CN112911936A - 用于制造烤华夫饼锥筒片的设备及方法 - Google Patents

Abstract

一种用于由华夫饼锥筒糊状物自动制备用于制备待填充冷冻甜食产品的华夫饼锥筒的烤华夫饼锥筒片的设备，设备包括烘烤站，烘烤站具有待沉积有华夫饼锥筒糊状物的多个烘烤盘位置，每个烘烤盘位置均包括具有特征性华夫饼区域的基本平面烘烤表面，特征性华夫饼区域包括平行线性凹槽第一阵列以由烤华夫饼片中的所得平行线性突起产生烤华夫饼片中的特征性华夫饼图案；其中，每个烘烤盘位置还包括图形区域，图形区域位于特征性华夫饼区域内并且包括对应于图形图像的凹槽，并且还包括至少一个线性凹槽，每个线性凹槽与特征性华夫饼区域中的凹槽连续、在尺寸上类似并共线，并且其中图形区域中的凹槽间隔密度小于周围特征性华夫饼区域中的凹槽间隔密度。

Description

用于制造烤华夫饼锥筒片的设备及方法

技术领域

本发明涉及一种用于自动制造烤华夫饼片的设备和方法，该烤华夫饼片适合于随后成形为锥筒形状并填充有冷冻甜食材料。本发明还涉及通过本发明生产的烤华夫饼片以及锥筒。

背景技术

众所周知，烤华夫饼片是冷冻甜食产品(尤其是冰淇淋)的受欢迎可食用组成部分。受欢迎的版本是将片形成为锥筒。

这种华夫饼片可以以与由华夫饼糊状物制成的华夫饼类似的方式在烘烤盘上由烤华夫饼片单独制成。然而，为了有效地大量生产这种华夫饼片，其在工厂中以自动方式进行生产。

这种自动化过程通常涉及烘烤站，其包括多个离散烘烤盘或提供多个烘烤盘位置的连续一幅烘烤盘。烘烤盘基本上是平面的，但是包括平行凹槽阵列以在最终的烘烤片中提供特征性华夫饼图案。通常，凹槽包括垂直凹槽第二阵列，以便提供特征性华夫饼阴影图案。

烘烤通常是通过将加热盘向下放到烘烤盘上以压缩热盘之间的华夫饼糊状物而发生的。上盘通常是光滑且平坦的而没有任何凹槽，因为这有助于在烘烤后移除烤华夫饼片。据信，这主要是由于以下事实，即，与上烘烤盘相比，烤华夫饼与下烘烤盘接触的表面面积更大。

一旦发生烘烤，将上烘烤盘抬起并且通过使包含齿的刮具沿烘烤盘的表面通过而将华夫饼的烘烤片从烘烤盘上抬起。齿被成形为适配于凹槽内，以便将烘烤片方便地抬升到斜面上。一旦将烘烤片从烘烤表面移除，则烘烤片便可以行进到随后站点，例如锥筒成型站和填充站。如此制造了具有光滑侧以及包括平行线性突起阵列的侧的烤华夫饼片，从而提供了特征性华夫饼锥筒图案。

通常，烤华夫饼片的表面上由烘烤表面中的凹槽而形成的突起出现在所得锥筒的外部，并且由于应用了光滑加热盘，因此锥筒的内部通常是光滑的。光滑内表面有助于填充冷冻甜食产品，例如冰淇淋。

然而，希望能够将由升高烤华夫饼形成的图形表示引入到烤华夫饼片上，使得一旦形成，消费者就可以在锥筒的外部看到这些图形表示。

US 2014/050820公开了一种华夫饼，其用作冰淇淋产品中的分隔物。表达了在华夫饼的包括特征性华夫饼图案的一侧上具有图形表示的期望，然而没有提供关于如何可以实际实现该期望的技术细节。

DE 202017006704 U1公开了一种连续华夫饼烘烤装置的示例。其注意到，由于下烘烤盘中凹槽的功能要求以及斜面及其沿凹槽通过的齿的技术要求，不可能在华夫饼的包括突起特征性华夫饼锥筒外观的一侧上引入图形元素。相反，其建议将图形元素引入华夫饼的光滑侧，并将华夫饼设置成锥筒，其中使光滑侧面朝外并且特征性华夫饼图案面朝内。

