CN112827951A - 一种半导体炉管的清洗方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种半导体炉管的清洗方法，使用的装置包括支撑机构，所述支撑机构内侧设置有用于对半导体炉管进行支撑转动的转动机构，所述转动机构上侧设置有对半导体炉管内外壁进行清洗的清洗机构，所述转动机构、所述清洗机构一侧设置有提供动力的动力机构，所述动力机构与所述转动机构、所述清洗机构连接，所述转动机构、所述清洗机构与所述支撑机构连接。本发明通过动力机构动力的传递带动转动机构对半导体炉管的转动，以及清洗机构的外清洗管、内清洗管的同步移动，使半导体炉管在转动的同时对内外壁进行同步清洗，提高了清洗的效率和质量，简化了清洗过程。
Description
技术领域
本发明涉及半导体炉管技术领域，特别是涉及一种半导体炉管的清洗方法。
背景技术
随着工业科技的发展，半导体晶圆对制造洁净度的要求越来越高，与晶圆直接接触的炉管的洁净度的要求也随之提高，所以需要对炉管进行清洁处理，目前的炉管清洗设备操作复杂，需要对炉管内外壁进行分步清洗，造成清洗效率低，实用性差。
发明内容
本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种半导体炉管的清洗设备及其使用方法。
本发明通过以下技术方案来实现上述目的：
一种半导体炉管的清洗方法，使用的装置，包括支撑机构，所述支撑机构内侧设置有用于对半导体炉管进行支撑转动的转动机构，所述转动机构上侧设置有对半导体炉管内外壁进行清洗的清洗机构，所述转动机构、所述清洗机构一侧设置有提供动力的动力机构，所述动力机构与所述转动机构、所述清洗机构连接，所述转动机构、所述清洗机构与所述支撑机构连接；
所述支撑机构包括箱体，所述箱体内侧上方设置有清洗腔，所述清洗腔下侧设置有过滤板，所述过滤板下侧设置有储液腔，所述清洗腔前侧设置有箱门，所述箱体前壁上设置有控制面板；
所述转动机构包括第一转轴、第二转轴，所述第一转轴、所述第二转轴外径上间隔均匀设置有托辊，所述第一转轴、所述第二转轴位于所述清洗腔内侧；
所述清洗机构包括移动机构，所述移动机构上设置有两处固定架，一处所述固定架下侧连接有外清洗管，另一处所述固定架上设置有连接管，所述连接管末端设置有内清洗管，所述外清洗管、所述内清洗管处于同一垂直面上，所述外清洗管内壁、所述内清洗管外壁上均间隔设置有喷头，所述连接管、所述外清洗管上通过软管连接有抽吸泵，所述抽吸泵位于所述储液腔内；
所述动力机构包括驱动电机，所述驱动电机输出端设置有主链轮，所述主链轮下侧位于所述第一转轴上设置有第一双链轮、所述第二转轴上设置有第二双链轮，所述移动机构上连接有副链轮；
清洗方法,包括以下几个步骤：
a、将半导体炉管放置在第一转轴、第二转轴上的托辊上，关闭箱门，开启设备；
b、通过驱动电机带动主链轮、第一双链轮、第二双链轮、副链轮间进行动力传递，使转动机构的第一转轴、第二转轴同向转动，将托辊上的半导体炉管进行旋转，同时通过移动机构的丝杠转动，带动固定架上的外清洗管、内清洗管向一侧移动；
c、抽吸泵将储液腔内的清洗液抽送入外清洗管、内清洗管通过喷头喷向半导体炉管内外壁，随着半导体炉管转动的同时，外清洗管、内清洗管同时移动，对内外壁进行同步清洗；
d、清洗一段时间后，关闭抽吸泵，将半导体炉管取出。
优选地，本发明的半导体炉管的清洗方法，所述移动机构包括第一滑块，所述第一滑块上穿设有丝杠、光杠，所述丝杠与所述第一滑块螺纹连接，所述光杠与所述第一滑块滑动连接。
优选地，本发明的半导体炉管的清洗方法，所述移动机构包括第二滑块，所述第二滑块上穿设有丝杠，所述第二滑块后端设置有导轨，所述第二滑块与所述丝杠螺纹连接，所述第二滑块与所述导轨滑动连接。
优选地，本发明的半导体炉管的清洗方法，所述箱门中间部位设置有可视窗，所述箱门与所述箱体滑动连接，所述箱门前端设置有把手。
