CN112912701A - 分光光度计和分光分析装置、以及分光光度计的制造方法 - Google Patents
分光光度计和分光分析装置、以及分光光度计的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112912701A CN112912701A CN201980068536.8A CN201980068536A CN112912701A CN 112912701 A CN112912701 A CN 112912701A CN 201980068536 A CN201980068536 A CN 201980068536A CN 112912701 A CN112912701 A CN 112912701A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- spectrophotometer
- diffraction grating
- light
- concave diffraction
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 35
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 112
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 46
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 28
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 26
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 claims 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 40
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 28
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 2
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 210000002700 urine Anatomy 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000012472 biological sample Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/04—Slit arrangements slit adjustment
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0229—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using masks, aperture plates, spatial light modulators or spatial filters, e.g. reflective filters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/18—Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
- G01J3/20—Rowland circle spectrometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/30—Measuring the intensity of spectral lines directly on the spectrum itself
- G01J3/36—Investigating two or more bands of a spectrum by separate detectors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/255—Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N35/00584—Control arrangements for automatic analysers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1861—Reflection gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N35/02—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor using a plurality of sample containers moved by a conveyor system past one or more treatment or analysis stations
- G01N35/04—Details of the conveyor system
- G01N2035/0439—Rotary sample carriers, i.e. carousels
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/06—Illumination; Optics
- G01N2201/061—Sources
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/06—Illumination; Optics
- G01N2201/063—Illuminating optical parts
- G01N2201/0635—Structured illumination, e.g. with grating
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
分光光度计(300)包括白色光源(212)、对从白色光源(212)释放的光进行聚光的聚光透镜(242a、242b)、对由聚光透镜(242a、242b)聚光后的光进行衍射的狭缝(245)、对通过狭缝(245)的光进行分光的凹面衍射光栅(246)、以及具有对由凹面衍射光栅(246)分光后的光进行检测的多个光检测元件(304)的多波长检测器(248),多波长检测器(248)具有的多个光检测元件(304)中的各个配置于凹面衍射光栅(246)的成像位置。
