CN112739855B - 铝构件及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

一种铝构件100，具备多孔质层40，该多孔质层40包括由金属铝构成的母材11和被覆母材11表面的含有氧化铝的皮膜12。皮膜12的厚度为5nm～1000nm，皮膜12具有形成于表面的多个凹部13和多个凸部14中的至少任意一者，凹部13的深度为10nm～100nm，凸部14的高度为10nm～100nm。多孔质层40具有多个平均细孔径为0.1μm～10μm的空孔15。

Description

铝构件及其制造方法
技术领域
本发明涉及铝构件及其制造方法。
背景技术
以往，例如作为迅速且简易地检测流感病毒等感染的体外诊断用医疗品，已知有利用免疫色谱法的检测试剂盒。该检测试剂盒例如通过以下方式指示，即，将从生命体等采集而来的试样滴加在规定的位置，检测线和控制线两者均可以通过目视确认的情况下为阳性，仅控制线可以通过目视确认的情况下为阴性。
例如专利文献1所示的那样，作为用于展开试样的展开构件，检测试剂盒具备硝基纤维素制的膜滤器。所采集的试样因毛细管现象而流过膜滤器内，展开至检测线和控制线。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利特开第2003-344406号公报
发明内容
由于硝基纤维素制的膜滤器的白色度通常较高，因此比较容易通过目视确认检测线和控制线，因而使用在众多检测试剂盒中。
但是，取决于生产日期、制造地和制造批次，硝基纤维素制的膜滤器中，有时空孔尺寸不均匀，有时厚度不均匀，存在品质偏差大的倾向。若这样的品质偏差较大，则因毛细管现象而流过的液体的流速容易变得不均匀，可能会对检测结果造成不良影响。
此外，硝基纤维素制的膜滤器的保存性通常不好。因此，期待白色度和保存性高、代替硝基纤维素制的膜滤器的展开构件。
本发明基于这样的现有技术所具有的问题而完成。并且，本发明的目的在于，提供白色度以及水的吸取性能高的铝构件及其制造方法。
本发明的铝构件具备多孔质层，其包括由金属铝构成的母材和被覆母材表面的含有氧化铝的皮膜。皮膜的厚度为5nm～1000nm，皮膜具有形成于表面的多个凹部和多个凸部中的至少任意一者。多个凹部中所含的各凹部的深度为10nm～100nm，多个凸部中所含的各凸部的高度为10nm～100nm。多孔质层具有多个空孔，多个空孔的平均细孔径为0.1μm～10μm。
本发明的铝构件的制造方法具备皮膜形成工序，该工序是对具有多孔质结构的铝板进行阳极氧化，在铝板形成含氧化铝的皮膜。铝构件的制造方法具备去极化处理工序，该工序是对形成有皮膜的铝板进行去极化处理，除去皮膜表面的一部分。将皮膜形成工序和去极化处理工序交替重复进行。铝板由金属铝构成。
附图说明
图1所示为将本实施方式的多孔质层的一部分放大后的多孔质层的三级粗糙面结构的示意性剖视图。
图2所示为将图1的框所围成的部分放大后的多孔质层的一级粗糙面结构和二级粗糙面结构的示意性剖视图。
图3所示为多孔质层的一级粗糙面结构和二级粗糙面结构的另一例的示意性剖视图。
图4所示为多孔质层的一级粗糙面结构和二级粗糙面结构的另一例的示意性剖视图。
图5所示为本实施方式的铝构件的一例的剖视图。
图6所示为使用本实施方式的铝构件的检测试剂盒的一例的立体图。
图7所示为用扫描电子显微镜(SEM)观察蚀刻后的铝板表面而得的照片。
图8所示为用扫描电子显微镜观察实施例3的铝构件表面而得的照片。
图9所示为用扫描电子显微镜观察实施例10的铝构件表面而得的照片。
图10所示为用扫描电子显微镜观察比较例3的铝构件表面而得的照片。
具体实施方式
以下，使用附图对本实施方式的铝构件及其制造方法进行详细说明。本发明不仅限定于以下实施方式。此外，可以适当地将实施方式中的结构要素一部分或全部进行组合。另外，为了说明的方便，附图的尺寸比率有时被放大而与实际比率不符。
[铝构件]
本实施方式中研究了是否可以使用具有多孔质结构的铝构件作为硝基纤维素制的膜滤器的替代。但是，通常认为要让铝构件体现出可以适用于免疫色谱那样的毛细管现象是困难的。此外，铝构件通常为灰色，难以确认检测线和控制线等的显色。
但是，研究发现，以下详细描述的本实施方式的铝构件的白色度高，水的吸取性能高。这样的铝构件不仅被期待作为硝基纤维素制的膜滤器的替代，还被期待在各种用途中发挥作用。
图1所示为将本实施方式的多孔质层40的一部分放大后的示意性剖视图。图2～图4所示为将图1的框所围成的部分放大后的多孔质层40的一级粗糙面结构10和二级粗糙面结构20的示意性剖视图。如图1所示，本实施方式的铝构件100具备多孔质层40。此外，如图2～图4所示，多孔质层40包含母材11和皮膜12。并且，在多孔质层40中，皮膜12与该母材11相接，并且皮膜12分布于铝构件100的外表面侧。皮膜12在其表面具有凹部13(第1凹部)和凸部14(第1凸部)中的至少任意一者。此外，多孔质层40具有多个空孔15。
＜粗糙面结构＞
铝构件100在其表面具有粗糙面结构。粗糙面结构是指，因在表面具有多个凹凸而使得表面与平滑的面相比更粗糙的表面结构。优选地，在粗糙面结构中，凹部13和凸部14中的至少任意一者分散配置在铝构件100的表面上。优选不在铝构件100表面上的粗糙面结构配置针状或板状的凹凸结构物。铝构件100的粗糙面结构可以随着表面粗糙度的尺度增大而依次表示为一级粗糙面结构10、二级粗糙面结构20和三级粗糙面结构30。即，二级粗糙面结构20的表面粗糙度的尺度比一级粗糙面结构10的表面粗糙度的尺度更大，三级粗糙面结构30的表面粗糙度的尺度比二级粗糙面结构20的表面粗糙度的尺度更大。如后文所述，推测由于铝构件100具有一级粗糙面结构10、二级粗糙面结构20和三级粗糙面结构30，因此其白色度提高。
如图2～图4所示，一级粗糙面结构10是由皮膜12、存在于皮膜12表面的多个凹部13和多个凸部14中的至少任意一者形成的微细的粗糙面结构。一级粗糙面结构10形成于皮膜12的表面。一级粗糙面结构10是表面粗糙度的尺度为数nm～数百nm左右的数量级的结构。
