CN112811784A - 一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备 - Google Patents

Abstract

一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，包括浓缩搅拌仓，浓缩搅拌仓的一端设有注药仓，浓缩搅拌仓的另一端设有初级澄清罐。浓缩搅拌仓包括进料口和仓体，仓体内设有一级搅拌仓、二级搅拌仓、三级搅拌仓和储泥仓，一级搅拌仓、二级搅拌仓、三级搅拌仓和储泥仓之间均设有溢流板；本发明通过设置的自加压喷头，提高了药液喷出的速度，提高了污泥与药液之间混合的效果；通过设置的一级搅拌仓、二级搅拌仓和三级搅拌仓，提高了污泥的搅拌效果，且由于设置的溢流板，实现了污泥的持续搅拌不停机的效果，搅拌好的污泥会越过溢流板流向下一个搅拌仓继续搅拌。

Description

一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备

技术领域

本发明涉及污泥脱水设备技术领域，具体涉及一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备。

背景技术

污水处理过程中会产生大量的污泥，其体积大，含水率高，通常高达98-99%，因此污泥的脱水一直是世界性难题。当采用板框压滤机、带式脱水机或离心脱水机等进行机械脱水或真空脱水等固液分离方法进行脱水时脱水速率慢，脱水时间长。

污泥体积的减量化是污泥处理的重要任务之一，因此污泥脱水前通常需要先进行浓缩处理，以减少污泥体积，但是有机污泥中通常含有大量的有机物，其亲水性强，粘度大，结合水含量高，采用常规的污泥浓缩技术如沉淀浓缩、气浮浓缩难以达到良好的浓缩效果。存在浓缩倍数低，减量化效果差等问题，其浓缩后污泥体积仍然巨大，有的污泥甚至难以泥水分层浓缩，而且污泥比阻高，污泥脱水困难。所以现有的污泥浓缩技术中有通过药液进行浓缩，但在浓缩的过程中由于需要药液与污泥充分相溶，故常见的是污泥浓缩罐，只能以罐为单位，进行浓缩，浓缩完成一罐后排出，再重新浓缩下一罐，时间长效率低。

发明内容

本发明的目的是针对现有的技术存在的不足，提出了一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，包括浓缩搅拌仓，所述的浓缩搅拌仓的一端设有注药仓，所述的浓缩搅拌仓的另一端设有初级澄清罐。

所述的浓缩搅拌仓包括进料口和仓体，所述的仓体内设有一级搅拌仓、二级搅拌仓、三级搅拌仓和储泥仓，所述的一级搅拌仓、二级搅拌仓、三级搅拌仓和储泥仓之间均设有溢流板。

所述的三级搅拌仓内设有一组搅拌装置，所述的一级搅拌仓和二甲搅拌仓内均设有两组搅拌装置，且所述的搅拌装置包括搅拌叶、搅拌杆和搅拌电机，所述的搅拌电机设在仓体一侧的外壁上，所述的搅拌电机与搅拌杆相连，所述的搅拌杆穿过仓体一侧的外壁并通过轴承与仓体另一侧的外壁相连，所述的搅拌杆上设有搅拌叶，且所述的搅拌叶设有三个。

所述的储泥仓的一侧设有三级搅拌仓，所述的储泥仓的另一侧与进泥管连通，所述的储泥仓与三级搅拌仓之间的溢流板低于三级搅拌仓与二级搅拌仓之间的溢流板高度，所述的三级搅拌仓与二级搅拌仓之间的溢流板低于二级搅拌仓与一级搅拌仓之间的溢流板高度。

所述的初级澄清罐包括罐体，所述的罐体的底端设有进泥管，所述的进泥管上设有污泥泵，所述的进泥管进入罐体并插在进泥腔内，所述的进泥腔与加压腔相连，所述的加压腔设在第二反应室内，所述的第二反应室的底端与导流胶皮相连，所述的导流胶皮下方设有导泥板，所述的导泥板的下方设有收拢板，所述的收拢板与罐体底端之间设有空隙，所述的收拢板与罐体侧壁之间形成的夹角空间为污泥腔，所述的污泥腔与排泥管相连。