Description
技术领域
本发明涉及一种优选为搭载在自动分析装置等分光分析装置上的分光光度计及其制造方法、分光分析装置。
背景技术
作为维持光学部件间的高位置精度和小型性、同时能够以高性能进行高稳定测定、并且有高可靠性的廉价的分光光度计的一个示例,记载有在包括光导波路、用于使入射光入射到光导波路中的光入射狭缝、用于对入射到光导波路内的入射光进行分光的衍射光栅、以及用于检测由衍射光栅分光后的入射光的光电二极管阵列的分光光度计中,将光导波路、光入射狭缝和衍射光栅与光导波路基板一体形成,将形成光电二极管阵列的光电转换元件基板安装到设置在光导波路基板上的安装部来构成分光光度计。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2004-309146号公报
非专利文献
非专利文献1:工藤惠荣著“分光的基础和方法”,欧姆社刊,1985年7月发行
发明内容
发明所要解决的技术问题
自动分析装置是对采集的试料进行成分的分析和有无微生物等的检查的装置,在医院的检查室和检查中心等广泛地普及。
近年来,对于生物化学自动分析装置,从减轻患者的负担、降低装置的运行成本等理由出发,对试料体积的微量化的需求日益高涨。作为满足该需求的技术之一,需要能够高精度测定微小光的技术。
分光分析装置中所提供的测光机构主要由白色光源、聚光透镜、狭缝、凹面衍射光栅以及多波长检测器所构成。
在这样的测光机构中,来自白色光源的光被聚光透镜聚光,照射放入反应容器中的试料,利用聚光透镜将从试料透过的光聚光在狭缝的开口部上。通过狭缝的光被凹面衍射光栅进行波长色散以形成光谱。然后,用多波长检测器检测所形成的光谱。
在公知的一般技术中,多波长检测器使用将多个光检测元件呈直线状进行排列而得到的检测器。
这里,凹面衍射光栅的成像位置由多波长检测器的曲面基板的曲率半径和刻划的槽的周期决定。
以下,对当前所使用的槽周期为等间隔的凹面衍射光栅进行说明。
在一般的凹面衍射光栅中,以使得刻出的槽周期相对于曲面基板的弦均为相同的周期的方式刻划槽。
当凹面衍射光栅用于分光目的时,通常从特殊的位置向凹面衍射光栅投射发散光。
已知,作为特殊情况,当以凹面衍射光栅的曲率半径为直径的罗兰圆上设置狭缝并向其投射发散光时,成像点也位于罗兰圆上(非专利文献1)。
在当前使用的多波长检测器中,当不使衍射光栅旋转时,与成像点位于成为圆弧上的罗兰圆的情况相对,由于光检测元件呈直线状配置,因而不能检测光,并且不能使用槽周期为等间隔的凹面衍射光栅。
此外,为了降低像差的影响,也使用了槽周期为不等间隔的凹面衍射光栅。这样的凹面衍射光栅主要用于自动分析装置。
在槽周期为不等间隔的凹面衍射光栅中,以使得刻出的槽的周期相对于曲面基板的弦成为不同的周期的方式进行刻划。
在刻出的槽的周期为不等间隔的凹面衍射光栅中,在以凹面衍射光栅的曲率半径为直径的罗兰圆上设置狭缝。因而,当投射发散光时,成像点位于通过凹面衍射光栅的曲率中心的双纽线(双叶曲线)上,理论上不可能使各个波长的成像位置完全在直线上。
即使在使用这样的凹面衍射光栅的情况下,由于可用于测定而不受像差的影响的波长仅为与直线的交点,因此,根据波长的不同,衍射效率、波长分解等性能因像差的影响而下降,测光波长存在限制。
在专利文献1中示出了使用凹面衍射光栅的分光光度计。在该技术中,记载有下述方法,即:在测定时使用的光电二极管粘附在曲面形成的基板表面,并且光电二极管的受光面形成为在安装在基板上的状态下配置在罗兰圆上。
然而,在上述的专利文献1中所记载的分光光度计中,光电二极管的受光面位于圆上。然而,受光元件并不一定配置于成像位置,检测效率具有极限。此外,当使用槽的周期为不等间隔的凹面衍射光栅时,存在如下的问题:成像位置和检测器位置不能完全匹配,同样地,检测效率具有极限。
本发明是为了解决上述问题而完成的,目的在于提供一种分光光度计、分光分析装置及分光光度计的制造方法,无论凹面衍射光栅的种类如何,都能降低凹面衍射光栅的像差的影响。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明包含解决上述问题的多个手段,但如果列举其的一个示例,则是一种分光光度计,其特征在于,包括:光源;聚光透镜,该聚光透镜对从所述光源释放的光进行聚光;狭缝,该狭缝对由所述聚光透镜聚光后的光进行衍射;凹面衍射光栅,该凹面衍射光栅对通过所述狭缝的光进行分光;以及多波长检测器,该多波长检测器具有对由所述凹面衍射光栅分光后的光进行检测的多个光检测元件,所述多波长检测器具有的多个所述光检测元件的各个配置于所述凹面衍射光栅的成像位置。
发明效果
根据本发明,无论凹面衍射光栅的种类如何,都能降低凹面衍射光栅的像差的影响。上述以外的课题、结构以及效果通过以下实施例的说明将更为明确。
附图说明
图1是使用了本发明的实施例1的分光光度计的自动分析装置的整体结构图。
图2是示出用于实施例1的自动分析装置的分光光度计的一个示例的图。
图3是示出现有技术的分光光度计的概要的图。
图4是示出现有技术的多波长检测器的图。
图5是示出槽周期为等间隔的凹面衍射光栅的截面的图。
图6是示出槽周期为等间隔的凹面衍射光栅的成像位置的图。
图7是示出槽周期为不等间隔的凹面衍射光栅的截面的图。
图8是示出槽周期为不等间隔的凹面衍射光栅的成像位置的图。
图9是示出实施例1所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图10是示出实施例1所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图11是示出实施例1所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图12是示出实施例1所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图13是示出实施例1所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图14是示出本发明的实施例2所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图15是示出实施例2所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图16是示出实施例2所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图17是示出实施例2所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图18是示出实施例2所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图19是示出用于本发明的实施例3的自动分析装置的分光光度计的一个示例的图。
