CN112912798B - 平版印刷版前体 - Google Patents

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Abstract

平版印刷版前体,其包括可光聚合的涂层和提供在所述层的上面的外涂层,其特征在于所述外涂层包括包含至少一个部分的化合物,所述部分具有根据式(I)的结构:

Description

平版印刷版前体
技术领域
本发明涉及光聚合物印刷版的新型外涂层。
背景技术
平版印刷机使用所谓的印刷底版,例如安装在印刷机滚筒上的印刷版。底版在其表面上携带平版图像,并且通过将油墨施加到所述图像,然后将油墨从底版转印到接收材料(其通常为纸)上而获得印刷品。在常规的所谓的“湿”平版印刷中,将油墨以及水性润版液(fountain solution) (也称为润版液(dampening liquid))供应至平版图像,所述平版图像由亲油(或疏水,即接受油墨、排斥水)的区域以及亲水(或疏油,即接受水、排斥油墨)的区域组成。在所谓的无水胶印印刷中,平版图像由接受油墨的区域和防油墨粘(排斥油墨)的区域组成,并且在无水胶印印刷期间,仅将油墨供应至底版。
所谓的“类似物”印刷版通常通过首先应用所谓的计算机到膜(CtF)方法获得,其中以数字方式完成各种印刷前步骤,例如字体选择、扫描、分色、筛选、捕集、布局和拼版,并且使用图文影排机记录器将每种颜色选择转印到印刷工艺膜。在加工之后,膜可以用作用于称为版前体的成像材料的暴露的掩模,并且在版加工之后,获得可以用作底版的印刷版。自从约1995年以来,所谓的“计算机到版” (CtP)方法已经获得了许多关注。这种方法(也称为“直接到版”)绕过了膜的产生,因为数字文件通过制版机直接转印到印刷版前体。用于CtP的印刷版前体通常称为数字版。
平版印刷版的载体通常是具有亲水表面或其上已提供亲水层的铝载体。该亲水表面和/或层应改进平版印刷版的非印刷区域的水接受性和印刷油墨在这些区域中的排斥性。在显影期间,涂层的可溶部分应当容易地去除,由此载体的表面保持基本上没有残余物,使得在印刷期间获得干净的背景区域。
数字版可以大致分为三类:
(i)银版,根据银盐扩散转移机理工作;(ii)含有可光聚合的组合物的光聚合物版,该组合物在暴露于光时硬化,和(iii)热版,其成像机理由热或由光到热的转换触发。
光聚合物印刷版依赖于如下的一种工作机理,由此通常包括可自由基聚合的化合物的涂层在暴露时硬化,任选地随后是加热步骤以增强或加速该过程。“硬化”是指涂层在显影液中变得不溶或不可分散,并且可以通过光敏涂层在暴露于光时的聚合和/或交联来实现。常规的光聚合物版通过具有预定的成像图案的单独的光掩模膜用来自灯的紫外光暴露,所述光掩模膜放置在光源和版之间。现在,激光源通常用于使印刷版前体以图像方式暴露,所述印刷版前体对相应的激光波长敏感,允许消除光掩模膜。然而,这样的可激光成像的版通常具有有限的室内光稳定性的缺点和/或由于当前激光成像器的有限功率而应当具有高感光速度(photospeed) (敏感度)。光聚合物版前体可以对蓝光、绿光或红光(即波长范围在450-750 nm之间)、对紫光(即波长范围在350-450 nm之间)或对红外光(即波长范围在750-1500 nm之间)敏感。
光聚合物版通常含有可聚合单体、粘结剂、光引发剂和敏化染料。通常,需要在可成像层上的顶层或保护性外涂层(其充当氧阻挡层)以保持版的敏感度。顶层通常包括水溶性或水可溶胀性聚合物,例如聚乙烯醇。除了充当氧的阻挡之外,顶层应当最好在加工期间容易去除,并且对光化辐射(例如300-450 nm或450-750 nm或750-1500 nm)足够透明。
光聚合物版的传统工作流程包括首先在制版机中光聚合物印刷版前体的暴露步骤,接着是任选的预热步骤、保护性外涂层的洗涤步骤、碱性显影步骤以及冲洗和上胶步骤。在过去的几年中,在简化的工作流程的方向上存在明显的进展,其中在一个单一步骤中进行加工和上胶步骤。或者,在机加工已经变得非常流行,其中将版安装在印刷机上,并且通过与在印刷机运行期间供应至滚筒的润版液和油墨的相互作用而使涂层显影。在印刷机的第一运行期间,将非图像区域从载体去除,并从而限定版的非印刷区域。
然而,当碱性显影剂被胶溶液和/或被在机加工代替时,显影步骤变得关键得多。实际上,保护性外涂层中的亲水性聚合物可能导致胶溶液和/或润版液的有问题的粘度增加,限制耗尽行为。这种粘度增加可能引起不可接受的污泥、版上的斑点和/或清除单元中的沉积物的形成,并且这已经处于低耗尽水平。污泥形成(如盐析化合物、沉淀或絮凝的成分和/或其它未溶解的化合物)可能引起问题,例如泵的堵塞、在出口和/或其它辊上的沉积和/或在加热器元件上的积聚和/或对加工容器的加强的清洁/维护的需要。污泥也可能沉积在印刷版上,这损害了在其上形成的图像。此外,用润版液和油墨在机加工的或通过使用上胶溶液在单一步骤中加工和上胶的平版印刷版前体通常显示不足的清除行为和/或卷起性能。不充分的卷起性能意味着在印刷过程的启动期间在印刷区域的油墨接受性太弱。这种太低的油墨吸收导致在最开始几张印刷的页上的印刷区域处太低的光学密度。希望这些“不可使用的”印刷的页的数量尽可能低,以减少在印刷过程的启动中的纸的浪费。
发明内容
本发明的目的是提供包括可光聚合的层的阴图制版平版印刷版前体,其特征在于优异的上胶和/或在机可加工性,由此使加工期间污泥和/或沉淀和/或沉积材料的形成最小化。
该目的通过在权利要求1中所限定的印刷版前体以及在从属权利要求中所限定的优选的实施方案来实现。本发明的具体特征在于,所述印刷版前体包括外涂层,所述外涂层包括包含至少一个部分的化合物,所述部分具有根据式(I)的结构:
令人惊奇地发现,本发明的外涂层在显影剂溶液中和/或在机加工期间的溶解度显著改进,并且在显影液和/或润版液的显影期间的粘度增加最小化。外涂层的改进的溶解度是指其成分溶解更快和/或具有形成沉淀(即有机污泥)和/或沉积材料的降低的趋势。
本发明的另一个目的是提供制造平版印刷版的方法,所述方法包括以下步骤:
-将包括如上所定义的涂层的印刷版前体以图像方式暴露于光辐射;
-使所述暴露的前体显影。
本发明的其它特征、要素、步骤、特征和优点将从本发明的优选实施方案的以下详细描述中变得更加明显。本发明的具体实施方案也在从属权利要求中限定。
具体实施方式
外涂层
本发明的平版印刷前体包括在载体上的可光聚合的涂层和提供在其上的顶层。顶层(在本文中也称为“保护层”、“外涂层(overcoat)”或“外涂层(overcoat layer)”)充当气体的阻挡层,更具体而言充当氧阻挡层,并且包含包括至少一个部分的化合物,所述部分具有根据式(I)的结构:
其中
*表示与结构的其余部分的连接位置。
包括至少一个部分(所述部分具有根据式(I)的结构)的化合物在本文中还被称为“本发明的化合物”。
根据本发明的化合物可以是低分子量化合物、低聚物或聚合物。根据本发明的化合物可以含有一个根据式(I)的部分,优选2-10个根据式(I)的部分,更优选4-8个根据式(I)的部分,并且最优选两个、三个或四个根据式(I)的部分。
根据本发明的化合物优选由式(II)表示:
其中
R1和R2独立地表示末端基团;和
L2和L3独立地表示二价连接基团。
末端基团R1和R2优选表示为氢、任选取代的烷基或环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基或任选取代的杂芳基。
本文合适的烷基包括一个或多个碳原子,例如C1-C22烷基,更优选C1-C12烷基,并且最优选C1-C6烷基。烷基可以是线性或支链的,例如甲基、乙基、丙基(正丙基、异丙基)、丁基(正丁基、异丁基、叔丁基)、戊基、1,1-二甲基-丙基、2,2-二甲基丙基和2-甲基-丁基或己基。