优选地，本发明的半导体炉管的清洗方法，其特征在于,所述第一转轴、所述第二转轴处于同一水平线上，所述第一转轴、所述第二转轴与所述箱体转动连接。
优选地，本发明的半导体炉管的清洗方法，所述外清洗管呈上半圆弧状，所述内清洗管呈圆状。
优选地，本发明的半导体炉管的清洗方法，所述第一转轴与所述第一双链轮键连接，所述第二转轴与所述第二双链轮键连接，所述第一双链轮与所述主链轮、所述第一双链轮与所述第二双链轮、所述第二双链轮与所述副链轮间均设置有链条。
优选地，本发明的半导体炉管的清洗方法，所述丝杠与所述副链轮键连接，所述丝杠与所述箱体转动连接。
优选地，本发明的半导体炉管的清洗方法，所述箱体一侧位于所述连接管一侧设置有通槽，所述连接管与所述箱体滑动连接。
与现有技术相比，本发明的有益效果如下：
通过动力机构动力的传递带动转动机构对半导体炉管的转动，以及清洗机构的外清洗管、内清洗管的同步移动，使半导体炉管在转动的同时对内外壁进行同步清洗，提高了清洗的效率和质量，简化了清洗过程。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明所述一种半导体炉管的清洗设备的第一结构示意图；
图2是本发明所述一种半导体炉管的清洗设备的第二结构示意图；
图3是本发明所述一种半导体炉管的清洗设备的实施例1的右视结构示意图；
图4是本发明所述一种半导体炉管的清洗设备的清洗机构的局部结构示意图；
图5是本发明所述一种半导体炉管的清洗设备的动力机构的结构示意图；
图6是本发明所述一种半导体炉管的清洗设备的箱体的内部局部结构示意图；
图7是本发明所述一种半导体炉管的清洗设备的实施例1的移动机构的结构示意图；
图8是本发明所述一种半导体炉管的清洗设备的实施例2的移动机构的结构示意图。
附图标记说明如下：
1、支撑机构；11、箱体；12、清洗腔；13、箱门；14、控制面板；15、储液腔；16、可视窗；17、过滤板；2、转动机构；21、第一转轴；22、第二转轴；23、托辊；3、清洗机构；31、移动机构；311、第一滑块；312、丝杠；313、光杠；314、第二滑块；315、导轨；32、固定架；33、外清洗管；34、连接管；35、内清洗管；36、抽吸泵；4、动力机构；41、驱动电机；42、主链轮；43、第一双链轮；44、第二双链轮；45、副链轮；5、半导体炉管。
具体实施方式
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面结合附图对本发明作进一步说明：
实施例1
如图1-图7所示，一种半导体炉管的清洗设备，包括支撑机构1，支撑机构1内侧设置有用于对半导体炉管5进行支撑转动的转动机构2，转动机构2上侧设置有对半导体炉管5内外壁进行清洗的清洗机构3，转动机构2、清洗机构3一侧设置有提供动力的动力机构4，动力机构4与转动机构2、清洗机构3连接，转动机构2、清洗机构3与支撑机构1连接；
支撑机构1包括箱体11，箱体11内侧上方设置有清洗腔12，清洗腔12下侧设置有过滤板17，对清洗后液体进行过滤，过滤板17下侧设置有储液腔15，储存清洗液，清洗腔12前侧设置有箱门13，箱体11前壁上设置有控制面板14；
转动机构2包括第一转轴21、第二转轴22，第一转轴21、第二转轴22外径上间隔均匀设置有托辊23，对半导体炉管5进行转动支撑，第一转轴21、第二转轴22位于清洗腔12内侧；
清洗机构3包括移动机构31，移动机构31上设置有两处固定架32，一处固定架32下侧连接有外清洗管33，另一处固定架32上设置有连接管34，连通固定内清洗管35，连接管34末端设置有内清洗管35，外清洗管33、内清洗管35处于同一垂直面上，外清洗管33内壁、内清洗管35外壁上均间隔设置有喷头，连接管34、外清洗管33上通过软管连接有抽吸泵36，抽吸泵36位于储液腔15内；