图20是示出实施例3所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图21是示出实施例3所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图22是示出实施例3所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图23是示出实施例3所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
图24是示出实施例3所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
具体实施方式
以下,使用附图对本发明的分光光度计和分光分析装置及分光光度计的制造方法的实施例进行说明。
<实施例1>
利用图1至图13对本发明的分光光度计和分光分析装置及分光光度计的制造方法的实施例1进行说明。
首先,利用图1对适于使用本发明的分光光度计的分光分析装置的一个示例即自动分析装置的概要进行说明。图1是示出使用了分光光度计的自动分析装置的一个示例的整体结构图。
在图1中,本实施例1的自动分析装置200是对使试料和试剂混合并进行反应而得到的反应液244(参照图2)进行分析的装置,包括分析部201以及操作部202。
分析部201是用于向分析对象的(例如血液、尿等生物样品)中添加试剂等并且测定其物理性质(吸光度等)的部分。
该分析部201包括支架传送部218、试剂盘206、反应盘208、试料分注探针209、试剂分注探针210、搅拌装置211、白色光源212、分光检测系统213、A/D转换器215、清洁装置214、以及计算机216。分析部201内的上述的各个结构经由内部接口217连接至计算机216。
支架传送部218是用于将对一根以上的收纳试料的试料容器203进行收纳的支架204传送到目标分注位置或待机位置的设备,例如由皮带、其驱动部所构成。
试剂盘206是对收纳添加到分析对象试料的试剂的多个试剂瓶205进行收纳的保管库。通常构成为对试剂瓶205进行保冷。
反应盘208是对收纳将试剂添加到分析对象的试料中而得到的反应液244的多个反应容器207进行收纳的圆盘状的设备。
试料分注探针209是用于将收纳在试料容器203中的试料分注到预先确定的反应容器207中的设备。
试剂分注探针210是用于将收纳在试剂瓶205中的试剂分注到预先确定的反应容器207中的设备。
搅拌装置211是用于搅拌收纳在反应容器207中的反应液244的设备。
白色光源212是将光束照射于收纳在反应容器207中的反应液244的设备,分光检测系统213是检测从该白色光源212照射并透过反应容器207的光的设备。
A/D转换器215是转换分光检测系统213中的检测信号的设备,将转换后的检测信号输出至计算机216。
清洁装置214是为了再次利用而对分析中使用后的反应容器207进行清洁的设备。
计算机216是控制分析部201的各个结构的动作并基于来自A/D转换器215的转换后的检测信号对分析对象的试料的吸光度等物理性质进行运算的部分。
操作部202操作分析部201,并且经由外部接口224连接至分析部201。操作部202包括控制装置219、输入装置220、存储装置221、显示装置222以及打印装置223。
控制装置219控制包括操作部202在内的自动分析装置200整体的动作。
输入装置220是输入各种指令、信息的设备,为键盘、鼠标等设备。
存储装置221由存储程序、设定值等各种数据的硬盘等存储介质构成。
显示装置222是显示操作画面等的设备,例如是液晶显示器等。
以上是自动分析装置200的整体的结构。
上述那样的自动分析装置所进行的试料的分析处理一般按照以下的顺序来执行。
首先,将支架204设置在传送部等上,并且通过支架传送部218传送到分析部201的试料分取位置。
到达试料分取位置的支架204通过试料分注探针209将试料分取至反应盘208的反应容器207。由试料分注探针209根据对该试料所请求的分析项目来进行所需次数的试料的分取。
此外,利用试剂分注探针210将分析中使用的试剂从试剂盘206上的试剂瓶205分取到之前分取了试料的反应容器207。接着,由搅拌装置211对反应容器207内的混合试料和试剂从而调制而成的反应液244进行搅拌。
之后,使由白色光源212产生的光透过放入了搅拌后的反应液244的反应容器207,利用分光检测系统213测定透过光的光度。将由分光检测系统213测定的光度经由A/D转换器215和内部接口217发送至计算机216。通过计算机216进行运算,求出血液、尿等液体试料中的规定成分的浓度,将结果显示于显示装置222等,或存储到存储装置221。
接着,利用图2对本实施例所涉及的自动分析装置200的分光光度计的概要结构进行说明。图2是本实施例的分光光度计的概要图。
如图2所示,本实施例的分光光度计300是向反应容器207照射光并且检测从反应容器207中保持的反应液244射出的光的设备,包括:白色光源212、聚光透镜242a、242b、狭缝245、凹面衍射光栅246、和多波长检测器248。
在分光光度计300中,多波长检测器248连接至A/D转换器215。
分光光度计300中,来自白色光源212的光被聚光透镜242a聚光,并照射到放入了反应容器207中的反应液244。从反应液244透过的光通过聚光透镜242b聚光在狭缝245的开口部上。通过狭缝245的光被凹面衍射光栅246进行波长色散以形成光谱。用多波长检测器248检测所形成的光谱。
如图2所示,多波长检测器248包括对由凹面衍射光栅246分光后的光进行检测的多个光检测元件304、曲面基板301、柔性布线基板303以及光检测元件用掩模306。
曲面基板301由线膨胀系数与构成凹面衍射光栅246的主基板相同的材料构成,特别优选为由与凹面衍射光栅246的主基板相同的材料构成。
在曲面基板301的两个主表面中固定有柔性布线基板303的一侧的表面为曲面状。该曲面状的表面以下述方式弯曲得到,即:求出凹面衍射光栅246的各个波长的成像位置,使所获得的成像位置与固定光检测元件304的位置相等。由此,固定光检测元件304的柔性布线基板303、光检测元件用掩模306也沿着曲面基板301弯曲,从而容易将光检测元件304配置于成像位置。
