CN112808639A - 一种清洗装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种清洗装置，涉及晶体清洗技术领域。该清洗装置包括储液箱、清洗箱和清洗毛刷。储液箱用于储存清洗液，清洗箱放置于储液箱内，清洗箱开设有进液孔，进液孔用于供清洗液流入清洗箱，清洗毛刷可活动地安装于清洗箱上，清洗毛刷用于对放入清洗箱内的晶体进行刷洗。与现有技术相比，本发明提供的清洗装置由于采用了开设有进液孔的清洗箱以及可活动地安装于清洗箱上的清洗毛刷，所以能够方便快捷地对晶体进行清洗，清洗效率高，清洗效果好，并且能够提高工作人员的舒适度，避免晶体掉落发生磕碰的风险。

Description

一种清洗装置

技术领域

本发明涉及晶体清洗技术领域，具体而言，涉及一种清洗装置。

背景技术

目前，碳化硅是重要的第三代半导体材料，它具有宽禁带、高热导率、高击穿场强、高载流子饱、高抗辐射能力及良好的化学稳定性等的优越特性，因其本身具有的特性，其在新能源汽车、汽车灯照、通用照明、电动车、5G通讯应用等领域有着广泛的应用市场。

现在的碳化硅晶体在晶棒端面研磨前需要用蜡粘接晶体与治具，加工结束后需要在温度为90度的去蜡液中从平边治具上卸下晶体，然后对晶体上的残余蜡进行擦拭清洗，接着将晶体放入清水内再次进行擦拭清洗，最后将晶体取出并擦干。在此过程中，工作人员需要全程佩戴隔热手套，然而隔热手套的厚度较厚，不利于进行操作，佩戴隔热手套会影响清洗效率以及工作人员的舒适度，并且还存在晶体从手中掉落发生磕碰的风险。

有鉴于此，设计制造出一种清洗效率高的清洗装置特别是在碳化硅晶体生产中显得尤为重要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种清洗装置，能够方便快捷地对晶体进行清洗，清洗效率高，清洗效果好，并且能够提高工作人员的舒适度，避免晶体掉落发生磕碰的风险。

本发明是采用以下的技术方案来实现的。

一种清洗装置，包括储液箱、清洗箱和清洗毛刷，储液箱用于储存清洗液，清洗箱放置于储液箱内，清洗箱开设有进液孔，进液孔用于供清洗液流入清洗箱，清洗毛刷可活动地安装于清洗箱上，清洗毛刷用于对放入清洗箱内的晶体进行刷洗。

进一步地，清洗箱包括顶壁、周壁和底壁，顶壁通过周壁与底壁固定连接，顶壁开设有开口，开口用于供晶体放入，清洗毛刷与顶壁活动连接，进液孔开设于周壁和/或底壁上。

进一步地，顶壁开设有滑槽，清洗毛刷与滑槽滑动配合，清洗毛刷能够沿滑槽的延伸方向滑动，以对晶体进行刷洗。

进一步地，清洗毛刷包括手柄、连接杆和毛刷本体，手柄通过连接杆与毛刷本体固定连接，连接杆与滑槽滑动配合，手柄和毛刷本体相对设置于顶壁的两侧。

进一步地，连接杆包括滑动段和连接段，滑动段与连接段相互垂直，且固定连接，滑动段与滑槽滑动配合，连接段与毛刷本体固定连接。

进一步地，手柄、连接杆和滑槽的数量为两个，两个滑槽相对设置于顶壁的两侧，每个手柄与一个连接杆固定连接，每个连接杆与一个滑槽滑动配合。

进一步地，进液孔的数量为多个，其中，一部分进液孔呈矩形阵列地分布于周壁上，另一部分进液孔呈矩形阵列地分布于底壁上。

进一步地，清洗装置还包括治具，治具包括台阶部和粘接部，台阶部与粘接部固定连接，台阶部的横截面积大于粘接部的横截面积，粘接部用于带动粘接于粘接部上的晶体伸入开口，台阶部用于与顶壁抵持。

