CN112831764B - 一种离心绑定ito旋转靶材的方法 - Google Patents

一种离心绑定ito旋转靶材的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112831764B
CN112831764B CN202011603040.7A CN202011603040A CN112831764B CN 112831764 B CN112831764 B CN 112831764B CN 202011603040 A CN202011603040 A CN 202011603040A CN 112831764 B CN112831764 B CN 112831764B
Authority
CN
China
Prior art keywords
tube
ito
ito target
binding
target tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202011603040.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112831764A (zh
Inventor
郑保昌
史伟
卫义成
钟雪琴
欧阳光华
万如意
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hunan Kosen New Material Co ltd
Original Assignee
Hunan Kosen New Material Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hunan Kosen New Material Co ltd filed Critical Hunan Kosen New Material Co ltd
Priority to CN202011603040.7A priority Critical patent/CN112831764B/zh
Publication of CN112831764A publication Critical patent/CN112831764A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112831764B publication Critical patent/CN112831764B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00—Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20—Recycling

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，属于ITO旋转靶材加工技术领域，该方法包括以下步骤：S1、预处理：对ITO靶管内壁和背管外表面进行金属化处理；S2、组装：将背管从电热管上方往下插入，以使背管插设在安装座顶面插槽内，并使安装座上的定位筒插设在背管内；将单节ITO靶管套在背管上，并使ITO靶管插设在安装座顶面插槽内，ITO靶管与背管之间设有间隙；S3、灌铟绑定：由下往上对单节ITO靶管进行逐步绑定。本发明通过转动离心，使得熔化后的铟将紧贴ITO靶管内壁，绑定率较好。

Description

一种离心绑定ITO旋转靶材的方法
技术领域
本发明涉及ITO旋转靶材加工技术领域，更具体地说，它涉及一种离心绑定ITO旋转靶材的方法。
背景技术
旋转靶材是磁控的靶材，主要应用于太阳能电池、建筑玻璃、汽车玻璃、半导体、平板电视等领域。靶材为圆筒型，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动。ITO是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透明性，可以切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。因此，铟锡氧化物通常喷涂在玻璃、塑料及电子显示屏上，用作透明导电薄膜，同时减少对人体有害的电子辐射及紫外、红外。
由于旋转靶材为圆筒状，套在背管外，两者之间的缝隙不大，因此在缝隙中灌注铟，比较困难，易造成空隙，绑定率不够稳定。另一个方面，液态铟在流动中，容易产生氧化物，这些氧化物夹在铟层中，会造成电阻升高，使用时，容易出现局部过热等问题。也会影响两者之间的结合以及绑定率。而在旋转靶材的绑定中，很难清理缝隙中的氧化物。