本文合适的环烷基是含碳原子的非芳族同素环基团,并且可以是单环或多环的。实例包括环戊基、环己基或金刚烷基。
本文合适的芳基包括例如苯基、萘基、苄基、甲苯基、邻-、间-或对-二甲苯基、蒽基或菲基。
本文合适的芳烷基包括例如包括一个、两个、三个或更多个C1-C6烷基的苯基或萘基。
本文合适的杂芳基优选为在环结构中包含碳原子和一个或多个杂原子的单环或多环芳族环。优选1-4个杂原子独立地选自氮、氧、硒和硫和/或其组合。实例包括吡啶基、嘧啶基、吡唑基、三嗪基、咪唑基、(1,2,3)-三唑基和(1,2,4)-三唑基、四唑基、呋喃基、噻吩基、异噁唑基、噻唑基和咔唑基。
更优选R1和R2独立地表示为氢或任选取代的烷基、芳基或芳烷基和/或其组合。
最优选地,R1和R2独立地表示氢或甲基。
烷基、环烷基、芳烷基、芳基或杂芳基可以包括一个或多个取代基。在烷基、环烷基、芳烷基、芳基或杂芳基上的任选的取代基优选选自烷基(例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、1-异丁基、2-异丁基和叔丁基)、酯、酰胺、醚、硫醚、酮、醛、亚砜、砜、磺酸酯或磺酰胺基团、卤素(例如氟、氯、溴或碘)、-OH、-SH、-CN和-NO2和/或其组合。
二价连接基团L2和L3优选独立地表示任选取代的亚烷基、亚环烷基、亚芳基或亚杂芳基、-O、CO、CO O、O-CO、CO NH、NH CO、NH CO O、O CO NH-、NH CO NH、NH CS NH、CO NR’、NR” CO、NH CS NH、-SO-、-SO2-、-SO2-NH-、-NH-SO2-、-CH=N-、-NH-NH-、-N+(CH3)2-、-S-、-S-S-和/或其组合,其中R’和R”各自独立地表示任选取代的烷基、芳基或杂芳基。任选地存在于亚烷基、亚环烷基、亚芳基或亚杂芳基上的取代基可以表示为烷基(例如甲基、乙基、丙基或异丙基),取代基包括例如氧或硫;卤素(例如氟、氯、溴或碘原子);羟基;氨基;烷氧基(例如甲氧基或乙氧基);或(二)烷基氨基。
更优选地,二价连接基团L2和L3优选独立地表示二价脂族基团,包括一个或多个直链或支链碳链或一个或多个脂环族非芳族环。任选地,脂族连接基团可以含有取代基,包括例如氧或硫;烷基(例如甲基、乙基、丙基或异丙基)以及卤素(例如氟、氯、溴或碘原子)。
最优选地,二价连接基团L2和L3独立地表示任选取代的亚烷基或亚环烷基。任选地存在于亚烷基或亚环烷基上的取代基可以表示为烷基(例如甲基、乙基、丙基或异丙基)或卤素(例如氟、氯、溴或碘原子)。
相对于外涂层中化合物的总量,外涂层中根据本发明的化合物的量优选在10-98重量%之间,更优选在50-95重量%之间,并且最优选在60-90重量%之间。或者,高度优选外涂层中本发明的化合物的水平在10-500 mg/m²之间,更优选在50-250 mg/m²之间,并且最优选在80-200 mg/m²之间。
外涂层优选应该是充分粘附到可光聚合的层或涂层的任选的其它层的有效的氧阻挡层。除了充当氧的阻挡之外,外涂层优选在加工期间可容易地去除,并且对于光化辐射(例如300-450 nm或700-900 nm或750-1200 nm)是足够透明的。
外涂层可以任选地含有对成像辐射基本上透明的任何成膜粘结剂。
外涂层优选进一步包含水溶性或水可溶胀性聚合物或粘结剂。可以用于顶层的优选的粘结剂公开于WO2005/029190 (第36页第3行至第39页第25行)、US 2007/0020563 (第[0158]段)和EP 1 288 720 (第[0148]段和[0149]段)中,包括这些专利和专利申请中引用的参考文献。外涂层也可以含有疏水性粘结剂,如在未公开的专利申请EP18178933中所公开的。
用于顶层的最优选的任选的粘结剂为聚乙烯醇和/或聚乙烯醇的衍生物。优选聚乙烯醇水解度在74摩尔%至99摩尔%范围之间,更优选在88摩尔%至98摩尔%之间。根据本发明,已经观察到,没有完全水解的聚乙烯醇(例如水解度在85摩尔%至95摩尔%范围之间的聚乙烯醇)与本发明的化合物的组合使得光聚合物印刷版具有良好的敏感度,同时显示在加工液中累积的粘度降低。与完全水解的聚乙烯醇(即水解度为约98摩尔%的聚乙烯醇)的组合可能导致不希望的结晶。
聚乙烯醇的重均分子量可以通过4重量%水性溶液在20℃下的粘度测量,如在DIN53 015中所定义的,并且该粘度值范围优选在3-26之间,更优选在3-15之间,最优选在3-10之间。
也可以使用聚乙烯醇和/或其它水溶性聚合物的混合物,或聚乙烯醇和/或具有不同水解和粘度值的聚乙烯醇衍生物的混合物,例如两种或更多种水溶性聚合物的组合,例如聚乙烯醇和聚乙烯吡咯烷酮的组合。也可以使用改性的聚乙烯醇(例如具有羧基和/或磺酸基的聚乙烯醇),优选与未改性的聚乙烯醇一起使用。
外涂层的涂层厚度优选在0.10-1.75 g/m2之间,更优选在0.20-1.30 g/m2之间,最优选在0.25-1.0 g/m2之间。在本发明的更优选的实施方案中,任选的外涂层的涂层厚度在0.30-0.50 g/m2之间。
外涂层可以包含其它成分,例如阴离子表面活性剂,例如烷基硫酸钠或烷基磺酸钠、二辛基磺基琥珀酸钠、十二烷基苯磺酸钠和月桂基硫酸铵;两性表面活性剂,例如烷基氨基羧酸盐和烷基氨基二羧酸盐;非离子表面活性剂,例如聚乙二醇、聚丙二醇、以及乙二醇和丙二醇的共聚物、聚硅氧烷表面活性剂、全氟化碳表面活性剂、烷基苯基环氧乙烷缩合物、在EP 1 085 380 (第[0021]和[0022]段)中公开的烷氧基化的亚烷基二胺、甘油、无机颗粒、酸、颜料等。可以将各种有机或无机微粒加入到外涂层中,以例如降低版的粘性或湿度敏感度。该酸优选为水溶性的并且具有低分子量。所述酸可以是如在EP 2 149 071第27页第1-21行中公开的无机酸或有机酸。外涂层可以任选包括其它成分,例如消光剂或润湿剂,如在EP 2 916 171中公开的,并且通过引用并入本文。
通过涂布溶液或分散体,或通过层压聚合物膜,可以在印刷版上形成外涂层。涂布可以通过任何已知的方法进行,例如辊涂、狭缝涂布、幕涂、Mayer棒涂、浸涂或喷涂;优选辊涂或狭缝涂布。进一步干燥涂布的外涂层以去除水和/或任何溶剂,优选通过强制热空气干燥、辐射干燥或强制空气干燥和辐射干燥的组合。含有适于形成外涂层的成膜聚合物的溶液或分散体可以是水溶性聚合物溶液(含有水溶性聚合物)或聚合物分散体(包括聚合物乳液和胶乳,含有水不溶性聚合物,加入或不加入水溶性聚合物),优选水溶性聚合物溶液。可以将各种添加剂(例如其它表面活性剂、润湿剂、消泡剂、流平剂和分散剂)加入到外涂层中以促进例如涂布和/或显影过程。
适于层压到光敏层上以形成外涂层的聚合物膜可以是任何聚合物膜,例如基于以下的聚合物膜:聚酯(包括聚对苯二甲酸乙二醇酯)、聚乙烯、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物、聚苯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛(polyvinyl butyrol)、聚腈、聚酰胺、聚酰亚胺、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸酯/苯乙烯共聚物、聚氨酯、环氧-胺聚合物、尼龙、特氟隆、纤维素及其成膜衍生物和聚乙酸乙烯酯。聚酯、聚乙烯和聚丙烯为优选的聚合物膜;并且更优选聚酯。
外涂层优选在加工期间和/或在在机显影期间用油墨和/或润版液在机去除。
平版印刷版前体