所述的罐体的顶端设有清水回流腔，所述的清水回流腔与环形集水槽相连，所述的环形集水槽与排水管相连。

所述的注药仓上设有注药口和加药泵，所述的加药泵的一端与注药仓相连，所诉的加药泵的另一端与加药管相连，所述的加药管设在仓体的顶端内壁上，所述的加药管上设有自加压喷头。

所述的自加压喷头包括面板固定圈，所述的面板固定圈内嵌有不锈钢面板，所述的不锈钢面板与喷洒框架相连，且所述的喷洒框架内设有涡轮风扇，所述的喷洒框架与后盖连接板相连，所述的后盖连接板与面板固定圈相连。

所述的不锈钢面板与喷洒框架之间设有硅胶垫圈，喷洒框架与后盖连接板之间设有硅胶垫圈。

所述的搅拌叶的长度为仓体内搅拌杆的80％长度，所述的仓体底端面与搅拌装置相对应的位置为半圆形底面。

本发明的有益效果为：提出了一种结构紧凑的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，通过设置的自加压喷头，提高了药液喷出的速度，提高了污泥与药液之间混合的效果；通过设置的一级搅拌仓、二级搅拌仓和三级搅拌仓，提高了污泥的搅拌效果，且由于设置的溢流板，实现了污泥的持续搅拌不停机的效果，搅拌好的污泥会越过溢流板流向下一个搅拌仓继续搅拌；通过设置的初级澄清罐，在夹板完成的污泥进入后，通过导流胶皮使污泥温和的向下流淌，而由于搅拌的药液，污泥中的水被析出，此时水向上运动，污泥继续向下运动，实现了一个初级的固液分离，减轻了下级的污泥脱水装置的工作压力，并提高了下级污泥脱水装置的工作效率，且降低了泥饼的含水量。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明的浓缩搅拌仓结构示意图。

图3是本发明的初级澄清罐结构示意图。

图4是本发明的自加压喷头结构示意图。

图5是本发明的注药仓结构示意图。

图中：1、初级澄清罐，2、浓缩搅拌仓，3、注药仓，101、清水回流腔，102、第二反映室，103、加压腔，104、罐体，105、导流胶皮，106、收拢板，107、污泥泵，108、进泥管，109、进泥腔，110、污泥腔，111、排泥管，112、导泥板，113、排水管，114、环形集水槽，201、仓体，202、进料口，203、储泥仓，204、三级搅拌仓，205、二级搅拌仓，206、一级搅拌仓，207、搅拌叶，31、注药口，32、加药泵，33、自加压喷头，34、加药管，35、拌药电机，36、偏心混药叶，37、固定轴承，38、输出轴，331、面板固定圈，332、不锈钢面板，333、硅胶垫圈，334、涡轮风扇，335、喷洒框架，336、后盖连接板。

具体实施方式

附图仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制；为了更好说明本实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。

实施例1,如图所示：一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，包括浓缩搅拌仓2，所述的浓缩搅拌仓2的一端设有注药仓3，所述的浓缩搅拌仓2的另一端设有初级澄清罐1。所述的浓缩搅拌仓2包括进料口202和仓体201，所述的仓体201内设有一级搅拌仓206、二级搅拌仓205、三级搅拌仓204和储泥仓203，所述的一级搅拌仓206、二级搅拌仓205、三级搅拌仓204和储泥仓203之间均设有溢流板。所述的三级搅拌仓204内设有一组搅拌装置，所述的一级搅拌仓206和二甲搅拌仓内均设有两组搅拌装置，且所述的搅拌装置包括搅拌叶207、搅拌杆和搅拌电机，所述的搅拌电机设在仓体201一侧的外壁上，所述的搅拌电机与搅拌杆相连，所述的搅拌杆穿过仓体201一侧的外壁并通过轴承与仓体201另一侧的外壁相连，所述的搅拌杆上设有搅拌叶207，且所述的搅拌叶207设有三个。所述的储泥仓203的一侧设有三级搅拌仓204，所述的储泥仓203的另一侧与进泥管108连通，所述的储泥仓203与三级搅拌仓204之间的溢流板低于三级搅拌仓204与二级搅拌仓205之间的溢流板高度，所述的三级搅拌仓204与二级搅拌仓205之间的溢流板低于二级搅拌仓205与一级搅拌仓206之间的溢流板高度。一级搅拌仓206和二级搅拌仓205内的两组搅拌装置的搅拌方向是相向搅拌转动，实现了两股相向运动的污泥进行碰撞并搅拌在一起，提高了搅拌效率和搅拌效果。