进一步地，顶壁开设有限位槽，台阶部伸入限位槽，且与限位槽的底壁抵持，限位槽用于对台阶部进行限位。

进一步地，清洗装置还包括软垫，软垫固定安装于清洗箱内，软垫用于承载晶体。

本发明提供的清洗装置具有以下有益效果：

本发明提供的清洗装置，储液箱用于储存清洗液，清洗箱放置于储液箱内，清洗箱开设有进液孔，进液孔用于供清洗液流入清洗箱，清洗毛刷可活动地安装于清洗箱上，清洗毛刷用于对放入清洗箱内的晶体进行刷洗。与现有技术相比，本发明提供的清洗装置由于采用了开设有进液孔的清洗箱以及可活动地安装于清洗箱上的清洗毛刷，所以能够方便快捷地对晶体进行清洗，清洗效率高，清洗效果好，并且能够提高工作人员的舒适度，避免晶体掉落发生磕碰的风险。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本发明实施例提供的清洗装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的清洗装置的爆炸视图；

图3为本发明实施例提供的清洗装置一个视角的剖视图；

图4为本发明实施例提供的清洗装置另一个视角的剖视图。

图标：100-清洗装置；110-储液箱；120-清洗箱；121-进液孔；122-顶壁；123-周壁；124-底壁；125-开口；126-滑槽；127-限位槽；130-清洗毛刷；131-手柄；132-连接杆；133-毛刷本体；134-滑动段；135-连接段；140-治具；141-台阶部；142-粘接部；150-软垫。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一段分实施例，而不是全段的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“内”、“外”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内段的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面结合附图，对本发明的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例中的特征可以相互组合。

请结合参照图1、图2、图3和图4，本发明实施例提供了一种清洗装置100，用于对碳化硅晶体进行清洗。其能够方便快捷地对晶体进行清洗，清洗效率高，清洗效果好，并且能够提高工作人员的舒适度，避免晶体掉落发生磕碰的风险。

本实施例中，碳化硅晶体放置于清洗装置100内，清洗装置100用于对碳化硅晶体进行清洗。但并不仅限于此，在其它实施例中，清洗装置100也可以用于对其它材质的晶体进行清洗，对清洗装置100的应用场景不作具体限定。

清洗装置100包括储液箱110、清洗箱120、清洗毛刷130、治具140和软垫150。储液箱110用于储存清洗液，清洗箱120用于放置晶体，清洗箱120放置于储液箱110内，清洗箱120能够从储液箱110内取出。清洗箱120开设有进液孔121，进液孔121用于供清洗液流入清洗箱120，以便于对晶体进行清洗。清洗毛刷130可活动地安装于清洗箱120上，清洗毛刷130用于对放入清洗箱120内的晶体进行刷洗，以提高清洗效率，增强清洗效果。这样一来，无需工作人员佩戴手套伸入清洗箱120内进行清洗，提高工作人员清洗时的舒适度，避免晶体掉落发生磕碰的风险。

需要说明的是，治具140能够带动晶体伸入清洗箱120，以实现晶体的进料，便于后续对晶体进行清洗。软垫150固定安装于清洗箱120内，软垫150用于承载晶体，以避免晶体与清洗箱120的底部直接接触，防止晶体受到磨损的情况发生。

本实施例中，治具140用于通过蜡与晶体粘接，以便于带动晶体进行研磨工序，在晶体研磨完成后，需要将治具140与晶体之间的蜡去掉，以使治具140与晶体分离，将晶体从治具140上取下来，并且还需要对晶体进行清洗，以去除晶体表面的残余蜡。

本实施例中，软垫150由海绵材料制成，软垫150具有透水性，不会对清洗液造成阻挡，便于储液箱110内的清洗液通过进液孔121进入清洗箱120。但并不仅限于此，在其它实施例中，软垫150也可以由纱棉材料制成，对软垫150的制作材料不作具体限定。

值得注意的是，清洗液可以为去蜡液，也可以为清水，晶体在去蜡液中清洗完成后，还需要放入清水中进行清洗，以将晶体的表面清洗干净。本实施例中，储液箱110的数量为两个，其中一个储液箱110用于储存去蜡液，另一个储液箱110用于储存清水，先将晶体放入储存有去蜡液的储液箱110内进行清洗，再将晶体放入储存有清水的储液箱110内进行清洗，以提高清洗效果。