根据本发明的平版印刷版前体是阴图制版,即在暴露和显影之后,涂层的未暴露区域从载体去除并限定亲水(非印刷)区域,而暴露的涂层不从载体上去除并限定亲油(印刷)区域。亲水区域由具有亲水表面或提供有亲水层的载体限定。疏水区域由涂层限定,在暴露、任选的随后的加热步骤时硬化。具有亲水性质的区域是指对水性溶液比对亲油性油墨具有更高亲和力的区域;具有疏水性质的区域是指对亲油性油墨比对水性溶液具有更高亲和力的区域。“硬化”是指涂层变得不溶于或不可分散于显影液,并且可以通过光敏涂层的聚合和/或交联来实现,这可以通过任选的加热步骤来增强。
载体
用于本发明的平版印刷版包含具有亲水表面或提供有亲水层的载体。载体优选为本领域公知的粒化的和阳极化的铝载体。合适的载体例如公开于EP 1 843 203 (第[0066]至[0075]段)中。在粒化步骤之后获得的表面粗糙度通常表示为算术平均中心线粗糙度Ra(ISO 4287/1或DIN 4762)并且可以在0.05-1.5 μm之间变化。本发明的铝基材优选Ra值低于0.45 μm,更优选低于0.40 μm,并且最优选低于0.30 μm。Ra值的下限优选为约0.1 μm。关于粒化的和阳极化的铝载体表面的优选的Ra值的更多细节描述于EP 1 356 926中。通过阳极化铝载体,形成Al2O3层,并且阳极重量(在铝表面上形成的g/m2 Al2O3)在1-8 g/m2之间变化。阳极重量优选≥3 g/m2,更优选≥3.5 g/m2,并且最优选≥4.0 g/m2
粒化的和阳极化的铝载体可以经历所谓的后阳极处理以改进其表面的亲水性质。例如,铝载体可以通过在高温(例如95℃)下用硅酸钠溶液处理其表面而硅酸盐化。或者,可以应用磷酸盐处理,其包括用可以进一步含有无机氟化物的磷酸盐溶液处理氧化铝表面。此外,氧化铝表面可以用柠檬酸或柠檬酸盐溶液冲洗。该处理可以在室温下进行,或者可以在约30-50℃的稍微升高的温度下进行。进一步关注的处理涉及用碳酸氢盐溶液冲洗氧化铝表面。再进一步,氧化铝表面可以用聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯、聚乙烯基磺酸、聚乙烯基苯磺酸、聚乙烯醇的硫酸酯和通过与磺化的脂族醛反应形成的聚乙烯醇的缩醛处理。
特别优选用聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯、聚乙烯基磺酸、聚乙烯基苯磺酸、聚乙烯醇的硫酸酯和/或通过与磺化的脂族醛反应形成的聚乙烯醇的缩醛的氧化铝表面的后处理。更优选用聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯和/或聚乙烯基磺酸的氧化铝表面的后处理。最优选用聚乙烯基膦酸的氧化铝表面的处理。
另一种有用的后阳极处理可以用聚丙烯酸或包含至少30摩尔%的丙烯酸单体单元的聚合物的溶液进行,例如GLASCOL E15,为一种聚丙烯酸,可从Ciba SpecialityChemicals商购获得。
或者,载体可以用助粘化合物处理,例如在EP 1 788 434的[0010]和WO 2013/182328中所述的那些。
除了铝载体之外,也可以使用塑料载体,例如聚酯载体,其提供有一个或多个亲水层,如在例如EP 1 025 992中所公开的。
光聚合物涂层
除了外涂层之外,涂层还具有至少一个包括可光聚合的组合物的层,所述层也称为“可光聚合的层”。优选地,可光聚合的层的涂层厚度优选在0.2-5.0 g/m2之间,更优选在0.4-3.0 g/m2之间,最优选在0.6-2.2 g/m2之间的范围内。除了上述外涂层之外,涂层还可包括位于载体和可光聚合的层之间的其它层,例如粘合改进层。
可光聚合的组合物优选包括可聚合的化合物。可聚合化合物可以是包括至少一个环氧或乙烯基醚官能团的单体或低聚物,并且聚合引发剂是能够产生游离酸的布朗斯特酸产生剂,任选地在敏化剂的存在下。合适的多官能环氧单体和合适的布朗斯特酸产生剂公开于WO2014/198820的[048]和[049]。
可聚合的化合物最优选为包括至少一个末端烯属基团的可聚合的单体或低聚物,下文也称为“可自由基聚合的单体”。聚合包括将可自由基聚合的单体连接在一起。
合适的可自由基聚合的单体公开于WO2014/198820的[0050]和[0051]中,并且通过引用并入本文。
引发剂
在高度优选的实施方案中,涂层(优选可光聚合的层)优选含有在直接暴露或在敏化剂存在下能够产生自由基的自由基引发剂。合适的自由基引发剂描述于WO 2005/111727第15页第17行至第16页第11行以及EP 1 091 247中,并且可以包括例如六芳基-双咪唑化合物(HABI;三芳基-咪唑的二聚体)、芳族酮、芳族鎓盐、有机过氧化物、硫代化合物、酮肟酯化合物、硼酸盐化合物、吖嗪鎓化合物、茂金属化合物、活性酯化合物和具有碳-卤素键的其它化合物。
涂层(优选可光聚合的层)也可以包含共引发剂。通常,共引发剂与自由基引发剂组合使用。用于光聚合物涂层的合适的共引发剂公开于US 6,410,205、US 5,049,479、EP 1079 276、EP 1 369 232、EP 1 369 231、EP 1 341 040、US 2003/0124460、EP 1 241 002、EP 1 288 720和包括以下所引用的文献的参考书中:Chemistry & Technology UV & EBformulation for coatings, inks & paints, 第3卷, Photoinitiators for FreeRadical and Cationic Polymerisation by K.K. Dietliker, P.K.T. Oldring编辑-1991-ISBN 0 947798161。如在EP 107 792中所述,特定的共引发剂可以存在于可光聚合的层中以进一步增加敏感度。优选的共引发剂公开于EP 2 916 171 [0051]中,并且通过引用并入本文。
通过在涂层中包括敏化剂(例如荧光增白剂)可以获得非常高的敏感度。作为敏化剂的荧光增白剂的合适的实例描述于WO 2005/109103第24页第20行至第39页。其它优选的敏化剂是吸收蓝光、绿光或红光的敏化剂,其吸收光谱在450 nm至750 nm之间。有用的敏化剂可以选自公开于US 6,410,205、US 5,049,479、EP 1 079 276、EP 1 369 232、EP 1 369231、EP 1 341 040、US 2003/0124460、EP 1 241 002和EP 1 288 720中的敏化染料。
红外吸收化合物
在另一个优选的实施方案中,涂层可以包括红外吸收化合物。IR吸收化合物可以是红外光吸收染料或颜料。优选红外光吸收染料,在本文中也称为IR-染料。优选地,红外光吸收染料的吸收光谱在750 nm至1500 nm之间,优选780 nm至1200 nm之间,更优选800 nm至1100 nm之间。IR吸收化合物吸收红外光并将吸收的能量转化为热。
相对于涂层总干重,IR-染料的浓度优选为0.25重量%至25.0重量%,更优选0.5重量%至20.0重量%,最优选1.0重量%至10.0重量%。
红外吸收化合物优选存在于可光聚合的层中;但也可以存在于外涂层和/或任选的其它层中。优选的IR吸收化合物为染料(例如花青、部花青、靛苯胺、氧杂菁、吡喃鎓和方酸鎓染料)或颜料(例如炭黑)。合适的IR吸收剂的实例描述于例如EP 823 327、EP 978376、EP 1 029 667、EP 1 053 868、EP 1 093 934、WO 97/39894和WO 00/29214。特别优选的染料为七次甲基氰染料,尤其是在EP1359008第[0030]至[0032]段中公开的染料。
粘结剂
