CN113013362B - 显示面板、显示面板的制备方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例涉及显示技术领域，公开了一种显示面板及制备方法、显示装置，显示面板包括：功能膜层位于基板上，且功能膜层上设置有开口；第一电极至少部分位于开口内；发光层设置在功能膜层背离基板的一侧；辅助电极设置在功能膜层内，且辅助电极与第一电极间隔设置；显示面板还包括与开口间隔设置的凹槽，凹槽至少部分贯穿功能膜层，且凹槽与辅助电极第一平面的投影存在交叠，第一平面垂直于基板；第二电极设置在发光层远离基板的一侧，导电连接层位于凹槽内，且导电连接层与辅助电极在第一平面的投影存在交叠，辅助电极经由导电连接层与第二电极连接。本发明提供的显示面板及制备方法、显示装置能够提高显示面板的接触稳定性及显示均匀性。

Description

显示面板、显示面板的制备方法及显示装置

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode)称为有机电致发光二极管。OLED显示技术具有主动发光、高对比度、超薄、低功耗、易于实现柔性显示和3D显示等诸多优点，使它在目前在众多显示屏上得到应用，例如应用于电视机和移动显示设备上。目前OLED显示器件在亮度方面还存在显示不均的问题，亮度显示的非均匀性一个原因是阴极引起的电源电压降(IR Drop)。

在现有技术中，一种方式是通过设置辅助电极防止阴极的电压降，然而现有技术存在辅助电极与阴极接触不良的问题，因此，有必要提供一种新的显示面板结构来解决上述问题。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置，其能够提高显示面板的接触稳定性及显示均匀性。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供了一种显示面板，包括：

一种显示面板，其特征在于，包括：基板、功能膜层、第一电极、第二电极、辅助电极、导电连接层以及发光层；所述功能膜层位于所述基板上，且所述功能膜层上设置有开口；所述第一电极至少部分位于所述开口内；所述发光层设置在所述功能膜层背离所述基板的一侧；所述辅助电极设置在所述功能膜层内，且所述辅助电极与所述第一电极间隔设置；所述显示面板还包括与所述开口间隔设置的凹槽，所述凹槽至少部分贯穿所述功能膜层，且所述凹槽与所述辅助电极在第一平面的投影存在交叠，所述第一平面垂直于所述基板；所述第二电极设置在所述发光层远离所述基板的一侧，所述导电连接层位于所述凹槽内，且所述导电连接层与所述辅助电极在所述第一平面的投影存在交叠，所述辅助电极经由所述导电连接层与所述第二电极连接。

另外，所述导电连接层及所述辅助电极的导电率均高于所述第二电极的导电率。

另外，所述功能膜层包括层叠设置的无机层、平坦化层以及像素界定层，所述无机层设置在所述平坦化层靠近所述基板的一侧，所述开口贯穿所述像素界定层；所述辅助电极设置在所述功能膜层中的任一膜层内，或，所述辅助电极设置在所述无机层或所述平坦化层背离所述基板一侧表面。

另外，所述辅助电极设置在所述无机层背离所述基板一侧表面，所述平坦化层覆盖所述辅助电极。

另外，所述辅助电极设置在所述平坦化层背离所述基板一侧表面，所述像素界定层覆盖所述辅助电极。

另外，所述无机层包括多层层叠设置的子无机膜，所述辅助电极设置在任一子无机膜上。

另外，所述子无机膜包括栅绝缘膜、电容介质膜、第一层间介质膜以及第二层间介质膜，所述栅绝缘膜设置在所述电容介质膜靠近所述基板的一侧，所述第一层间介质膜设置在所述电容介质膜远离所述基板的一侧，所述第二层间介质膜设置在所述第一层间介质膜远离所述基板的一侧；所述显示面板还包括设置在所述栅绝缘膜上的第一金属膜、设置在所述第一层间介质膜上的第二金属膜以及设置在所述第二层间介质膜上的第三金属膜；所述辅助电极与所述第一金属膜、所述第二金属膜以及所述第三金属膜中的任一者同层设置。