有鉴于此，本发明提供一种新型的离心绑定ITO旋转靶材的方法。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种离心绑定ITO旋转靶材的方法。
为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：
一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，包括以下步骤：
S1、预处理
对ITO靶管内壁和背管外表面进行金属化处理；
S2、组装
将背管从电热管上方往下插入，以使背管插设在安装座顶面插槽内，并使安装座上的定位筒插设在背管内；将单节ITO靶管套在背管上，并使ITO靶管插设在安装座顶面插槽内，ITO靶管与背管之间设有间隙；
S3、灌铟绑定
通过电热管对ITO靶管和背管进行加热，待加热到160-170℃，将熔化的铟灌入ITO靶管与背管之间的间隙中；将压环从背管上方套入，以使压环压在ITO靶管顶面，压环内径与背管外径相同；将限位块插在连接杆上，连接杆下端固定在安装座上，推动限位块直至限位块与背管外表面接触，调节限位块上下位置，以使限位块底面与压环顶面抵紧，然后再通过螺栓将限位块与连接杆固定；将固定板盖设在背管和电热管顶部，以使固定板支撑在连接杆上的支撑环上，背管插设在固定板底部凹槽中，电热管插设在固定板底部限位槽中，连接杆穿过固定板；然后在连接杆上端拧紧螺母，以使固定板通过连接杆限位在螺母和支撑环之间；启动电机并停止加热，以通过安装座带动ITO靶管、背管、固定板旋转，直至间隙内充满液态铟；待铟降温凝固后，进行下一节ITO靶管的绑定，以由下往上对单节ITO靶管进行逐步绑定。
进一步优选为：下一节ITO靶管的绑定过程如下：
将所述固定板和所述限位块拆下，并将所述压环取出，然后依次套上密封圈和待绑定的ITO靶管，以使密封圈抵紧在绑定好ITO靶管和待绑定ITO靶管之间；然后重复步骤S3，对待绑定ITO靶管进行灌铟绑定。
进一步优选为：所述密封圈为纯铜密封圈且厚度为0.35-0.4mm。
进一步优选为：所述ITO靶管内壁金属化处理过程如下：
在所述ITO靶管外表面及两侧端面贴透明耐高温胶带，然后放入管式加热炉加热，炉温度设定160-170℃；铟加热到165-175℃变成液体后，涂布在ITO靶管内壁，以使ITO靶管内壁形成一厚度为0.1-0.2mm的铟层。
进一步优选为：所述背管外表面金属化处理过程如下：
在所述背管内插设加热管，然后水平放置于操作台上，将所述背管端部用耐高温胶带密封，然后将背管加热至160-170℃；铟加热到165-175℃变成液体后，涂布在所述背管外表面，以使所述背管外表面形成一厚度为0.1-0.2mm的铟层。
进一步优选为：所述间隙宽度为1.0-1.2mm。
进一步优选为：单节ITO靶管长度在200-1500mm范围，旋转靶材总长不小于3m。
进一步优选为：待所述ITO靶管全部绑定完成后，将所述固定板和所述限位块拆下，并将所述压环取出，然后将绑定后的ITO旋转靶材取出，去除外部附着物，清洁表面，即得。
进一步优选为：所述安装座下方固定有支撑座和连接座，所述连接座固定在所述支撑座和所述安装座之间，所述连接座为圆柱状且中心轴与所述背管中心轴相同，所述连接座圆周表面为齿面，所述连接座一侧设置有齿轮，所述齿轮与所述齿面啮合设置，所述电机输出轴上固定有转动轴，所述转动轴轴向方向与所述背管轴向方向一致，以使所述电机启动时，所述齿轮带动所述连接座绕其中心轴转动。
进一步优选为：所述支撑座下方支撑有支腿，所述支撑座底面开设有一圈圆环状的滑槽，所述滑槽圆心位于所述连接座中心轴上，所述支腿上端嵌在所述滑槽内且与所述滑槽滑动配合。
综上所述，本发明具有以下有益效果：本发明先对ITO靶管内壁和背管外表面进行金属化处理，主要作用就是使ITO靶管内部金属化，且各处金属化物理、化学性质一致，使得最后溅射过程中镀设成膜的效果好，便于灌铟绑定。ITO靶管内壁和背管外表面进行金属化处理完成后，再将ITO靶管和背管组装在安装座上，对于长旋转靶而言，由于背管较长，因此若将多节ITO靶管一次绑定在背管上，容易造成背管变形，良品率低，为此本发明采用ITO靶管由下至上逐节绑定的方式，先绑定最下节ITO靶管，再由下往上绑定，以提高焊合率，提高产品质量。为了让熔化后的铟完全填充间隙，熔化后的铟在保温下进行浇筑，浇筑后再启动电机并停止加热，如此一来，在离心力的作用下，熔化后的铟将紧贴ITO靶管内壁，绑定率较好。另外，需要说明的是，为了减少孔隙率，可先在保温下转动几分钟，然后向间隙中补铟，此时再重新转动并停止加热。
附图说明
图1是实施例的结构示意图，主要用于体现ITO靶管和背管的组装结构及灌铟绑定时ITO靶管和背管的结构；