涂层优选包括粘结剂,优选地,粘结剂存在于可光聚合的层中。粘结剂可以选自广泛系列的有机聚合物。也可使用不同粘结剂的组合物。有用的粘结剂描述于WO 2005/111727第17页第21行至第19页第30行、EP 1 043 627第[0013]段和WO 2005/029187第16页第26行至第18页第11行。合适的粘结剂包括亲水性粘结剂,例如乙烯醇、丙烯酰胺、羟甲基丙烯酰胺、羟甲基甲基丙烯酰胺、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯和马来酸酐/乙烯基甲基醚共聚物的均聚物和共聚物。
其它成分
任选地,涂层可以进一步含有另外的成分。这些成分可以存在于可光聚合的层中、外涂层中或任选的其它层中。
例如,可光聚合的层还可以包含增加涂层对手动或机械损伤的抗性的颗粒。颗粒可以是无机颗粒、有机颗粒或填料,例如在例如US 7,108,956中所述的。在EP 2 916 171的[0053]至[0056]中描述的合适的间隔颗粒的更多细节通过引用并入本文。
可光聚合的层还可以包含抑制剂。用于光聚合物涂层中的具体抑制剂公开于US6,410,205、EP 1 288 720和EP 1 749 240中。
可光聚合的层可以进一步包含助粘化合物,其可以改进涂层和载体之间的粘合以及印刷过程中版的耐久性。助粘化合物为能够与载体相互作用的化合物,优选具有可加成聚合的烯属不饱和键和能够与载体相互作用的官能团的化合物;例如磷酸酯基、膦酸酯基和三烷氧基硅烷基。所述化合物可以存在于可光聚合的层中或存在于载体与可光聚合的层之间的中间层中。其合适的实例公开于EP 1 788 434的[0010]、WO 2013/182328、EP 851299、EP 1 091 251、US 2004/214105、EP 1 491 356、US 2005/39620、EP 1 495 866、EP 1500 498、EP 1 520 694和EP 1 557 262、EP 2 212 746和EP 2007/059379中。
可以将各种表面活性剂加入到可光聚合的层中以允许或增强前体的可显影性;特别是用胶溶液显影。优选聚合物表面活性剂和小分子表面活性剂(例如非离子表面活性剂)两者。更多细节描述于EP 2 916 171 [0059]中,并且通过引用并入本文。
优选地,涂层包括印出剂,即,在暴露时能够改变涂层颜色的化合物。在以图像方式暴露前体之后,可以产生可见的图像,也称为“印出图像”。印出剂可以是在EP-A-1 491356第19页和第20页[0116]至[0119]以及US 2005/008971第17页[0168]至[0172]中所述的化合物。优选的印出剂为在EP 1 765 592第9页第1行至第20页第27行中所述的化合物。更优选如在EP 1 736 312第5页第32行至第32页第9行中所述的IR染料。在以图像方式暴露(和加工)后形成的图像的对比度使得终端用户能够立即证实前体是否已经暴露(和加工),以区分不同的颜色选择并检查版前体上图像的质量。为了获得人观察者的良好视觉对比度,着色剂的颜色类型也可能是重要的。着色剂的优选颜色是青色或蓝色,即在蓝色下,我们理解为对于人眼呈现蓝色的颜色。
制造平版印刷版前体的方法
根据本发明,还提供了制造阴图制版平版印刷版的方法,所述方法包括以下步骤:以图像方式暴露本发明的印刷版前体,然后将以图像方式暴露的前体显影,使得未暴露区域溶解于显影剂溶液中。平版印刷版前体可以通过(i)在如上所述的载体上施加如上所述的涂层和(ii)干燥所述前体来准备。
暴露步骤
印刷版前体优选暴露于激光。优选地,以图像方式的暴露步骤在制版机中离机进行,所述制版机即适于用激光器(例如发射约830 nm的激光二极管、发射约1060 nm的NdYAG激光器、发射约400 nm的紫色激光器或气体激光器如Ar激光器)或用数字调制的UV暴露装置(使用例如数字镜装置(digital mirror devices))或通过与掩模接触的常规暴露,以图像方式暴露前体的暴露设备。优选地,通过发射IR光(即波长范围在750-1500 nm之间)或紫光(即波长范围在350-450 nm之间)的激光器以图像方式暴露前体;最优选通过发射IR光的激光器。
预热步骤
在暴露步骤之后,可以预加热前体,由此可以增强光聚合层的聚合和/或交联反应。加热优选在80℃至300℃之间的温度下,更优选在100℃至250℃之间,并且最优选在120℃至200℃之间的温度下。该加热的施加时间段(即停留时间)优选在2秒至30分钟之间,更优选在10秒至15分钟之间,并且最优选在15秒至10分钟之间。该加热步骤可以在包含加热元件(例如IR灯、UV灯、热空气或热辊)的预热单元中进行。
显影步骤
在暴露步骤和任选的预热步骤之后,可以处理版前体。在使成像的前体显影之前,可以进行预冲洗步骤以至少部分地去除外涂层。该预冲洗步骤可以在独立的设备中进行,或者通过用水手动冲洗成像的前体进行,或者预冲洗步骤可以在洗涤单元中进行,所述洗涤单元整合在用于使成像的前体显影的处理器中。洗涤液优选为水,更优选为自来水。有关洗涤步骤的更多细节描述于EP 1 788 434的[0026]中。
在显影步骤期间,至少部分地去除图像记录层的未暴露区域,而基本上不去除暴露的区域。加工液(也称为显影剂)可以用手或在自动加工设备中例如通过用浸渍垫摩擦、通过浸渍、浸泡、涂布、旋涂、喷涂、浇注而施加到版。用加工液处理可以与机械摩擦(例如通过旋转刷)组合。在显影步骤期间,优选还去除存在的任何水溶性保护层。显影优选在20-40℃之间的温度下在自动化加工单元中进行。
在高度优选的实施方案中,上述加工步骤被在机加工代替,由此将成像的前体安装在印刷机上,并通过旋转所述版滚筒同时将润版液和/或油墨进料至前体的涂层而在机处理,以从载体去除未暴露的区域。
加工步骤也可以通过组合上述实施方案来进行,例如,将用加工液显影与通过施加油墨和/或润版液在机显影组合。
加工液
加工液可以是碱性显影剂或溶剂基显影剂。合适的碱性显影剂已描述于US2005/0162505中。碱性显影剂为pH至少为11,更通常至少为12,优选12-14的水性溶液。碱性显影剂通常含有碱性试剂以获得高pH值,可以是无机或有机碱性试剂。显影剂可以包含阴离子、非离子和两性表面活性剂(占组合物总重量的至多3%);杀生物剂(抗微生物剂和/或抗真菌剂)、消泡剂或螯合剂(例如碱性葡糖酸盐)和增稠剂(水溶性或水可分散性多羟基化合物,例如甘油或聚乙二醇)。
优选地,加工液为胶溶液,由此在显影步骤期间,在单个步骤中从载体去除可光聚合的层的未暴露区域并且将版进行上胶。用胶溶液显影具有另外的益处,即由于在版上未暴露区域中的剩余胶,不需要另外的上胶步骤来保护非印刷区域中的载体表面。结果是,在一个单一步骤中处理前体并将前体进行上胶,该步骤涉及与包含显影剂槽、冲洗部分和上胶部分的显影设备相比更不复杂的显影设备。上胶部分可以包含至少一个上胶单元或者可以包含两个或更多个上胶单元。这些上胶单元可以具有级联系统的构造,即当将胶补充溶液加入第二上胶单元中时或当第二上胶单元中的胶溶液仅使用一次时,即仅使用起始胶溶液通过优选喷雾或喷射技术在该第二上胶单元中显影前体时,用于第二上胶单元中且存在于第二槽中的胶溶液从第二槽溢流至第一槽。关于这样的胶显影的更多细节描述于EP1788 444中。
胶溶液通常是包含一种或多种表面保护性化合物的水性液体,所述表面保护性化合物能够保护印刷版的平版图像免受污染(例如由于氧化、指纹、脂肪、油或灰尘),或免受损坏(例如由于在处理版期间的划痕)。这样的表面保护性化合物的合适的实例为成膜亲水聚合物或表面活性剂。在用胶溶液处理后保留在版上的层优选包含0.005-20 g/m2之间,更优选0.010-10 g/m2之间,最优选0.020-5 g/m2之间的表面保护性化合物。有关胶溶液中的表面保护性化合物的更多细节可以在WO 2007/057348第9页第3行至第11页第6行中找到。由于显影的版前体在一个步骤中显影和上胶,不需要后处理经加工的版。