另外，在垂直于所述基板方向上，所述凹槽槽底距离所述辅助电极靠近所述基板一侧表面的距离大于或等于所述发光层的厚度。

本发明的实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：提供基板；在所述基板上形成功能膜层、辅助电极以及第一电极，其中，所述功能膜层具有开口，所述第一电极至少部分位于所述开口内，所述辅助电极设置在所述功能膜层内，且与所述第一电极间隔设置；刻蚀所述功能膜层，以形成凹槽，其中，所述凹槽与所述开口间隔设置，且所述凹槽与所述辅助电极第一平面的投影存在交叠，所述第一平面垂直于所述基板；在所述凹槽内形成导电连接层，其中，所述导电连接层与所述辅助电极在所述第一平面的投影存在交叠；在所述凹槽内形成导电连接层；在所述功能膜层背离所述基板的一侧形成第二电极，其中，所述辅助电极经由所述导电连接层与所述第二电极连接。

本发明的实施例还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。

与现有技术相比，本发明实施例至少具有如下优点：

通过层叠设置第一电极、发光层以及第二电极，使得第一电极和第二电极之间形成电场，进而使发光层在外加电场的作用下发光用以形成图像显示；通过设置辅助电极和导电连接层，且辅助电极经由导电连接层与第二电极电连接，使得电流从第一电极流入第二电极时，部分电流会从第二电极流向导电连接层和辅助电极，从而可以整体降低显示区域的面电阻，增强显示面板的显示均一性；由于凹槽与辅助电极在第一平面的投影存在交叠，导电连接层设置在凹槽内，通过此种结构的设置，增大了导电连接层与辅助电极的接触面积，也即提高了导电连接层与辅助电极的接触稳定性，避免导电连接层与辅助电极在显示面板弯折过程中分离。

附图说明

一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。

图1是根据本发明第一实施例的显示面板的结构示意图；

图2是根据本发明第一实施例的另一种结构的显示面板的结构示意图；

图3是根据本发明第一实施例的又一种结构的显示面板的结构示意图；

图4是根据本发明第一实施例的再一种结构的显示面板的结构示意图；

图5是根据本发明第一实施例的还一种结构的显示面板的结构示意图；

图6是根据本发明第一实施例的还一种结构的显示面板的结构示意图；

图7是根据本发明第一实施例的还一种结构的显示面板的结构示意图；

图8是根据本发明第一实施例的还一种结构的显示面板的结构示意图；

图9是根据本发明第一实施例的还一种结构的显示面板的结构示意图；

图10是根据本发明第一实施例的显示面板的俯视图；

图11是根据本发明第二实施例的显示面板的一种可行的制备方法的流程图；

图12是根据本发明第二实施例的显示面板的另一种可行的制备方法的流程图。

具体实施例

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的各实施例进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本发明各实施例中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施例的种种变化和修改，也可以实现本申请所要求保护的技术方案。

本发明的第一实施例涉及一种显示面板100，显示面板的结构示意图如图1所示，包括：

基板1、功能膜层2、第一电极3、第二电极4、辅助电极5、导电连接层6以及发光层7；功能膜层2位于基板1上，且功能膜层2上设置有开口20；第一电极3至少部分位于开口20内；发光层7设置在功能膜层2背离基板1的一侧；辅助电极5设置在功能膜层2内，且辅助电极5与第一电极3间隔设置；显示面板100还包括与开口20间隔设置的凹槽10，凹槽10至少部分贯穿功能膜层2，且凹槽10与辅助电极5在第一平面的投影存在交叠，第一平面垂直于基板1；第二电极4设置在发光层7远离基板1的一侧，导电连接层6位于凹槽10内，且导电连接层6与辅助电极5在第一平面的投影存在交叠，辅助电极5经由导电连接层6与第二电极4连接。

需要说明的是，本实施例中的第一电极3、发光层7和第二电极4的结构以及相互之间的位置关系与现有技术中常用的OLED发光显示单元的结构形式相同。第一电极3设置于平坦化层21上方，由具有高功函数的导电金属制成，第一电极3为反射电极。发光层7设置于第一电极3上方，在外加电场的作用下发光用以形成图像显示。第二电极4设置于发光层7上方，由具有低功函的导电金属制成，构成显示面板100时各显示单元的第二电极4相互连通成为一整体结构，本申请所指的上方是指背离基板1侧。

具体的说，基板1可以为玻璃基板，也可以采用柔性材料制备而成，例如：由酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、多芳基化合物(PAR)或玻璃纤维增强塑料(FRP)等聚合物材料形成。基板1对设置在其上的膜层提供支撑，基板1可以是透明的、半透明的或不透明的。本实施例并不对基板1的材质作具体限定。