动力机构4包括驱动电机41，提供半导体炉管5转动和移动机构31移动动力，驱动电机41输出端设置有主链轮42，主链轮42下侧位于第一转轴21上设置有第一双链轮43、第二转轴22上设置有第二双链轮44，移动机构31上连接有副链轮45。
优选的：移动机构31包括第一滑块311，第一滑块311上穿设有丝杠312、光杠313，丝杠312与第一滑块311螺纹连接，光杠313与第一滑块311滑动连接，通过转动的丝杠312使第一滑块311在光杠313的支撑下进行定向移动，使外清洗管33、内清洗管35移动；箱门13中间部位设置有可视窗16，箱门13与箱体11滑动连接，箱门13前端设置有把手，便于对半导体炉管5的取放，同时通过可视窗16便于对清洗过程进行观察；第一转轴21、第二转轴22处于同一水平线上，第一转轴21、第二转轴22与箱体11转动连接，使第一转轴21、第二转轴22对半导体炉管5进行稳定的支撑；外清洗管33呈上半圆弧状，内清洗管35呈圆状，便于通过外清洗管33、内清洗管35对半导体炉管5进行内外壁同时清洗；第一转轴21与第一双链轮43键连接，第二转轴22与第二双链轮44键连接，第一双链轮43与主链轮42、第一双链轮43与第二双链轮44、第二双链轮44与副链轮45间均设置有链条，使驱动电机41的动力通过链条传递带动第一转轴21、第二转轴22、丝杠312进行转动，使半导体炉管5的转动与清洗同步进行；丝杠312与副链轮45键连接，丝杠312与箱体11转动连接，保证丝杠312的动力的稳定传递；箱体11一侧位于连接管34一侧设置有通槽，连接管34与箱体11滑动连接，便于连接管34对内清洗管35的移动支撑。
进一步，第一双链轮432与第二双链轮44均为椭圆形链轮，且两个椭圆形链轮的长轴相互垂直，同时，第一转轴21与第二转轴22的远离第一双链轮432与第二双链轮44的一端通过万向节固定(以使得第一转轴21与第二转轴22因为椭圆形链轮转动而发生起伏时，另一端能够适应性地转动，第一双链轮432与第二双链轮44的长轴与短轴的长度差应当小于10cm，以防止半导体炉管碰起伏过高而滑动，同时还可提高托辊23的摩擦力，托辊23使用耐腐蚀的橡胶材料)。需要说明的是，应当设置好外清洗管33、内清洗管35与半导体炉管的距离，以防止半导体炉管碰撞而损坏。
实施例2
如图1、图2、图4-图6、图8所示，一种半导体炉管的清洗设备，包括支撑机构1，支撑机构1内侧设置有用于对半导体炉管5进行支撑转动的转动机构2，转动机构2上侧设置有对半导体炉管5内外壁进行清洗的清洗机构3，转动机构2、清洗机构3一侧设置有提供动力的动力机构4，动力机构4与转动机构2、清洗机构3连接，转动机构2、清洗机构3与支撑机构1连接；
支撑机构1包括箱体11，箱体11内侧上方设置有清洗腔12，清洗腔12下侧设置有过滤板17，对清洗后液体进行过滤，过滤板17下侧设置有储液腔15，储存清洗液，清洗腔12前侧设置有箱门13，箱体11前壁上设置有控制面板14；
转动机构2包括第一转轴21、第二转轴22，第一转轴21、第二转轴22外径上间隔均匀设置有托辊23，对半导体炉管5进行转动支撑，第一转轴21、第二转轴22位于清洗腔12内侧；
清洗机构3包括移动机构31，移动机构31上设置有两处固定架32，一处固定架32下侧连接有外清洗管33，另一处固定架32上设置有连接管34，连通固定内清洗管35，连接管34末端设置有内清洗管35，外清洗管33、内清洗管35处于同一垂直面上，外清洗管33内壁、内清洗管35外壁上均间隔设置有喷头，连接管34、外清洗管33上通过软管连接有抽吸泵36，抽吸泵36位于储液腔15内；
动力机构4包括驱动电机41，提供半导体炉管5转动和移动机构31移动动力，驱动电机41输出端设置有主链轮42，主链轮42下侧位于第一转轴21上设置有第一双链轮43、第二转轴22上设置有第二双链轮44，移动机构31上连接有副链轮45。
