CN112822829A - 一种x射线高压发生器曝光功率参数确定方法及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种X射线高压发生器曝光功率参数确定方法及装置，高压发生器内部功率器件的功率参数小于高压发生器实际所需功率器件功率参数，方法包括：接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数，曝光功率参数包括曝光时间和曝光电流；判断曝光功率参数是否满足预设限制，预设限制根据高压发生器内部的功率器件的预设短时过载参数确定；当曝光功率参数不满足预设限制，则重复接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数到判断曝光功率参数是否满足预设限制，直至曝光功率参数满足预设限制参数，得到目标曝光功率参数。通过实施本发明，降低了高压发生器内功率器件的性能要求，使器件选型更加容易，降低了X射线高压发生器的故障率。
Description
技术领域
本发明涉及高压发生器技术领域，具体涉及一种X射线高压发生器曝光功率参数确定方法及装置。
背景技术
数字化X射线摄影系统，由平板探测器，X射线管，X射线高压发生器，机架及图像处理软件等组成。X射线高压发生器作为数字化X射线摄影系统中的一个核心部件，设备的稳定性，故障率、成本也成为了整机厂商选型的考量因素。
高压发生器的各项性能指标和内部的功率器件有很大关系，功率器件的性能决定了发生器的最高指标。目前实际使用过程中为了满足高压发生器的特殊指标要求，需要选择高性能的功率器件，因此高压发生器的器件选型困难，且整机成本显著提高，并且针对不同用户的使用需求，也可能会损坏功率器件。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供了一种X射线高压发生器曝光功率参数确定方法及装置，以解决现有技术中器件选型困难，且整机成本显著提高，并且针对不同用户的使用需求，也可能会损坏功率器件的缺陷。
根据第一方面，本发明实施例提供一种X射线高压发生器曝光功率参数确定方法，所述高压发生器内部的功率器件的功率参数小于所述高压发生器实际所需功率器件的功率参数，所述方法包括如下步骤：接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数，所述曝光功率参数包括曝光时间和曝光电流；判断所述曝光功率参数是否满足预设限制，所述预设限制根据所述高压发生器内部的功率器件的预设短时过载参数确定；当所述曝光功率参数不满足所述预设限制，则重复所述接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数到判断所述曝光功率参数是否满足预设限制的步骤，直至所述曝光功率参数满足所述预设限制参数，得到目标曝光功率参数。
可选地，所述预设限制为：
y1≥aI1 2t2；
其中，y1为限制参数，a为参数，I1为曝光功率参数中的电流大小，t2为曝光时间。
可选地，所述方法还包括：判断当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔是否满足预设限制时长；当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长，则进行曝光；当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔不满足预设限制时长，则等待至与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长。
可选地，确定预设限制时长的方式，包括：判断上一次曝光时长是否超过第一预设时长；当上一次曝光时长超过第一预设时长，则将第二预设时长作为预设限制时长；当上一次曝光时长不超过第一预设时长，则将第三预设时长作为预设限制时长。
可选地，预设限制时长为：
其中，t1为预设限制时长，U为上一次曝光时的电压，I为上一次曝光时的电流，t为上一次曝光时的时间长度，P1为功率限制参数。
根据第二方面，本发明实施例提供一种X射线高压发生器曝光功率参数确定装置，所述高压发生器内部功率器件的功率参数小于所述高压发生器实际所需功率器件的功率参数，所述装置包括：参数接收模块，用于接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数，所述曝光功率参数包括曝光时间和曝光电流；第一判断模块，用于判断所述曝光功率参数是否满足预设限制，所述预设限制根据所述高压发生器内部的功率器件的预设短时过载参数确定；目标曝光功率参数确定模块，用于当所述曝光功率参数不满足所述预设限制，则重复所述接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数到判断所述曝光功率参数是否满足预设限制的步骤，直至所述曝光功率参数满足所述预设限制参数，得到目标曝光功率参数。
可选地，还包括：第二判断模块，用于判断当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔是否满足预设限制时长；曝光模块，用于当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长，则进行曝光；第一等待模块，用于当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔不满足预设限制时长，则等待至与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长。