本发明的目的是在这方面提供改进。

发明内容

本发明人已经注意到，期望在华夫饼锥筒的外部上保持特征性华夫饼图案的特征，其中光滑表面位于内部，同时在华夫饼锥筒的外部上提供图形表示。

通过本发明人的开发，令人惊讶地发现，可以通过华夫饼面糊状物在烘烤华夫饼片中产生具有足够的视觉清晰度并且位于华夫饼片的与特征性华夫饼图案相同的一侧上的图形表示。在不减慢制造过程或不降低其可靠性的情况下，这也是可能的。

如上所述，刮具的齿对于确保从烘烤盘有效地释放烤华夫饼片是非常重要的。考虑到齿沿烘烤盘中的凹槽行进的事实，不言自明，齿通过所沿的凹槽必须是连续的，以便允许齿沿烘烤盘的表面不受阻碍地行进。另外，这些凹槽在所得的华夫饼片中产生线性突起，该线性突起干扰图形图像的呈现。由于存在干扰图像的外观的特征性华夫饼图案，因此简单地在烘烤盘上添加更多凹槽以使图形表示叠加在华夫饼图案上被证明是不期望的。

然而，令人惊讶地发现，可以在穿过图形区域的区域中增大齿的间距，同时在华夫饼片的其余部分中保持常规间距，从而所得锥筒的外部保持特征性华夫饼锥筒外观。这样的效果是，图形表示虽然仍然包含一些升高线性突起，但是在其内比华夫饼片的其余部分包含更少升高线性突起，从而使得图形图像更少地受到升高线性突起的存在的干扰。

因此，在第一方面，本发明涉及一种用于从华夫饼糊状物自动地制备烤华夫饼片的设备，该烤华夫饼片用于制备要填充冷冻甜食产品的华夫饼锥筒，该设备包括烘烤站，该烘烤站包括要在其上沉积华夫饼锥筒糊状物的多个烘烤盘位置，每个烘烤盘位置均包括基本平面烘烤表面，该基本平面烘烤表面包括特征性华夫饼区域，该特征性华夫饼区域包括平行线性凹槽第一阵列以由烤华夫饼片中得到的平行线性突起而产生烤华夫饼片中的特征性华夫饼图案；

其中，每个烘烤盘位置还包括图形区域，该图形区域位于特征性华夫饼区域内并且包括与图形图像相对应的凹槽，并且还包括至少一个线性凹槽，每个线性凹槽与与特征性华夫饼区域中的凹槽连续、在尺寸上类似并且共线，并且其中，图形区域中的凹槽间隔密度小于周围特征性华夫饼区域中的凹槽间隔密度。

因此，本发明提供了一种设备，该设备可以产生在外部具有特征性华夫饼图案的传统的华夫饼锥筒，而且其中在外部存在包括图形表示的区域。

典型地，特征性华夫饼图案将包括等间距间隔开的平行线性升高突起第一阵列。通常，还将存在平行线性升高突起第二阵列，这些平行线性升高突起相对于第一阵列以一定角度，例如垂直于第一阵列，等间距间隔开延伸。这在所得华夫饼锥筒上提供了有吸引力的且众所周知的阴影图案。

因此，烘烤盘具有等间距间隔开的平行线性凹槽第一阵列。通常，还存在平行线性凹槽第二阵列，这些平行线性凹槽与第一阵列成一定角度，例如垂直于第一阵列，等间距间隔开延伸。

为了本发明的目的，刮具的齿被设置成沿着平行线性凹槽第一阵列中的相应线性凹槽行进。将立即显而易见的是，没有齿需要沿着第二阵列的凹槽通过。结果，完全自由地在第二阵列的凹槽中引入不连续性，而齿行进所沿的第一阵列的线性凹槽必须保持连续。

如此，如果存在的话，优选地在图形区域中不存在线性凹槽，其中，第二阵列的凹槽将穿过该图形区域。

如上所述，存在于图形区域中的线性凹槽与特征性华夫饼区域中的凹槽连续、在尺寸上相似并且共线，这通常是第一阵列中的凹槽。

由于第一阵列中的线性凹槽优选地等间距间隔开，因此图形区域中存在的凹槽优选地也等间距间隔开。在一个方便的实施例中，在图形区域中的凹槽的间隔是在特征性华夫饼区域中的间隔的两倍。这可以通过省略穿过图形区域的交替线性凹槽来方便地实现。

