011-05-12 | Technische Universität Dresden | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Nanoimprinttemplates |
| KR20120135788A (ko) * | 2011-06-07 | 2012-12-17 | (주)휴넷플러스 | 균일 가압구조를 가진 대면적 임프린팅 장치 |
| WO2014047750A1 (zh) * | 2012-09-29 | 2014-04-03 | Lan Hongbo | 一种用于高亮度led图形化的纳米压印装置和方法 |
| WO2014145360A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Nanonex Corporation | Imprint lithography system and method for manufacturing |
| JP2014213551A (ja) * | 2013-04-26 | 2014-11-17 | 株式会社日立産機システム | ナノインプリント方法及びそのための装置 |
| CN104614955A (zh) * | 2015-03-06 | 2015-05-13 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统 |
| CN106154745A (zh) * | 2016-09-05 | 2016-11-23 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种微纳跨尺度高分辨力紫外压印光刻机 |
| CN106292191A (zh) * | 2015-05-24 | 2017-01-04 | 上海微电子装备有限公司 | 用于半导体光刻的光源灯室以及设备机柜 |
| CN206348588U (zh) * | 2016-12-26 | 2017-07-21 | 长春工业大学 | 一种紫外纳米压印装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI271777B (en) * | 2005-04-27 | 2007-01-21 | Ind Tech Res Inst | Uniform pressing micro-nano transfer printing apparatus |
| CN101911838A (zh) * | 2007-12-27 | 2010-12-08 | Asml荷兰有限公司 | 极紫外辐射源和用于产生极紫外辐射的方法 |
| US20140239529A1 (en) * | 2012-09-28 | 2014-08-28 | Nanonex Corporation | System and Methods For Nano-Scale Manufacturing |
-
2021
- 2021-03-05 CN CN202110246076.2A patent/CN113031391B/zh active Active
Patent Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003234287A (ja) * | 2001-11-19 | 2003-08-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法およびそれにより製造された装置 |
| WO2010033929A2 (en) * | 2008-09-22 | 2010-03-25 | Massachusetts Institute Of Technology | Method and apparatus for modeling deformation of a deformable body embossed with a stamp |
| DE102010043235A1 (de) * | 2009-11-06 | 2011-05-12 | Technische Universität Dresden | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Nanoimprinttemplates |
| KR20120135788A (ko) * | 2011-06-07 | 2012-12-17 | (주)휴넷플러스 | 균일 가압구조를 가진 대면적 임프린팅 장치 |
| WO2014047750A1 (zh) * | 2012-09-29 | 2014-04-03 | Lan Hongbo | 一种用于高亮度led图形化的纳米压印装置和方法 |
| WO2014145360A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Nanonex Corporation | Imprint lithography system and method for manufacturing |
| JP2014213551A (ja) * | 2013-04-26 | 2014-11-17 | 株式会社日立産機システム | ナノインプリント方法及びそのための装置 |
| CN104614955A (zh) * | 2015-03-06 | 2015-05-13 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统 |
| CN106292191A (zh) * | 2015-05-24 | 2017-01-04 | 上海微电子装备有限公司 | 用于半导体光刻的光源灯室以及设备机柜 |
| CN106154745A (zh) * | 2016-09-05 | 2016-11-23 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种微纳跨尺度高分辨力紫外压印光刻机 |
| CN206348588U (zh) * | 2016-12-26 | 2017-07-21 | 长春工业大学 | 一种紫外纳米压印装置 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 微区微纳米压印技术及设备;申溯;周雷;魏国军;陈林森;;光学精密工程(04);第807-812页 * |
Also Published As
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