胶溶液优选pH值在3-11之间,更优选在4-10之间,甚至更优选在5-9之间,并且最优选在6-8之间。合适的胶溶液描述于例如EP 1 342 568的[0008]至[0022]和WO2005/111727中。胶溶液可以进一步包含无机盐、阴离子表面活性剂、润湿剂、螯合化合物、防腐剂化合物、消泡化合物和/或吸墨剂和/或其组合。关于这些另外的成分的更多细节描述于WO2007/057348第11页第22行至第14页第19行。
干燥和烘烤步骤
在加工步骤之后,可以在干燥单元中干燥版。在优选的实施方案中,通过在干燥单元中加热版来干燥版,所述干燥单元可以含有选自IR灯、UV灯、加热的金属辊或加热的空气的至少一种加热元件。
在干燥之后,可以任选地在烘烤单元中加热版。关于在烘烤单元中加热的更多细节可以在WO 2007/057348第44页第26行至第45页第20行中找到。
因此获得的印刷版可以用于常规的所谓的湿式胶版印刷,其中将油墨和水性润版液供应至版。另一种合适的印刷方法使用所谓的没有润版液的单流体油墨。合适的单流体油墨已描述于US 4,045,232、US 4,981,517和US 6,140,392中。在最优选的实施方案中,单流体油墨包含油墨相(也称为疏水相或亲油相)和如在WO 00/32705中所述的多元醇相。
实施例
实施例1
1. 本发明的化合物的合成。
按照下面给出的实验程序制备的本发明的化合物INV-01至INV-06的结构在表1中给出。
2. 实验程序
合成N,N'-双[2-(2-羟基乙氧基)乙基]草酰胺—INV-01
试剂-01
在N2下,在25分钟内通过滴液漏斗向在N2下的草酸二乙酯(221.4 g,1.50 mol,1当量)在325 mL EtOH中的溶液中加入试剂01 (2-(2-氨基乙氧基)乙醇,338 g,3.15 mol,2.1当量)。加料漏斗用45 ml EtOH进一步冲洗,随后将反应混合物在55℃下搅拌1小时;无色混合物变成浅黄色。向混合物中加入另外的125 mL EtOH,并在55℃下继续搅拌20分钟。随后一次性加入250 mL的3/1 MTBE/丙酮混合物,并在相同温度下将反应混合物保持在剧烈搅拌下45分钟,然后缓慢冷却至室温。然后在搅拌下,一次性加入另外750 mL的3/1 MTBE/丙酮混合物。然后滤除粗沉淀,并用180 mL的3/1 MTBE/丙酮混合物洗涤固体。然后将固体再分散于700 mL的3/1 MTBE/丙酮混合物中。进行第二次过滤,随后是使用300 ml的3/1MTBE/丙酮混合物的固体的洗涤步骤。收集白色固体,并放置在50℃的通风干燥箱中过夜,直到溶剂完全蒸发。
产率:84%
合成N,N'-双(3-羟基丙基)草酰胺—INV-02
试剂02
在10分钟内通过滴液漏斗向草酸二乙酯(100.0 g,0.68 mol,1当量)在500 mLEtOH中的溶液中加入试剂02 (3-氨基丙-1-醇,102.1 g,1.36 mol,2当量)在160 mL EtOH中的溶液。加入后,在室温下继续搅拌1小时。将粗混合物升温至35℃,随后过滤白色沉淀。将母液进一步保留72小时,结晶出白色固体。将2种固体混合并在40℃的干燥箱中干燥过夜。然后,进行真空下的第二干燥步骤。
产率:85%
合成N,N'-双(2-羟基-1-甲基-乙基)草酰胺—INV-03
试剂03
在N2下,在8分钟内通过滴液漏斗向在N2下的草酸二乙酯(11.1 g,0.075 mol,1当量)在18 mL EtOH中的溶液中加入试剂03 (2-氨基丙-1-醇,11.9 g,0.158 mol,2.1当量)在45 mL MTBE中的溶液。加料漏斗用5 mL EtOH进一步冲洗。加入后,在室温下继续搅拌40分钟。粗混合物含有白色沉淀,将其滤除并用3/1 MTBE/丙酮混合物洗涤两次。将白色固体在40℃的干燥箱中干燥过夜。然后,进行真空下的第二干燥步骤。
产率:84%
合成N,N'-双(1,2-二羟乙基)草酰胺—INV-04
试剂04
在N2下将试剂04 (1-氨基乙烷-1,2-二醇,11.7 g,0.126 mol,2.1当量)溶解于30mL EtOH和36 mL MTBE的溶剂混合物中。在N2下,在5分钟内通过滴液漏斗向该溶液中加入草酸二乙酯(11.1 g,0.075 mol,1当量)。加入后,在室温下继续搅拌40分钟。粗混合物含有白色沉淀,将其滤除并用3/1 MTBE/丙酮混合物洗涤两次。将白色固体在40℃的干燥箱中干燥过夜。然后,进行真空下的第二干燥步骤。
产率:90%
合成N,N'-双(2-羟基苯基)草酰胺—INV-05
试剂05
将NaHCO3 (18.0 g,0.21 mol,1.05当量)悬浮于试剂05 (21.8 g,0.20 mol,1.00当量)在150 mL CH2Cl2中的溶液中。将25 mL DMA和吡啶(15.8 g,0.20 mol,1.00当量)加入到悬浮液中,随后将其冷却至-2℃。将草酰氯(11.4 g,0.09 mol,0.45当量)在25 mL CH2Cl2中的溶液加入到悬浮液中,在加入过程期间反应混合物的温度保持低于5℃。在5℃下将橙色悬浮液再搅拌30分钟,然后升温至15℃,蒸发CH2Cl2。在搅拌下将200 mL 1N HCl加入到残余的浓缩的悬浮液中,随后过滤。用水洗涤固体,并在回流的MeOH中进一步消化。滤除悬浮液,并且固体通过制备层析法进一步纯化(Amicon 35-70,柱直径8 cm,柱长45 cm,洗脱液CH2Cl2/MeOH 95/5,流速(debit) 90 mL/min;压力3 Kg/cm2),随后蒸发溶剂,并在40℃的通风干燥箱中干燥过夜。
产率:20%
合成N,N'-双(2-羟基乙基)草酰胺—INV-06
试剂06
在18℃和N2流下,在90分钟内通过滴液漏斗向草酸二甲酯(119 g,1 mol,1当量)在840 mL MeOH中的溶液中加入试剂06 (2-氨基乙醇,130 g,2.1 mol,2.1当量)。加入后,在18℃下继续搅拌40分钟。粗混合物含有白色沉淀,将其滤除并用200 mL MeOH洗涤三次。在70℃的干燥箱中干燥白色固体,然后在2 L回流的MeOH中重结晶并进一步过滤。将收集的白色固体在500 mL回流的MeOH中重结晶并进一步滤除。将白色固体在70℃的干燥箱中干燥。
产率:68%
表1:本发明的化合物INV-01至INV-06
1. 制备平版印刷载体S-01
通过在65℃下用含有26 g/l NaOH的水性溶液喷洒2秒使0.3 mm厚的铝箔脱脂,并用软化水冲洗1.5秒。然后在37℃的温度和约100 A/dm2的电流密度下,在含有15 g/l HCl、15 g/l SO4 2-离子和5 g/l Al3+离子的水性溶液中,使用交流电在10秒期间使箔电化学粒化。然后,通过用含有5.5 g/l NaOH的水性溶液在36℃下蚀刻2秒,并用去软化水冲洗2秒,将铝箔除污。随后在50℃的温度和17 A/dm2的电流密度下在含有145 g/l硫酸的水性溶液中使箔经历阳极氧化15秒,然后用软化水洗涤11秒并在120℃下干燥5秒。
这样获到的载体的特征在于表面粗糙度Ra为0.35-0.4 μm (用干涉仪NT1100测量),并且阳极重量为3.0g/m2
2. 制备印刷版前体PP-01至PP-07
光敏层
通过将溶解于35体积% MEK和65体积% Dowanol PM (1-甲氧基-2-丙醇,可从DOWCHEMICAL Company商购获得)的混合物中的表2中定义的可光聚合的层PL-01或PL-02涂布到上述载体S-01上,生产印刷版前体。涂布溶液PL-01和PL-02以30 μm的湿涂层厚度施加,然后在循环烘箱中在120℃干燥1分钟。