优选的：移动机构31包括第二滑块314，第二滑块314上穿设有丝杠312，第二滑块314后端设置有导轨315，第二滑块314与丝杠312螺纹连接，第二滑块314与导轨315滑动连接，通过转动的丝杠312使第二滑块314在导轨315的支撑下进行定向移动，使外清洗管33、内清洗管35移动；箱门13中间部位设置有可视窗16，箱门13与箱体11滑动连接，箱门13前端设置有把手，便于对半导体炉管5的取放，同时通过可视窗16便于对清洗过程进行观察；第一转轴21、第二转轴22处于同一水平线上，第一转轴21、第二转轴22与箱体11转动连接，使第一转轴21、第二转轴22对半导体炉管5进行稳定的支撑；外清洗管33呈上半圆弧状，内清洗管35呈圆状，便于通过外清洗管33、内清洗管35对半导体炉管5进行内外壁同时清洗；第一转轴21与第一双链轮43键连接，第二转轴22与第二双链轮44键连接，第一双链轮43与主链轮42、第一双链轮43与第二双链轮44、第二双链轮44与副链轮45间均设置有链条，使驱动电机41的动力通过链条传递带动第一转轴21、第二转轴22、丝杠312进行转动，使半导体炉管5的转动与清洗同步进行；丝杠312与副链轮45键连接，丝杠312与箱体11转动连接，保证丝杠312的动力的稳定传递；箱体11一侧位于连接管34一侧设置有通槽，连接管34与箱体11滑动连接，便于连接管34对内清洗管35的移动支撑。
一种半导体炉管的清洗设备的使用方法，包括以下几个步骤：
a、将半导体炉管5放置在第一转轴21、第二转轴22上的托辊23上，关闭箱门13，开启设备；
b、通过驱动电机41带动主链轮42、第一双链轮43、第二双链轮44、副链轮45间进行动力传递，使转动机构2的第一转轴21、第二转轴22同向转动，将托辊23上的半导体炉管5进行旋转，同时通过移动机构31的丝杠312转动，带动固定架32上的外清洗管33、内清洗管35向一侧移动；
c、抽吸泵36将储液腔15内的清洗液抽送入外清洗管33、内清洗管35通过喷头喷向半导体炉管5内外壁，随着半导体炉管5转动的同时，外清洗管33、内清洗管35同时移动，对内外壁进行同步清洗。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。
Claims (9)
1.一种半导体炉管的清洗方法，其特征在于,使用的装置，包括支撑机构(1)，所述支撑机构(1)内侧设置有用于对半导体炉管(5)进行支撑转动的转动机构(2)，所述转动机构(2)上侧设置有对半导体炉管(5)内外壁进行清洗的清洗机构(3)，所述转动机构(2)、所述清洗机构(3)一侧设置有提供动力的动力机构(4)，所述动力机构(4)与所述转动机构(2)、所述清洗机构(3)连接，所述转动机构(2)、所述清洗机构(3)与所述支撑机构(1)连接；
所述支撑机构(1)包括箱体(11)，所述箱体(11)内侧上方设置有清洗腔(12)，所述清洗腔(12)下侧设置有过滤板(17)，所述过滤板(17)下侧设置有储液腔(15)，所述清洗腔(12)前侧设置有箱门(13)，所述箱体(11)前壁上设置有控制面板(14)；
所述转动机构(2)包括第一转轴(21)、第二转轴(22)，所述第一转轴(21)、所述第二转轴(22)外径上间隔均匀设置有托辊(23)，所述第一转轴(21)、所述第二转轴(22)位于所述清洗腔(12)内侧；
所述清洗机构(3)包括移动机构(31)，所述移动机构(31)上设置有两处固定架(32)，一处所述固定架(32)下侧连接有外清洗管(33)，另一处所述固定架(32)上设置有连接管(34)，所述连接管(34)末端设置有内清洗管(35)，所述外清洗管(33)、所述内清洗管(35)处于同一垂直面上，所述外清洗管(33)内壁、所述内清洗管(35)外壁上均间隔设置有喷头，所述连接管(34)、所述外清洗管(33)上通过软管连接有抽吸泵(36)，所述抽吸泵(36)位于所述储液腔(15)内；