如图2～图4所示，二级粗糙面结构20是在多孔质层40中由母材11和多个空孔15形成的粗糙面结构。即，二级粗糙面结构20由凸部21(第2凸部，突出部)和凹部22(第2凹部，陷入部)形成。凸部21由母材11和皮膜12形成，向多孔质层40的外侧突出。凹部22由母材11和皮膜12形成，向多孔质层40的内侧陷入。空孔15由形成凹部22的母材11和皮膜12所围成的多孔质层40的内部空间形成。换而言之，二级粗糙面结构20由母材11和皮膜12本身形成于铝构件100的表面。二级粗糙面结构20是表面粗糙度的尺度为数百nm～数十μm左右的数量级的结构。
如此，多孔质层40为在内部具有与外部连通的空孔15的多孔体。此时，空孔15被皮膜12包围。即，一级粗糙面结构10的凹部13和凸部14形成于多孔质层40表面的皮膜12处，而与之相对，二级粗糙面结构20的空孔15被多孔质层40内部的母材11及被覆其表面的皮膜12包围而形成。形成皮膜12所围成的1个单元结构的空孔15可以与形成其他单元结构的空孔15连通。具体而言，多孔质层40可以是开放单元型结构(日语：オープンセル型構造)。此外，空孔15可以从多孔质层40的一面贯穿到另一面，也可以不贯穿。
如图1所示，三级粗糙面结构30由多孔质层40的外表面构成。三级粗糙面结构30为由一级粗糙面结构10和二级粗糙面结构20而来的多个凹凸集合而形成的粗大的粗糙面结构。三级粗糙面结构30为在铝构件100表面由一级粗糙面结构10和二级粗糙面结构20的集合所构成的集合体。另外，如后文所述，通过在蚀刻工序之后，将皮膜形成工序和去极化处理工序重复进行，使得由一级粗糙面结构10和二级粗糙面结构20的集合体构成的凹凸结构生长，由此形成三级粗糙面结构30。三级粗糙面结构30是表面粗糙度的尺度为数十μm～数百μm左右的数量级的结构。
如图1所示，由一级粗糙面结构10和二级粗糙面结构20的集合体构成的三级粗糙面结构30使得在铝构件100表面形成有凹凸结构。具体而言，三级粗糙面结构30中，因一级粗糙面结构10和二级粗糙面结构20的集合体而形成有凸部31(第3凸部，峰部)和凹部32(第3凹部，谷部)。凸部31相对于铝构件100表面的厚度方向如山峰一般隆起，凹部32相对于铝构件100表面的厚度方向如山谷一般陷下。并且，由于这些凸部31和凹部32空开间隔地重复出现，导致三级粗糙面结构30相比于一级粗糙面结构10和二级粗糙面结构20具有尺度更大的周期性的峰谷结构。
三级粗糙面结构30的周期优选为10μm～500μm，进一步优选为30μm～200μm。三级粗糙面结构30的周期是指，在铝构件100的平面方向上夹着凹部32相邻的周期性出现的凸部31之间、或者是夹着凸部31相邻的周期性出现的凹部32相互之间的间隔。通过使三级粗糙面结构30的周期在这样的范围内，可以提供白色度更好的铝构件100。三级粗糙面结构30的周期可以通过光学显微镜等观察铝构件100的剖面而进行测定。
通过使铝构件100具有如上所述的三级粗糙面结构30，使得表面的光泽感降低，暗淡感提升。由此，在铝构件100表面产生的光泽得到抑制，呈现于铝构件100的颜色、纹路、图形、记号、文字等信息的识别性得到改善。例如将铝构件100用作试验片或色谱用展开构件，通过目视或光学手段确认铝构件100上所产生的试验结果时，这样的识别性提升是有效的。
＜母材＞
母材11由金属铝构成。构成母材11的金属铝优选纯度为99％以上的纯铝，更优选纯度为99.9％以上的纯铝，进一步优选纯度为99.98％以上的纯铝。
母材11可以含有不可避免的杂质。本实施方式中，不可避免的杂质是指，存在于原料中或是在制造工序中不可避免混入的物质。不可避免的杂质本来是不需要的，但是由于其为微量，对铝中的特性不造成影响，因此可以允许。铝中可能含有的不可避免的杂质为除铝(Al)以外的元素。作为铝中可能含有的不可避免的杂质，例如可列举：镁(Mg)、铁(Fe)、硅(Si)、铜(Cu)、铅(Pb)、锰(Mn)、铬(Cr)、锌(Zn)、钛(Ti)、镓(Ga)、硼(B)、钒(V)、锆(Zr)、钙(Ca)、钴(Co)等。作为不可避免的杂质的量，优选在铝中总计为1质量％以下，更优选为0.1质量％以下，进一步优选为0.02质量％以下。
母材11的形状没有特别限定，可以是多孔质状、树状、纤维状、块状和海绵状等。
＜皮膜＞
皮膜12被覆母材11的表面。具体而言，皮膜12与母材11的表面和空孔15相接，抑制母材11的腐蚀。
皮膜12包含氧化铝。本实施方式中，皮膜12为阳极氧化皮膜，阳极氧化皮膜优选为阻隔型阳极氧化皮膜。此外，皮膜12可以包含氢氧化铝。皮膜12可以具有含氢氧化铝的水合皮膜。
例如，皮膜12可以由阳极氧化皮膜与水合皮膜从母材11侧依次层叠而得，优选在被覆母材11表面的阳极氧化皮膜的表面侧的一部分处设有水合皮膜。或者，皮膜12可以由阳极氧化皮膜与水合皮膜在母材11表面以海岛状分布而得，优选在母材11表面阳极氧化皮膜以海状分布而水合皮膜以岛状分布。具体而言，水合皮膜相对于皮膜12的外表面整体的比例优选为5％以上50％以下，更优选为10％以上40％以下，进一步优选15％以上30％以下。另外，在皮膜12包含氢氧化铝，且母材11和多孔质层40的最外表面的一部分处存在氢氧化铝时，优选由氢氧化铝形成凸部14。
本实施方式的多孔质层40优选不在最外表面整体包含被覆母材11和多孔质层40的水合皮膜。通过使多孔质层40不在最外表面整体包含水合皮膜，可以使得漫反射优先，使得铝构件100的白色度进一步提升。氢氧化铝以通式Al(OH)3表示。
皮膜12的最外表面被针状或板状的水合皮膜被覆时，有时观察到铝构件100为黑色或灰色。认为这是由于受到以下影响，即，这样的水合皮膜的表面附近具有锐利的前端形状，虽然该前端部分对入射光的漫反射有贡献，但是可以进行漫反射的部分限于前端部分，从面积上来说较少。此外，这样的皮膜具有从前端部分到根部分，邻接的针状或板状的水合皮膜相互之间越来越窄的内部形状。因此，进入其内部的入射光随着不断的反射而被水合皮膜吸收，光难以向外部射出，认为受此影响，观察到铝构件100为黑色或灰色。
进一步，由于水合皮膜存在时，一级粗糙面结构10和二级粗糙面结构20发生堵塞的情况较多，因此铝构件100的外观倾向于呈黑色或灰色。由此，优选在多孔质层40的表面设有由阳极氧化皮膜构成的皮膜12，凹部13和空孔15存在于皮膜12的最外表面。另一方面，在氢氧化铝不被覆多孔质层40的最外表面整体并形成水合皮膜，而是以粒状或块状存在于多孔质层40的最外表面的一部分并形成凸部14的情况下，凸部14可以使得白色度提升。进一步，凸部14和不被覆水合皮膜并露出于多孔质层40的最外表面的凹部13可以使得白色度提升。此外，在氢氧化铝被覆多孔质层40的最外表面整体并形成水合皮膜，并且以粒状或块状存在于多孔质层40的最外表面并形成凸部14的情况下，凸部14可以使得白色度提升。