与现有技术相比，本发明实施例通过层叠设置第一电极3、发光层7以及第二电极4，使得第一电极3与第二电极4之间形成电场，发光层7在外加电场的作用下发光用以形成图像显示；通过设置辅助电极5和导电连接层6，且辅助电极5经由导电连接层6与第二电极4电连接，使得电流从第一电极3流入第二电极4时，部分电流会从第二电极4流向导电连接层6和辅助电极5，从而可以整体降低显示区域的面电阻，增强显示面板100的显示均一性；由于凹槽10与辅助电极5在第一平面的投影存在交叠，导电连接层6设置在凹槽10内，通过此种结构的设置，增大了导电连接层6与辅助电极5的接触面积，从而确保了电流能够在辅助电极5内流动，也即提高了导电连接层6与辅助电极5的接触稳定性，避免导电连接层6与辅助电极5在显示面板弯折过程中分离。

请继续参见图1，功能膜层2包括无机层23、平坦化层21和像素界定层22；无机层23设置在平坦化层21靠近基板1的一侧，开口20贯穿像素界定层22；辅助电极5设置在无机层23背离基板1一侧表面，平坦化层21覆盖辅助电极5。

具体的说，平坦化层21的材质为透明的有机聚合物，如聚甲基丙烯酸酯、聚硅氧烷、环氧树脂等，通过使用透明材料制备平坦化层，能够确保显示面板100的光学性能不会受到平坦化层的影响，提高了后续工艺中制成的显示装置的显示效果。

需要说明的是，图1所示的凹槽10未完全贯穿辅助电极5，在实际应用中，凹槽10还可以完全贯穿辅助电极5，以使导电连接层6与无机层23的上表面接触(即无机层23的部分上表面为凹槽10的槽底)。

请参见图2，为本发明一个可行的实施例中显示面板100的结构示意图。辅助电极5设置在平坦化层21背离基板1一侧表面，像素界定层22覆盖辅助电极5。

需要说明的是，图2所示的凹槽10未完全贯穿辅助电极5，在实际应用中，凹槽10还可以完全贯穿辅助电极5，以使导电连接层6与平坦化层21的上表面接触(即平坦化层21的部分上表面为凹槽10的槽底)。

可以理解的是，本实施例中的无机层23包括多层层叠设置的子无机膜，辅助电极5设置在任一子无机膜上。通过此种方式，使得显示面板100的制备流程更多样化，不局限于某一特定的制备方式，从而降低显示面板100的制备难度。

请参见图3，为本发明另一个可行的实施例中显示面板100的结构示意图。子无机膜包括栅绝缘膜231、电容介质膜232、第一层间介质膜233以及第二层间介质膜234，栅绝缘膜231设置在电容介质膜232靠近基板1的一侧，第一层间介质膜233设置在电容介质膜232远离基板1的一侧，第二层间介质膜234设置在第一层间介质膜233远离基板1的一侧；显示面板100还包括设置在栅绝缘膜231上的第一金属膜81、设置在第一层间介质膜233上的第二金属膜82以及设置在第二层间介质膜234上的第三金属膜83；辅助电极5与第一金属膜81同层设置。通过此种方式，使得辅助电极5能够与第一金属膜81同时制备，降低了显示面板100的制备时间，提高了显示面板100的制备效率。

值得一提的是，图3所示的辅助电极5与第一金属膜81同层设置，在实际应用中，辅助电极5还可以与第二金属膜82和第三金属膜83同层设置，可以达到与第一金属膜81同层设置相同的技术效果。

还需说明的是，子无机膜除了包括上述的栅绝缘膜231、电容介质膜232、第一层间介质膜233以及第二层间介质膜234外，还可以包括其他无机膜层，如氮化硅层、氧化硅层等，辅助电极5可以设置在任一子无机膜上。

请一并参见图1至图3，本实施例中辅助电极5在X方向上的宽度大于凹槽10在X方向上槽宽。值得一提的是，辅助电极5在X方向上的宽度在1微米至5微米之间，此种宽度范围的设置，能够在确保辅助电极5具有良好的导电功能的同时，尽可能降低辅助电极5单位体积的电阻。