所述动力机构(4)包括驱动电机(41)，所述驱动电机(41)输出端设置有主链轮(42)，所述主链轮(42)下侧位于所述第一转轴(21)上设置有第一双链轮(43)、所述第二转轴(22)上设置有第二双链轮(44)，所述移动机构(31)上连接有副链轮(45)；
清洗方法,包括以下几个步骤：
a、将半导体炉管(5)放置在第一转轴(21)、第二转轴(22)上的托辊(23)上，关闭箱门(13)，开启设备；
b、通过驱动电机(41)带动主链轮(42)、第一双链轮(43)、第二双链轮(44)、副链轮(45)间进行动力传递，使转动机构(2)的第一转轴(21)、第二转轴(22)同向转动，将托辊(23)上的半导体炉管(5)进行旋转，同时通过移动机构(31)的丝杠(312)转动，带动固定架(32)上的外清洗管(33)、内清洗管(35)向一侧移动；
c、抽吸泵(36)将储液腔(15)内的清洗液抽送入外清洗管(33)、内清洗管(35)通过喷头喷向半导体炉管(5)内外壁，随着半导体炉管(5)转动的同时，外清洗管(33)、内清洗管(35)同时移动，对内外壁进行同步清洗；
d、清洗一段时间后，关闭抽吸泵(36)，将半导体炉管(5)取出。
2.根据权利要求1所述的半导体炉管的清洗方法，其特征在于,所述移动机构(31)包括第一滑块(311)，所述第一滑块(311)上穿设有丝杠(312)、光杠(313)，所述丝杠(312)与所述第一滑块(311)螺纹连接，所述光杠(313)与所述第一滑块(311)滑动连接。
3.根据权利要求1所述的半导体炉管的清洗方法，其特征在于,所述移动机构(31)包括第二滑块(314)，所述第二滑块(314)上穿设有丝杠(312)，所述第二滑块(314)后端设置有导轨(315)，所述第二滑块(314)与所述丝杠(312)螺纹连接，所述第二滑块(314)与所述导轨(315)滑动连接。
4.根据权利要求1所述的半导体炉管的清洗方法，其特征在于,所述箱门(13)中间部位设置有可视窗(16)，所述箱门(13)与所述箱体(11)滑动连接，所述箱门(13)前端设置有把手。
5.根据权利要求1所述的半导体炉管的清洗方法，其特征在于,所述第一转轴(21)、所述第二转轴(22)处于同一水平线上，所述第一转轴(21)、所述第二转轴(22)与所述箱体(11)转动连接。
6.根据权利要求1所述的半导体炉管的清洗方法，其特征在于,所述外清洗管(33)呈上半圆弧状，所述内清洗管(35)呈圆状。
7.根据权利要求1所述的半导体炉管的清洗方法，其特征在于,所述第一转轴(21)与所述第一双链轮(43)键连接，所述第二转轴(22)与所述第二双链轮(44)键连接，所述第一双链轮(43)与所述主链轮(42)、所述第一双链轮(43)与所述第二双链轮(44)、所述第二双链轮(44)与所述副链轮(45)间均设置有链条。
8.根据权利要求2或3所述的半导体炉管的清洗方法，其特征在于,所述丝杠(312)与所述副链轮(45)键连接，所述丝杠(312)与所述箱体(11)转动连接。
9.根据权利要求1所述的半导体炉管的清洗方法，其特征在于,所述箱体(11)一侧位于所述连接管(34)一侧设置有通槽，所述连接管(34)与所述箱体(11)滑动连接。
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2020
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| CN113294626B (zh) * | 2021-06-16 | 2022-09-23 | 邢京卫 | 一种水利工程用自走式水利管道清渣装置及其实施方法 |
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