皮膜12的厚度通常为5nm～1000nm。皮膜12的厚度优选为20nm～800nm，更优选为30nm～500nm，进一步优选为50nm～300nm。通过使皮膜12的厚度在这样的范围内，更容易确保使入射多孔质层40的光漫反射所需要的足够的厚度，可以提供白色度更好的铝构件100。进一步，可以提供耐腐蚀性足够高的铝构件100。皮膜12的厚度例如可以通过用扫描电子显微镜等观察皮膜12的剖面来进行测定。另外，本说明书中，皮膜12的厚度是指不包含凹部13和凸部14的厚度。
皮膜12具有形成于表面的多个凹部13和多个凸部14中的至少任意一者。具体而言，如图2所示，皮膜12可以在皮膜12表面具有多个凹部13。或者，如图3所示，皮膜12可以在皮膜12表面具有多个凸部14。或者，如图4所示，皮膜12可以在皮膜12表面具有凹部13和凸部14。即，皮膜12可以具有凹部13或凸部14中的任意一者，也可以同时具有凹部13和凸部14。凹部13或凸部14的有无可以通过用扫描电子显微镜等观察皮膜12的表面来判断。
凹部13和凸部14对铝构件100的白色度有贡献。因在皮膜12的表面形成凹部13和凸部14中的至少任意一者而提升铝构件100的白色度的理由还不明确，但是可以进行如下推测。首先，光相对于铝构件入射时，入射光在铝构件表面反射。此时，在铝构件表面平滑的情况下，会显示出镜面状的光泽。此处，在铝构件表面有微细的凹凸时，因该凹凸而产生入射光的漫反射，但是通常不存在能够识别为白色那样的凹凸。
与此相对，本实施方式的铝构件100中，凹部13和凸部14可以使得皮膜12表面处的漫反射增加。即，皮膜12具有凹部13时，可以使入射光漫反射的面积因凹部13而增大，因此观察到铝构件100呈白色。同样地，皮膜12具有凸部14时，可以使入射光漫反射的面积因凸部14而增大，因此观察到铝构件100呈白色。
凹部13优选从皮膜12露出的表面向母材11陷下而形成。凹部13的底部优选不贯穿到母材11，凹部13与母材11之间形成有皮膜12。凹部13的形状没有特别限定，但是优选在母材11和皮膜12的层叠方向(皮膜12的厚度方向)上在剖视时为大致U字形或大致V字形。如后文所述，通过对蚀刻后的铝板进行阳极氧化处理和去极化处理，从而在母材11表面产生由阳极氧化皮膜构成的皮膜12。凹部13形成于该阳极氧化皮膜。凸部14优选从皮膜12露出的表面向外伸出而形成。凸部14的形状没有特别限定，但是优选为粒状或块状。
多个凹部中所含的各凹部13的径值优选为10nm～200nm，更优选为20nm～150nm，进一步优选为50nm～100nm。此外，多个凸部中所含的各凸部14的径值优选为10nm～200nm，更优选为20nm～150nm，进一步优选为50nm～100nm。通过使凹部13和凸部14的径值在这样的范围内，使得入射多孔质层40的光更容易被凹部13和凸部14漫反射，可以提供白色度更好的铝构件100。凹部13的径值可以通过用扫描电子显微镜等观察皮膜12的表面并测定凹部13的入口部分的直径来获得。凸部14的径值可以通过用扫描电子显微镜等观察皮膜12的表面并测定凸部14的径值为最大的部分的直径来获得。
此处，对于多个凹部13近接的情况下的凹部13及其径值的认定进行说明。首先，凹部13的位置根据凹部13的最深位置(底侧的峰位置)来确定。邻接的凹部13相互之间的间隔可以根据各凹部13的底侧的峰位置之间的距离来确定。在某个凹部13与周围的凹部13空开50nm以上的间隔存在的情况下，该凹部13看作是独立的凹部13。另一方面，在多个凹部13以小于50nm的间隔集合而形成集团，且该集团与不包含在其中的周围的凹部13空开50nm以上的间隔存在的情况下，该集团被看作是一个凹部13。并且，将该集团整体的径值作为凹部13的径值测定。另外，在多个凹部13共有凹陷的周缘部，该多个凹部13的底侧的峰位置空开50nm以上的情况下，该多个凹部13被看作是分别独立的凹部13。此时，相对于共有周缘部的凹陷，以多个凹部13的底侧的峰位置作为母点进行维诺划分(日语：ボロノイ分割)，从而可以界定出属于各凹部13的区域。
同样地，对于多个凸部14近接的情况下的凸部14及其径值的认定进行说明。首先，凸部14的位置根据凸部14的最高位置(顶侧的峰位置)来确定。邻接的凸部14相互之间的间隔可以根据各凸部14的顶侧的峰位置之间的距离来确定。在某个凸部14与周围的凸部14空开50nm以上的间隔存在的情况下，该凸部14被看作是独立的凸部14。另一方面，在多个凸部14以小于50nm的间隔集合而形成集团，且该集团与不包含在其中的周围的凸部14空开50nm以上的间隔存在的情况下，该集团被看作是一个凸部14。并且，将该集团整体的径值作为凸部14的径值测定。另外，在多个凸部14共有伸出的周缘部，该多个凸部14的顶侧的峰位置空开50nm以上的情况下，该多个凸部14被看作是分别独立的凸部14。此时，相对于共有周缘部的伸出，以多个凸部14的顶侧的峰位置作为母点进行维诺划分，从而可以界定出属于各凸部14的区域。
多个凹部中所含的各凹部13的深度在母材11和皮膜12的层叠方向上在剖视时通常为10nm～100nm，优选为20nm～80nm，更优选为30nm～50nm。凹部13的深度可以通过用扫描电子显微镜等观察皮膜12的剖面并测定从凹部13的入口部分到底部的距离而算出平均值来获得。
多个凸部中所含的各凸部14的高度在母材11和皮膜12的层叠方向上在剖视时通常为10nm～100nm，优选为20nm～80nm，更优选为30nm～50nm。凸部14的高度可以通过用扫描电子显微镜等观察皮膜12的剖面并测定从皮膜12的平坦部的表面到凸部14的顶部的距离而算出平均值来获得。
若凹部13的深度和凸部14的高度高于上述范围的下限，则凹部13和凸部14可以漫反射入射光的面积增加，漫反射更容易增大。此外，若凹部13的深度和凸部14的高度低于上述范围的上限，则因凹部13和凸部14例如成为针状或板状的凹凸结构物而导致的漫反射的减少可以得到抑制。认为该漫反射的减少是由于针状或板状的凹凸结构物导致可以漫反射入射光的面积减少、以及发生入射光的吸收等。如此，若凹部13的深度和凸部14的高度在上述范围内，则倾向于观察到铝构件100呈白色。