以类似的方式，图形区域中的凹槽之间的间隔可以是特征性华夫饼区域中的凹槽之间的间隔的三倍。这可以通过省略穿过图形区域的成对相邻凹槽来方便地实现。

因此，图形区域可以完全省略第二阵列中存在的任何凹槽并且仅包含来自第一阵列的减少数量的凹槽，这足以确保通过刮具的齿可靠地移除烤华夫饼片。这在存在足够凹槽的技术要求与希望能够呈现图形图像而不会受到穿过其中的线性凹槽的过多干扰的需求之间提供了一种有效折衷。

因此，在一个优选的实施例中，在烘烤站之后是释放站，该释放站包括刮具，该刮具包括具有多个齿的斜面，齿被定尺寸为在烘烤盘的凹槽内行进，该斜面和齿与烘烤盘的表面成锐角对准并设置为使得当刮具沿着烘烤盘通过时将烤华夫饼片从烘烤盘远离上升到斜面上，其中，刮具的齿被设置为仅行进通过第一阵列中的仅连续地行进通过烘烤盘表面的凹槽。

以这种方式，由于一些齿确实穿过图形区域，因此有足够的齿来提供对烤华夫饼锥筒的有效移除。由于允许齿通过图形区域，因此，图形区域可以合理地大，而不会使烤华夫饼片变得难以从烘烤盘移除。

因此，刮具将优选地包括以n、2n和/或3n的距离间隔开的齿，其中n是在特征性华夫饼区域中的线性凹槽之间的间隔。通常，对于不通过图形区域的凹槽，齿将以n间隔开，并且对于通过图形区域的凹槽，齿将以2n或3n间隔开。如果间隔增加得太大，甚至4n或至少5n或更大，则移除烤华夫饼片可能变得不可靠，并且因此通常不是优选的。

可以相信，齿之间的距离不应大于30mm，以便可靠移除烤华夫饼片。然而，如将理解，本发明允许存在大于齿之间的最大间隔的图形图像。

然而，尽管通过图形区域的齿之间的间隔可以增加，但是优选的是，将某种形式的截短齿定位在更大间隔开的齿之间。这种截短齿不会沿着烘烤盘的凹槽行进，而是起到提供引导的作用以更有效且更可靠地辅助移除烤华夫饼片，以沿刮具向上行进并到达斜面上。在一个优选的实施例中，截短齿被定位成使得其与刮具的齿间隔开距离n。例如，当齿之间的间隔为2n时，优选地在齿之间的中间处定位有截短齿。

在优选的设置中，在烤华夫饼片到达刮具之前，将冷空气源提供给烤华夫饼片的表面。已经发现，即使短时间暴露于冷空气中也可以帮助烤华夫饼的上表面变硬并提供一定刚度，从而提高了烤华夫饼片离开烘烤表面并向上行进到斜面上的可靠性。

本发明的设备是自动化的并且可以以连续或分批方式操作。

图形区域可以包括能够由烤华夫饼片的升高部分表示的图形。特别地，图形可以是文字、徽标或图片。

在使用中，通过使用本发明的设备将华夫饼锥筒糊状物放置在烘烤盘上并进行烘烤以形成烤华夫饼片。

因此，在第二方面，本发明涉及一种由华夫饼锥筒糊状物连续地制造烤华夫饼片的方法，以用于制备要填充有冷冻甜食产品的华夫饼锥筒，该方法包括采用本文所述的设备，该方法包括顺序地将华夫饼锥筒糊状物的一部分沉积到多个烘烤盘位置上以覆盖图形区域以及周围特征性华夫饼区域的一部分；进行烘烤操作，以产生烤华夫饼片，其中，片包括围绕图形图像的特征性华夫饼图案。