表2:光敏层PL-01和PL-02的干涂层重量
1)IR染料-01为红外吸收染料,可从FEW Chemicals以S2025商购获得,具有以下结构:
UV染料为1,4-二[3,5-二甲氧基]4-异丁氧基-苯乙烯基苯
IR染料-02为红外吸收染料,可从Hampford Research Inc.以IR染料813商购获得,具有以下结构:
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2)粘结剂-01表示Ruco Coat EC4811,为脂族聚醚聚氨酯,以30重量%水性分散体从Rudolf GmbH商购获得;
粘结剂-02表示S-LEC BX35Z,为聚乙烯醇缩丁醛,可从Sekisui商购获得;
3) FST 510为1摩尔2,2,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯和2摩尔甲基丙烯酸羟乙酯的反应产物,可从AZ Electronics以在MEK中的82重量%溶液商购获得;
4) CN 104为双酚A环氧二丙烯酸酯,可从Arkema商购获得;
5) SR368为三丙烯酸酯改性的异氰脲酸,可从Arkema商购获得;
6) Ini-01为双(4-叔丁基苯基)碘鎓四苯基硼酸盐,是鎓引发剂,可从AZElectronics商购获得;
Ini-02为2,2'-双(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2-双咪唑;
Ini-03为2-巯基苯并噻唑;
7) Tegoglide 410为表面活性剂,可从Evonik Tego Chemie GmbH商购获得;
8) Sipomer PAM 100为甲基丙烯酸酯膦酸酯,可从Rhodia商购获得;
9) Pig-disp为在Dowanol PM中的30重量%分散体,由20重量%的颜料蓝60 (可从Dominion Color Corporation商购获得)制成,用10重量%的bykjet 9152 (可从Byk商购获得)稳定。
外涂层
在光敏层的上面涂布包括表3中定义的组合物的水性溶液(40 μm湿厚度)并在120℃干燥2分钟。不同顶层的组合物在表3中定义。
表3:外涂层OC-01至OC-04的组合物
(1) Mowiol 4-88™为部分水解的聚乙烯醇,可从Kuraray商购获得;
Mowiol 4-98TM为完全水解的聚乙烯醇,可从Kuraray商购获得;
(2) Lutensol A8™为表面活性剂,可从BASF商购获得;
(3) INV-1为根据下式的本发明的化合物:
获得印刷版前体PPP-01至PPP-07。表4给出本发明的和对比的印刷版前体PPP-01至PPP-07的概述。
表4:印刷版前体PPP-01至PPP-07的概述
3. 成像
在60-120 mJ/cm2之间的能量密度下,用可从Kodak商购获得并且配备有830 nmIR激光二极管的High Power Creo 40W TE38热制版机(200 lpi Agfa BalancedScreening (ABS))在2400 dpi下使印刷版前体PPP-01至PPP-04成像。
在80μJ/cm2的能量密度下,用配备有发射392-417 nm之间(可变图像面功率为0-10.5 mW,扫描速度为1000m/s)的紫色激光二极管的紫色制版机装置(平床系统,Polaris),以1270 dpi使印刷版前体PPP-5至PPP-7成像。
4. 显影
将印刷版前体PPP-01至PPP-07用可从Agfa Graphics NV商购获得的Violet CFGUM-NPTM在可从Agfa Graphics NV获得的Azura C95处理器TM (速度60 cm/min,20℃)中处理,以从载体去除非图像区域中的涂层。将获得的版用50℃的热空气干燥。获得印刷版PP-01至PP-07。
另外,用100ml体积的Violet CF GUM-NPTM显影未暴露的印刷版前体(1.5m2)以评价粘度增加。在耗尽期间,由于一种或多种亲水性顶涂层聚合物的溶解,显影化学消耗受到粘度增加的限制。
5. 结果
敏感度
在以图像方式暴露和显影之后,用50倍放大倍数的手持显微镜评价在印刷版PP-01至PP-07上的点渲染,并用可从Techkon商购获得的Techkon SpectroPlateTM测量。敏感度定义为对于40% 200lpi ABS点渲染获得3%的最小点增大(dot gain) (测量的点覆盖和数字值之间的差异)所需的暴露能量。敏感度测试的结果总结在下表5中。
所有的印刷版都具有良好的敏感度,并且表5中的结果证明,在不损害版敏感度的情况下,减少来自保护层的聚乙烯醇的分数和/或加入本发明的化合物的可行性。
与包括聚乙烯醇的其它印刷版相比,不包括聚乙烯醇的本发明的印刷版P-06的敏感度得到较不敏感的版。
粘度
用100 ml的Violet CF GUM-NP™使1.5 m2的未暴露的印刷版前体显影。在显影期间亲水性聚合物在外涂层中的溶解导致胶溶液的粘度增加。使用可从LSB (Labo ServiceBelgium glass technology)商购获得的校准移液管确定胶溶液的粘度增加。校准移液管以适合目标运动粘度范围。在25℃下将胶溶液负载到校准的移液管中,并且流体水平面在校准标记之间通过所需的时间与运动粘度成比例。通过将该时间乘以粘度计的因子,获得运动粘度。与起始胶液体的测量的运动粘度的差异给出粘度增加。
结果清楚地证明,与对比印刷版PP-03、PP-04和PP-07相比,本发明的印刷版PP-01、PP-02、PP-05和PP-06的加工液的粘度增加明显更低。在外涂层中不包括聚乙烯醇的PP-06显示最低的粘度增加。粘度增加可归因于聚乙烯醇的存在。粘度测试的结果总结在下表5中。
表5:印刷版PP-01至PP-07的敏感度和粘度增加的结果
*参见以上
将印刷版PP-05和PP-07安装在Heidelberg GTO 46印刷机上。每个印刷工作都是使用K+E Novavit 800 Skinnex油墨(BASF Druckfarben GmbH的商标)与0.5重量%碳酸钠和4重量% Prima FS404 (Agfa Graphics的商标)在水中混合作为润版液开始。使用气垫胶布,并且在未涂布的胶印纸上进行印刷。在30,000张印刷的页之后,评价40% 200lpi ABS(Agfa Balanced screening,可从Agfa Graphics N.V.商购获得)、40%升华240 screening和B25 2% screening的网点损失。所有印刷在双面无光涂布(90g)纸上进行。
与对比印刷版PP-07相比,本发明的印刷版PP-05在印刷品上渲染类似的点增大。
实施例2
1. 制备印刷版前体PP-08至PP-10
光敏层
通过将溶解于35体积% MEK和65体积% Dowanol PM (1-甲氧基-2-丙醇,可从DOWCHEMICAL Company商购获得)的混合物中的表6中定义的组分涂布到上述载体S-01上,制备可光聚合的层PL-04。涂布溶液以30 μm的湿涂层厚度施加,然后在循环烘箱中在120℃干燥1分钟。
表6:光敏层PL-04
*参见上表2
外涂层
在光敏层的上面涂布包括表7中定义的组合物的水性溶液(40 μm湿厚度)并在120℃干燥2分钟。不同顶层的组合物在表7中定义。
表7:外涂层OC-01、OC-07至OC-08的组合物
/>
*参见上表3
2. 制备印刷版前体PP-08至PP-10
获得印刷版前体PPP-08到PPP-10。表8给出本发明的和对比的印刷版前体PPP-08至PPP-10的概述。