柔性布线基板303是具有可弹性变形的可挠性的柔性基板,通过第一粘接层302(参照图9)固定在曲面基板301上。多个光检测元件304配置在该柔性布线基板303上,并形成有用于将各个光检测元件304的检测信号输出到A/D转换器215的布线。
在本实施例的多波长检测器248中,多波长检测器248所具有的多个光检测元件304分别配置于凹面衍射光栅246的成像位置,并且优选为将光检测元件304的各个分别配置在成像位置,以检测所有的被分光后的光。
自动分析装置等分光分析装置大多使用凹面衍射光栅,以往,分光光度计主要设为图3所示那样的结构。
图3所示的以往的分光光度计中,来自白色光源2的光被聚光透镜2a聚光,并且照射到放入了反应容器3中的试料4。从试料4透过的光通过聚光透镜2b聚光在狭缝5的开口部上。通过狭缝5的光被凹面衍射光栅6进行波长色散并且形成光谱。用多波长检测器7检测所形成的光谱。通常,对于多波长检测器7,使用了如图4所示那样的在基板7A上呈直线状排列多个光检测元件8而得到的检测器。
这里,已知,凹面衍射光栅的成像位置由曲面基板的曲率半径和刻出的槽的周期决定。
参照图5和图6,对槽周期为等间隔的凹面衍射光栅及其成像位置进行说明。图5中示出槽周期为等间隔的凹面衍射光栅的截面,图6中示出在图5中所示的凹面衍射光栅的成像位置。
在如图5所示那样的凹面衍射光栅中,使得所刻出的槽周期10a~10k相对于曲面基板11的弦均成为相同的周期的方式刻划槽。
当凹面衍射光栅用于分光目的时,通常从特殊的位置向凹面衍射光栅投射发散光。
作为一个示例,如图6所示,将狭缝13设置在将凹面衍射光栅的曲率半径设为直径的罗兰圆上。其结果是,在将发散光投射至狭缝13时,成像点14a、14b也位于罗兰圆上。
然而,在图5所示那样的多波长检测器7中,由于光检测元件呈直线状配置,因而不能使用槽周期为等间隔的凹面衍射光栅。
接着,参照图7以及图8,对槽周期为不等间隔的凹面衍射光栅及其成像位置进行说明。图7中示出槽周期为不等间隔的凹面衍射光栅的截面,图8中示出在图7中所示的凹面衍射光栅的成像位置。
在如图7所示那样的凹面衍射光栅中,以所刻出的槽的周期16a~16n相对于曲面基板11的弦成为不同的周期的方式进行刻划。
如图8所示,将狭缝13设置在将凹面衍射光栅15的曲率半径设为直径的的罗兰圆上。关于如图7所示那样的凹面衍射光栅的成像位置,当发散光投射到狭缝13时,成像点18a~18c位于通过凹面衍射光栅的曲率中心的双纽线17(双叶曲线)上。
因此,在本实施例中,当形成于凹面衍射光栅246的表面的槽的槽周期为等间隔时,多个光检测元件304配置于罗兰圆上。此外,当形成于凹面衍射光栅246的表面的槽的槽周期为不等间隔时,多个光检测元件304配置于双纽线上。
因此,在本实施例中,作为曲面基板301,优选为使用以下述方式进行了曲面加工后的玻璃制的基板,即:对于将柔性布线基板303和光检测元件用掩模306固定在曲面基板301上的状态下的光检测元件304的位置,使预先求出的凹面衍射光栅246的各个波长的成像位置与光检测元件304的固定位置相等。对于曲面基板的加工,使用例如采用了精密加工机等的机械加工。
柔性布线基板303优选为使用例如在塑料或聚酰亚胺的基底材料上具备布线的柔性基板。
对于固定光检测元件304的粘接材料305,优选为使用例如焊料或各向异性导电膜等具备导电性的材料。
优选为,对于将柔性布线基板303与曲面基板301相粘接的第一粘接层302、将光检测元件用掩模306与曲面基板301相粘接的第二粘接层307,使用线膨胀系数与用于凹面衍射光栅246的粘接层的材料相同的材料。
接着,参照图9至图13对本实施例所涉及的分光光度计的制造方法进行说明。图9至图13是示出本实施例所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
首先,如图9所示,在曲面基板301的曲面状的表面侧形成第一粘接层302。
然后,如图10所示,使用第一粘接层302,将具备布线的柔性布线基板303固定到曲面基板301的形成有第一粘接层302的一侧的表面。
在固定了柔性布线基板303以后,如图11所示,使用粘接材料305来将光检测元件304固定在柔性布线基板303的固定于曲面基板301侧的一侧的相反侧的表面。此时,使光检测元件304的固定位置等于预先求出的凹面衍射光栅246的各个波长的成像位置。
接着,如图12所示地,在光检测元件用掩模306的背面侧形成第二粘接层307。
接着,如图13所示,使用第二粘接层307固定光检测元件用掩模306以及柔性布线基板303。由此,完成多波长检测器248。
这些图9至图13中所示的各个工序与将多波长检测器248所具有的多个光检测元件304的各个配置于凹面衍射光栅246的成像位置的工序相当。
接着,对本实施例的效果进行说明。
上述的本发明的实施例1的分析试料的自动分析装置200包括:多个反应容器207,该多个反应容器207收纳混合试料和试剂并进行反应而得到的反应液244;以及分光光度计300,该分光光度计300向反应容器207照射光并且检测从保持在反应容器207中的反应液244射出的光。其中,分光光度计300包括白色光源212、对从白色光源212释放的光进行聚光的聚光透镜242a、242b、对由聚光透镜242a、242b聚光后的光进行衍射的狭缝245、对通过狭缝245的光进行分光的凹面衍射光栅246、以及具有对由凹面衍射光栅246分光后的光进行检测的多个光检测元件304的多波长检测器248,多波长检测器248具有的多个光检测元件304的各个配置在凹面衍射光栅246的成像位置。
这里,上述的专利文献1中所记载的检测器中,各个光检测元件配置于圆上。然而,专利文献1中,仅简单地将光检测元件配置于圆上,光检测元件不一定配置于成像位置。因此,存在检测效率不一定高这样的问题。
此外,对于在专利文献1中所述的检测器,固定光检测元件的光电转换基板由Si基板、化合物半导体基板、绝缘基板构成,通过蚀刻来将其加工为曲面。这里,通过蚀刻来将Si基板等加工成曲面的方法中,在加工时可能会破损,因而存在成品率差这样的缺点。
与此相对,在本实施例1中,由于光检测元件304有意地配置在成像位置,因此凹面衍射光栅246的成像位置与光检测元件304的固定位置高精确地匹配,与现有技术的分光光度计相比可以可靠地提高检测效率。因此,能降低像差的影响,因而能提高信噪比,并且能够提供具有高分析精度的分光分析装置。
此外,无论凹面衍射光栅246的种类如何,都能够使成像位置和光检测元件304的位置相匹配。
进一步地,在本实施例中,用于分光光度计的曲面基板优选为玻璃制,由于加工性非常优异,因而能够应对各种尺寸的分光分析装置。