在第三方面，本发明涉及用作冷冻甜食产品的组成部分的烤华夫饼片，该片具有外表面，该外表面包括烤华夫饼材料的平行线性突起第一阵列以形成特征性华夫饼图案，并且包括图形区域，该图形区域位于特征性华夫饼图案内并且包括烤华夫饼材料的形成图形表示的升高部分，该图形区域包括烤华夫饼材料的平行线性突起，该烤华夫饼材料的平行线性突起与特征性华夫饼图案中的升高突起连续、在尺寸上相似并且共线，但是间隔密度小于特征性华夫饼图案中的间隔密度。

优选地，将烤华夫饼片形成为锥筒形状以用作冷冻甜食产品的组成部分，华夫饼锥筒具有基本光滑的内表面。

附图说明

现在将通过示例并参考以下附图来说明本发明，其中：

图1是根据本发明的华夫饼锥筒设备的示意图。

图2是图1的设备的烘烤盘的近景视图。

图3是图2所示的刮具和烘烤盘的近景视图。

图4是烘烤盘的表面的近景视图，其示出了特征性华夫饼区域内的图形区域。

图5是根据图1至图4所示的设备生产的烤华夫饼片的视图。

图6是由图5所示的烤华夫饼片制成的华夫饼锥筒。

具体实施方式

转到附图，图1示出了根据本发明的用于自动制备烤华夫饼锥筒片的设备10，其包括烘烤站12，该烘烤站12包括沿顺时针方向(如箭头所示)旋转的具有对应的上烘烤盘16的一幅连续行进的烘烤盘14。还示出了释放站18，其包括刮具20以及斜面22。

华夫饼糊状物8通过管6沉积在烘烤盘14上。当华夫饼糊状物由烘烤站旋转而被携运时，上烘烤盘16向下移动以开始烘烤步骤。在华夫饼到达释放站18之前不久，上烘烤盘向上上升，使得烤华夫饼片可以上升到斜面22上并由释放站18携带至锥筒成形站19。

如图2所示，烘烤盘14沿箭头23的方向朝向刮具20行进。烘烤盘14具有带有平行凹槽第一阵列15的平面表面，这些平行凹槽也与烘烤盘的行进方向平行。烘烤盘还包括垂直于第一阵列15的平行凹槽第二阵列(在图2中不可见)。上烘烤盘16具有光滑表面(未示出)。

图3更详细地示出了刮具20，该刮具20包括多个齿24至47。可以看到，齿24至34沿着第一阵列15中的相应凹槽行进。

还可以看出，大多数齿之间的间隔是n，其中n是第一阵列中的凹槽之间的距离。还可以看出，相邻齿36和37之间以及38和39之间的间隔是2n。还可以看出，相邻齿37和38之间的间隔是3n。还可以看出，截短齿定位于齿36和37之间、齿37与38之间以及38和39之间。这些截短齿不沿着第一阵列中的凹槽行进，但是确实在将烤华夫饼可靠地抬升至斜面上提供了一些辅助。

图4示出了烘烤盘14的表面的近景图像并且示出了由特征性华夫饼区域包围的图形区域50，该特征性华夫饼区域由平行凹槽第一阵列15以及平行凹糟第二阵列17提供。

可以看出，图形区域50包括凹槽图案，以在所得华夫饼片中形成图形图像。在这种情况下，图形图像为商品名称Cornetto^TM。图形区域50还包含两个线性平行凹槽19，其与第一阵列15中的凹槽连续、在尺寸上相似并且共线。凹槽19之间的间隔为3n。

如上所述，刮具20的齿24至47沿着第一阵列15的线性平行凹槽行进。图4中示出的是图3所示的齿的附图标记，其沿着图4中所示的每个凹槽15行进。将注意到，凹槽15中的一些没有任何齿沿着行进。这是因为这些凹槽不连续，因为这些凹槽终止于与图形区域50的交界处。然而，存在这些凹槽以保持围绕图形区域50的特征性华夫饼图案。

在使用中，华夫饼糊状物(未示出)被沉积在烘烤站12处的烘烤盘表面上。然后，上烘烤盘16向下移动到烘烤盘14上并且开始对华夫饼糊状物的烘烤。一旦烘烤完成，就将上烘烤盘16提离。考虑到上烘烤盘的光滑表面，烤华夫饼片粘附到下烘烤盘14。