皮膜12中凹部13和凸部14的密度优选为3个/μm2～500个/μm2，更优选为5个/μm2～200个/μm2，进一步优选为10个/μm2～100个/μm2。通过使凹部13和凸部14的密度在这样的范围内，使得入射多孔质层40的光更容易被凹部13和凸部14漫反射，可以提供白色度更好的铝构件100。凹部13和凸部14的密度可以通过用扫描电子显微镜等数出皮膜12表面中单位面积的凹部13和凸部14的总数来获得。
皮膜12中凹部13和凸部14的面积率优选为5％～80％，更优选为20％～70％，进一步优选30％～60％。通过使凹部13和凸部14的面积率在这样的范围内，使得入射多孔质层40的光更容易被凹部13和凸部14漫反射，可以提供白色度更好的铝构件100。凹部13和凸部14的面积率是指，以百分比形式所表示的多孔质层40的表面中凹部13和凸部14相对于皮膜12的表面积所占的面积比例。凹部13和凸部14的面积率可以通过用扫描电子显微镜等算出皮膜12表面中单位面积的凹部13和凸部14所占的总面积来获得。
多孔质层40具有多个空孔，多个空孔的平均细孔径为0.1μm～10μm。多孔质层40中空孔15的平均细孔径优选为0.5μm～8μm，更优选为1μm～5μm。以铝构件100吸取4cm的水所需要的时间作为t秒时，多孔质层40中的平均细孔径d(μm)优选在下式所述的范围内。
平均细孔径d＝k/t
此处k为常数，具体而言k优选为200～2000，更优选为500～1500。这样的空孔15更容易确保通过毛细管现象吸取水所需的合适的径值，可以提升铝构件100的水的吸取性能。空孔15的平均细孔径例如可以根据压汞法来测定。另外，凹部13或凸部14的径值优选在上述规定的范围内且比多孔质层40的平均细孔径更小。具体而言，凹部13的径值优选为10nm～200nm且比多孔质层40的平均细孔径更小。凸部14的径值优选为10nm～200nm且比多孔质层40的平均细孔径更小。
多孔质层40的厚度优选为30μm～10cm。通过使多孔质层40的厚度在这样的范围内，更容易确保通过毛细管现象吸取水所需的足够的厚度，可以提供白色度和水的吸取性能更好的铝构件100。多孔质层40的厚度优选为40μm以上，进一步优选为50μm以上。多孔质层40的厚度更优选为1000μm以下，进一步优选为200μm以下，特别优选为150μm以下。
＜基板＞
如图5所示，铝构件100可以进一步具备基板50。基板50可以支承多孔质层40，可以提升铝构件100的刚性。基板50的形状可以是层状。
多孔质层40可以设在基板50的至少一个面侧。具体而言，多孔质层40可以仅设在基板50的一个面侧，也可以设在基板50的两个面侧。多孔质层40优选配置于铝构件100的最外表面。
因为铝构件100不一定要具备基板50，所以基板50的厚度为大于0μm。尽管根据用途决定，但是基板50的厚度例如可以是1mm以下，也可以是100μm以下，也可以是10μm以下，也可以是1μm以下。
构成基板50的材料可以是与母材11实质相同的材料。在基板50与母材11为相同材料的情况下，基板50和母材11可以形成为整体。该情况下，基板50和多孔质层40的母材11可以连续形成。基板50可以由金属铝构成。构成基板50的金属铝优选纯度为99％以上的纯铝，更优选纯度为99.9％以上的纯铝，进一步优选纯度为99.98％以上的纯铝。
尽管根据用途决定，但是铝构件100的厚度例如可以是50μm以上，也可以是100μm以上，也可以是150μm以上。此外，铝构件100的厚度可以是300μm以下，也可以是250μm以下，也可以是200μm以下。通过使铝构件100的厚度在这样的范围内，可以提供弯折强度良好的铝构件100。
铝构件100的算术平均粗糙度Sa优选为0.1μm～30μm，更优选为0.6μm～20μm，进一步优选为1μm～10μm。通过使算术平均粗糙度Sa在这样的范围内，使得L＊值有上升倾向，容易提供白色度更好的铝构件100。算术平均粗糙度Sa可以通过对铝构件100中多孔质层40侧的表面按照ISO25178进行测定来获得。另外，本说明书中，铝构件100的算术平均粗糙度Sa主要反映出二级粗糙面结构20的粗糙度。
铝构件100的L＊a＊b＊表色系统中的L＊值优选为80以上，更优选为85以上，进一步优选为90以上，特别优选为95以上。L＊a＊b＊表色系统中的L＊值可以按照JISZ8722：2009(颜色的测定方法-反射和透射物体颜色)来求得。具体而言，L＊值可以用色彩色差计等来测定，可以以扩散照明垂直受光方式(D/0)、视野角2°、C光源这样的条件来测定。
铝构件100中，基于毛细管现象的水的吸取高度优选为3cm以上，更优选为4cm以上，进一步优选为5cm以上。如此，可以提供例如适用于色谱等的铝构件100。吸取高度例如可以通过以下方式获得，即，使铝构件100的平面方向相对于液面垂直，将铝构件100浸入纯水，放置10分钟后，测定水通过毛细管现象被吸取的高度。另外，纯水是指在30℃下测定的比电阻为10kΩm的纯水。
铝构件100优选在按照MIT型弯折试验法的弯折试验中即使弯折100次以上也不断裂。在铝构件100满足这样的条件的情况下，容易将铝构件100以辊状保管以及搬运。另外，MIT型弯折试验法由EIAJRC-2364A所规定，MIT型弯折试验装置可以使用JISP8115(纸和板纸-耐折强度试验方法-MIT试验机法)所规定的装置。
如上所述，本实施方式的铝构件100具备多孔质层40，其包括由金属铝构成的母材11和被覆母材11表面的含有氧化铝的皮膜12。皮膜12的厚度为5nm～1000nm，皮膜12具有形成于表面的多个凹部13和多个凸部14中的至少任意一者。多个凹部13中所含的各凹部13的深度为10nm～100nm，多个凸部14中所含的各凸部14的高度为10nm～100nm。多孔质层40具有多个空孔15，多个空孔15的平均细孔径为0.1μm～10μm。
此外，铝构件100可以进一步具备由金属铝构成的基板50，在基板50的至少一个面侧可以设有多孔质层40。
尽管本实施方式的铝构件100具有高白色度和水的吸取性能，但是这些特性中的任意一者均不限于被要求的用途，任意一者的特性均可以用于被要求的用途。