此外,多波长检测器248进一步具有:曲面基板301,该曲面基板301由线膨胀系数与构成凹面衍射光栅246的主基板相同的材料构成;以及柔性布线基板303,该柔性布线基板303固定在曲面基板301上并配置有多个光检测元件304,因此,可以将多个光检测元件304容易且可靠地固定到成像位置并且将检测到的信号输出至A/D转换器215等,可以更可靠地提高检测效率。此外,具有成品率改善的优点。
进一步地,曲面基板301中,由于固定有柔性布线基板303的一侧的表面为曲面状,因而能够更高精度地将光检测元件304固定至凹面衍射光栅246的成像位置。
此外,形成在凹面衍射光栅246的表面上的槽的槽周期为等间隔,多个光检测元件304配置在罗兰圆上,因而能够将以往常常利用的分光光度计设为是高精度的。
进一步,形成在凹面衍射光栅246的表面上的槽的槽周期为不等间隔,多个光检测元件304配置在双纽线上,因此可以扩大测光波长的波长范围。
此外,由于将多波长检测器248的柔性布线基板303和曲面基板301相粘接的第一粘接层302的材料与用于凹面衍射光栅246的粘接层的材料的线膨胀系数相同,因而可以防止由于温度变化而引起的成像位置的偏差,可以实现更高精度的检测。
进一步,即使曲面基板301由与凹面衍射光栅246的主基板相同的材料构成,也可以防止由于温度变化而引起的成像位置的偏差,可以实现更高精度的检测。
此外,通过将光检测元件304中的各个分别配置于成像位置,以检测所有的被分光后的光,因此可以更可靠地提高检测灵敏度。
另外,在本实施例的多波长检测器248中使用光检测元件用掩模306的情况下,光检测元件用掩模306的开口部306A也被配置在成像位置。
<实施例2>
利用图14至图18对本发明的实施例2的分光光度计和分光分析装置及分光光度计的制造方法进行说明。对于与实施例1相同的结构示出相同的标号,省略说明。即使在以下的实施方式中也相同。
本实施例的分光光度计、具备该分光光度计的自动分析装置的结构、试料的分析动作是与上述的实施例1的分光光度计和分光分析装置以及分光光度计的制造方法大致相同的构成/操作,省略详细情况。
以下,利用图14至图18对本实施例中的分光光度计的制造方法进行说明。图14至图18是示出本实施例所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
首先,如图14所示,使用粘接材料305将光检测元件304固定到柔性布线基板303。此时,使光检测元件304的固定位置等于预先求出的凹面衍射光栅246的各个波长的成像位置。
接着,如图15所示地,在光检测元件用掩模306的背面侧形成第二粘接层307。
接着,如图16所示,使用第二粘接层307固定柔性布线基板303和光检测元件用掩模306的背面侧。
接着,如图17所示,在曲面基板301的曲面状的表面侧形成第一粘接层302。
接着,如图18所示,使用第一粘接层302固定曲面基板301和柔性布线基板303。由此,完成多波长检测器248。
这些图14至图18中所示的各个工序与将多波长检测器248所具有的多个光检测元件304中的各个配置于凹面衍射光栅246的成像位置的工序相当。
另外,在本实施例中,图17所示的工序可以与图14至图16的工序并行实施,也可以在图14至图16的工序之间或之前实施。
在本发明的实施例2的分光光度计和分光分析装置及分光光度计的制造方法中,也能获得与上述的实施例1的分光光度计和分光分析装置及分光光度计的制造方法大致相同的效果。
此外,在本实施例2中,如图16所示,柔性布线基板303和光检测元件用掩模306以平面的状态进行固定,之后如图18所示那样地固定在曲面基板301上。因此,与实施例1相比,柔性布线基板303和光检测元件掩模306的定位变得容易,因此,可获得下述效果,即:与实施例1相比可削减制造所涉及的成本。
<实施例3>
利用图19至图24对本发明的实施例3的分光光度计和分光分析装置及分光光度计的制造方法进行说明。
首先,利用图19对本实施例的分光光度计的概要结构进行说明。图19是本实施例的分光光度计的概要图。
如图19所示,本实施例的分光光度计500是向反应容器207照射光并且检测从反应容器207中保持的反应液244射出的光的设备,包括:白色光源212、聚光透镜242a、242b、狭缝245、凹面衍射光栅246以及多波长检测器509。
如图19所示,多波长检测器509包括对由凹面衍射光栅246分光后的光进行检测的多个光检测元件504、光检测元件用掩模固定基板501、布线基板503以及光检测元件用掩模506。
光检测元件用掩模固定基板501由线膨胀系数与构成凹面衍射光栅246的主基板相同的材料构成,并且安装有光检测元件用掩模506的一侧的表面为曲面状。光检测元件用掩模固定基板501优选为由与凹面衍射光栅246的主基板相同的材料构成。
如图20所示,在该光检测元件用掩模固定基板501形成贯通孔508。贯通孔508中的各个形成在下述位置,即:光检测元件用掩模506被固定时与开口部506A的位置一致的位置、且布线基板503被固定时与光检测元件504的位置一致的位置。利用该贯通孔508,设为防止由光检测元件用掩模固定基板501引起的光强度损失的构造。
布线基板503固定在与光检测元件用掩模固定基板501的曲面状的表面相反侧的表面侧,并且多个光检测元件504配置于平面上。此外,形成用于将各个光检测元件504的检测信号输出到A/D转换器215的布线。
在本实施例的多波长检测器509中,多波长检测器509所具有的光检测元件用掩模506的开口部506A中的各个配置于凹面衍射光栅246的成像位置。
例如,当形成在凹面衍射光栅246的表面上的槽的槽周期为等间隔时,光检测元件用掩模506的开口部506A配置在罗兰圆上。此外,当形成在凹面衍射光栅246的表面上的槽的槽周期为不等间隔时,开口部506A配置于双纽线上。
利用图20至图24来对本实施例3的分光光度计中的多波长检测器509的制造方法进行说明。图20至图24是示出本实施例所涉及的分光光度计中多波长检测器的制造方法的一个示例的图。
首先,如图20所示,在光检测元件用掩模固定基板501的曲面状的表面侧形成第一粘接层507。
在本实施例中,图20中所示的光检测元件用掩模固定基板501使用以如下方式进行了曲面加工后的基板,即:使得在固定了光检测元件用掩模506的状态下,凹面衍射光栅246的各个波长的成像位置与光检测元件用掩模506的开口部506A的位置一致。此外,使用被形成为光检测元件用掩模固定基板501的贯通孔508与光检测元件用掩模506的开口部506A的位置相一致的基板。
接着,如图21所示,使用第一粘接层507将光检测元件用掩模506固定到光检测元件用掩模固定基板501的第一粘接层507侧的表面。