表8:印刷版前体PPP-08至PPP-10的概述
3. 成像
在80μJ/cm2的能量密度下,用可从Kodak商购获得并且配备有830 nm IR激光二极管的High Power Creo 40W TE38热制版机(200 lpi Agfa Balanced Screening (ABS))在2400 dpi下使印刷版前体PPP-08至PPP-10成像。
4. 在机显影
成像后,将版前体PPP-8到PPP-10安装在GTO52 Dahlgren单张纸印刷机上,并确定背景和图像区域无调色(在机清除)之前所需的页数。每个印刷工作都是使用K+E Novavit800 Skinnex油墨(BASF Druckfarben GmbH的商标)和4重量% Prima FS404 (AgfaGraphics的商标)在水中作为润版液开始。使用气垫胶布,并且在未涂布的胶印纸上进行印刷。以这样的方式启动印刷机,使得油墨和润版液两者都从印刷版上可用的第一印刷机旋转(和纸接触)就已经准备好。
5. 结果
在第0、50、100和150页评估清除印刷版所需的页数。该清除的特征在于完全去除未成像区域中的涂层,导致这些未成像部分的无调色印刷。
此外,不是由全固体组成的图像区域应当根据它们的成像密度印刷,并因此不表现出堵塞,即高密度丝网的点增大。
PP-08至PP-10的清除结果总结于表9中。
表9:印刷版PP-08至PP-10的清除行为
印刷版前体 在干层中安装本发明的化合物 在第几页实现清除*
PP-08 - 100
PP-09 9重量% 50
PP-10 99重量% 1
*如上定义确定清除
表9中的清除结果证明,外涂层中的本发明的化合物显著改进印刷版的清除行为。

Claims (8)

1.平版印刷版前体,其包括在载体上的可光聚合的层和提供在所述层的上面的外涂层,其特征在于所述外涂层包括由式(II)表示的化合物:
式(II)
其中
R1和R2独立地表示末端基团;和
L2和L3独立地表示二价连接基团;
其中所述末端基团R1和R2表示为烷基、环烷基、芳基、芳烷基或杂芳基,其中所述烷基、环烷基、芳基、芳烷基或杂芳基被包括羟基的取代基取代。
2.根据权利要求1所述的平版印刷版前体,其中所述二价连接基团L2和L3独立地表示任选取代的亚烷基或亚环烷基。
3.制造平版印刷版前体的方法,所述方法包括以下步骤
-在载体上施加如在权利要求1或2中所定义的可光聚合的层和外涂层;和
-干燥所述前体。
4.制造印刷版的方法,所述方法包括以下步骤
-将如在权利要求1或2中所定义的平版印刷版前体以图像方式暴露于热和/或光;
-使所述前体显影。
5.根据权利要求4所述的方法,其中用波长在350-450 nm之间的激光暴露所述前体。
6.根据权利要求4所述的方法,其中用波长在750-1500 nm之间的激光暴露所述前体。
7.根据权利要求4-6中任一项所述的方法,其中所述显影步骤通过将所述暴露的前体安装在平版印刷机的版滚筒上并旋转所述版滚筒同时将润版液和/或油墨进料至所述涂层而在机进行。
8.根据权利要求4-6中任一项所述的方法,其中所述显影步骤通过用胶溶液处理暴露的前体而离机进行,并由此在一个单一步骤中使所述前体显影和上胶。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4062682A (en) * 1974-11-12 1977-12-13 Agfa-Gevaert N.V. Fixer compositions used in planographic printing containing onium compounds
US5677108A (en) * 1995-04-28 1997-10-14 Polaroid Corporation On-press removable quenching overcoat for lithographic plates
CN101646567A (zh) * 2007-03-20 2010-02-10 爱克发印艺公司 制造平版印刷版前体的方法
CN203269824U (zh) * 2013-05-21 2013-11-06 江苏丹化煤制化学品工程技术有限公司 一种用于草酰胺生产的三合一装置
WO2014198820A1 (en) * 2013-06-14 2014-12-18 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
EP2883699A1 (en) * 2013-12-11 2015-06-17 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor and monomer
CN107073987A (zh) * 2014-11-11 2017-08-18 东丽株式会社 无水平版印刷版原版、和使用无水平版印刷版的印刷物的制造方法

Family Cites Families (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4045232A (en) 1973-11-12 1977-08-30 Topar Products Corporation Printing ink composition
US3962005A (en) 1975-06-30 1976-06-08 Zenith Radio Corporation Method for etching shadow mask and regenerating etchant
JPS5956403A (ja) 1982-09-27 1984-03-31 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
AU601459B2 (en) * 1986-05-22 1990-09-13 Polychrome Corporation Improved radiation sensitive acrylate composition
DE3832032A1 (de) 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US4981517A (en) 1989-06-12 1991-01-01 Desanto Jr Ronald F Printing ink emulsion
PL324248A1 (en) 1996-04-23 1998-05-11 Horsell Graphic Ind Ltd Composition sensitive to heat and method of making lithographic formes incorporating such compositions
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
EP0851299B1 (en) 1996-12-26 2000-10-25 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive lithographic printing plate
DE19834746A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
ES2196925T3 (es) 1998-11-16 2003-12-16 Mitsubishi Chem Corp Placa offset fotosensible positiva y procedimiento de produccion correspondiente.