优选地，辅助电极5在X方向上的宽度为3微米，此种辅助电极5宽度的设置，使得辅助电极5导电能力优越，且单位体积的电阻低；优选地，辅助电极5在X方向上的宽度为3.5微米，此种辅助电极5宽度的设置，使得辅助电极5导电能力优越，且单位体积的电阻低。

值得一提的是，辅助电极5在Y方向上的厚度在300纳米至2微米之间，此种厚度范围的设置，能够在确保辅助电极5单位体积的电阻较低的同时，提高辅助电极5的稳定性。

优选地，辅助电极5在Y方向上的厚度为1.2微米，此种厚度的设置，能够使辅助电极5单位体积的电阻较低，且稳定性高；优选地，辅助电极5在Y方向上的厚度为1.5微米，此种厚度的设置，能够使辅助电极5单位体积的电阻较低，且稳定性高。

更优地，在X方向上，辅助电极5和第一电极3的间距为20微米。此种间距大小的设置，能够确保辅助电极5和第一电极3互不干扰，提高了显示面板100的可靠性。

需要注意的是，图1至图3所示的凹槽10内均不存在发光层7，例如在显示面板100的制备过程中，发光层7的制备在凹槽10的制备之后。凹槽10的制作也可以先于发光层7进行，发光层7的材料落入凹槽10内，无需额外去除发光层7，导电连接层6填充凹槽并与设置在发光层7上的第二电极4接触，实现辅助电极5和第二电极4的连接。

请参见图4，功能膜层2包括无机层23、平坦化层21和像素界定层22；无机层23设置在平坦化层21靠近基板1的一侧，开口20贯穿像素界定层22；辅助电极5设置在无机层23背离基板1一侧表面，平坦化层21覆盖辅助电极5；部分发光层7位于凹槽10内。

请参见图5，辅助电极5设置在平坦化层21背离基板1一侧表面，像素界定层22覆盖辅助电极5；部分发光层7位于凹槽10内。

请参见图6，子无机膜包括栅绝缘膜231、电容介质膜232、第一层间介质膜233以及第二层间介质膜234，栅绝缘膜231设置在电容介质膜232靠近基板1的一侧，第一层间介质膜233设置在电容介质膜232远离基板1的一侧，第二层间介质膜234设置在第一层间介质膜233远离基板1的一侧；显示面板100还包括设置在栅绝缘膜231上的第一金属膜81、设置在第一层间介质膜233上的第二金属膜82以及设置在第二层间介质膜234上的第三金属膜83；辅助电极5与第一金属膜81同层设置；部分发光层7位于凹槽10内。

也就是说，图4至图6所示的凹槽10内均存在发光层，也即凹槽10的制作先于发光层7进行。通过此种方式，无需额外通过激光烧灼等方式去除发光层7，降低了制备显示面板100的工艺复杂度，且避免激光烧灼对显示面板100的影响。

值得一提的是，在垂直于基板1方向上，凹槽10槽底距离辅助电极5靠近基板1一侧表面的距离大于或等于发光层7的厚度。通过此种结构的设置，使得落入凹槽10内的发光层7是与辅助电极5下方膜层被贯穿的内侧壁接触，而不会与辅助电极5被贯穿的内侧壁接触，确保了与辅助电极5被贯穿的内侧壁接触的均为导电连接层6，增大了辅助电极5与导电连接层6的接触面积，从而进一步提高了辅助电极5与导电连接层6的接触稳定性。

值得说明的是，如图7所示，在本发明其他可行的实施例中，凹槽10槽底距离辅助电极5靠近基板1一侧表面的距离也可以小于发光层7的厚度，也即部分发光层7与部分辅助电极5被贯穿的内侧壁接触，但需注意的是，凹槽10槽底距离辅助电极5靠近基板1一侧表面的距离和辅助电极5在Y方向上的厚度之和大于发光层在Y方向上的厚度，以确保至少部分导电连接层6与辅助电极5被贯穿的内侧壁接触。

综上所述，图1至图7所示的显示面板100中，凹槽10在辅助电极5上的投影位于辅助电极5内，凹槽10延伸至辅助电极5内，且导电连接层6部分嵌入辅助电极5。而在实际应用中，凹槽10也可以不延伸至辅助电极5内，具体结构如图8至图9所示。