在本实施例3中,与实施例1和实施例2的不同之处在于,光检测元件用掩模506安装在光检测元件用掩模固定基板501曲面上,并且光检测元件504配置在布线基板503的平面上。然而,由于光学检测元件用掩模506的开口部506A的位置设置于凹面衍射光栅的各个波长的成像位置,因此可以获得与实施例1、实施例2相同的效果。
接着,如图22所示,使用粘接材料505将光检测元件504固定到布线基板503。此时,光检测元件504被固定成与设置在光检测元件用掩模固定基板501上的贯通孔508的位置一致。
接着,如图23所示地,在光检测元件用掩模固定基板501中的固定有光检测元件用掩模506的一侧的相反侧的表面上形成第二粘接层502。
接着,如图24所示,使用第二粘接层502来固定光检测元件用掩模固定基板501以及布线基板503。
这些图20至图24中所示的各个工序与将多波长检测器509的表面上所配置的光检测元件用掩模506中的各个开口部506A配置于凹面衍射光栅246的成像位置的工序相当。
图24所示的布线基板503只要是具备布线的基板就可以是任意的结构,并且可以使用在实施例1、2中所使用的柔性基板(柔性布线基板)、使用硬化复合材料、玻璃、环氧树脂等作为基底材料的硬质(刚性)基板。
分光光度计500中除了多波长检测器509以外的结构是与实施例1的分光光度计300大致相同的结构,并且,除了分光光度计500以外的自动分析装置的其他结构/动作是与上述的实施例1的自动分析装置200大致相同的结构/动作。因此,省略详细情况。
在本发明的实施例3的包括白色光源212、对从白色光源212释放的光进行聚光的聚光透镜242a、242b、对由聚光透镜242a、242b聚光后的光进行衍射的狭缝245、对通过狭缝245的光进行分光的凹面衍射光栅246、以及具有对由凹面衍射光栅246分光后的光进行检测的多个光检测元件504的多波长检测器509,且配置于多波长检测器509的表面的光检测元件用掩模506中的各个开口部506A配置在凹面衍射光栅246的成像位置的分光光度计500、具备该分光光度计500的自动分析装置中,也能够得到与上述的实施例1的分光光度计300、自动分析装置200大致相同的效果。
<其他>
此外,本发明并非限定于上述的实施例,还包含各种变形例。上述的实施例是为了便于理解地说明本发明而进行的详细说明,本发明并不限定于要包括所说明的所有结构的实施例。
此外,可以将某个实施例的结构的一部分替换成其他的实施例的结构,还可以在某个实施例的结构中追加其他实施例的结构。此外,对于各实施例的结构的一部分,能够进行其他结构的增加、删除、替换。
标号说明
200:自动分析装置
201:分析部
202:操作部
203:试料容器
204:支架
205:试剂瓶
206:试剂盘
207:反应容器
208:反应盘
209:试料分注探针
210:试剂分注探针
211:搅拌装置
212:白色光源
213:分光检测系统
214:清洁装置
215:A/D转换器
216:计算机
217:内部接口
218:支架传送部
219:控制装置
220:输入装置
221:存储装置
222:显示装置
223:印刷装置
224:外部接口
242a、242b:聚光透镜
244:反应液
245:狭缝
246:凹面衍射光栅
248、509:多波长检测器
300、500:分光光度计
301:曲面基板
302:第一粘接层
303:柔性布线基板
304、504:光检测元件
305、505:粘接材料
306、506:光检测元件用掩模
306A、506A:开口部
307:第二粘接层
501:光检测元件用掩模固定基板
502:第二粘接层
503:布线基板
507:第一粘接层
508:贯通孔。
Claims (15)
1.一种分光光度计,其特征在于,包括:
光源;
聚光透镜,该聚光透镜对从所述光源释放的光进行聚光;
狭缝,该狭缝衍射由所述聚光透镜进行聚光后的光;
凹面衍射光栅,该凹面衍射光栅对通过所述狭缝的光进行分光;以及
多波长检测器,该多波长检测器具有对由所述凹面衍射光栅分光后的光进行检测的多个光检测元件,
所述多波长检测器所具有的多个所述光检测元件中的各个配置在所述凹面衍射光栅的成像位置。
2.如权利要求1所述的分光光度计,其特征在于,
所述多波长检测器进一步具有:基板,该基板由线膨胀系数与构成所述凹面衍射光栅的主基板相同的材料构成;以及柔性布线基板,该柔性布线基板固定在所述基板上并且配置有多个所述光检测元件。
3.如权利要求2所述的分光光度计,其特征在于,
所述基板的固定有所述柔性布线基板的一侧的表面为曲面状。
4.如权利要求3所述的分光光度计,其特征在于,
形成于所述凹面衍射光栅的表面的槽的槽周期为等间隔,
多个所述光检测元件配置在罗兰圆上。
5.如权利要求3所述的分光光度计,其特征在于,
形成于所述凹面衍射光栅的表面的槽的槽周期为不等间隔,
多个所述光检测元件配置在双纽线上。
6.如权利要求2所述的分光光度计,其特征在于,
将所述多波长检测器的所述柔性布线基板与所述基板粘接的粘接层的材料与用于所述凹面衍射光栅的粘接层的材料具有相同的线膨胀系数。
7.如权利要求2所述的分光光度计,其特征在于,
所述基板由与所述凹面衍射光栅的所述主基板相同的材料构成。
8.如权利要求1所述的分光光度计,其特征在于,
所述光检测元件中的各个分别配置在成像位置,以检测所有的进行了所述分光后的光。
9.一种分光光度计,其特征在于,包括:
光源;
聚光透镜,该聚光透镜对从所述光源释放的光进行聚光;
狭缝,该狭缝衍射由所述聚光透镜聚光后的光,
凹面衍射光栅,该凹面衍射光栅对通过所述狭缝的光进行分光;以及
多波长检测器,该多波长检测器具有对由所述凹面衍射光栅分光后的光进行检测的多个光检测元件,
配置于所述多波长检测器的表面的光检测元件用掩模的各个开口部配置在所述凹面衍射光栅的成像位置。
10.如权利要求9所述的分光光度计,其特征在于,
所述光检测元件用掩模安装在表面为曲面状的基板上,并且多个所述光检测元件配置于所述基板的所述曲面状的表面的相反侧的表面侧。
11.如权利要求10所述的分光光度计,其特征在于,
形成于所述凹面衍射光栅的表面的槽的槽周期为等间隔,
所述开口部配置在罗兰圆上。
12.如权利要求10所述的分光光度计,其特征在于,
形成于所述凹面衍射光栅的表面的槽的槽周期为不等间隔,
所述开口部配置在双纽线上。
13.如权利要求10所述的分光光度计,其特征在于,
多个所述光检测元件配置在平面上。
14.一种分光分析装置,该分光分析装置分析试料,所述分光分析装置的特征在于,包括:
多个反应容器,该多个反应容器收纳使所述试料和试剂混合并进行反应而得到的反应液;以及
如权利要求1或9所述的分光光度计,所述分光光度计使光照射至所述反应容器,并且对从保持在所述反应容器中的所述反应液射出的光进行检测。