作为本实施方式的铝构件100的有用的用途的例子，例如可列举：气体或液体的分离膜；吸湿材料；吸水材料；吸附花粉、粒子状物质、细菌、臭的成分、重金属等异物的吸附材料；擦拭片；浓硫酸等试剂用、检尿用、以及pH试验用等试验片；薄层色谱等色谱用展开构件；除菌和杀菌用材料；反射材料；标准白色板；电池和双电层电容器等的隔膜；催化剂载体；合成反应等的反应场所；隔热材料；等。作为上述分离膜的例子，可列举：反浸透膜、离子交换膜、气体分离膜等。作为上述吸附材料的例子，可列举：罩子、过滤膜、过滤器等。
铝构件100因为白色度高，所以优选用作试验片、色谱用展开构件、反射材料、以及标准白色板。此外，铝构件100因为是多孔质的，所以优选用作分离膜、吸湿材料、吸水材料、吸附材料、色谱用展开构件、隔膜、催化剂载体、反应场所、以及隔热材料。
在此之中，铝构件100因为白色度和水的吸取性能较高，所以更优选用于色谱。在色谱之中，进一步优选用于侧向流动型(日语：ラテラルフロー型)色谱。此外，色谱优选为免疫色谱。在免疫色谱之中，更优选用于侧向流动型免疫色谱。因此，铝构件100可以是色谱用展开构件。色谱用展开构件可以是色谱用试纸。此外，铝构件100优选在利用免疫色谱的检测试剂盒等的体外诊断用医疗品中应用。另外，检测试剂盒有时也称为诊断试剂盒。
[检测试剂盒]
接着，对采用铝构件100的检测试剂盒200的一例进行说明。如图6所示，检测试剂盒200具备铝构件100。具体而言，检测试剂盒200具备铝构件100、试样供给部110、判定部120、吸收部130。
试样供给部110中例如可以含有与流感病毒等检测对象发生特异性结合的标记抗体。从生命体等采集而来的试样被供给到试样供给部110，与标记抗体混合，形成混合液。混合液通过铝构件100的毛细管现象被展开至判定部120，剩余的试样被吸收部130吸收。
判定部120例如具有检测线和控制线。在检测线处例如固定有与检测对象发生特异性结合的抗体。试样中含有检测对象的情况下，标记抗体通过检测对象被固定于检测线的抗体处。在控制线处例如固定有与标记抗体发生特异性结合的抗体。若含试样和标记抗体的混合液展开至控制线，则标记抗体与固定于控制线处的抗体结合。
标记抗体通常包含：着色粒子或金胶体粒子等之类的标记；与该标记结合形成复合体、同时还与检测对象发生特异性结合的抗体。因此，存在标记抗体的浓度或密度较高的位置时，由于标记密集，因此该位置可以通过目视进行确认。由此，基于检测试剂盒200可以进行如下：检测线和控制线两者均可以通过目视确认的情况下为阳性，仅控制线可以通过目视确认的情况下为阴性。
检测试剂盒200例如可以用于：传染病检测；基因分析；怀孕检测；畜牧用检测；食品、动物、植物、金属、房屋灰尘等过敏源检测；等。
作为检测试剂盒200的检测对象，例如可列举：氨基酸、肽、蛋白质、基因、糖、脂质、细胞、或其复合体。更具体而言，可列举：PCT(降钙素原)等肽；尿白蛋白等蛋白质；HCG(人绒毛膜促性腺激素)、LH(黄体激素)等激素；HBs抗原、轮状病毒抗原、腺病毒抗原、RSV(呼吸道合胞病毒)抗原、流感病毒抗原、诺如病毒抗原、腮腺炎病毒抗原、巨细胞病毒抗原、单纯疱疹病毒抗原、水痘·带状疱疹病毒抗原、SARS(严重急性呼吸系统综合症)抗原、HBs抗体、HCV(丙型肝炎病毒)抗体、HIV抗体、EBV抗体、RSV抗体、风疹病毒抗体、麻疹病毒抗体、肠病毒抗体、登革热病毒抗体、SARS抗体等病毒传染病的抗原或抗体；肺炎球菌抗原、支原体抗原、A组溶血性链球菌抗原、军团菌抗原、结核菌抗原、淋菌抗原、破伤风抗原、支原体抗体、幽门螺杆菌抗体、结核菌抗体等细菌传染病的抗原或抗体；衣原体抗原等衣原体传染病的抗原或抗体；梅毒螺旋体抗体等螺旋体传染病的抗原或抗体；疟疾抗体、弓形虫抗体等原生动物疾病的抗原或抗体；等。
[铝构件的制造方法]
接着，对本实施方式的铝构件100的制造方法进行说明。本实施方式的铝构件100的制造方法没有特别限定，例如具有蚀刻工序、皮膜形成工序、去极化处理工序。此外，根据需要，铝构件100的制造方法可以具有水合处理工序。以下，对各工序进行详细说明。
(蚀刻工序)
蚀刻工序中，在皮膜形成工序之前，对铝板进行蚀刻，在铝板处形成多孔质结构。通过蚀刻工序，可以形成具有多孔质结构的铝板，该多孔质结构具有多个槽。蚀刻工序中，通过对铝板进行蚀刻，形成母材11。铝板可以使用与上述基板50相同的材料。即，铝板可以由金属铝构成。
蚀刻工序中，在铝板处形成槽，使铝板多孔质化。由此，通过使铝板成为具有多孔质结构的多孔体，可以扩大其表面积。蚀刻工序例如可以通过电解蚀刻、化学蚀刻等来进行。作为电解蚀刻，可列举直流电解蚀刻、交流电解蚀刻。此外，作为化学蚀刻，可列举使用酸性溶液的化学蚀刻、使用碱性溶液的化学蚀刻。这些蚀刻方法可以单独进行，也可以将多个方法组合。
此处，以电解蚀刻为例进行说明。蚀刻工序中，通过进行直流电解蚀刻，从而在铝板表面形成槽，槽在相对于铝板表面为垂直方向的深度方向上呈管道状生长，并且槽的径值扩大。此外，通过进行交流电解蚀刻，槽在三维方向上形成并呈海绵状生长，并且槽的径值扩大。在槽生长到铝板的中心部的情况下，形成由多孔质层40构成的铝构件100。此外，在槽未生长到铝板的中心部而有未形成多孔质层40的中心部的情况下，形成由多孔质层40和基板50构成的铝构件100。
本实施方式中，基板50的蚀刻优选为交流方式的电化学蚀刻。蚀刻条件没有特别限定，例如蚀刻时间为1分钟～60分钟，蚀刻温度为20℃～80℃。电化学蚀刻的情况下，电流密度例如为50mA/cm2～500mA/cm2。
蚀刻所使用的蚀刻溶液优选为含盐酸的水溶液。盐酸水溶液的浓度优选为6质量％～25质量％。为了抑制铝的过度溶解，盐酸水溶液中可以含有来自氯化铝等的铝离子。氯化铝的浓度优选为0.1质量％～10质量％。
蚀刻工序可以通过一步工序实施，也可以通过分成不同多个的多步工序实施。例如，蚀刻工序可以具有蚀刻溶液中所含的化学物质、蚀刻溶液的浓度、蚀刻时间、蚀刻温度、以及电流密度等不同的多个蚀刻工序。
(皮膜形成工序)
皮膜形成工序中，对具有多孔质结构的铝板进行阳极氧化，在铝板表面形成含氧化铝的皮膜12。皮膜形成工序中，在经过蚀刻工序的多孔质化处理的母材11表面通过阳极氧化来形成皮膜12。此时，铝板中，在露出于外部的母材11表面和形成内部槽的母材11表面形成皮膜12。皮膜形成工序中，例如将设置有基板50的阳极和设置有不锈钢(SUS)的阴极浸渍于电解液中，进行电解处理。