请参见图8，凹槽10未贯穿辅助电极5，导电连接层6还与辅助电极5的一侧壁50A接触。具体的说，图8所示的导电连接层6包括第一子连接层61和第二子连接层62，第一子连接层61在基板1上的正投影位于辅助电极5在基板1上的正投影内；第二子连接层62在基板1上的正投影与辅助电极5在基板1上的正投影至少部分接触且不重叠。进一步地，辅助电极5包括远离基板1的第一表面5A，第一子连接层61包括靠近基板1的第二表面61A，第二表面61A与第一表面5A接触；第二子连接层62包括靠近基板1的第三表面62A，第三表面62A到基板1的距离小于第二表面61A到基板1的距离。通过此种结构的设置，增大了导电连接层6与辅助电极5的接触面积，也即提高了导电连接层6与辅助电极5的接触稳定性，避免导电连接层6与辅助电极5在显示面板100弯折过程中分离。

需要说明的是，图8所示的第一子连接层61在基板1上的正投影位于辅助电极5在基板1上的正投影内，在其他可行的实施例中，第一子连接层61在基板1上的正投影还可以与辅助电极5在基板1上的正投影完全重叠，即第一表面5A与第二表面61A完全重合，可以达到与图8所示的结构相同的技术效果。

请参见图9，凹槽10同样未贯穿辅助电极5，辅助电极5包括相对设置的第一侧壁50A和第二侧壁50B，导电连接层6与第一侧壁50A和第二侧壁50B接触。具体的说，图9所示的导电连接层6包括第一子连接层61、第二子连接层62和第三连接层63，第一子连接层61在基板1上的正投影与辅助电极5在基板1上的正投影完全重叠；第二子连接层62在基板1上的正投影与辅助电极5在基板1上的正投影至少部分接触且不重叠；第三子连接层63在基板1上的正投影与辅助电极5在基板1上的正投影至少部分接触且不重叠。进一步地，辅助电极5包括远离基板1的第一表面5A，第一子连接层61包括靠近基板1的第二表面61A，第二表面61A与第一表面5A接触；第二子连接层62包括靠近基板1的第三表面62A，第三表面62A与第一侧壁50A接触，且第三表面62A到基板1的距离小于第二表面61A到基板1的距离；第三子连接层63包括靠近基板1的第四表面63A，第四表面63A与第二侧壁50B接触，且第四表面63A到基板1的距离小于第二表面61A到基板1的距离。通过此种结构的设置，进一步增大了导电连接层6与辅助电极5的接触面积，从而进一步提高了导电连接层6与辅助电极5的接触稳定性。

值得说明的是，以辅助电极5呈矩状为例，辅助电极5共具有四个侧壁，本实施例中的导电连接层6除了如图8所示的覆盖辅助电极5的一个侧壁，或如图9所示覆盖辅助电极5的两个相对设置的侧壁外，导电连接层6还可以覆盖辅助电极5的三个侧壁甚至所有侧壁。可以理解的是，本实施例不对辅助电极5的形状、导电连接层6覆盖辅助电极的侧壁面积做具体限定，如辅助电极5还可以呈圆柱状，导电连接层6可以覆盖部分或全部的辅助电极5的侧表面。

还需说明的是，图9所示的第三表面62A到基板1的距离与第四表面63A到基板1的距离相等。在实际应用中，第三表面62A到基板1的距离与第四表面63A到基板1的距离也可以不同，本实施例并不对此做具体限定。

值得一提的是，本实施例中导电连接层6及辅助电极5的导电率均高于所述第二电极的导电率。由于导电连接层6和辅助电极5的电导率均高于第二电极4的电导率，辅助电极5与第二电极4并联连接，由于辅助电极5的电导率远大于第二电极4的电导率，使得流过辅助电极5的电流更多，流过第二电极4的电流显著减少，从而可以减少甚至消除第二电极4电阻产生电压降，避免发光不均所导致的功耗增加，提高了显示面板100的显示均匀性。

此外，本实施例中的第一电极3的材质可以包括银、镁、铝、铂、铅、金、镍、钕、铬和它们的合金中的至少一种；第二电极4可以包括透光导电材料，包括氧化铟锡、氧化铟锌、氧化锌、氧化铟、氧化铟镓和氧化铝锌中的至少一种；辅助电极5的材质可以是钛、铝、银等导电性较好的材料；导电连接层6的材质可以与辅助电极5的材质相同，即同样为钛、铝、银等导电性较好的材料。