15.一种分光光度计的制造方法,该分光光度计包括:光源;聚光透镜,该聚光透镜对从所述光源释放的光进行聚光;狭缝,该狭缝衍射由所述聚光透镜进行聚光后的光;凹面衍射光栅,该凹面衍射光栅对通过所述狭缝的光进行分光;以及多波长检测器,该多波长检测器具有对由所述凹面衍射光栅分光后的光进行检测的多个光检测元件,所述分光光度计的制造方法的特征在于,包括:
将配置于所述多波长检测器的表面的光检测元件用掩模的各个开口部配置在所述凹面衍射光栅的成像位置的工序。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018238749 | 2018-12-20 | ||
JP2018-238749 | 2018-12-20 | ||
PCT/JP2019/045207 WO2020129519A1 (ja) | 2018-12-20 | 2019-11-19 | 分光光度計および分光分析装置、ならびに分光光度計の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112912701A true CN112912701A (zh) | 2021-06-04 |
Family
ID=71101240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201980068536.8A Withdrawn CN112912701A (zh) | 2018-12-20 | 2019-11-19 | 分光光度计和分光分析装置、以及分光光度计的制造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220034792A1 (zh) |
EP (1) | EP3901596A4 (zh) |
JP (1) | JP7094390B2 (zh) |
CN (1) | CN112912701A (zh) |
WO (1) | WO2020129519A1 (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5343579A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-19 | Hitachi Ltd | Multiwave length light detector |
JPS5384354U (zh) * | 1977-10-19 | 1978-07-12 | ||
US20010030746A1 (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-18 | Thomas Hamm | Optical device |
CN102661793A (zh) * | 2012-05-31 | 2012-09-12 | 上海理工大学 | 一种平像场凸面光栅分光系统 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5525379Y2 (zh) * | 1978-02-08 | 1980-06-18 | ||
JPS58225321A (ja) * | 1982-06-25 | 1983-12-27 | Hitachi Ltd | 凹面回折格子分光器 |
DE3544512A1 (de) * | 1985-12-17 | 1987-06-19 | Bodenseewerk Perkin Elmer Co | Polychromator |
JP2511902B2 (ja) * | 1986-09-17 | 1996-07-03 | 松下電器産業株式会社 | 分光測光器 |
JP2791038B2 (ja) * | 1988-06-24 | 1998-08-27 | 株式会社日立製作所 | 分光器及びそれを用いた投影露光装置並びに投影露光方法 |
US5493393A (en) * | 1989-03-17 | 1996-02-20 | The Boeing Company | Planar waveguide spectrograph |
FR2651575B1 (fr) * | 1989-09-05 | 1993-11-19 | Instruments Sa | Dispositif d'analyse par spectrocopie. |
EP0558216A1 (en) * | 1992-02-24 | 1993-09-01 | Thermo Jarrell Ash Corporation | Spectrometry |
US5436723A (en) * | 1993-03-05 | 1995-07-25 | Thermo Jarrell Ash Corporation | Spectroscopic analysis |
JP2003139611A (ja) | 2001-11-06 | 2003-05-14 | Olympus Optical Co Ltd | 分光光度計 |
JP2004309146A (ja) | 2003-04-02 | 2004-11-04 | Olympus Corp | 分光光度計 |
JP2004333407A (ja) | 2003-05-12 | 2004-11-25 | Shimadzu Corp | 発光分析装置用分光器 |
JP2005121574A (ja) | 2003-10-20 | 2005-05-12 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 近赤外分光装置 |
US7623235B2 (en) | 2004-03-20 | 2009-11-24 | Seng-Tiong Ho | Curved grating spectrometer with very high wavelength resolution |
JP5016855B2 (ja) * | 2006-06-15 | 2012-09-05 | キヤノン株式会社 | 分光器及び分光方法 |
JP2011064673A (ja) | 2009-08-20 | 2011-03-31 | Daikin Industries Ltd | 熱型検出素子および分光検出器 |
EP2410358A1 (en) * | 2010-07-19 | 2012-01-25 | European Space Agency | Imaging optics and optical device for mapping a curved image field |