皮膜形成所使用的电解液没有特别限定。例如，可以使用：硼酸、硼酸铵、磷酸、焦磷酸、磷酸铵、己二酸铵、硫酸、或草酸等的水溶液。皮膜形成的条件没有特别限定，例如电压为5V～500V。皮膜形成可以通过一步工序实施，也可以通过分成不同多个的多步工序实施。
(去极化处理工序)
去极化(除极化)处理工序中，对形成有皮膜12的铝板进行去极化处理，除去皮膜12表面的一部分。去极化处理工序中，在皮膜形成工序中所形成的皮膜12的一部分被除去，留在皮膜12中的孔隙和裂纹露出。此外，去极化处理工序中，通过皮膜12的除去(侵蚀)而使得皮膜12的表面粗糙化，可以在皮膜12表面形成凹部13。去极化处理例如通过将作为皮膜形成工序中形成有皮膜12的构件的铝板浸渍于去极化处理液中来实施。
去极化处理液只要可以除去(侵蚀)氧化铝皮膜的表面即可，没有特别限定，但是优选为：溶解有选自磷酸类、磷酸类的金属盐、酒石酸、盐酸、以及盐酸的金属盐中至少一种的溶液；或氢氧化钠溶液和氨水溶液中的至少任意一者。磷酸类包含例如正磷酸、亚磷酸、次磷酸、及其混合物等。形成金属盐的金属例如包含铝、钠、镁、钙和锌等。
作为去极化处理液使用磷酸类和磷酸类的金属盐的情况下，磷酸类和磷酸类的金属盐的含量例如优选为0.1g/L～50g/L。磷酸处理的处理温度例如优选为50℃～80℃。此外，磷酸处理的处理时间优选为1分钟～60分钟。
本实施方式的铝构件100的制造方法中，通过皮膜形成工序和去极化处理工序，从而在皮膜表面形成多个凹部13和多个凸部14中的至少任意一者。即，本实施方式的铝构件100的制造方法中，可以将上述蚀刻工序、上述皮膜形成工序、上述去极化处理工序依次进行至少1次。各工序的实施次数没有特别限定，但是优选在上述蚀刻工序之后，将上述皮膜形成工序和上述去极化处理工序交替重复实施。由此，皮膜12的侵蚀和被侵蚀的皮膜12的修复重复进行，从而形成良好的多孔质层40。多个凹部13和多个凸部14中的至少任意一者优选通过使皮膜形成工序和去极化处理工序交替重复进行2次以上来形成。上述皮膜形成工序和上述去极化处理工序的重复次数没有特别限定，例如可以是20次以下，也可以是15次以下。上述皮膜形成工序和上述去极化处理工序的重复次数优选为2次～10次，更优选为3次～8次。上述皮膜形成工序和上述去极化处理工序的重复次数进一步优选为5次以上。通过使皮膜形成工序和去极化处理工序重复进行，可以在皮膜12处形成多个凹部13，因此可以提升铝构件100的白色度。
(水合处理工序)
本实施方式的铝构件100的制造方法可以具有水合处理工序，但是进行水合处理工序的情况下，优选在其之后重复进行皮膜形成工序和去极化处理工序。铝构件100的制造方法可以在皮膜形成工序之前进一步具有水合处理工序，该水合处理工序是对铝板进行水合处理，在具有多孔质结构的铝板形成水合皮膜。水合处理工序一般是指，在蚀刻工序之后在金属铝表面形成氢氧化铝的水合皮膜的工序，该工序中用沸水等温水对表面经多孔质化处理的铝进行热处理。表面的微细的凹凸被氢氧化铝覆盖时，光的漫反射受到阻碍，铝构件的白色度有时会降低。进一步，铝构件的多孔质部分因氢氧化铝而更容易发生堵塞，因此光的漫反射受到阻碍，铝构件的白色度降低。
通过省略水合处理工序，可以进一步提升铝构件100的白色度。此外，在基于水合处理工序形成水合皮膜的情况下，可以通过进一步实施阳极氧化和去极化处理来将水合皮膜溶解。由此，可以使得水合皮膜减少或消失，在皮膜12表面形成凸部14。并且，该凸部14可以提升白色度。此时，认为残留的水合皮膜或阳极氧化皮膜可以形成凸部14。
具体而言，通过实施阳极氧化和去极化处理，从内层侧的水合皮膜起依次并入阳极氧化皮膜，在母材11表面产生由阳极氧化皮膜和水合皮膜的剩余部分所构成的皮膜12。换而言之，产生母材11、阳极氧化皮膜、水合皮膜的剩余部分依次层叠的层结构。通过对该层结构进一步进行阳极氧化处理和去极化处理，从而在皮膜12处形成凸部14。
另外，根据阳极氧化处理和去极化处理的条件，可以在皮膜12不仅形成凸部14，还形成凹部13。此外，通过将阳极氧化处理和去极化处理进行到水合皮膜不残留这样的程度，可以在皮膜12表面形成凹部13。凸部14由水合皮膜(的剩余部分)或阳极氧化皮膜形成。
如上所述，经过蚀刻工序所引起的母材11的槽生成而产生的多孔质化、皮膜形成工序和去极化处理工序所引起的阳极氧化皮膜的形成和除去，在多孔质层40产生空孔15，从而形成二级粗糙面结构20。此外，基于皮膜形成工序和去极化处理工序，在皮膜12表面产生凹部13，形成一级粗糙面结构10。此外，基于水合处理工序后的皮膜形成工序和去极化处理工序，在皮膜12表面产生凸部14，形成一级粗糙面结构10。进一步，通过在蚀刻工序之后，将皮膜形成工序和去极化处理工序重复进行，使得由一级粗糙面结构10和二级粗糙面结构20的集合体构成的凹凸结构生长，形成三级粗糙面结构30。
如上所述，铝构件100的制造方法具有皮膜形成工序，其对具有多孔质结构的铝板进行阳极氧化，在铝板形成含氧化铝的皮膜12。铝构件100的制造方法具有去极化处理工序，其对形成有皮膜12的铝板进行去极化处理，除去皮膜12表面的一部分。将皮膜形成工序和去极化处理工序交替重复进行。铝板由金属铝构成。进一步，铝构件100的制造方法中，通过皮膜形成工序和去极化处理工序，从而在皮膜12表面形成多个凹部13和多个凸部14中的至少任意一者。此外，皮膜12的厚度为5nm～1000nm。多个凹部13中所含的各凹部13的深度为10nm～100nm，多个凸部14中所含的各凸部14的高度为10nm～100nm。铝构件100具有多个空孔15，多个空孔15的平均细孔径为0.1μm～10μm。
本实施方式对通过电化学蚀刻等制造具备多孔质层40的铝构件100的制造方法进行了说明。但是，铝构件100的制造方法不限定于上述实施方式，例如可以将铝粉体烧结而形成多孔质层40。
实施例
以下通过实施例和比较例对本实施方式进行更详细的说明，但是本实施方式不限定于这些实施例和比较例。
[实施例1]
在含有3mol/L的盐酸和0.2mol/L的硫酸的水溶液中对厚度为150μm的铝箔进行交流电解蚀刻，使得铝箔表面多孔质化之后，用水充分洗涤。铝箔使用纯度为99.98％的高纯度铝。
图7所示为用扫描电子显微镜观察蚀刻后的铝板表面的形态的照片。如图7所示，经蚀刻的铝板具有0.1μm～1μm左右的径值，为具有多个向内部延伸的槽的多孔质结构。此外，在铝板表面形成有多个具有0.1μm～1μm左右的径值的槽，其露出于外部，使得铝板被粗面化。
接着，对经电解蚀刻的铝箔进行阳极氧化，在由纯铝构成的母材表面形成皮膜。具体而言，将设置在阳极的铝箔和设置在阴极的不锈钢(SUS)浸渍在浓度为80g/L、电解液温度为70℃的硼酸电解液中。然后，在200V的电压下进行10分钟的阳极氧化处理。
接着，用水将形成有皮膜的铝箔充分洗涤后，将其在浓度为50g/L、温度为60℃的磷酸水溶液中浸渍20分钟，进行去极化处理。
然后，在与上述相同条件下将上述阳极氧化和上述去极化处理依次重复5次，制备铝构件。
[实施例2]
除了将阳极氧化处理所使用的硼酸电解液变更为磷酸二氢铵1g/L水溶液、将阳极氧化处理电压变更为50V以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。
[实施例3]
除了将阳极氧化处理所使用的硼酸电解液变更为己二酸铵100g/L水溶液、将阳极氧化处理电压变更为150V以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。
[实施例4]
除了将阳极氧化处理所使用的硼酸电解液变更为草酸50g/L水溶液、将阳极氧化处理温度变更为30℃、阳极氧化处理电压变更为20V以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。
[实施例5]
除了在实施阳极氧化处理前作为预处理在浓度为50g/L、温度为60℃的磷酸水溶液中浸渍10分钟来进行去极化处理、将阳极氧化处理的电压变更为150V以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。
[实施例6]
除了作为后处理对重复进行过去极化处理后的试样涂布亲水性包衣剂以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。
[实施例7]
除了作为后处理用20μm厚的尼龙树脂被覆重复进行过去极化处理后的试样的一个面以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。
[实施例8]
除了将用磷酸水溶液进行去极化处理中的1次变更为热处理以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。另外，热处理在空气中、500℃下实施5分钟。
[实施例9]
除了将去极化处理所使用的磷酸水溶液变更为氢氧化钠5g/L水溶液、将去极化处理温度变更为40℃以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。
[实施例10]
在阳极氧化处理前，实施将电解蚀刻后的铝箔在沸腾的纯水中浸渍10分钟的水合处理，然后实施阳极氧化处理和去极化处理，将阳极氧化处理和去极化处理的重复次数变更为7次。除了上述的以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。
[比较例1]
除了对电解蚀刻后的铝箔仅实施1次阳极氧化处理、不实施去极化处理以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。
[比较例2]
除了在不实施电解蚀刻的情况下实施阳极氧化处理和去极化处理以外，以与实施例1相同的方式制备铝构件。
[比较例3]
除了将阳极氧化处理和去极化处理的重复次数变更为1次以外，以与实施例10相同的方式制备铝构件。
[评价]
用扫描电子显微镜观察实施例3、实施例10和比较例3的铝构件表面。电子显微镜照片分别示于图8、图9和图10。
在各例中所获得的铝构件中，对于皮膜厚度、一级结构的凹部或凸部的径值、凹部的深度或凸部的高度、空孔的平均细孔径、弯折试验、算术平均粗糙度Sa、三级粗糙面结构的周期、L＊值、以及水的吸取高度分别如下进行评价。
(皮膜厚度)
在切割铝构件之后，用日本电子株式会社制的CROSS SECTION POLISHER(日语：クロスセクションポリッシャ(注册商标))对切割面进行镜面精加工，获得皮膜厚度测定用样品。用卡尔蔡司株式会社制的扫描电子显微镜ULTRAplus观察该皮膜厚度测定用样品的剖面，测定皮膜的厚度。
(一级结构的凹部的径值)
用卡尔蔡司株式会社制的扫描电子显微镜ULTRAplus观察皮膜表面，取凹部入口部分的直径的平均，求得凹部的径值。
(一级结构的凸部的径值)
用卡尔蔡司株式会社制的扫描电子显微镜ULTRAplus观察皮膜表面，取凸部最大部分的直径的平均，求得凸部的径值。
(凹部的深度)
用扫描电子显微镜观察皮膜的剖面，测定从凹部入口部分到底部的距离，计算出平均值，从而求得凹部的深度。
(凸部的高度)
用扫描电子显微镜观察皮膜的剖面，测定从皮膜的平坦部表面到凸部的顶部的距离，计算出平均值，从而求得凸部的高度。
(空孔的平均细孔径)
通过压汞法测定空孔的平均细孔径。
(弯折试验)
弯折试验按照日本电子机械工业会规定的MIT型弯折试验法(EIAJRC-2364A)来实施。MIT型弯折试验装置使用JISP8115(纸和板纸-耐折强度试验方法-MIT试验机法)所规定的装置。弯折试验中，以铝构件弯折90°到回到原先形状的工序作为1次弯折次数，将铝构件弯折100次，铝构件未断裂的情况下评价为“良”，断裂的情况下评价为“否”。
(算术平均粗糙度Sa)
铝构件中的多孔质层侧表面的算术平均粗糙度Sa按照ISO25178来测定。另外，算术平均粗糙度Sa的测定条件如下所述。
算术平均粗糙度Sa的测定条件
装置：布鲁克AXS株式会社制的3维白色干涉型显微镜ContourGT-I
测定范围：60μm×79μm
物镜：115倍
内部透镜：1倍
(三级粗糙面结构的周期)
用光学显微镜观察所获得的铝构件的剖面，测定三级粗糙面结构的周期。
(L＊值)
按照JISZ8722，用色彩色差计测定铝构件的表面，求得L＊值。另外，测色条件如下所示。
L＊值的测定条件
色彩色差计：柯尼卡美能达日本(日语：コニカミノルタジャパン)株式会社制的CR400