烘烤盘12然后移动到释放站18，随之，刮具20的齿与烤华夫饼片接触。刮具的齿在烤华夫饼片下方行进并开始将烤华夫饼片提升到刮具上并倾斜远离烘烤盘14。

鉴于图形区域包含齿37、38所通过的两个凹槽的事实，尽管图形区域的尺寸比较大，但是烤华夫饼片仍有效且可靠地从烘烤盘提起。

如此形成的烤华夫饼片如图5所示。形成为待填充冷冻甜食产品的锥筒的烤华夫饼片也示出在图6中。可以看出，清晰地示出了图形图像，考虑到仅两个凹槽穿过图形区域的事实，对所显示的图像几乎没有干扰。

Claims (10)

1.一种用于由华夫饼锥筒糊状物自动制备烤华夫饼锥筒片的设备，所述烤华夫饼锥筒片用于制备待填充有冷冻甜食产品的华夫饼锥筒，所述设备包括烘烤站，所述烘烤站包括多个烘烤盘位置，所述华夫饼锥筒糊状物待被沉积到所述多个烘烤盘位置上，每个烘烤盘位置均包括基本平面的烘烤表面，所述烘烤表面包括特征性华夫饼区域，所述特征性华夫饼区域包括平行线性凹槽第一阵列以由所述烤华夫饼片中的所得平行线性突起产生所述烤华夫饼片中的特征性华夫饼图案；

其中，每个烘烤盘位置还包括图形区域，所述图形区域位于所述特征性华夫饼区域内并且包括对应于图形图像的凹槽，并且还包括至少一个线性凹槽，每个线性凹槽与所述特征性华夫饼区域中的凹槽连续、在尺寸上相似并且共线，并且其中，所述图形区域中的凹槽间隔密度小于周围特征性华夫饼区域中的凹槽间隔密度。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述烘烤表面包括与所述第一阵列成一角度等间距间隔开延伸的平行线性凹槽第二阵列。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其中，所述第一阵列中的线性凹槽等间距间隔开。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述图形区域中存在的凹槽等间距间隔开。

5.根据权利要求3和权利要求4所述的设备，其中，所述图形区域中的所述凹槽的间隔是所述第一阵列中的间隔的两倍。

6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，释放站位于所述烘烤站之后，所述释放站包括刮具，所述刮具包括具有多个齿的斜面，所述齿被定尺寸为在所述第一阵列的所述凹槽内行进，所述斜面和齿与所述烘烤盘的所述表面成锐角对准，设置成使得随着所述刮具沿着所述烘烤盘通过所述烤华夫饼锥筒片从所述烘烤盘远离上升到所述斜面上，其中，所述刮具的所述齿被设置成仅行进通过所述第一阵列中的仅连续行进通过所述烘烤盘表面的凹槽。

7.根据权利要求3和权利要求6所述的设备，其中，所述刮具包括以n、2n和/或3n的距离间隔开的齿，其中，n是所述特征性华夫饼区域中的所述线性凹槽之间的间隔。

8.一种由华夫饼锥筒糊状物连续制造烤华夫饼片的方法，所述烤华夫饼片用于制备待填充有冷冻甜食产品的华夫饼锥筒，所述方法包括采用根据前述权利要求中任一项所述的设备，所述方法包括顺序地将所述华夫饼锥筒糊状物的一部分沉积到所述多个烘烤盘位置上以覆盖所述图形区域以及周围特征性华夫饼区域的一部分，进行烘烤操作以产生所述烤华夫饼片，其中，所述片包括围绕图形图像的特征性华夫饼图案。

9.一种烤华夫饼片，其用作冷冻甜食产品的组成部分，所述片具有外表面，所述外表面包括烤华夫饼材料的平行线性突起第一阵列以形成特征性华夫饼图案，并且包括图形区域，所述图形区域位于所述特征性华夫饼图案内并且包括形成图形表示的烤华夫饼材料的升高部分，所述图形区域包括烤华夫饼材料的平行线性突起，其与所述特征性华夫饼图案的升高突起连续、在尺寸上相似并且共线，但是间隔密度小于所述特征性华夫饼图案中的间隔密度。

10.根据权利要求9所述的烤华夫饼片，其被形成为锥筒形状以用作冷冻甜食产品的组成部分，所述华夫饼锥筒具有基本光滑的内表面。

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