DE102011082469B4 (de) * | 2011-09-09 | 2015-02-26 | Oxford Instruments Analytical GmbH | Spektrometer mit wenigstens einem Zerstreuungselement |
WO2018079276A1 (ja) * | 2016-10-28 | 2018-05-03 | 三洋電機株式会社 | 電源装置 |
EP3745166B1 (en) | 2017-12-27 | 2023-08-09 | Hitachi High-Tech Corporation | Manufacturing method of concave diffrraction grating |
-
2019
- 2019-11-19 CN CN201980068536.8A patent/CN112912701A/zh not_active Withdrawn
- 2019-11-19 EP EP19899284.4A patent/EP3901596A4/en not_active Withdrawn
- 2019-11-19 US US17/277,412 patent/US20220034792A1/en active Pending
- 2019-11-19 WO PCT/JP2019/045207 patent/WO2020129519A1/ja unknown
- 2019-11-19 JP JP2020561233A patent/JP7094390B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5343579A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-19 | Hitachi Ltd | Multiwave length light detector |
JPS5384354U (zh) * | 1977-10-19 | 1978-07-12 | ||
US20010030746A1 (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-18 | Thomas Hamm | Optical device |
CN102661793A (zh) * | 2012-05-31 | 2012-09-12 | 上海理工大学 | 一种平像场凸面光栅分光系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3901596A1 (en) | 2021-10-27 |
JPWO2020129519A1 (ja) | 2021-10-14 |
JP7094390B2 (ja) | 2022-07-01 |
US20220034792A1 (en) | 2022-02-03 |
WO2020129519A1 (ja) | 2020-06-25 |
EP3901596A4 (en) | 2022-08-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8675187B2 (en) | Photometer and analyzing system provided with photometer | |
US8045169B2 (en) | Method and device for measuring reflected optical radiation | |
US7791728B2 (en) | System for optically analyzing a substance with a selected single-wavelength | |
EP1882916A1 (en) | Compact catadioptric spectrometer | |
KR20200123001A (ko) | 광학 분석 장치 | |
US7277175B2 (en) | Systems and methods for wavelength selective measurement of properties of small volume liquid samples | |
CN112912701A (zh) | 分光光度计和分光分析装置、以及分光光度计的制造方法 | |
CN106990059B (zh) | 一种液体样品测量装置和测量方法 | |
US6788415B2 (en) | Turntable measuring apparatus utilizing attenuated total reflection | |
EP4306962A1 (en) | Light source and automatic analysis device | |
EP2108941A2 (en) | Surface plasmon sensor | |
JP4145892B2 (ja) | 熱レンズ分光分析システム及び熱レンズ信号補正方法 | |
CN103278449A (zh) | 多通道光学检测装置 | |
JP2004020262A (ja) | 光熱変換分光分析方法及びその装置 | |
JP2007218632A (ja) | 分析装置、屈折率測定装置および分析方法 | |
JP2001194371A (ja) | 化学分析装置 | |
CN103884684A (zh) | 一种高精度数字v棱镜折射仪的光学系统 | |
JP2014115268A (ja) | 分光分析装置 | |
JP2008267959A (ja) | 検査装置 | |
US20210239604A1 (en) | Optical measuring unit and optical measuring method for obtaining measurement signals of fluid media | |
CN112014343A (zh) | 一种多合一光源的分光光度检测系统 | |
JP2003194751A (ja) | マイクロ化学システム | |
CN117396748A (zh) | 测光装置和分析装置 | |
KR20070114440A (ko) | 다 매질에서 측정 가능한 광학계를 이용한 표면 플라즈몬공명 장치 | |
JPS61247943A (ja) | 光学測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20210604 |