在晶体的清洗过程中，首先将清洗箱120放入储存有去蜡液的储液箱110内，以使去蜡液穿过进液孔121进入清洗箱120内；随后利用治具140将粘接于其上的晶体放入清洗箱120内，以使治具140与晶体的粘合面浸入去蜡液中，此时去蜡液能够对粘接治具140和晶体的蜡进行溶解；当蜡溶解一段时间后，治具140和晶体之间的粘接力减弱，晶体在重力作用下向下掉落，直至落在软垫150上；然后取出治具140，利用清洗毛刷130对软垫150上的晶体进行刷洗，以实现对晶体进行初步清洗的功能；初步清洗完成后，将清洗箱120取出储存有去蜡液的储液箱110，并放入储存有清水的储液箱110内，以使清水穿过进液孔121进入清洗箱120内；随后再次利用清洗毛刷130对软垫150上的晶体进行刷洗，以实现对晶体进行二次清洗的功能；二次清洗完成后，将清洗箱120取出储存有清水的储液箱110并置于一旁，进行晶体的冷却；当晶体冷却完成后，将晶体取出清洗箱120并用擦拭纸擦拭干净，等待进行下一步地加工，清洗完成。这样一来，分别利用去蜡液和清水对晶体进行初步清洗和二次清洗，清洗效果好。

清洗箱120包括顶壁122、周壁123和底壁124。顶壁122通过周壁123与底壁124固定连接，本实施例中，顶壁122通过周壁123与底壁124一体成型，以提高连接强度。顶壁122开设有开口125，开口125用于供晶体放入，治具140能够带动晶体伸入开口125，以便于去蜡液对粘接治具140和晶体的蜡进行溶解。清洗毛刷130与顶壁122活动连接，清洗毛刷130能够相对于顶壁122运动，以对晶体进行刷洗。进液孔121开设于周壁123和/或底壁124上，以便于储液箱110内的清洗液流入清洗箱120。

本实施例中，清洗箱120和储液箱110均呈矩形体状，储液箱110的容积大于清洗箱120的容积，清洗箱120能够放入储液箱110内。但并不仅限于此，在其它实施例中，清洗箱120和储液箱110可以均呈圆柱体状，也可以储液箱110呈矩形体状，清洗箱120呈圆柱体状，对清洗箱120和储液箱110的形状不作具体限定。

本实施例中，进液孔121开设于周壁123和底壁124上，储液箱110内的清洗液能够同时通过周壁123和底壁124上的进液孔121进入清洗箱120内。具体地，进液孔121的数量为多个，其中，一部分进液孔121呈矩形阵列地分布于周壁123上，另一部分进液孔121呈矩形阵列地分布于底壁124上，以提高进液效率。但并不仅限于此，在其它实施例中，进液孔121可以只开设于周壁123上，也可以只开设于底壁124上，进液孔121的排布方式也可以是环形阵列，对进液孔121的开设位置和排布方式不作具体限定。

需要说明的是，顶壁122开设有滑槽126，清洗毛刷130与滑槽126滑动配合，清洗毛刷130能够相对于滑槽126滑动，滑槽126能够对清洗毛刷130的位置和滑动方向进限定。具体地，清洗毛刷130能够沿滑槽126的延伸方向来回滑动，以对晶体进行刷洗。

清洗毛刷130包括手柄131、连接杆132和毛刷本体133。手柄131通过连接杆132与毛刷本体133固定连接，本实施例中，手柄131通过连接杆132与毛刷本体133一体成型，以提高连接强度。连接杆132与滑槽126滑动配合，连接杆132能够相对于滑槽126滑动，滑槽126能够对连接杆132的位置和滑动方向进限定。手柄131和毛刷本体133相对设置于顶壁122的两侧，毛刷本体133用于对晶体进行刷洗，手柄131便于工作人员手持操作。

本实施例中，连接杆132包括滑动段134和连接段135。滑动段134与连接段135相互垂直，且固定连接。滑动段134与滑槽126滑动配合，滑动段134能够相对于滑槽126滑动。连接段135与毛刷本体133固定连接，以带动毛刷本体133在清洗箱120内来回运动，从而对晶体进行刷洗。

本实施例中，手柄131、连接杆132和滑槽126的数量为两个，两个滑槽126相对设置于顶壁122的两侧，每个手柄131与一个连接杆132固定连接，每个连接杆132与一个滑槽126滑动配合。工作人员能够同步对两个手柄131进行操作，以使两个连接杆132同步地相对于两个滑槽126滑动，两个连接杆132共同作用，以带动毛刷本体133发生位移并对晶体进行刷洗，这样一来，传动稳定性好，刷洗效率高，刷洗效果好。

治具140包括台阶部141和粘接部142。台阶部141与粘接部142固定连接，台阶部141的横截面积大于粘接部142的横截面积，粘接部142用于带动粘接于粘接部142上的晶体伸入开口125，台阶部141用于与顶壁122抵持，以防止整个治具140落入清洗箱120内。具体地，晶体通过蜡粘接于粘接部142上，在利用治具140将粘接于其上的晶体放入清洗箱120的过程中，粘接部142带动晶体伸入开口125，台阶部141与顶壁122抵持，以便于将治具140取出。

本实施例中，顶壁122开设有限位槽127，台阶部141伸入限位槽127，且与限位槽127的底壁124抵持，限位槽127用于对台阶部141进行限位，以在顶壁122所在平面上固定台阶部141与顶壁122的相对位置，从而固定治具140与清洗箱120的相对位置，防止治具140相对于清洗箱120发生位移。

本发明实施例提供的清洗装置100，储液箱110用于储存清洗液，清洗箱120放置于储液箱110内，清洗箱120开设有进液孔121，进液孔121用于供清洗液流入清洗箱120，清洗毛刷130可活动地安装于清洗箱120上，清洗毛刷130用于对放入清洗箱120内的晶体进行刷洗。与现有技术相比，本发明提供的清洗装置100由于采用了开设有进液孔121的清洗箱120以及可活动地安装于清洗箱120上的清洗毛刷130，所以能够方便快捷地对晶体进行清洗，清洗效率高，清洗效果好，并且能够提高工作人员的舒适度，避免晶体掉落发生磕碰的风险。

以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种清洗装置，其特征在于，包括储液箱、清洗箱和清洗毛刷，所述储液箱用于储存清洗液，所述清洗箱放置于所述储液箱内，所述清洗箱开设有进液孔，所述进液孔用于供所述清洗液流入所述清洗箱，所述清洗毛刷可活动地安装于所述清洗箱上，所述清洗毛刷用于对放入所述清洗箱内的晶体进行刷洗。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗箱包括顶壁、周壁和底壁，所述顶壁通过所述周壁与所述底壁固定连接，所述顶壁开设有开口，所述开口用于供所述晶体放入，所述清洗毛刷与所述顶壁活动连接，所述进液孔开设于所述周壁和/或所述底壁上。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述顶壁开设有滑槽，所述清洗毛刷与所述滑槽滑动配合，所述清洗毛刷能够沿所述滑槽的延伸方向滑动，以对所述晶体进行刷洗。

4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗毛刷包括手柄、连接杆和毛刷本体，所述手柄通过所述连接杆与所述毛刷本体固定连接，所述连接杆与所述滑槽滑动配合，所述手柄和所述毛刷本体相对设置于所述顶壁的两侧。

5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述连接杆包括滑动段和连接段，所述滑动段与所述连接段相互垂直，且固定连接，所述滑动段与所述滑槽滑动配合，所述连接段与所述毛刷本体固定连接。

6.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述手柄、所述连接杆和所述滑槽的数量为两个，两个所述滑槽相对设置于所述顶壁的两侧，每个所述手柄与一个所述连接杆固定连接，每个所述连接杆与一个所述滑槽滑动配合。

7.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述进液孔的数量为多个，其中，一部分所述进液孔呈矩形阵列地分布于所述周壁上，另一部分所述进液孔呈矩形阵列地分布于所述底壁上。

8.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括治具，所述治具包括台阶部和粘接部，所述台阶部与所述粘接部固定连接，所述台阶部的横截面积大于所述粘接部的横截面积，所述粘接部用于带动粘接于所述粘接部上的所述晶体伸入所述开口，所述台阶部用于与所述顶壁抵持。

9.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述顶壁开设有限位槽，所述台阶部伸入所述限位槽，且与所述限位槽的底壁抵持，所述限位槽用于对所述台阶部进行限位。

10.根据权利要求1至9任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括软垫，所述软垫固定安装于所述清洗箱内，所述软垫用于承载所述晶体。

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