可选地，第二判断模块，包括：第三判断模块，用于判断上一次曝光时长是否超过第一预设时长；第一预设限制时长确定模块，用于当上一次曝光时长超过第一预设时长，则将第二预设时长作为预设限制时长；第二预设限制时长确定模块，用于当上一次曝光时长不超过第一预设时长，则将第三预设时长作为预设限制时长。
根据第三方面，本发明实施例提供一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现第一方面或第一方面任一实施方式所述的X射线高压发生器曝光功率参数确定方法的步骤。
根据第三方面，本发明实施例提供一种存储介质，其上存储有计算机指令，该指令被处理器执行时实现第一方面或第一方面任一实施方式所述的X射线高压发生器曝光功率参数确定方法的步骤。
本发明技术方案，具有如下优点：
本实施例提供的X射线高压发生器曝光功率参数确定方法/装置，通过在X射线高压发生器曝光功率参数确定时，对曝光功率参数进行限制，使其能够在短时过载条件下进行正常工作，使得低性能的功率器件也能在短时过载参数限制下，正常完成高功率器件的工作，降低了高压发生器内功率器件的性能要求，从而使得器件选型更加容易，整机成本下降，而且由于参数限制，使得可能损坏功率器件的需求不被响应，降低了X射线高压发生器的故障率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例中X射线高压发生器曝光功率参数确定方法的一个具体示例的流程图；
图2为本发明实施例中X射线高压发生器曝光功率参数确定装置的一个具体示例原理框图；
图3为本发明实施例中电子设备的一个具体示例的原理框图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，还可以是两个元件内部的连通，可以是无线连接，也可以是有线连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
本实施例提供一种X射线高压发生器曝光功率参数确定方法，高压发生器内部功率器件的功率参数小于所述高压发生器实际所需功率器件的功率参数，如图1所示，包括如下步骤：
S101，接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数，曝光功率参数包括曝光时间和曝光电流。
示例性地，X射线高压发生器曝光功率参数包括曝光电压、曝光电流以及曝光时间，接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数的方式可以是接收用户在预定输入框内输入的参数信息或者接收用户旋转特定旋钮的信息，该旋钮信息表征具体的参数数值，本实施例对接收X射线高压发生器曝光功率参数的方式不做限定，本领域技术人员可以根据需要确定。
S102，判断曝光功率参数是否满足预设限制，预设限制根据高压发生器内部的功率器件的预设短时过载参数确定。
示例性地，短时过载参数表征功率器件进行短时过载时，在不损坏器件的条件下，能够承受的最大功率参数以及允许的过载时间。功率器件的发热量与I2t限值存在正向关系，此时的预设限制可以是满足以下公式：
y1≥aI1 2t2；
其中，y1为限制参数，可以预先根据实际设定，a为参数，具体大小和油箱里的高压二极管及逆变板的MOSFET的型号相关，可根据对应的规格书推算及实际测试验证，一般可以取1；I1为曝光功率参数中的电流大小，t2为曝光时间(过载时间)。
本实施例以二极管为例进行说明，如二极管实际所需功率参数需要满足最大1000mA的电流输出，理论上二极管需要支持1000mA的电流输出，因此对二极管的参数要求很高，选型困难。此时，在高压发生器中可以选取限值500mA的二极管，使限值500mA的二极管短时过载电流达到1000mA，此时，假设限制参数y1＝100(A2*ms)，a＝1，那么根据上述公式，曝光时间(过载时间)t2为100ms，也即限值500mA的二极管能够通过短时过载，实现最高1000mA的电流输出要求，且不损坏二极管。可以理解，通过上述公式可以实现当限值500mA的二极管需要满足800mA的电流输出时，其过载时间在156.25ms以内即可完成。功率器件还可以包括场效晶体管MOSFET。
判断曝光功率参数是否满足预设限制的方式可以是将曝光功率参数代入上述公式，判断结果是否满足等式要求，比如，接收到曝光电流以及曝光时间分别为1000mA，110ms，则显然不满足预设限制。
S103，当曝光功率参数不满足预设限制，则重复接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数到判断曝光功率参数是否满足预设限制的步骤，直至曝光功率参数满足预设限制参数，得到目标曝光功率参数。目标曝光功率参数表征满足预设限制参数条件的功率参数。
本实施例提供的X射线高压发生器曝光功率参数确定方法，通过在X射线高压发生器曝光功率参数确定时，对曝光功率参数进行限制，使其能够在短时过载条件下进行正常工作，使得低性能的功率器件也能在短时过载参数限制下，正常完成高功率器件的工作，降低了高压发生器内功率器件的性能要求，从而使得器件选型更加容易，整机成本下降，而且由于参数限制，使得可能损坏功率器件的需求不被响应，降低了X射线高压发生器的故障率。
作为本实施例一种可选的实施方式，所述方法还包括：
判断当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔是否满足预设限制时长；