照明·受光光学系统：扩散照明垂直受光方式(D/0)
观察条件：CIE2°视野等色函数近似
光源：C光源
表色系统：L＊a＊b＊
(水的吸取高度)
以铝构件的平面方向相对于液面垂直的方式将铝构件浸入纯水中，放置10分钟后，将水由于毛细管现象而被吸取的高度作为水的吸取高度。
图8、图9和图10所示分别为用扫描电子显微镜观察实施例3、实施例10和比较例3的铝构件表面而得的照片。实施例3的铝构件由于未经过水合处理，因此不含水合皮膜，如箭头所示，在铝构件表面由径值为10nm～200nm的凹部形成一级粗糙面结构。实施例10的铝构件中，基于沸腾纯水的沸腾而形成水合皮膜后，重复实施阳极氧化处理和去极化处理。因此，如箭头所示，在铝构件表面由径值为10nm～200nm的凸部形成一级粗糙面结构。推测这些凹部和凸部对铝构件的白色度有贡献。与此相对，比较例3的铝构件中，由于水合处理后的阳极氧化处理和去极化处理不充分，因此未形成凹部或凸部，经多孔质化处理的铝板表面被具有针状或板状结构的氢氧化铝覆盖。由此，推测比较例3中铝构件的白色度下降。
接着，各例中所获得的铝构件的评价结果如表1所示。
[表1]
如表1所示，实施例1～实施例10的铝构件与比较例1～3的铝构件相比，白色度(L＊值)和水的吸取性能良好。另一方面，比较例1中，由于在阳极氧化处理之后未实施去极化处理，因此未形成凹部或凸部，白色度较低。此外，比较例2中，由于未实施电解蚀刻，因此未形成空孔，水的吸取性能不充分。此外，比较例3中，由于水合处理后的阳极氧化处理和去极化处理的重复次数少，因此表面整体呈被水合皮膜覆盖的状态，白色度较低。
另外，未图示的蚀刻前的铝板中的算术平均粗糙度Sa为0.37μm，L＊值为49.5。此外，图7所示的蚀刻后的铝板中的算术平均粗糙度Sa为0.336μm，L＊值为71.4。因此，在仅仅对铝板进行蚀刻的情况下，铝板的白色度不会提高。
日本专利特愿2018-174947号(申请日：2018年9月19日)的所有内容被纳入本文。
以上，通过实施例和比较例对本实施方式进行了说明，但是本实施方式不限定于这些实施例和比较例，可以在本实施方式的主旨范围内进行种种变形。
产业上利用的可能性
根据本发明，可以提供白色度以及水的吸取性能高的铝构件及其制造方法。
符号说明
10 一级粗糙面结构
11 母材
12 皮膜
13 凹部
14 凸部
15 空孔
20 二级粗糙面结构
30 三级粗糙面结构
40 多孔质层
50 基板
100 铝构件

Claims (9)

1.一种铝构件，其具备多孔质层，该多孔质层包括由金属铝构成的母材和被覆所述母材表面的含有氧化铝的皮膜，
所述皮膜的厚度为5nm～1000nm，
所述皮膜具有形成于表面的多个凹部和多个凸部中的至少任意一者，
所述多个凹部中所含的各凹部的深度为10nm～100nm，
所述多个凸部中所含的各凸部的高度为10nm～100nm，
所述多孔质层具有多个空孔，所述多个空孔的平均细孔径为0.1μm～10μm，
其中，所述各凹部的径值为10nm～200nm且比所述多孔质层的平均细孔径更小，
其中，所述各凸部的径值为10nm～200nm，
其中，如下定义的算术平均粗糙度Sa为1μm～10μm，
其中，如下定义的三级粗糙面结构的周期为30μm～200μm：
算术平均粗糙度Sa：通过对铝构件中多孔质层侧的表面按照ISO25178进行测定来获得；
所述铝构件具有：
由所述皮膜、所述多个凹部和所述多个凸部中的至少任意一者形成的一级粗糙面结构；
由所述母材和所述多个空孔形成的二级粗糙面结构；
由所述一级粗糙面结构与所述二级粗糙面结构的集合构成的三级粗糙面结构，
三级粗糙面结构的周期是指在铝构件的平面方向上夹着凹部相邻的周期性出现的凸部之间、或者是夹着凸部相邻的周期性出现的凹部相互之间的间隔。
2.如权利要求1所述的铝构件，其中，L＊a＊b＊表色系统中的L＊值在80以上。
3.如权利要求1所述的铝构件，其中，由毛细管现象所引起的水的吸取高度在3cm以上。
4.如权利要求1所述的铝构件，其中，在按照MIT型弯折试验法进行的弯折试验中，即使弯折100次以上也不断裂。
5.如权利要求1所述的铝构件，其进一步具备由金属铝构成的基板，
在所述基板的至少一面侧设置有所述多孔质层。
6.如权利要求1～5中任一项所述的铝构件，其用于色谱。
7.一种铝构件的制造方法，具备：
皮膜形成工序，其对具有多孔质结构的铝板进行阳极氧化，在所述铝板形成含氧化铝的皮膜；
去极化处理工序，其对形成有所述皮膜的铝板进行去极化处理，除去所述皮膜表面的一部分；
将所述皮膜形成工序和所述去极化处理工序交替重复进行2次以上，
所述铝板由金属铝构成，
其中，通过所述皮膜形成工序和所述去极化处理工序，在所述皮膜表面形成多个凹部和多个凸部中的至少任意一者，
所述皮膜的厚度为5nm～1000nm，
所述多个凹部中所含的各凹部的深度为10nm～100nm，
所述多个凸部中所含的各凸部的高度为10nm～100nm，
所述铝构件具有多个空孔，所述多个空孔的平均细孔径为0.1μm～10μm，
其中，所述各凹部的径值为10nm～200nm且比所述多孔质层的平均细孔径更小，
其中，所述各凸部的径值为10nm～200nm，
其中，如下定义的算术平均粗糙度Sa为1μm～10μm，
其中，如下定义的三级粗糙面结构的周期为30μm～200μm：
算术平均粗糙度Sa：通过对铝构件中多孔质层侧的表面按照ISO25178进行测定来获得；
所述铝构件具有：
由所述皮膜、所述多个凹部和所述多个凸部中的至少任意一者形成的一级粗糙面结构；
由所述母材和所述多个空孔形成的二级粗糙面结构；
由所述一级粗糙面结构与所述二级粗糙面结构的集合构成的三级粗糙面结构，
三级粗糙面结构的周期是指在铝构件的平面方向上夹着凹部相邻的周期性出现的凸部之间、或者是夹着凸部相邻的周期性出现的凹部相互之间的间隔。
8.如权利要求7所述的铝构件的制造方法，其进一步具有蚀刻工序，该蚀刻工序在所述皮膜形成工序之前，蚀刻所述铝板，在所述铝板形成所述多孔质结构。
9.如权利要求7或8所述的铝构件的制造方法，其进一步具有水合处理工序，该水和处理工序在所述皮膜形成工序之前，对所述铝板进行水合处理，在具有所述多孔质结构的铝板形成水合皮膜。
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