图2是实施例的剖视示意图，主要用于体现限位块与连接杆的配合结构。
图中，1、支腿；2、电机；3、支撑座；4、连接杆；5、背管；6、电热管；7、间隙；8、固定板；9、限位块；10、密封圈；11、定位筒；12、压环；13、ITO靶管；14、腰形孔；15、安装孔；16、滑孔；17、插槽；18、支撑环；19、螺母；20、提手；21、凹槽；22、限位槽；23、转动轴；24、齿轮；25、齿面；26、连接座；27、安装座。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明进行详细描述。
实施例：一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，如图1-2所示，包括以下步骤：
S1、预处理
对ITO靶管13内壁和背管5外表面进行金属化处理，ITO靶管13和背管5均为圆筒状且ITO靶管13内径与背管5相适配。
ITO靶管13内壁金属化处理过程如下：
在ITO靶管13外表面及两侧端面贴透明耐高温胶带，然后放入管式加热炉加热，炉温度设定160-170℃；铟加热到165-175℃变成液体后，涂布在ITO靶管13内壁，且用弧型超声波枪头在ITO靶管13内壁移动，进行超声波注入，以使ITO靶管13内壁形成一厚度为0.1-0.2mm的铟层。
优选的，耐高温胶带采用耐高温PET材质制成，耐温大于230℃。
背管5外表面金属化处理过程如下：
在背管5内插设加热管，然后将其水平放置于操作台上，将背管5端部用耐高温胶带密封，然后将背管5加热至160-170℃；铟加热到165-175℃变成液体后，涂布在背管5外表面，且用弧型超声波枪头在ITO靶管13内壁移动，进行超声波注入，以使背管5外表面形成一厚度为0.1-0.2mm的铟层。
S2、组装
将背管5从电热管6上方往下插入，以使背管5插设在安装座27顶面插槽17内，并使安装座27上的定位筒11插设在背管5内，定位筒11外径与背管5内径相同，以使定位筒11与背管5内壁紧贴。本发明采用ITO靶管13由下至上逐节绑定的方式，因此先绑定最下节ITO靶管13。最下节ITO靶管13组装绑定时，先将单节ITO靶管13套在背管5上，并使最下节ITO靶管13插设在安装座27顶面插槽17内，插槽17为圆环状且外径与ITO靶管13外径相同，以使ITO靶管13插设在插槽17内时，ITO靶管13与插槽17内壁接触。插槽17为圆环状且饶设在定位筒11外侧四周，ITO靶管13与背管5之间设有用于液态铟浇筑填充的间隙7，间隙7宽度为1.0-1.2mm。ITO靶管13套在背管5上后，电热管6、定位筒11、背管5和ITO靶管13将由内而外依次设置。
S3、灌铟绑定
通过电热管6对ITO靶管13和背管5进行加热，待加热到160-170℃，将熔化的铟灌入ITO靶管13与背管5之间的间隙7中。待间隙7中布满熔化的铟后，将压环12从背管5上方套入，以使压环12压在ITO靶管13顶面，压环12内径与背管5外径相同。此时再将背管5相对两侧的限位块9依次插在连接杆4上，连接杆4下端固定在安装座27上。限位块9上开设有滑孔16，滑孔16上下贯穿限位块9，滑孔16在靠近背管5一侧为开口设置，限位块9插入连接杆4时，只需将连接杆4置于滑孔16开口处，然后推动限位块9直至限位块9与背管5外表面接触，此时连接杆4与滑孔16内壁接触。限位块9上开设有腰型孔，腰型孔长度方向与连接杆4长度方向相同，连接杆4外侧开设有安装孔15。当限位块9与背管5外表面接触后，调节限位块9上下位置，以使限位块9底面与压环12顶面抵紧，腰型孔与安装孔15将相对应，然后再通过螺栓将限位块9与连接杆4固定。优选的，腰型孔的设置主要为了螺栓能顺利且灵活的安装在腰型孔可安装孔15中，以使连接杆4和限位块9通过螺栓固定，便于调整限位块9上下位置，从而限位块9能紧紧抵紧在压环12上，便于转动。ITO靶管13通过限位块9限位固定后，将固定板8盖设在背管5和电热管6顶部，以使固定板8支撑在连接杆4上的支撑环18上，背管5插设在固定板8底部凹槽21中，电热管6插设在固定板8底部限位槽22中，连接杆4穿过固定板8。然后在连接杆4上端拧紧螺母19，以使固定板8通过连接杆4限位在螺母19和支撑环18之间，连接杆4和背管5平行设置，连接杆4位于背管5外部的相对两侧。最后启动电机2并停止加热，以通过安装座27带动ITO靶管13、背管5、固定板8旋转，直至间隙7内充满液态铟(熔化后的铟)；待铟降温凝固后，进行下一节ITO靶管13的绑定，以由下往上对单节ITO靶管13进行逐步绑定。
下一节ITO靶管13的绑定过程如下：