示例性地，当得到了满足预设限制的目标曝光功率参数，则表示可以进入实际的曝光环节，此时可以自动进行曝光启动，也可以将得到目标曝光功率参数的信息反馈给用户，接受用户根据自身需求按下的曝光手闸信号，将曝光手闸信号作为曝光启动信号。但在实际进行曝光之前，需要判断当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔是否满足预设限制时长。预设限制时长可以是预设固定时长，比如20s；预设限制时长也可以对上次曝光时长进行限制，根据上次曝光时长预设的对应时间间隔确定，比如，当上次曝光时长超过3000ms时，预设限制时长为300S，当上次曝光时长不超过3000ms时，预设限制时长根据上次曝光的电压、电流以及时间确定得到；预设限制时长还可以是直接根据上次曝光的电压、电流以及时间确定得到。
预设限制时长根据上次曝光的电压、电流以及时间确定得到的具体方式可以是：
其中，t1为预设限制时长，U为上一次曝光时的电压，I为上一次曝光时的电流，t为上一次曝光时的时间长度，P1为功率限制参数，具体数值大小和油箱里的高压二极管及逆变板的MOSFET的型号相关，也和高压油箱的热容相关，可根据对应的规格书推算及实际测试验证。
比如，对于某一款医用X射线高压发生器，上一次曝光时的电压为80kv，上一次曝光时的电流为1000mA，上一次曝光时的时间长度100ms，功率限制参数为400(W/S)，那么预设限制时长为20S。
相比于设定预定时间间隔，根据上次曝光的电压、电流以及时间确定得到预设限制时长，使每次的预设限制时长更贴合X射线高压发生器的使用情况，在保证安全使用的条件下，还能够保证X射线高压发生器的使用效率。
当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长，则进行曝光；当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔不满足预设限制时长，则等待至与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长。
示例性地，以上述的预设限制时长为20秒为例进行说明，当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长，也即超过20秒，则可以进行曝光，当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔不超过20秒，则等待至超过20秒，超过20秒后，可以自动进行曝光启动，也可以将等待完成的信息反馈给用户，接受用户根据自身需求按下的曝光手闸信号，将曝光手闸信号作为曝光启动信号，重新执行判断当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔是否满足预设限制时长到当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长，则进行曝光的步骤。
本实施例提供的X射线高压发生器曝光功率参数确定方法，进一步在进行曝光之前，判断与上次曝光时间是否满足预设限制时长，当满足时才进行曝光，使得X射线高压发生器在间隔时间内工作，保证了X射线高压发生器在每次进行曝光后都进行散热，提高了X射线高压发生器的使用安全和延长了X射线高压发生器使用寿命。
作为本实施例一种可选的实施方式，预设限制时长的确定方式，包括：
判断上一次曝光时长是否超过第一预设时长；当上一次曝光时长超过第一预设时长，则将第二预设时长作为预设限制时长；当上一次曝光时长不超过第一预设时长，则将第三预设时长作为预设限制时长；第二预设时长大于第三预设时长。
示例性地，第一预设时长可以为3000ms，第二预设时长可以为300S，第三预设时长可以根据上次曝光的电压、电流以及时间确定得到，比如上述公式(1)。当上一次曝光时长超过3000ms，那么在进行下一次曝光时，需要和上一次曝光时间间隔相差300s。当上一次曝光时长不超过3000ms，那么在进行下一次曝光时，需要和上一次曝光时间间隔相差第三预设时长。本实施例对第一预设时长、第二预设时长、第三预设时长不做限定，第二预设时长大于第三预设时长，本领域技术人员可以根据需要确定。
本实施例提供的X射线高压发生器曝光功率参数确定方法，进一步对预设限制时长进行限制，对上一次曝光时长进行划分，当超过第一预设时长时，将第二预设时长作为预设限制时长，当不超过第二预设时长时，将第三预设时长作为预设限制时长，第二预设时长大于第三预设时长，使得X射线高压发生器在上一次曝光时间过长时，能够有较长的时间间隔进行下一次曝光，进一步减低了X射线高压发生器的故障率。
本发明实施例提供一种X射线高压发生器曝光功率参数确定装置，如图2所示，所述高压发生器对应的功率器件的功率参数小于实际所需功率器件的功率参数，所述装置包括：
参数接收模块201，用于接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数，所述曝光功率参数包括曝光时间和曝光电流；具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
第一判断模块202，用于判断所述曝光功率参数是否满足预设限制，所述预设限制根据所述高压发生器对应的功率器件的预设短时过载参数确定；具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
目标曝光功率参数确定模块203，用于当所述曝光功率参数不满足所述预设限制，则重复所述接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数到判断所述曝光功率参数是否满足预设限制的步骤，直至所述曝光功率参数满足所述预设限制参数，得到目标曝光功率参数。具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
作为本实施例一种可选的实施方式，第一判断模块202中所述预设限制为：
y1≥aI1 2t2；
其中，y1为限制参数，a为参数，I1为曝光功率参数中的电流大小，t2为曝光时间。具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
作为本实施例一种可选的实施方式，X射线高压发生器曝光功率参数确定装置还包括：
第二判断模块，用于判断当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔是否满足预设限制时长；具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
曝光模块，用于当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长，则进行曝光；具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
第一等待模块，用于当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔不满足预设限制时长，则等待至与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长。具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
作为本实施例一种可选的实施方式，第二判断模块，包括：
第三判断模块，用于判断上一次曝光时长是否超过第一预设时长；具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
第一预设限制时长确定模块，用于当上一次曝光时长超过第一预设时长，则将第二预设时长作为预设限制时长；具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
第二预设限制时长确定模块，用于当上一次曝光时长不超过第一预设时长，则将第三预设时长作为预设限制时长。具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
作为本实施例一种可选的实施方式，曝光模块中预设限制时长为：
其中，t1为预设限制时长，U为上一次曝光时的电压，I为上一次曝光时的电流，t为上一次曝光时的时间长度，P1为功率限制参数。具体内容参见上述实施例方法对应部分，在此不再赘述。
本申请实施例还提供一种电子设备，如图3所示，处理器310和存储器320，其中处理器310和存储器320可以通过总线或者其他方式连接。
处理器310可以为中央处理器(Central Processing Unit，CPU)。处理器310还可以为其他通用处理器、数字信号处理器(Digital Signal Processor，DSP)、专用集成电路(Application Specific Integrated Circuit，ASIC)、现场可编程门阵列(Field－Programmable Gate Array，FPGA)或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件等芯片，或者上述各类芯片的组合。
存储器320作为一种非暂态计算机可读存储介质，可用于存储非暂态软件程序、非暂态计算机可执行程序以及模块，如本发明实施例中的X射线高压发生器曝光功率参数确定方法对应的程序指令/模块。处理器通过运行存储在存储器中的非暂态软件程序、指令以及模块，从而执行处理器的各种功能应用以及数据处理。
存储器320可以包括存储程序区和存储数据区，其中，存储程序区可存储操作系统、至少一个功能所需要的应用程序；存储数据区可存储处理器所创建的数据等。此外，存储器可以包括高速随机存取存储器，还可以包括非暂态存储器，例如至少一个磁盘存储器件、闪存器件、或其他非暂态固态存储器件。在一些实施例中，存储器320可选包括相对于处理器远程设置的存储器，这些远程存储器可以通过网络连接至处理器。上述网络的实例包括但不限于互联网、企业内部网、局域网、移动通信网及其组合。
所述一个或者多个模块存储在所述存储器320中，当被所述处理器310执行时，执行如图1所示实施例中的X射线高压发生器曝光功率参数确定方法。
上述电子设备的具体细节可以对应参阅图1所示的实施例中对应的相关描述和效果进行理解，此处不再赘述。
本实施例还提供了一种计算机存储介质，所述计算机存储介质存储有计算机可执行指令，该计算机可执行指令可执行上述任意方法实施例1中X射线高压发生器曝光功率参数确定方法。其中，所述存储介质可为磁碟、光盘、只读存储记忆体(Read－Only Memory，ROM)、随机存储记忆体(Random Access Memory，RAM)、快闪存储器(Flash Memory)、硬盘(Hard Disk Drive，缩写：HDD)或固态硬盘(Solid－State Drive，SSD)等；所述存储介质还可以包括上述种类的存储器的组合。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。
Claims (10)
1.一种X射线高压发生器曝光功率参数确定方法，其特征在于，所述高压发生器内部功率器件的功率参数小于所述高压发生器实际所需功率器件的功率参数，所述方法包括如下步骤：
接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数，所述曝光功率参数包括曝光时间和曝光电流；
判断所述曝光功率参数是否满足预设限制，所述预设限制根据所述高压发生器内部的功率器件的预设短时过载参数确定；
当所述曝光功率参数不满足所述预设限制，则重复所述接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数到判断所述曝光功率参数是否满足预设限制的步骤，直至所述曝光功率参数满足所述预设限制参数，得到目标曝光功率参数。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预设限制为：
y1≥aI1 2t2；
其中，y1为限制参数，a为参数，I1为曝光功率参数中的电流大小，t2为曝光时间。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
判断当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔是否满足预设限制时长；
当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长，则进行曝光；
当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔不满足预设限制时长，则等待至与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，确定预设限制时长的方式，包括：
判断上一次曝光时长是否超过第一预设时长；
当上一次曝光时长超过第一预设时长，则将第二预设时长作为预设限制时长；
当上一次曝光时长不超过第一预设时长，则将第三预设时长作为预设限制时长。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，预设限制时长为：
其中，t1为预设限制时长，U为上一次曝光时的电压，I为上一次曝光时的电流，t为上一次曝光时的时间长度，P1为功率限制参数。
6.一种X射线高压发生器曝光功率参数确定装置，其特征在于，所述高压发生器内部功率器件的功率参数小于所述高压发生器实际所需功率器件的功率参数，所述装置包括：
参数接收模块，用于接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数，所述曝光功率参数包括曝光时间和曝光电流；
第一判断模块，用于判断所述曝光功率参数是否满足预设限制，所述预设限制根据所述高压发生器内部的功率器件的预设短时过载参数确定；
目标曝光功率参数确定模块，用于当所述曝光功率参数不满足所述预设限制，则重复所述接收X射线高压发生器使用需求对应的曝光功率参数到判断所述曝光功率参数是否满足预设限制的步骤，直至所述曝光功率参数满足所述预设限制参数，得到目标曝光功率参数。
7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，还包括：
第二判断模块，用于判断当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔是否满足预设限制时长；
曝光模块，用于当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长，则进行曝光；
第一等待模块，用于当当前响应曝光启动时间与上一次曝光时间间隔不满足预设限制时长，则等待至与上一次曝光时间间隔满足预设限制时长。
8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，第二判断模块，包括：
第三判断模块，用于判断上一次曝光时长是否超过第一预设时长；
第一预设限制时长确定模块，用于当上一次曝光时长超过第一预设时长，则将第二预设时长作为预设限制时长；
第二预设限制时长确定模块，用于当上一次曝光时长不超过第一预设时长，则将第三预设时长作为预设限制时长。
9.一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述程序时实现权利要求1－5任一所述的X射线高压发生器曝光功率参数确定方法的步骤。
10.一种存储介质，其上存储有计算机指令，其特征在于，该指令被处理器执行时实现权利要求1－5任一所述的X射线高压发生器曝光功率参数确定方法的步骤。
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|---|---|---|---|
| CN202011643883.XA Pending CN112822829A (zh) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | 一种x射线高压发生器曝光功率参数确定方法及装置 |
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| CN (1) | CN112822829A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113539768A (zh) * | 2021-07-21 | 2021-10-22 | 康达洲际医疗器械有限公司 | X射线管灯丝预热方法、装置及成像设备 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2020
- 2020-12-31 CN CN202011643883.XA patent/CN112822829A/zh active Pending
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| CN113539768A (zh) * | 2021-07-21 | 2021-10-22 | 康达洲际医疗器械有限公司 | X射线管灯丝预热方法、装置及成像设备 |
| CN113539768B (zh) * | 2021-07-21 | 2024-01-30 | 康达洲际医疗器械有限公司 | X射线管灯丝预热方法、装置及成像设备 |
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