实施例2, 一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，所述的初级澄清罐1包括罐体104，所述的罐体104的底端设有进泥管108，所述的进泥管108上设有污泥泵107，所述的进泥管108进入罐体104并插在进泥腔109内，所述的进泥腔109与加压腔103相连，所述的加压腔103设在第二反应室102内，所述的第二反应室102的底端与导流胶皮105相连，所述的导流胶皮105下方设有导泥板112，所述的导泥板112的下方设有收拢板106，所述的收拢板106与罐体104底端之间设有空隙，所述的收拢板106与罐体104侧壁之间形成的夹角空间为污泥腔110，所述的污泥腔110与排泥管111相连。所述的罐体104的顶端设有清水回流腔101，所述的清水回流腔101与环形集水槽114相连，所述的环形集水槽114与排水管113相连。所述的搅拌叶207的长度为仓体201内搅拌杆的80％长度，所述的仓体201底端面与搅拌装置相对应的位置为半圆形底面。设置的初级澄清罐1使已经进行浓缩过的污泥先进行一次水和污泥的分离，降低了下级污泥脱水装置的工作压力，且提高了下级污泥脱水装置的脱水效果。

实施例3, 一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，所述的注药仓3上设有注药口31和加药泵32，所述的加药泵32的一端与注药仓3相连，所诉的加药泵32的另一端与加药管34相连，所述的加药管34设在仓体201的顶端内壁上，所述的加药管34上设有自加压喷头33。所述的自加压喷头33包括面板固定圈331，所述的面板固定圈331内嵌有不锈钢面板332，所述的不锈钢面板332与喷洒框架335相连，且所述的喷洒框架335内设有涡轮风扇334，所述的喷洒框架335与后感连接板336相连，所述的后感连接板336与面板固定圈331相连。所述的不锈钢面板332与喷洒框架335之间设有硅胶垫圈333，喷洒框架335与后感连接板336之间设有硅胶垫圈333。通过设置的自加压喷头33和加药泵32，实现了对向浓缩搅拌仓2内搅拌进行加药效果的提升，由于药液的高速喷入，提高了污泥与药液之间的混合效果。

浓缩搅拌仓2的一端设有注药仓3，所述的注药仓3顶端设有拌药电机35，所述的拌药电机35与输出轴38相连，所述的输出轴38穿过注药仓3通过固定轴承37固定在注药仓3的底端面上，所述的输出轴38上设有偏心混药叶36，且所述的偏心混药叶36设有三个。

污泥通过进料口202进入到浓缩搅拌仓2内，而污泥先掉落到一级搅拌仓206内，搅拌装置相向转动搅拌，当一级搅拌仓206内的污泥的高度高过溢流板时，污泥会越过溢流板流向二级搅拌仓205，在通过二级搅拌仓205后越过溢流板流向三级搅拌仓204，在通过三级搅拌仓204后越过溢流板流向储泥仓203，而在搅拌的过程中药液通过仓体201顶端内壁上的自加压喷头33喷出与污泥进行搅拌，搅拌完成的污泥通过污泥泵107泵入初级澄清罐1内，当污泥通过初级澄清罐1后，污泥内会析出一部分水，而析出的水比污泥的质量轻，所以水在污泥的上方，并被清水回流腔101和环形集水槽114收集并排出。

本发明提出了一种结构紧凑的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，通过设置的自加压喷头33，提高了药液喷出的速度，提高了污泥与药液之间混合的效果；通过设置的一级搅拌仓206、二级搅拌仓205和三级搅拌仓204，提高了污泥的搅拌效果，且由于设置的溢流板，实现了污泥的持续搅拌不停机的效果，搅拌好的污泥会越过溢流板流向下一个搅拌仓继续搅拌；通过设置的初级澄清罐1，在夹板完成的污泥进入后，通过导流胶皮105使污泥温和的向下流淌，而由于搅拌的药液，污泥中的水被析出，此时水向上运动，污泥继续向下运动，实现了一个初级的固液分离，减轻了下级的污泥脱水装置的工作压力，并提高了下级污泥脱水装置的工作效率，且降低了泥饼的含水量。

最后说明的是，选取上述实施例并对其进行了详细的说明和描述是为了更好的说明本发明专利的技术方案，并不是想要局限于所示的细节。本领域的技术人员对本发明的技术方案进行修改或同等替换，而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围的，均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

Claims (10)

1.一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，包括浓缩搅拌仓，其特征在于：所述的浓缩搅拌仓的一端设有注药仓，所述的浓缩搅拌仓的另一端设有初级澄清罐。

2.根据权利要求1所述的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，其特征在于：所述的浓缩搅拌仓包括进料口和仓体，所述的仓体内设有一级搅拌仓、二级搅拌仓、三级搅拌仓和储泥仓，所述的一级搅拌仓、二级搅拌仓、三级搅拌仓和储泥仓之间均设有溢流板。

3.根据权利要求2所述的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，其特征在于：所述的三级搅拌仓内设有一组搅拌装置，所述的一级搅拌仓和二甲搅拌仓内均设有两组搅拌装置，且所述的搅拌装置包括搅拌叶、搅拌杆和搅拌电机，所述的搅拌电机设在仓体一侧的外壁上，所述的搅拌电机与搅拌杆相连，所述的搅拌杆穿过仓体一侧的外壁并通过轴承与仓体另一侧的外壁相连，所述的搅拌杆上设有搅拌叶，且所述的搅拌叶设有三个。

4.根据权利要求2所述的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，其特征在于：所述的储泥仓的一侧设有三级搅拌仓，所述的储泥仓的另一侧与进泥管连通，所述的储泥仓与三级搅拌仓之间的溢流板低于三级搅拌仓与二级搅拌仓之间的溢流板高度，所述的三级搅拌仓与二级搅拌仓之间的溢流板低于二级搅拌仓与一级搅拌仓之间的溢流板高度。

5.根据权利要求1所述的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，其特征在于：所述的初级澄清罐包括罐体，所述的罐体的底端设有进泥管，所述的进泥管上设有污泥泵，所述的进泥管进入罐体并插在进泥腔内，所述的进泥腔与加压腔相连，所述的加压腔设在第二反应室内，所述的第二反应室的底端与导流胶皮相连，所述的导流胶皮下方设有导泥板，所述的导泥板的下方设有收拢板，所述的收拢板与罐体底端之间设有空隙，所述的收拢板与罐体侧壁之间形成的夹角空间为污泥腔，所述的污泥腔与排泥管相连。

6.根据权利要求5所述的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，其特征在于：所述的罐体的顶端设有清水回流腔，所述的清水回流腔与环形集水槽相连，所述的环形集水槽与排水管相连。

7.根据权利要求1或2所述的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，其特征在于：所述的注药仓上设有注药口和加药泵，所述的加药泵的一端与注药仓相连，所诉的加药泵的另一端与加药管相连，所述的加药管设在仓体的顶端内壁上，所述的加药管上设有自加压喷头。

8.根据权利要求7所述的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，其特征在于：所述的自加压喷头包括面板固定圈，所述的面板固定圈内嵌有不锈钢面板，所述的不锈钢面板与喷洒框架相连，且所述的喷洒框架内设有涡轮风扇，所述的喷洒框架与后盖连接板相连，所述的后盖连接板与面板固定圈相连。

9.根据权利要求8所述的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，其特征在于：所述的不锈钢面板与喷洒框架之间设有硅胶垫圈，喷洒框架与后盖连接板之间设有硅胶垫圈。

10.根据权利要求3所述的一种持续型污泥脱水浓缩搅拌设备，其特征在于：所述的搅拌叶的长度为仓体内搅拌杆的80％长度，所述的仓体底端面与搅拌装置相对应的位置为半圆形底面。

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