请参见图10，本实施例的辅助电极5为连续的网状结构，具体的说，图3所示的显示面板100具有多个像素单元A，每个像素单元A均存在与其连接的辅助电极5，且各像素A的辅助电极5相互连通成为一整体结构。此外，显示面板100还包括多个相互独立的呈柱状结构的导电连接层6，在显示面板100的显示过程中，减少第二电极4电阻产生电压降。值得一提的是，图3所示的每个像素单元A均存在若干个导电连接层6，进一步避免了发光不均所导致的功耗增加，提高了显示面板的显示均匀性。还需说明的事，由于导电连接层6的设置目的是为了使第二电极内4与辅助电极5连接，因此，也无需在每个像素单元A周围均设置导电连接层6。也就是说，本实施例并不对每个像素单元A周围的导电连接层6的数量做具体限定(可以存在部分像素单元A周围不设置导电连接层6)，可以根据实际需求设置。

本发明的第二实施例涉及一种显示面板的制备方法，本实施例的核心在于：提供基板；在所述基板上形成功能膜层、辅助电极以及第一电极，其中，所述功能膜层具有开口，所述第一电极至少部分位于所述开口内，所述辅助电极设置在所述功能膜层内，且与所述第一电极间隔设置；刻蚀所述功能膜层，以形成凹槽，其中，所述凹槽与所述开口间隔设置，且所述凹槽与所述辅助电极第一平面的投影存在交叠，所述第一平面垂直于所述基板；在所述凹槽内形成导电连接层，其中，所述导电连接层与所述辅助电极在所述第一平面的投影存在交叠；在所述凹槽内形成导电连接层；在所述功能膜层背离所述基板的一侧形成第二电极，其中，所述辅助电极经由所述导电连接层与所述第二电极连接。通过此种方式制备显示面板，能够提高显示面板的接触稳定性及显示均匀性。

下面对本实施例的显示面板的制备方法的实现细节进行具体的说明，以下内容仅为方便理解提供的实现细节，并非实施本方案的必须。

以功能膜层不包括发光层为例，显示面板的制备方法流程示意图如图11所示，包括：

S301：提供基板。

具体的说，基板1可以为玻璃基板，也可以采用柔性材料制备而成，例如：由酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、多芳基化合物(PAR)或玻璃纤维增强塑料(FRP)等聚合物材料形成。基板1可以是透明的、半透明的或不透明的，以对设置在其上的膜层结构的形成提供支撑。本实施例并不对基板1的材质作具体限定。

S302：在基板上形成功能膜层、辅助电极以及第一电极。

具体的说，功能膜层具有开口，第一电极至少部分位于开口内，辅助电极设置在功能膜层内，且与所述第一电极间隔设置。

进一步地，功能膜层包括无机层、平坦化层和像素界定层。无机层包括栅绝缘膜、电容介质膜、第一层间介质膜以及第二层间介质膜，栅绝缘膜设置在电容介质膜靠近基板的一侧，第一层间介质膜设置在电容介质膜远离基板的一侧，第二层间介质膜设置在第一层间介质膜远离基板的一侧；平坦化层的材质为透明的有机聚合物，如聚甲基丙烯酸酯、聚硅氧烷、环氧树脂等。

S303：刻蚀功能膜层，以形成凹槽。

具体的说，凹槽与开口间隔设置，且凹槽与辅助电极在第一平面的投影存在交叠，第一平面垂直于基板。进一步的，本实施例通过Asher工艺刻蚀功能膜层，即在功能膜层上涂覆一层图案化的光刻胶，通过顶烘、曝光、显影、后烘、腐蚀、光刻胶去除的方式在功能膜层上形成凹槽。

S304：在功能膜层背离基板的一侧形成发光层。

具体的说，本实施例的发光层可以包括依次层叠设置的缓冲层、N-GaN层(N型氮化镓层)、有源层和P-GaN层(P型氮化镓层)，发光层的外延生长工艺(即制备工艺)可以为金属有机化合物化学气相沉淀，可以理解的是，本实施例并不对发光层的制备工艺作具体限定。

值得一提的是，当功能膜层不包括发光层时，凹槽的制作先于发光层进行。通过此种方式，无需额外通过激光烧灼等方式去除发光层，降低了制备显示面板的工艺复杂度，且避免激光烧灼对显示面板的影响。