将固定板8和限位块9拆下，并将压环12取出，然后依次套上密封圈10和待绑定的ITO靶管13，以使密封圈10抵紧在绑定好ITO靶管13和待绑定ITO靶管13之间；然后重复步骤S3，对待绑定ITO靶管13进行灌铟绑定。
优选的，固定板8顶部中心固定有提手20，固定板8拆下时，先将连接杆4上端的螺母19拧掉，然后再通过提手20将固定板8拆下。
优选的，密封圈10为纯铜密封圈且厚度为0.35-0.4mm。
优选的，单节ITO靶管13长度在200-1500mm范围，旋转靶材总长不小于3m。ITO靶管13和背管5尺寸具体视要求而定。
待ITO靶管13全部绑定完成后，即最上节ITO靶管13绑定完成后，将固定板8和限位块9拆下，并将压环12取出，然后将绑定后的ITO旋转靶材取出，去除外部附着物，清洁表面，即得最终产品。
优选的，安装座27下方固定有支撑座3和连接座26，连接座26固定在支撑座3和安装座27之间，连接座26为圆柱状且中心轴与插设在安装座27上的背管5中心轴相同。连接座26圆周表面为齿面25，连接座26一侧设置有齿轮24，齿轮24与齿面25啮合设置，电机2输出轴上固定有转动轴23，转动轴23轴向方向与背管5轴向方向一致。电机2位于支撑座3外侧，转动轴23下端与电机2输出轴固定，上端与齿轮24中心固定，如此一来，电机2启动时，齿轮24带动连接座26绕其中心轴转动。
优选的，为了使安装座27、支撑座3、连接座26以及安装座27上方的背管5、ITO靶管13、固定板8、连接杆4等部件能同时绕连接座26中心轴转动，具体的，支撑座3下方支撑有支腿1，支撑座3底面开设有一圈圆环状的滑槽，滑槽圆心位于连接座26中心轴上，支腿1上端嵌在滑槽内且与滑槽滑动配合。支腿1设置有多个，优选为，支腿1设置有两个，两个支腿1分别位于支撑座3的相对两侧。
本发明先对ITO靶管13内壁和背管5外表面进行金属化处理，主要作用就是使ITO靶管13内部金属化，且各处金属化物理、化学性质一致，使得最后溅射过程中镀设成膜的效果好，便于灌铟绑定。ITO靶管13内壁和背管5外表面进行金属化处理完成后，再将ITO靶管13和背管5组装在安装座27上，对于长旋转靶而言，由于背管5较长，因此若将多节ITO靶管13一次绑定在背管5上，容易造成背管5变形，良品率低，为此本发明采用ITO靶管13由下至上逐节绑定的方式，先绑定最下节ITO靶管13，再由下往上绑定，以提高焊合率，提高产品质量。为了让熔化后的铟完全填充间隙7，熔化后的铟在保温下进行浇筑，浇筑后再启动电机2并停止加热，如此一来，在离心力的作用下，熔化后的铟将紧贴ITO靶管13内壁，绑定率较好。另外，需要说明的是，为了减少孔隙率，可先在保温下转动几分钟，然后向间隙7中补铟，此时再重新转动并停止加热。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和修饰，这些改进和修饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1、预处理
对ITO靶管(13)内壁和背管(5)外表面进行金属化处理；
S2、组装
将背管(5)从电热管(6)上方往下插入，以使背管(5)插设在安装座(27)顶面插槽(17)内，并使安装座(27)上的定位筒(11)插设在背管(5)内；将单节ITO靶管(13)套在背管(5)上，并使ITO靶管(13)插设在安装座(27)顶面插槽(17)内，ITO靶管(13)与背管(5)之间设有间隙(7)；
S3、灌铟绑定
通过电热管(6)对ITO靶管(13)和背管(5)进行加热，待加热到160-170℃，将熔化的铟灌入ITO靶管(13)与背管(5)之间的间隙(7)中；将压环(12)从背管(5)上方套入，以使压环(12)压在ITO靶管(13)顶面，压环(12)内径与背管(5)外径相同；将限位块(9)插在连接杆(4)上，连接杆(4)下端固定在安装座(27)上，推动限位块(9)直至限位块(9)与背管(5)外表面接触，调节限位块(9)上下位置，以使限位块(9)底面与压环(12)顶面抵紧，然后再通过螺栓将限位块(9)与连接杆(4)固定；将固定板(8)盖设在背管(5)和电热管(6)顶部，以使固定板(8)支撑在连接杆(4)上的支撑环(18)上，背管(5)插设在固定板(8)底部凹槽(21)中，电热管(6)插设在固定板(8)底部限位槽(22)中，连接杆(4)穿过固定板(8)；然后在连接杆(4)上端拧紧螺母(19)，以使固定板(8)通过连接杆(4)限位在螺母(19)和支撑环(18)之间；启动电机(2)并停止加热，以通过安装座(27)带动ITO靶管(13)、背管(5)、固定板(8)旋转，直至间隙(7)内充满液态铟；待铟降温凝固后，进行下一节ITO靶管(13)的绑定，以由下往上对单节ITO靶管(13)进行逐步绑定；