US6140392A (en) 1998-11-30 2000-10-31 Flint Ink Corporation Printing inks
EP1025992B1 (en) 1999-02-02 2003-07-23 Agfa-Gevaert A method for making positive printing plates
JP3996305B2 (ja) 1999-02-15 2007-10-24 富士フイルム株式会社 ポジ型平版印刷用材料
DE19915717A1 (de) 1999-04-08 2000-10-12 Agfa Gevaert Ag Aufzeichnungsmaterial mit pigmentgefärbter strahlungsempfindlicher Schicht
ATE385463T1 (de) 1999-05-21 2008-02-15 Fujifilm Corp Fotoempfindliche zusammensetzung und flachdruckplatte, die diese zusammensetzung verwendet
DE19940921A1 (de) 1999-08-27 2001-03-01 Agfa Gevaert Ag Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19944073A1 (de) 1999-09-14 2001-03-15 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit Deckschicht
JP4037015B2 (ja) 1999-09-22 2008-01-23 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、画像形成材料及び平版印刷版用版材
US6558873B1 (en) 1999-10-05 2003-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
EP1382460B8 (en) 1999-10-19 2006-04-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition and planographic printing plate using the same
JP4098483B2 (ja) 2001-03-12 2008-06-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4266077B2 (ja) 2001-03-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
US6893797B2 (en) 2001-11-09 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Llc High speed negative-working thermal printing plates
US6875557B2 (en) 2001-08-29 2005-04-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Plate-making method of printing plate
JP2003252939A (ja) 2002-03-01 2003-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
DE60224114T2 (de) 2002-03-06 2008-12-04 Agfa Graphics N.V. Verfahren zum Entwickeln eines wärmeempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufers mit einer Gummilösung
EP1356926B1 (en) 2002-04-26 2008-01-16 Agfa Graphics N.V. Negative-working thermal lithographic printing plate precursor comprising a smooth aluminum support.
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
EP1369231A3 (en) 2002-06-05 2009-07-08 FUJIFILM Corporation Infrared photosensitive composition and image recording material for infrared exposure
JP2004012706A (ja) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US7108956B2 (en) 2002-07-03 2006-09-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Thermosensitive lithographic printing plate
JP2005014348A (ja) 2003-06-25 2005-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP4418714B2 (ja) 2003-07-10 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
ATE491968T1 (de) 2003-07-22 2011-01-15 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren
US6992688B2 (en) 2004-01-28 2006-01-31 Eastman Kodak Company Method for developing multilayer imageable elements
JP2005067006A (ja) 2003-08-22 2005-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
WO2005029187A1 (en) 2003-09-22 2005-03-31 Agfa-Gevaert Photopolymerizable composition.
CN1882881A (zh) 2003-09-22 2006-12-20 爱克发-格法特公司 感光聚合物印刷版前体
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
DE602005003244T2 (de) 2004-01-23 2008-09-25 Fujifilm Corp. Lithographiedruckplattenvorläufer und lithographisches Druckverfahren
ATE553417T1 (de) 2004-05-06 2012-04-15 Agfa Graphics Nv Fotopolymer-druckplatten-vorläufer
CN100573342C (zh) 2004-05-19 2009-12-23 爱克发印艺公司 制造光聚合物印版的方法
CN1984778B (zh) 2004-07-08 2010-12-29 爱克发印艺公司 阴片热敏平版印刷版前体的制备方法
ATE391014T1 (de) 2005-06-21 2008-04-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindliches bildaufzeichnungselement
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
GB0517100D0 (en) * 2005-08-20 2005-09-28 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Method of developing lithographic printing plate percursors
US7474465B2 (en) 2005-11-14 2009-01-06 Motorola, Inc. Electrically-responsive lenticular display apparatus and method
ATE426836T1 (de) 2005-11-18 2009-04-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
ATE497192T1 (de) 2005-11-18 2011-02-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
EP2772805A1 (en) 2005-11-18 2014-09-03 Agfa Graphics Nv Method of making a lithographic printing plate
EP1843203A1 (en) 2006-04-03 2007-10-10 Agfa Graphics N.V. Method of making a photopolymer printing plate
WO2008138966A1 (en) 2007-05-15 2008-11-20 Agfa Graphics Nv A method for making a lithographic printing plate precursor
WO2009063024A1 (en) 2007-11-16 2009-05-22 Agfa Graphics Nv Method of making a lithographic printing plate
EP2855152B1 (en) 2012-06-05 2016-03-16 AGFA Graphics NV A lithographic printing plate precursor
US8889341B2 (en) * 2012-08-22 2014-11-18 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors and use
WO2014198823A1 (en) 2013-06-14 2014-12-18 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
EP2916171B1 (en) 2014-03-03 2017-05-31 Agfa Graphics Nv A method for making a lithographic printing plate precursor
EP3170662B1 (en) * 2015-11-20 2019-08-14 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3239184A1 (en) * 2016-04-25 2017-11-01 Agfa Graphics NV Thermoplastic polymer particles and a lithographic printing plate precursor

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4062682A (en) * 1974-11-12 1977-12-13 Agfa-Gevaert N.V. Fixer compositions used in planographic printing containing onium compounds
US5677108A (en) * 1995-04-28 1997-10-14 Polaroid Corporation On-press removable quenching overcoat for lithographic plates
CN101646567A (zh) * 2007-03-20 2010-02-10 爱克发印艺公司 制造平版印刷版前体的方法
CN203269824U (zh) * 2013-05-21 2013-11-06 江苏丹化煤制化学品工程技术有限公司 一种用于草酰胺生产的三合一装置
WO2014198820A1 (en) * 2013-06-14 2014-12-18 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
EP2883699A1 (en) * 2013-12-11 2015-06-17 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor and monomer
CN107073987A (zh) * 2014-11-11 2017-08-18 东丽株式会社 无水平版印刷版原版、和使用无水平版印刷版的印刷物的制造方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Liquid Crystal Alignment Effect on Photopolymer Surface Using an Acrylate Unit Photopolymerized by a Photoinitiator;Jun-Young Kim等;《Japanese Journal of Applied Physics》;第42卷;第L54-L56页 *
PCB高稳定性中速化学镀铜工艺研究;谢金平等;《印制电路信息》(第6期);第25-27+59页 *
强附着涂层的制备方法(续);乙醛醋酸化工(06);全文 *

Also Published As

Publication number Publication date
EP3650938A1 (en) 2020-05-13
US11584118B2 (en) 2023-02-21
US20220009219A1 (en) 2022-01-13
WO2020094368A1 (en) 2020-05-14
CN112912798A (zh) 2021-06-04

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