S305：在凹槽内形成导电连接层。

S306：在发光层背离基板的一侧形成第二电极。

关于步骤S305至步骤S306，具体的说，导电连接层与辅助电极在第一平面的投影存在交叠；本实施例中第一电极的材质可以包括银、镁、铝、铂、铅、金、镍、钕、铬和它们的合金中的至少一种；第二电极可以包括透光导电材料，包括氧化铟锡、氧化铟锌、氧化锌、氧化铟、氧化铟镓和氧化铝锌中的至少一种；辅助电极的材质可以是钛、铝、银等导电性较好的材料；导电连接层的材质可以与辅助电极的材质相同，即同样为钛、铝、银等导电性较好的材料。

以功能膜层包括发光层为例，显示面板的制备方法流程示意图如图12所示，包括：

S401：提供基板。

S402：在基板上形成功能膜层、辅助电极以及第一电极。

具体的说，功能膜层包括无机层、平坦化层、像素界定层和发光层。

S403：刻蚀功能膜层，以形成凹槽。

可以理解的是，当功能膜层包括发光层时，发光层的制作先于凹槽进行。

S404：在凹槽内形成导电连接层。

S405：在功能膜层背离基板的一侧形成第二电极。

可以理解的是，本实施例中的步骤S401至步骤S405与上述的步骤S301至S303、S305至S306大致相同，为了避免重复，此处不再赘述。

与现有技术相比，本发明实施例至少具有如下优点：通过层叠设置第一电极、发光层以及第二电极，使得第一电极和第二电极之间形成电场，进而使发光层在外加电场的作用下发光用以形成图像显示；通过设置辅助电极和导电连接层，且辅助电极经由导电连接层与第二电极电连接，使得电流从第一电极流入第二电极时，部分电流会从第二电极流向导电连接层和辅助电极，从而可以整体降低显示区域的面电阻，增强显示面板的显示均一性；由于凹槽与辅助电极在第一平面的投影存在交叠，导电连接层设置在凹槽内，通过此种结构的设置，增大了导电连接层与辅助电极的接触面积，也即提高了导电连接层与辅助电极的接触稳定性，避免导电连接层与辅助电极在显示面板弯折过程中分离。

上面各种方法的步骤划分，只是为了描述清楚，实现时可以合并为一个步骤或者对某些步骤进行拆分，分解为多个步骤，只要包括相同的逻辑关系，都在本专利的保护范围内；对算法中或者流程中添加无关紧要的修改或者引入无关紧要的设计，但不改变其算法和流程的核心设计都在该专利的保护范围内。

不难发现，本实施例为与第一实施例和第二实施例相关的方法实施例，本实施例可与第一实施例和第二实施例互相配合实施。第一实施例和第二实施例中提到的相关技术细节在本实施例中依然有效，为了减少重复，这里不再赘述。相应地，本实施例中提到的相关技术细节也可应用在第一实施例和第二实施例中。

本发明的第三实施例涉及一种显示装置，包含上述实施例提及的显示面板。

其中，显示面板可以为柔性有机发光显示模组或者非柔性有机发光显示面板。该有机发光显示面板的发光模式可以是顶发光、底发光或者双面发光。显示面板还可以设置在显示装置中，显示装置可以应用在智能穿戴设备(如智能手环、智能手表)中，也可以应用在智能手机、平板电脑、显示器等设备中。

本领域的普通技术人员可以理解，上述各实施例是实现本发明的具体实施例，而在实际应用中，可以在形式上和细节上对其作各种改变，而不偏离本发明的精神和范围。

Claims (4)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：基板、功能膜层、第一电极、第二电极、辅助电极、导电连接层以及发光层；

所述功能膜层位于所述基板上，且所述功能膜层上设置有开口；所述第一电极至少部分位于所述开口内；

所述发光层设置在所述功能膜层背离所述基板的一侧；

所述辅助电极设置在所述功能膜层内，且所述辅助电极与所述第一电极间隔设置；所述显示面板还包括与所述开口间隔设置的凹槽，所述凹槽至少部分贯穿所述功能膜层，且所述凹槽与所述辅助电极在第一平面的投影存在交叠，所述第一平面垂直于所述基板；

所述第二电极设置在所述发光层远离所述基板的一侧，所述导电连接层位于所述凹槽内，且所述导电连接层与所述辅助电极在所述第一平面的投影存在交叠，所述辅助电极经由所述导电连接层与所述第二电极连接；

所述凹槽未贯穿所述辅助电极，所述导电连接层与所述辅助电极的一侧壁接触；

所述导电连接层包括一体的第一子连接层和第二子连接层；

所述第一子连接层在所述基板上的正投影位于所述辅助电极在基板上的正投影内，所述辅助电极包括远离所述基板的第一表面，所述第一子连接层包括靠近所述基板的第二表面，所述第二表面与所述第一表面接触；

所述第二子连接层在所述基板上的正投影与所述辅助电极在所述基板上的正投影至少部分接触且不重叠，所述第二子连接层包括靠近所述基板的第三表面，所述第三表面到所述基板的距离小于所述第二表面到所述基板的距离，所述第二子连接层的侧面与所述辅助电极的一侧壁接触；

所述功能膜层包括层叠设置的无机层、平坦化层以及像素界定层，所述无机层设置在所述平坦化层靠近所述基板的一侧，所述开口贯穿所述像素界定层；所述无机层包括多层层叠设置的子无机膜，所述辅助电极设置在任一子无机膜上；

所述子无机膜包括栅绝缘膜、电容介质膜、第一层间介质膜以及第二层间介质膜，所述栅绝缘膜设置在所述电容介质膜靠近所述基板的一侧，所述第一层间介质膜设置在所述电容介质膜远离所述基板的一侧，所述第二层间介质膜设置在所述第一层间介质膜远离所述基板的一侧；

所述显示面板还包括设置在所述栅绝缘膜上的第一金属膜、设置在所述第一层间介质膜上的第二金属膜以及设置在所述第二层间介质膜上的第三金属膜；

所述辅助电极与所述第一金属膜、所述第二金属膜以及所述第三金属膜中的任一者同层设置。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述导电连接层及所述辅助电极的导电率均高于所述第二电极的导电率。

3.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上形成功能膜层、辅助电极以及第一电极，其中，所述功能膜层具有开口，所述第一电极至少部分位于所述开口内，所述辅助电极设置在所述功能膜层内，且与所述第一电极间隔设置；所述功能膜层包括层叠设置的无机层、平坦化层以及像素界定层，所述无机层设置在所述平坦化层靠近所述基板的一侧，所述开口贯穿所述像素界定层；所述无机层包括多层层叠设置的子无机膜，所述辅助电极设置在任一子无机膜上；所述子无机膜包括栅绝缘膜、电容介质膜、第一层间介质膜以及第二层间介质膜，所述栅绝缘膜设置在所述电容介质膜靠近所述基板的一侧，所述第一层间介质膜设置在所述电容介质膜远离所述基板的一侧，所述第二层间介质膜设置在所述第一层间介质膜远离所述基板的一侧；其中，所述显示面板还包括设置在所述栅绝缘膜上的第一金属膜、设置在所述第一层间介质膜上的第二金属膜以及设置在所述第二层间介质膜上的第三金属膜；所述辅助电极与所述第一金属膜、所述第二金属膜以及所述第三金属膜中的任一者同层设置；

刻蚀所述功能膜层，以形成凹槽，其中，所述凹槽与所述开口间隔设置，且所述凹槽与所述辅助电极在第一平面的投影存在交叠，所述第一平面垂直于所述基板，所述凹槽未贯穿所述辅助电极；

在所述凹槽内形成导电连接层，其中，所述导电连接层与所述辅助电极在所述第一平面的投影存在交叠，所述导电连接层与所述辅助电极的一侧壁接触，所述导电连接层包括一体的第一子连接层和第二子连接层；所述第一子连接层在所述基板上的正投影位于所述辅助电极在基板上的正投影内，所述辅助电极包括远离所述基板的第一表面，所述第一子连接层包括靠近所述基板的第二表面，所述第二表面与所述第一表面接触；所述第二子连接层在所述基板上的正投影与所述辅助电极在所述基板上的正投影至少部分接触且不重叠，所述第二子连接层包括靠近所述基板的第三表面，所述第三表面到所述基板的距离小于所述第二表面到所述基板的距离，所述第二子连接层的侧面与所述辅助电极的一侧壁接触；

在所述功能膜层背离所述基板的一侧形成第二电极，其中，所述辅助电极经由所述导电连接层与所述第二电极连接。

4.一种显示装置，其特征在于，包括：上述权利要求1至2中任一项所述的显示面板，或权利要求3所述的显示面板的制备方法制备出的显示面板。

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