所述安装座(27)下方固定有支撑座(3)和连接座(26)，所述连接座(26)固定在所述支撑座(3)和所述安装座(27)之间，所述连接座(26)为圆柱状且中心轴与所述背管(5)中心轴相同，所述连接座(26)圆周表面为齿面(25)，所述连接座(26)一侧设置有齿轮(24)，所述齿轮(24)与所述齿面(25)啮合设置，所述电机(2)输出轴上固定有转动轴(23)，所述转动轴(23)轴向方向与所述背管(5)轴向方向一致，以使所述电机(2)启动时，所述齿轮(24)带动所述连接座(26)绕其中心轴转动。
2.根据权利要求1所述的一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，其特征在于：下一节ITO靶管(13)的绑定过程如下：
将所述固定板(8)和所述限位块(9)拆下，并将所述压环(12)取出，然后依次套上密封圈(10)和待绑定的ITO靶管(13)，以使密封圈(10)抵紧在绑定好ITO靶管(13)和待绑定ITO靶管(13)之间；然后重复步骤S3，对待绑定ITO靶管(13)进行灌铟绑定。
3.根据权利要求2所述的一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，其特征在于：所述密封圈(10)为纯铜密封圈且厚度为0.35-0.4mm。
4.根据权利要求1所述的一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，其特征在于：所述ITO靶管(13)内壁金属化处理过程如下：
在所述ITO靶管(13)外表面及两侧端面贴透明耐高温胶带，然后放入管式加热炉加热，炉温度设定160-170℃；铟加热到165-175℃变成液体后，涂布在ITO靶管(13)内壁，以使ITO靶管(13)内壁形成一厚度为0.1-0.2mm的铟层。
5.根据权利要求1所述的一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，其特征在于：所述背管(5)外表面金属化处理过程如下：
在所述背管(5)内插设加热管，然后水平放置于操作台上，将所述背管(5)端部用耐高温胶带密封，然后将背管(5)加热至160-170℃；铟加热到165-175℃变成液体后，涂布在所述背管(5)外表面，以使所述背管(5)外表面形成一厚度为0.1-0.2mm的铟层。
6.根据权利要求1所述的一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，其特征在于：所述间隙(7)宽度为1.0-1.2mm。
7.根据权利要求1所述的一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，其特征在于：单节ITO靶管(13)长度在200-1500mm范围，旋转靶材总长不小于3m。
8.根据权利要求1所述的一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，其特征在于：待所述ITO靶管(13)全部绑定完成后，将所述固定板(8)和所述限位块(9)拆下，并将所述压环(12)取出，然后将绑定后的ITO旋转靶材取出，去除外部附着物，清洁表面，即得。
9.根据权利要求1所述的一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，其特征在于：所述支撑座(3)下方支撑有支腿(1)，所述支撑座(3)底面开设有一圈圆环状的滑槽，所述滑槽圆心位于所述连接座(26)中心轴上，所述支腿(1)上端嵌在所述滑槽内且与所述滑槽滑动配合。
CN202011603040.7A 2020-12-30 2020-12-30 一种离心绑定ito旋转靶材的方法 Active CN112831764B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011603040.7A CN112831764B (zh) 2020-12-30 2020-12-30 一种离心绑定ito旋转靶材的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011603040.7A CN112831764B (zh) 2020-12-30 2020-12-30 一种离心绑定ito旋转靶材的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112831764A CN112831764A (zh) 2021-05-25
CN112831764B true CN112831764B (zh) 2023-04-28

Family

ID=75925257

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011603040.7A Active CN112831764B (zh) 2020-12-30 2020-12-30 一种离心绑定ito旋转靶材的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112831764B (zh)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9765271B2 (en) * 2012-06-27 2017-09-19 James J. Myrick Nanoparticles, compositions, manufacture and applications
CN110423991A (zh) * 2019-07-25 2019-11-08 安捷睿（厦门）机器人有限公司 一种靶材绑定设备
CN110373647B (zh) * 2019-08-21 2020-06-19 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 一种长管旋转靶绑定方法
CN110373643B (zh) * 2019-08-21 2020-07-03 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 一种ito旋转靶绑定方法
CN210506501U (zh) * 2019-08-21 2020-05-12 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 一种ito旋转靶绑定设备
CN112080727B (zh) * 2020-09-11 2021-04-23 芜湖映日科技股份有限公司 一种旋转靶材的绑定方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN112831764A (zh) 2021-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112725753B (zh) 一种一次离心绑定多节ito旋转靶材的方法
CN110373643B (zh) 一种ito旋转靶绑定方法
CN108570652B (zh) 一种可承受高功率溅射的旋转靶材及其制备方法
CN112831764B (zh) 一种离心绑定ito旋转靶材的方法
CN110204185B (zh) 一种石英管真空封口方法及石英管真空封口设备
CN213570610U (zh) 一种均匀受热的机械热处理炉
CN112080727B (zh) 一种旋转靶材的绑定方法
CN110747438B (zh) 一种高贴合强度旋转靶材的绑定方法
CN108950509A (zh) 一种行星式三级齿轮传动刀片夹具装置
CN215925059U (zh) 一种用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置
CN115364716A (zh) 一种藕粉预糊化抗性提升装置
CN116060228A (zh) 全闭环自动化控制的热喷涂燃料喷涂控制系统及控制方法
CN103745756A (zh) 核反应堆压力容器o型密封环的生产工艺及其产品
CN220238382U (zh) 一种薄荷原油均匀热熔设备
CN204825118U (zh) 具有翻转装置的拉晶炉
CN216397778U (zh) 一种新型双工位封管机
CN110670026A (zh) 一种带有调节功能oled蒸镀源及其使用方法
CN219905485U (zh) 具有双重加热功能型的沥青储罐
CN219664826U (zh) 一种用于热煨弯管的加热装置
CN219121037U (zh) 一种电子元器件用的银浆制备烧结装置
CN117066451B (zh) 一种发热盘及其生产装置以及生产工艺
CN217202842U (zh) 一种轮状高频淬火用夹具
CN220746053U (zh) 一种用于不锈钢材料表面的高温镀膜装置
CN220867495U (zh) 一种使工件均匀受热的真空镀膜设备
CN109554676B (zh) 薄膜制备系统一体化加热装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant