CN112703451A - 用于气体放电台的本体的量测 - Google Patents

Abstract

一种光源装置包括气体放电台，其包括：三维本体，该三维本体限定空腔，该空腔被配置为与能量源交互，该本体包括至少两个端口，该至少两个端口可以透射波长在紫外线范围内的光束；传感器系统，其包括多个传感器，每个传感器被配置为测量气体放电台的本体的相应不同区域相对于该传感器的物理方面；以及控制装置，其与传感器系统通信。控制装置被配置为分析从传感器测量的物理方面，从而确定气体放电台的本体在X轴所限定的XYZ坐标系中的位置，其中X轴由气体放电台的几何形状限定。

Description

用于气体放电台的本体的量测

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年9月12日提交的题为“用于气体放电台的本体的量测”的美国申请号62/730,428的优先权，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

所公开的主题涉及控制气体放电台的本体的位置或对准以改善气体放电台的性能。

背景技术

在半导体光刻(或光学光刻)中，制造集成电路(IC)需要在半导体(例如，硅)衬底(其还被称为晶片)上执行的各种物理过程和化学过程。光刻曝光装置(其还被称为扫描器)是将期望图案施加到衬底的目标区域上的机器。衬底固定到台上，以使衬底通常沿着扫描器的正交的X_L方向和Y_L方向所限定的图像平面延伸。通过光束辐射衬底，该光束的波长在紫外范围内，在可见光与x射线之间的某个位置处，并且因此波长在约10纳米(nm)与约400nm之间。因此，光束的波长可能例如在深紫外线(DUV)范围内，其中波长可能从约100nm下降到约400nm或波长可能在极紫外线(EUV)范围内，其中波长介于约10nm与约100nm之间。这些波长范围并不精确，光是否被视为DUV还是EUV之间可能存在交叠。

光束沿着与扫描器的Z_L方向相对应的轴向方向行进。扫描器的Z_L方向与图像平面(X_L-Y_L)正交。光束通过光束传递单元，通过掩模版(或掩模)过滤，然后投影到所准备的衬底上。衬底与光束之间的相对位置在图像平面中移动，并且该过程在衬底的每个目标区域处重复。这样，把芯片设计图案化到光刻胶上，然后对该光刻胶进行蚀刻和清洁，然后重复该过程。

发明内容

在一些概括方面中，一种光源装置包括：气体放电台，其包括三维本体，该三维本体限定空腔，该空腔被配置为与能量源交互，该本体包括至少两个端口，该至少两个端口可以透射波长在紫外线范围内的光束；传感器系统，其包括多个传感器，每个传感器被配置为测量气体放电台的本体的相应不同区域相对于该传感器的物理方面；以及控制装置，其与传感器系统通信。控制装置被配置为分析从传感器测量的物理方面，从而确定气体放电台的本体在X轴所限定的XYZ坐标系中的位置，其中X轴由气体放电台的几何形状限定。

各实现方式可以包括以下特征中的一个或多个特征。例如，光源装置还可以包括测量系统，该测量系统被配置为测量从气体放电台生成的光束的一个或多个性能参数。控制装置可以与测量系统通信。控制装置可以被配置为：分析气体放电台的本体在XYZ坐标系中的位置以及光束的一个或多个所测量的性能参数；以及确定对气体放电台的本体的位置的修改是否将改善所测量的性能参数中的一个或多个所测量的性能参数。光源装置可以包括致动系统，该致动系统物理耦合到气体放电台的本体，并且被配置为调整气体放电台的本体的位置。控制装置可以与致动系统通信。控制装置可以被配置为基于关于气体放电台的本体的位置是否应当被修改的确定来向致动系统提供信号。致动系统可以包括多个致动器，每个致动器被配置为与气体放电台的本体的区域物理通信。每个致动器可以包括以下各项中的一项或多项：机电设备、伺服机构、电伺服机构、液压伺服机构、和/或气动伺服机构。

控制装置可以被配置为通过确定气体放电台的本体从X轴的平移或气体放电台的本体从X轴的旋转来确定气体放电台的本体在XYZ坐标系中的位置。气体放电台的本体从X轴的平移可以包括以下各项中的一项或多项：气体放电台的本体沿着X轴的平移、气体放电台的本体沿着与X轴垂直的Y轴的平移、和/或气体放电台的本体沿着与X轴和Y轴垂直的Z轴的平移。气体放电台的本体从X轴的旋转可以包括以下各项中的一项或多项：气体放电台的本体围绕X轴的旋转、气体放电台的本体围绕与X轴垂直的Y轴的旋转、和/或气体放电台的本体沿着与X轴和Y轴垂直的Z轴的旋转。

每个传感器可以被配置为测量从传感器到气体放电台的本体的距离作为气体放电台的本体相对于该传感器的物理方面。

气体放电台可以包括位于本体的第一端的束转向设备以及位于本体的第二端的束耦合器，该束转向设备和束耦合器与X轴相交，使得气体放电台中产生的光束与束耦合器和束转向设备交互。当气体放电台的本体在可接受位置范围内时，能量源可以向本体的空腔供应能量，并且束转向设备和束耦合器可以对准，生成光束。光束可以是波长在紫外线范围内的经放大光束。束转向设备可以是光学模块，其包括用于选择并调整光束的波长的多个光学器件，并且束耦合器包括部分反射镜。束转向设备可以包括光学器件布置，该光学器件布置被配置为接收通过第一端口离开气体放电台的本体的光束并且改变光束的方向，使得光束通过第一端口重新进入气体放电台的本体。气体放电台还可以包括扩束器，该扩束器被配置为在光束在束耦合器与空腔之间行进时与该光束交互。

每个传感器可以被配置为相对于气体放电台的本体固定安装。当每个传感器相对于气体放电台的本体固定安装时，每个传感器可以被配置为与另一传感器相距一距离固定。

光源装置还可以包括：第二气体放电台，其与气体放电台光学串联；以及第二多个传感器。第二气体放电台包括第二三维本体，其限定第二空腔，该第二空腔被配置为与能量源交互，该第二本体包括至少两个端口，这些端口可透射波长在紫外范围内的光束。第二多个传感器中的每个传感器可以被配置为测量第二本体的相应不同区域相对于该传感器的物理方面。控制装置可以与第二多个传感器通信，并且可以被配置为分析从第二多个传感器测量的物理方面，从而确定第二本体相对于第二X轴所限定的第二XYZ坐标系的位置，该第二X轴穿过第二本体的至少两个端口。

每个传感器可以包括位移传感器。该位移传感器可以是光学位移传感器、线性接近传感器、电磁传感器、和/或超声位移传感器。每个传感器可以包括非接触式传感器。

X轴可以由束转向设备和束耦合器限定，该束转向设备位于本体的第一端处并且与第一端口光学耦合，并且束耦合器位于本体的第二端处并且与第二端口光学耦合。

在其他概括方面中，一种量测装置包括：传感器系统，该传感器系统包括多个传感器，每个传感器被配置为测量气体放电台的本体相对于该传感器的物理方面；测量系统，该测量系统被配置为测量从气体放电台生成的光束的一个或多个性能参数；致动系统，该致动系统包括多个致动器，每个致动器被配置为物理耦合到气体放电台的本体的不同区域，该多个致动器一起工作以调整气体放电台的本体的位置；以及控制装置，该控制装置与传感器系统、测量系统和致动系统通信。控制装置被配置为：分析从传感器测量的物理方面，从而确定气体放电台的本体在气体放电台所限定的X轴所限定的XYZ坐标系中的位置；分析气体放电台的本体的位置；分析一个或多个所测量的性能参数；并且基于对气体放电台的本体的位置和一个或多个所测量的性能参数的分析来向致动系统提供信号以修改气体放电台的本体的位置。

各实现方式可以包括以下特征中的一个或多个特征。例如，传感器可以彼此分开并且相对于气体放电台的本体定位。

控制装置可以被配置为基于对气体放电台的本体的位置和一个或多个所测量的性能参数的分析、通过确定优化了光束的多个性能参数的气体放电台的本体的位置，来向致动系统提供信号以修改气体放电台的本体的位置。

X轴可以由束转向设备和束耦合器限定，该束转向设备位于本体的第一端处并且与第一端口光学耦合，并且束耦合器位于本体的第二端处并且与第二端口光学耦合。

在其他概括方面中，一种方法包括：在光源的气体放电台的本体的多个不同区域的每个区域处，测量本体在该区域处的物理方面；测量从气体放电台生成的光束的一个或多个性能参数；分析所测量的物理方面，从而确定本体在X轴所限定的XYZ坐标系中的位置，其中X轴由与气体放电台相关联的多个孔限定；分析气体放电台的本体的所确定的位置；分析一个或多个所测量的性能参数；确定对气体放电台的本体的位置的修改是否将改善一个或多个所测量的性能参数；以及如果确定对气体放电台的本体的位置的修改将改善一个或多个所测量的性能参数，则修改气体放电台的本体的位置。

各实现方式可以包括以下特征中的一个或多个特征。例如，气体放电台的本体的位置可以基于对气体放电台的本体的所确定的位置的分析来修改。

气体放电台的本体的位置可以通过确定以下各项中的一项或多项来确定：气体放电台的本体从X轴的平移和/或气体放电台的本体从X轴的旋转。气体放电台的本体可以通过以下各项中的一项或多项来从X轴或沿着X轴平移：沿着X轴平移气体放电台的本体、沿着与Y轴垂直的Y轴平移气体放电台的本体、和/或沿着与X轴和Y轴垂直的Z轴平移气体放电台的本体。气体放电台的本体可以通过以下各项的一项或多项来从X轴或围绕X轴旋转：围绕X轴旋转气体放电台的本体、围绕与X轴垂直的Y轴旋转气体放电台的本体、和/或沿着与X轴和Y轴垂直的Z轴旋转气体放电台的本体。

本体的物理方面可以通过测量从传感器到气体放电台的本体的区域的距离来测量。

确定对气体放电台的本体的位置的修改是否将改善所测量的性能参数中的一个或多个所测量的性能参数可以包括：确定气体放电台的本体的位置，该位置优化多个所测量的性能参数。

该方法还可以包括：从气体放电台生成光束，其包括：形成谐振器，该谐振器由位于本体的一侧的束耦合器以及位于本体的另一侧的束转向设备限定，束耦合器和束转向设备限定X轴并且在本体所限定的空腔中的增益介质内生成能量。

光束的一个或多个性能参数可以通过测量多个性能参数来测量。多个性能参数可以通过测量以下各项中的两项或更多项来测量：光源所产生的脉冲光束的重复率、脉冲光束的能量、脉冲光束的占空比、和/或脉冲光束的光谱特征。该方法还可以包括：确定气体放电台的本体的最优位置，该最优位置提供光束的性能参数值的最优集合；以及将气体放电台的本体的位置修改为最优位置。

在其他概括方面中，一种量测套件包括：传感器系统，该传感器系统包括多个传感器，每个传感器被配置为测量三维本体相对于该传感器的物理方面；测量系统，该测量系统包括多个测量设备，每个测量设备被配置为测量光束的性能参数；致动系统，该致动系统包括多个致动器，该多个致动器被配置为物理耦合到三维本体；以及控制装置，该控制装置被配置为与传感器系统、测量系统和致动系统通信。该控制装置包括：传感器处理模块，该传感器处理模块被配置为与传感器系统接口并且从传感器系统接收传感器信息；测量处理模块，该测量处理模块被配置为与测量系统接口并且从测量系统接收测量信息；致动器处理模块，该致动器处理模块被配置为与致动系统接口；以及光源处理模块，该光源处理模块被配置为与具有三维本体的气体放电台接口。

各实现方式可以包括以下特征中的一个或多个特征。例如，控制装置可以包括分析处理模块，该分析处理模块与传感器处理模块、测量处理模块、致动器处理模块、以及光源处理模块通信。分析处理模块可以被配置为使用时指令光源处理模块调整气体放电台的一个或多个特点，并且基于气体放电台的所调整的特点来分析传感器信息和测量信息并确定对致动器处理模块的指令。

量测套件可以是模块化的，使得其被配置为与一个或多个气体放电台可操作地连接和断开连接，每个气体放电台包括限定空腔的相应三维本体，该空腔生成相应光束。

附图说明

图1是被配置为确定三维本体在气体放电台的XYZ坐标系中的位置的装置的框图，该装置包括传感器系统；

图2A是图1的装置的透视图；

图2B是来自图2A的装置的本体的透视图，其中本体的纵向轴线与XYZ坐标系的X轴对准；

图3A是来自图2A的装置的本体的透视图，其中通过本体围绕XYZ坐标系的Y轴旋转，本体的纵向轴线与XYZ坐标系的X轴未对准；

图3B是来自图2A的装置的本体的透视图，其中通过本体围绕XYZ坐标系的Z轴旋转，本体的纵向轴线与XYZ坐标系的X轴未对准；

图3C是来自图2A的装置的本体的透视图，其中通过本体围绕XYZ坐标系的X轴旋转，本体的纵向轴线与XYZ坐标系的X轴未对准；

图3D是来自图2A的装置的本体的透视图，其中通过本体沿着XYZ坐标系的Y轴平移，本体的纵向轴线与XYZ坐标系的X轴未对准；

图3E是来自图2A的装置的本体的透视图，其中通过本体沿着XYZ坐标系的Z轴平移，本体的纵向轴线与XYZ坐标系的X轴未对准；

图3F是来自图2A的装置的本体的透视图，其中通过本体沿着XYZ坐标系的X轴平移，本体的纵向轴线与XYZ坐标系的X轴未对准；

图4是图1至图2B的本体和装置的透视图，其示出了传感器系统和控制装置的实现方式；

图5是沿着图4的本体和装置的YZ平面截取的侧面剖视图；

图6是XY平面的平面图，其示出了本体以及图1至图2A的装置的传感器系统如何测量本体的位置的示例；

图7是被配置为测量本体的位置的装置的透视图，该装置与图2A的设计类似，除了图7的装置还包括被配置为调整本体相对于XYZ坐标系的X轴的位置(因此调整了本体的纵向方向)的致动系统之外；

图8是图7的本体和装置的透视图，其示出了传感器系统、控制装置和致动系统的实现方式；

图9是被配置为测量本体的位置并且调整本体的位置的装置的透视图，该装置与图7的设计类似，除了图9的装置还包括被配置为测量或监测气体放电台的性能或性能特点的测量系统之外；

图10是图9的本体和装置的透视图，其示出了传感器系统、控制装置、致动系统和测量系统的实现方式；

图11是对准反馈控制过程的实现方式的图表，其中在本体的位置围绕Z轴旋转并且沿着Y轴平移时，确定从气体放电台输出的光束的最佳能量；

图12是包括两个气体放电台的双台光源的框图，其中该气体放电台中的一个或两个气体放电台都可以包括图2A、图7或图9的装置；

图13是量测套件的框图，该量测套件包括构成图9的装置的部件；

图14是图1、图2A、图7或图9的装置所执行的程序的流程图；以及

图15是包括图1、图2A、图7或图9的装置的光源的框图。

具体实施方式

参考图1和图2A，装置100被设计为确定三维本体102相对于坐标系104的X轴106在XYZ坐标系104中的位置。本体102是气体放电台108的一部分，该部分被配置为产生波长在紫外线范围内的光束110。本体102限定空腔112，该空腔112被配置为与能量源114交互，该能量源114可以包括一对电极。如下文所更详细地讨论的，能量源114可以固定到本体102。

气体放电台108包括本体102以及用于产生光束110的其他光学部件(诸如部件140、142)。气体放电台108可以包括在图1和图2A中未示出的其他部件。气体放电台108在图2A中表示为长方体不一定与物理壁相对应，并且以这种方式示出以指出其可以包括未示出的其他部件。气体放电台108可以简单地与其上放置所有光学部件(包括本体102在内)的平台相对应。从气体放电台108输出的光束110可以用于诸如光刻曝光装置(如下文参考图15所讨论的)之类的装置以对衬底W进行图案化，或可以在用于装置之前，还对其进行处理。

本体102可相对于气体放电台108的部件移动。在操作期间，本体102在XYZ坐标系104中的位置可能会由于本体102外部的因素而发生改变。例如，气体放电台108内的压力和温度变化可能会使得本体102在XYZ坐标系104中移动。未对准的另一原因是本体102内部的内部改变，该内部改变引起对准发生改变。例如，这可能随着能量源114的电极老化并且在其使用过程中改变形状而发生。附加地，电极上的磨损以及对能量源114的电极的几何修改是必须将本体102更换为新本体的一个原因。而且，当本体102替换为新本体102时，该本体102变得未对准。在这种情况下，新本体102需要与X轴106适当对准。

在图1和图2A的示例中，本体102与X轴106对准。本体102与X轴106之间的对准可以基于本体102的纵向轴线Ab与X轴106对准的程度来确定。图2B中示出了本体102的纵向轴线Ab。该纵向轴线Ab可以被限定为与位于本体102的端部的两个端口118、120相交的轴线。端口118、120可透射波长在紫外线范围之内的光束122(其将形成光束110)。

参考图3A至图3F，气体放电台108的本体102可以以一个或多个方式相对于X轴106未对准。例如，在图3A中，本体102围绕Y轴旋转成不对准，并且其纵向轴线Ab不与X轴106对准。在图3B中，本体102围绕Z轴旋转成不对准并且其纵向轴线Ab不与X轴106对准。在图3C中，本体102围绕X轴旋转成不对准。在这种情况下，纵向轴线Ab沿着X轴106偏移。如果本体102被配置为搁置在平台上，则通过重力举起该本体102，并且地球的平面为XY平面。在这种情况下，常见未对准是图3B所示的未对准，其中本体102围绕Z轴旋转成未对准。

在图3D中，本体102沿着Y轴平移成未对准，并且纵向轴线Ab沿着Y轴从X轴106偏移。在图3E中，本体102沿着Z轴平移成未对准，并且纵向轴线Ab沿着Z轴从X轴106偏移。并且在图3F中，本体102沿着X轴106平移成未对准，并且纵向轴线Ab沿着X轴106偏移。如果本体102被配置为搁置在平台上并且通过重力举起，并且地球的平面是XY平面，则对气体放电台108的效率的影响相对较大的常见未对准是图3D所示的未对准，其中本体102沿着Y轴平移。

本体102可以以一个以上的方式未对准，并且因此它既可以平移又可以旋转，可以沿着一个以上的轴线平移，或可以围绕一个以上的轴线旋转。

与本体102的某些未对准可以对气体放电台108的效率和操作产生的影响不同。而且，对一些调整的修改可能更容易进行或更可行。例如，可以相对容易地执行沿着Y轴(图3D所示)的平移和围绕Z轴(图3B所示)的旋转，因此，可以跟踪它们对气体放电台108的效率和操作的影响。因此，在该示例中，装置100确定本体102沿着Y轴的平移并且确定本体102围绕Z轴的旋转值(角度)。装置100可以确定本体102沿着其他两个轴线中的一个或两个轴线的平移以及围绕其他两个轴线中的一个或两个轴线的旋转值。

本体102的位置或本体102相对于X轴106的未对准对气体放电台108操作的效率有影响。如果本体102相对于X轴106未对准，则这可能引起气体放电台108的操作效率低下，并且这可能导致光束110的质量下降。例如，光束的路径110与X轴106重合，并且X轴106基于与光学部件140、142相关联的孔来确定。固定到本体102的能量源114(其包括电极)向空腔112供应能量以使用放电泵送气体。使用能量源114泵送气体产生气体的等离子体状态。而且，当该等离子体状态与X轴106对准时(其在本体102与X轴106适当对准时发生)，谐振空腔(其由部件140、142形成并且沿着X轴106限定)与等离子状态之间存在有效耦合，并且光束110参数得以改进。另一方面，当该等离子体状态与X轴106未对准时(其在本体102与X轴106未对准时发生)，谐振空腔与等离子体状态之间的耦合效率低下，并且光束110参数受到影响。例如，气体放电台108的操作效率下降。在这种场景中，则需要更多能量(例如，通过能量源114)供应给本体102，以便维持光束110的性能参数。

作为另一示例，在下文关于图12所讨论的双台设计中，本体102在第一气体放电台1272中的未对准导致该第一气体放电台1272的效率低下，这会引起接收从第一气体放电台1272输出的光束1273的第二气体放电台1273的性能降低。反过来，这又使得第二气体放电台1273的操作受到影响，除非进行改变以操作第二气体放电台1273。

装置100为该对准提供了可量化量测，还提供了先前未提供的对本体102相对于X轴106的位置的快速且准确的直接测量。而且，装置100确定本体102从X轴106的位置，而不必依赖于对气体放电台108的性能的缓慢且不准确的测量。

特别地，如下文所讨论的，装置100使用本体102的多个直接测量来确定本体102相对于XYZ坐标系104的位置。

在一些实现方式中，装置100可以操作以在正在其中产生光束110的气体放电台108的使用期间确定本体102的位置。在其他实现方式中，在本体102最初安装在系统中之后但在其用于产生光束110以供装置使用之前，装置100可以操作以确定本体102的位置。

装置100包括传感器系统124，该传感器系统124的输出用于确定本体102相对于X轴106的位置。传感器系统124包括至少两个传感器124a和124b，其提供本体102的方向测量。虽然图1中示出了两个传感器124a和124b，但是传感器系统124可以具有两个以上的传感器。每个传感器124a、124b被配置为测量气体放电台108的本体102的相应不同区域126a、126b相对于该传感器124a、124b的物理方面。

装置100包括控制装置128，其与传感器系统124的每个传感器124a、124b通信。控制装置128被配置为分析从传感器124a、124b测量的物理方面，从而确定气体放电台108的本体102的相对于X轴106的位置。

本体102可以是被配置为在空腔112内容纳包括增益介质的气体混合物的任何形状。当能量源114提供的能量足以形成等离子体状态时，在增益介质中发生光学放大。气体混合物可以是被配置为在所需波长和带宽附近产生经放大光束(或激光束)的任何合适的气体混合物。例如，气体混合物可以包括发出波长约为193nm的光的氟化氩(ArF)或发出波长约为248nm的光的氟化氪(KrF)。

而且，如下文所详细讨论的，光学反馈机构可以相对于本体102布置或配置，以提供光学谐振器。

能量源114可以包括两个细长电极，该两个细长电极在空腔112中延伸并且固定到本体102。供应给电极的电流使得在空腔112内生成电磁场，该电磁场提供了增益介质形成其中发生光学放大的等离子体状态所需的能量。本体102还可以容纳风扇，该风扇使电极之间的气体混合物循环。

本体102由诸如金属合金(不锈钢)之类的刚性非反应材料制成。本体102可以具有任何合适的几何形状，并且该几何形状由电极的布置以及端口118、120确定。本体102可以具有长方体形状或立方体形状。如图2A所示，本体102具有长方体形状，该长方体形状具有与X轴106相交的两个平坦的平行表面130x、131x以及在平坦表面130x、131x之间延伸的四个平坦表面132z、133z、134y、135y。表面132z、133z彼此平行并且与Z轴相交，并且表面134y、135y彼此平行并且与Y轴相交。在该示例中，区域126a、126b位于表面134y上。在其他实现方式中，区域126a、126b可以位于本体102的其他表面或几个不同表面上。

本体102上的端口118、120可以透射形成光束110的光束122。因此，端口118、120可以透射波长在紫外线范围内的光。端口118、120可以由可以涂覆有抗反射材料的诸如熔融二氧化硅或氟化钙之类的刚性衬底制成。端口118、120可以具有与光束122交互的平坦表面。因为本体102的空腔112保持或保留气体混合物，所以需要封闭或密封本体102，并且可以气密密封该本体102。因此，端口118、120也被气密密封在本体102的相应开口中，以确保气体混合物不会在端口与本体102之间的接缝处从本体102泄露。

在一些实现方式中，X轴106和XYZ坐标系104由气体放电台108的设计限定。特别地，X轴106被限定为穿过气体放电台内的两个孔的线。这两个孔可以被定位为与气体放电台108中的本体102交互的相应光学部件140、142相邻。这样，光学部件140、142及其孔限定了X轴106(因此XYZ坐标系104)。而且，这些光学部件140、142限定用于形成光束110的光学谐振器。

在一些实现方式中，光学部件140、142可以形成光学反馈机构以提供光学谐振器，从而从光束122输出光束110。因此，当气体放电台108的本体102在可接受位置范围内时，能量源114向本体102的空腔112供应能量，并且光学部件140、142对准，生成光束122。

在一些实现方式中，光学部件140可以是光谱特征装置，其接收前体光束121并且使得能够通过调整前体光束121的光谱特征来对光束122的光谱特征进行微调。可以使用光谱特征装置调谐的光谱特征包括光束的中心波长和带宽122。光谱特征装置包括一组光学特征或部件，这些光学特征或部件被布置为与前体光束121光学交互。光谱特征装置的光学部件包括例如可以是光栅的色散光学元件以及可以是棱镜的由一组折射光学元件制成的扩束器。光学部件142可以是允许从腔内光束中提取光束122的输出耦合器。输出耦合器可以包括部分反射镜，允许腔内光束的特定部分作为光束122透射通过。气体放电台108还可以包括扩束器，该扩束器被配置为在光束122在输出耦合器(光学部件142)与空腔112之间行进时与该光束122交互。

在其他实现方式中，光学部件140可以是束转向设备，并且光学部件142可以是束耦合器。束转向设备包括光学器件布置，该光学器件布置被配置为接收通过端口118离开气体放电台108的本体102的前体光束121，并且改变光束121的方向，以使光束121通过第一端口118重新进入气体放电台的本体。

如上文所讨论的，传感器系统124中的每个传感器124a、124b被配置为测量气体放电台108的本体102相对于该传感器124a、124b的物理方面。作为本体102的物理方面，每个传感器124a、124b可以测量从传感器124a、124b到气体放电台108的本体102的距离。

在各种实现方式中，传感器124a、124b安装到气体放电台108的机械稳定结构，其中该结构将传感器124a、124b相对于彼此以及相对于限定X轴106或限定XYZ坐标系104的部件保持处于固定位置。例如，传感器124a、124b可以安装在光学平台上，也可以安装到刚性耦合到光学元件(例如，光学元件140、142)的其他稳定机械底座上，这些其他稳定机械底座描绘了X轴106，该X轴106是系统的光轴。

例如，每个传感器124a、124b被配置为相对于XYZ坐标系104固定安装。因此，在测量期间，传感器124a、124b相对于XYZ坐标系104固定。附加地，每个传感器124a、124b被配置为当它相对于XYZ坐标系104固定安装时，与另一传感器124b、124a相距一定距离固定。因此，在操作和测量期间，传感器124a、124b之间的距离d(ss)固定。传感器124a、124b之间的距离d(ss)沿着X轴106足够大，使得控制装置128可以基于来自传感器124a、124b的输出来确定围绕Z轴的旋转(图3B)。特别地，来自传感器124a、124b中的每个传感器的输出之间的相对改变可以用于确定围绕Z轴的旋转(图3B)。传感器124a、124b的测量分辨率足够快以实现对准。例如，1秒(s)的时间分辨率可能足够快；或小于1s(例如，0.1s)的时间分辨率可能足够快。

在一些实现方式中，每个传感器124a、124b包括位移传感器。位移传感器可以是光学位移传感器、线性接近传感器、电磁传感器、或超声位移传感器。

每个传感器124a、124b可以是非接触式传感器，这意味着它不会与本体102接触。在其中传感器124a、124b为接触式传感器非接触式传感器的这种设计中，测量本身不会明显(例如，大于1μ)位移本体102，因为任何这种位移都会影响气体放电台108的性能。

具有合适分辨率(例如，分辨率优于10μm(也就是说，小于10μm))的任何非接触式量测都适用于该应用。接触式传感器非接触式传感器的一个示例是激光位移传感器，其是一种现成产品，该现成产品包括激光光源和光电二极管阵列。每个传感器124a、124b的激光光源将光照亮在本体102的表面134y上；并且光被反射回到相应传感器124a、124b；并且二极管阵列上的经反射光所着陆的位置与本体102的表面134y的位移相对应。

在其他实现方式中，传感器124a、124b是接触式传感器，其在相应区域126a、126b处与本体102的接触最少。例如，传感器可以是用于将本体102的机械运动转换为可变电流、电压或电信号的机电设备。这种传感器的示例是线性可变位移换能器(LVDT)，其是一种提供与正在被测量的特点(位置)有关的电压输出量的设备。

控制装置128包括以下各项中的一项或多项：数字电子电路系统、计算机硬件、固件、以及软件。控制装置128包括存储器，其可以是只读存储器和/或随机存取存储器。适用于有形体现计算机程序指令和数据的存储设备包括所有形式的非易失性存储器，其例如包括半导体存储器设备，诸如EPROM、EEPROM、以及闪存设备；磁盘，诸如内部硬盘和可移除磁盘；磁光盘；以及CD-ROM磁盘。控制装置128还可以包括一个或多个输入设备(诸如键盘、触摸屏、麦克风、鼠标、手持式输入设备等)和一个或多个输出设备(诸如扬声器或监测器)。

控制装置128包括一个或多个可编程处理器以及一个或多个计算机程序产品，该一个或多个计算机程序产品以有形方式体现在机器可读存储设备中以供可编程处理器执行。一个或多个可编程处理器可以各自执行指令程序，以通过对输入数据进行操作并且生成适当输出来执行期望功能。通常，处理器从存储器接收指令和数据。前述内容中的任一项都可以通过专门设计的ASIC(专用集成电路)补充或并入其中。

控制装置128包括一组模块，其中每个模块包括诸如处理器之类的一个或多个处理器所执行的一组计算机程序产品。而且，模块中的任何模块都可以访问存储器内存储的数据。每个模块可以从其他部件接收数据，然后根据需要分析这样的数据。每个模块可以与一个或多个其他模块通信。

尽管控制装置128被表示为盒子(其所有部件可以位于其中的同一位置)，但是控制装置128可以由在物理上彼此远离的部件组成。例如，特定模块可以与传感器系统124在物理上位于同一位置，或特定模块可以与另一部件在物理上位于同一位置。

参考图4，在一些实现方式中，传感器124a、124b被布置为与表面134y交互。在这些实现方式中，传感器124a、124b安装在平台144上，该平台支撑传感器124a、124b的重量并且维持传感器124a、124b的稳定性。在图4中，平台144是三足框架或架子。图5示出了该布置的侧面剖视图。在图5中，平台144是其上放置传感器124a、124b的基本平台基座544。平台基座544可以集成到框架或固定在气体放电台108内的其他部件中。传感器124a、124b可以是可重定位的；也就是说，传感器124a、124b可以放置在相对于本体102的任何两个区域的任何位置处，然后移动到相对于本体102的其他两个区域的另一位置。

如图5所示，能量源114是布置在空腔112中的一对电极514A、514B。电极514A、514B沿着X轴106延伸。

此外，参考图6，每个传感器124a、124b测量距本体102的表面134y的相应区域126a、126b的距离或位移。例如，传感器124a测量从传感器124a到表面134y的区域126a的位移d(a))，并且传感器124b测量从传感器124b到表面134y的区域126b的位移d(b)。附加地，控制装置128所执行的计算需要一组参考位移D(a)和D(b)。参考位移D(a)和D(b)是相应传感器124a、124b在本体102与X轴106和XYZ坐标系104适当对准的时间期间进行的测量(这由被标记为102_ref的虚线框示出)。在一些实现方式中，当气体放电台108在其最高效率下操作时(例如，当通过能量源114输入的最大能量转换为光束110中的能量时)，可以假定本体102与X轴106之间发生适当对准。

从相应传感器124a、124b输出的位移d(a)和d(b)的值不必彼此线性无关。这意味着一个传感器的位移(诸如d(a))可以用另一传感器的位移(诸如d(b))来写出。通过使用附加信息，这种线性相关值可以变换为线性无关值。在这种情况下，当本体102与X轴106对准时在区域126a、126b之间沿着X轴106所取的距离L可以用于提供这种变换。具体地，如接下来所讨论的，距离L连同d(a)和d(b)可以用于确定本体102的中心的相对位置(由R给出)和本体围绕Z轴的相对角度方位θ。

相对位移d′(a)和d′(b)由下式给出：

d'(a)＝D(a)-d(a)：以及

d′(b)＝D(b)-d(b)。

并且，本体102的相对位移R被限定为相对位移d′(a)和d′(b)之和的一半，如下：

相对角度方位θ可以近似为相对位移d′(a)和d′(b)与距离L之差的比例，如下：

由于L>>|d′(a)-d′(b)|，所以调用了小角度近似。例如，L的量级为几百毫米(mm)(例如，0.5米至0.7米)，而|d′(a)-d′(b)|的量级为mm。

参考图7，在一些实现方式中，装置700被设计为不仅确定三维本体102的位置，而且还使本体102在XYZ坐标系104中移动。为此，装置700与装置100基本类似，并且包括上文所详述的并且在图1中示出的所有部件，并且本文中不再重复对那些部件的讨论。

装置700还包括致动系统754，该致动系统754物理耦合到气体放电台108的本体102，该致动系统754被配置为调整气体放电台108的本体102在XYZ坐标系104内的位置。控制装置128与致动系统754通信，并且被配置为基于来自传感器系统124的输出来向致动系统754提供信号。特别地，控制装置128确定气体放电台108的本体102的位置是否应当基于来自传感器系统124的输出来修改，并且控制装置128基于该确定来确定如何调整到致动系统754的一个或多个信号。

致动系统754包括多个致动器754a、754b等，其中每个致动器被配置为与气体放电台108的本体102的相应区域756a、756b等物理通信。尽管致动系统754被示为与表面134y物理通信，但是致动系统754可以包括一个或多个致动器，该一个或多个致动器与本体102的一个或多个其他表面物理通信。而且，致动系统754不必与通过传感器系统124测量的相同表面或多个表面物理通信。

每个致动器754a、754b可以包括以下各项中的一项或多项：机电设备、伺服机构、电伺服机构、液压伺服机构、和/或气动伺服机构。赋予区域756a、756b的各种运动用来沿着上文关于图3A至图3C所详述的旋转方向中的任一旋转方向和上文关于图3D至图3F所详述的平移方向中的任一平移方向调整本体102的位置。

参考图8，在一些实现方式中，每个相应区域756a、756b与附接到表面134y的旋转底座857a、857b相关联。旋转底座857a、857b通过旋转而被致动，并且该旋转被转换为平移运动。因此，例如，底座857a沿顺时针方向的旋转沿着-Y方向平移固定到区域756a的杆(其使得区域756a沿着-Y方向平移)。并且，同时底座857a沿逆时针方向的旋转沿着Y方向平移固定到区域756a的杆(其使得区域756a沿着Y方向平移)。通过同时且同步(沿相同方向)旋转两个旋转底座857a、857b，沿着Y轴平移本体102，如图3D所示。如图3B所示，底座857a、857b同时且异步(沿相反方向)旋转使得本体102围绕Z轴旋转。例如，顺时针旋转一个底座857a而逆时针旋转另一底座857b使得区域756a沿着-Y方向平移，同时使得区域756b沿着Y方向平移，并且这使得本体102围绕Z轴旋转。可以同时进行底座857a、857b的同步旋转和异步旋转，以将沿着Y轴的平移和围绕Z轴的旋转赋予本体102。在该示例中，相应区域756a、756b处的旋转底座857a、857b分别由致动器754a、754b控制。致动器754a、754b可以是使相应底座857a、857b旋转的任何设备。而且，底座857a、857b的旋转可以呈增量步进方式。

参考图9，在一些实现方式中，装置900被设计为不仅(使用传感器系统124)确定三维本体102的位置并且(使用致动系统754)调整本体102的位置，而且还可以测量或监测气体放电台108的性能或性能特点。如上文所讨论的，本体102的对准影响或改变了气体放电台108的性能，因此，期望本体102的未对准将降低性能。为此，装置900与装置700基本相似，并且包括上文所详述并且在图1中示出的所有部件，并且本文中不再重复对那些部件的讨论。

装置900还包括测量系统960，该测量系统960被布置为测量光束110的性能参数。性能参数的示例包括光束110的能量E，诸如光束110的带宽或波长之类的光谱特征，以及光束110在装置(诸如光刻曝光装置)处的剂量。控制装置128与测量系统960通信。这样，控制装置128可以找到提供一个或多个最佳或改进性能参数的本体102的最佳或改进位置或对准。因为气体放电台108的性能基于许多不同的参数来测量，所以在进行确定时，控制装置128可以考虑包括多个参数的参数空间。例如，控制装置128可以执行用于调整本体102的位置的自适应控制，该自适应控制提供落入可接受范围内的光束110的一组性能参数。

测量系统960可以包括一个或多个测量设备，其中每个测量设备相对于光束110定位并且测量特定性能参数。测量系统960可以包括用于测量光束110的能量的能量监测器作为测量设备。测量系统960可以包括被配置为测量光谱特征(带宽或波长)的光谱特征分析设备作为测量设备。在这些情况下，测量装置可以是已经包括在气体放电台108中的设备，或是已经存在以测量光束110的这些方面的分析模块的一部分。例如，分析模块可以包括波长计和带宽计，其除其他部件之外还包括带有成像透镜的标准具以及光束均化光学器件。分析模块还可以包括光电检测器模块(PDM)，该光电检测器模块监测光束110的能量，并且针对诊断和定时目的提供快速的光电二极管信号。在一些实现方式中，一个或多个能量传感器可以被放置在沿着光束110的路径的任何地方。控制装置128可以基于该测量的能量与通过能量源114输入的能量(其可以是施加到能量源114的电极的电压)的比例来估计气体放电台108的效率。

测量设备可以与光谱特征调整器(诸如图12所示的光谱特征调整器1275)内的诊断相关联。光谱特征调整器1275从气体放电台1272的本体102接收前体光束1276，以使得在相对较低的输出脉冲能量下能够对诸如光束1274的中心波长和带宽之类的光谱参数进行微调。因为光谱特征调整器1275内的光束扩展与光束1274(因此与光束110)的带宽直接相关，所以可以监测光谱特征调整器1272内的光束扩展光学器件以跟踪光束110的光谱特征(诸如带宽)。

测量系统960可以包括测量设备，该测量设备被配置为测量光束110在光刻曝光装置处的剂量。测量系统960可以包括测量设备，该测量设备被配置为测量光束110的脉冲产生的重复率。测量系统960可以包括测量设备，该测量设备被配置为测量光束110的占空比。这些测量设备可以包括激光能量检测器(诸如光电检测器)。在该示例中，剂量可以估计为激光能量检测器所检测到的固定数目的脉冲内的能量之和；重复率可以估计为激光能量检测器所检测到的任何两个脉冲(通常为固定脉冲)之间的时间的倒数；并且占空比可以任意限定为在时间帧(诸如最近的两分钟)中激发的脉冲数目除以最大重复率乘以该时间帧中经过的时间(例如，两分钟)后得到的值。测量设备还可以包括计时器，以便控制装置128从输出中计算出重复率和占空比。

控制装置128可以将独立信号发送到致动器754a、754b，从传感器124a、124b的每个传感器中读取独立测量，以及从测量系统960中的测量设备中的每个测量设备中读取独立测量。

在操作中，控制装置128对气体放电台108的本体102的位置(它从传感器系统124接收)和光束110的一个或多个所测量的性能参数(它从传感器系统960接收)两者进行分析。控制装置128确定对气体放电台108的本体102的位置的修改是否将改善所测量的性能参数中的一个或多个所测量的性能参数，控制装置128可以执行映射位置空间的过程，并且确定实现最佳性能参数(或多个参数)的最优位置。

参考图11，地形图1162中示出了对准反馈控制过程的示例，其中本体102的位置可以围绕Z轴(图3B)旋转，沿着Y轴平移(图3D)，或两者兼而有之。图1162示出了相对于围绕Z轴的旋转的值(1162Z)和沿着Y轴的平移的值(1162Y)的性能参数(诸如能量)的值。因为该图是地形图，所以每一行上都列出了能量的值。通过这些轮廓线描绘了与图1162相对应的三维表面的形状，并且这些线的相对间隔指示三维表面的相对斜率。

在该示例中，控制装置128在控制致动器754a、754b的同时接收传感器124a、124b所测量的位置，以便生成光束110的能量的图1162。能量的较高的值表示更有效的能量值。因此，确定了本体102沿着Y轴的位置的值和本体102围绕Z轴的旋转角的值，其提供了光束110的最有效的能量值。在一些实现方式中，反馈控制过程可以被配置为智能查找地图的峰值(因此可以找到能量的峰值)，而无需映射整个空间。例如，搜索路径1164示出了修改本体102沿着Y轴的位置并且使本体102围绕Z轴旋转以获得光束110的最有效的能量值的一种特定方式。

反馈控制过程可以是非线性优化问题，其可以从所有可行解中找到最佳解(图的峰值或能量的峰值)。例如，该过程可以是梯度上升，其是用于找到函数的最大值的一阶迭代优化算法。

参考图12，在一些实现方式中，气体放电台108可以并入双台光源1270中。光源1270被设计为脉冲光源，其产生光学脉冲的经放大光束1271。光源1270包括第一气体放电台1272和第二气体放电台1273。第二气体放电台1273与第一气体放电台1272光学串联。一般而言，第一台1272包括第一气体放电腔室，其容纳能量源并且包含气体混合物，该气体混合物包括第一增益介质。第二气体放电台1273包括第二气体放电腔室，其容纳能量源并且包含气体混合物，该气体混合物包含第二增益介质。

第一台1272包括主振荡器(MO)，而第二台1273包括功率放大器(PA)。MO向PA提供种子光束1274。主振荡器通常包括其中发生放大的增益介质以及诸如光学谐振器之类的光学反馈机构。功率放大器通常包括增益介质，当使用来自主振荡器的种子光束1274进行播种时，该增益介质中发生放大。如果功率放大器被设计为再生环形谐振器，则它被描述为功率环形放大器(PRA)，在这种情况下，可以从环形设计中提供足够的光学反馈。

光谱特征调整器1275从第一台1272的主振荡器接收前体光束1276，以使得在相对较低的输出脉冲能量下能够对诸如光束1274的中心波长和带宽之类的光谱参数进行微调。功率放大器从主振荡器接收光束1274，并且放大该输出以获得输出以用于通过光刻曝光装置进行光学光刻所必需的功率。

主振荡器包括具有两个细长电极的放电腔室、用作增益介质的激光气体、以及使气体在电极之间循环的风扇。激光谐振器形成位于放电室的一侧上的光谱特征调整器1275与位于放电室的另一侧上的输出耦合器1277之间，以将种子光束1274输出到功率放大器。

功率放大器包括功率放大器放电腔室，并且如果功率放大器是再生环形放大器，则它还包括光束反射器或束转向设备，该光束反射器或束转向设备使光束反射回到放电腔室以形成循环路径。功率放大器放电腔室包括一对细长电极、用作增益介质的激光气体、以及用于使气体在电极之间循环的风扇。种子光束1274通过重复通过功率放大器而被放大。第二台1273可以包括光束修改光学系统，该光束修改光学系统提供既入光耦合种子光束1274又从功率放大器出光耦合经放大辐射的一部分以形成经放大光束1271的方式(例如，部分反射镜)。

用于主振荡器和功率放大器的放电腔室的激光气体可以是用于产生所需波长和带宽附近的激光束的任何合适气体。例如，激光气体可以是发出波长约为193nm的光的氟化氩(ArF)或发出波长约为248nm的光的氟化氪(KrF)。

一般而言，光源1270还可以包括控制系统1278，该控制系统与第一台1272和第二台1273通信。控制系统1278包括以下各项中的一项或多项：数字电子电路系统、计算机硬件、固件、以及软件。控制系统1278包括存储器，其可以是只读存储器和/或随机存取存储器。适用于以有形方式体现计算机程序指令和数据的存储设备包括所有形式的非易失性存储器，其包括例如半导体存储器设备，诸如EPROM、EEPROM和闪存设备；磁盘，诸如内部硬盘和可移除磁盘；磁光盘；以及CD-ROM盘。控制系统1278还可以包括一个或多个输入设备(诸如键盘、触摸屏、麦克风、鼠标、手持式输入设备等)和一个或多个输出设备(诸如扬声器或监测器)。

控制系统1278包括一个或多个可编程处理器以及一个或多个计算机程序产品，该一个或多个计算机程序产品以有形方式体现在机器可读存储设备中以供可编程处理器执行。一个或多个可编程处理器可以各自执行指令程序，以通过对输入数据进行操作并且生成适当输出来执行期望功能。通常，处理器从存储器接收指令和数据。前述内容中的任一项都可以通过专门设计的ASIC(专用集成电路)补充或并入其中。

控制系统1278包括一组模块，其中每个模块包括诸如处理器之类的一个或多个处理器所执行的一组计算机程序产品。而且，模块中的任何模块都可以访问存储器内存储的数据。每个模块可以从其他部件接收数据，然后根据需要分析这样的数据。每个模块可以与一个或多个其他模块通信。

尽管控制系统1278被表示为盒子(其所有部件可以位于其中的同一位置)，但是控制系统1278可能由物理上彼此远离的部件组成。例如，特定模块可以与光源1270在物理上位于同一位置，或特定模块可以与光谱特征调整器1275在物理上位于同一位置。而且，控制系统1278可以是并入控制装置128中的模块。

第一气体放电台1272可以与气体放电台108相对应。第二气体放电台1273可以与气体放电台108相对应。或者，第一气体放电台1272和第二气体放电台1273中的每个气体放电台可以与气体放电台108相对应。因此，上文所描述的装置100、700或900可以被设计为确定本体在第一气体放电台1272中的位置；调整本体在第一气体放电台1272中的位置；并且使对位置的调整基于与第一气体放电台1272相关联的所监测的性能参数。附加地或可替代地，上文所描述的装置100、700或900可以被设计为确定本体在第二气体放电台1273中的位置；调整本体在第二气体放电台1273中的位置；以及使对位置的调整基于与第二气体放电台1273相关联的所监测的性能参数。对本体在第二气体放电台1273中的位置的调整和优化可以与对本体在第一气体放电台1272中的位置的调整和优化同时执行。而且，与第一气体放电台1272相关联的性能参数可以通过测量种子光束1274或经放大光束1271(其由种子光束1273产生)的性能参数来测量。与第二气体放电台1273相关联的性能参数可以通过测量经放大光束1271的性能参数来测量。

如果第一气体放电台1272和第二气体放电台1273都处于装置100、700或900的控制之下，则单个控制装置128可以被配置为与两个传感器系统124、两个驱动系统754和两个测量系统960通信。

参考图13，量测套件1380包括构成装置(诸如装置900)的部件。因为量测套件1380无需固定或与单个气体放电台108相关联，并且可以从一个气体放电台108移动到另一气体放电台108，所以它是有用的。而且，由于这个原因，所以量测套件1380可以用于一个以上的气体放电台108，取代为每个气体放电台108设置装置900，这会导致成本更高。

量测套件1380包括传感器系统1324，该传感器系统1324包括多个传感器1324a、1324b、……1324i(其中i是大于1的任何整数)。每个传感器1324a、1324b、……1324i被配置为测量三维本体102相对于该传感器的物理方面。量测套件1380包括测量系统1360，该测量系统1360包括至少一个测量设备1360a、1360b、……1360j(其中j是任何整数)。每个测量设备1360a、1360b、……1360j被配置为测量光束110的性能参数。量测套件1380包括致动系统1354，该致动系统1354包括被配置为物理耦合到本体102的多个致动器1354a、1354b、……1354k。

量测套件1380包括控制装置1328，该控制装置1328被配置为与传感器系统1324、测量系统1360和致动系统1354通信。控制装置1328包括传感器处理模块1381，该传感器处理模块1381被配置为与传感器系统1324接口并且从传感器系统1324接收传感器信息。控制装置1328包括测量处理模块1382，该测量处理模块1382被配置为与测量系统1360接口并且从测量系统1360接收测量信息。控制装置1329包括致动器处理模块1383，该致动器处理模块1383被配置为与致动系统1354接口。

控制装置1328还可以包括光源处理模块1384，该光源处理模块1384被配置为与具有三维本体102的气体放电台108接口。

控制装置1328还可以包括分析处理模块1385，该分析处理模块1385与传感器处理模块1381、测量处理模块1382、致动器处理模块1383和光源处理模块1384通信。该分析处理模块1385被配置为使用时指令光源处理模块1384调整气体放电台108的一个或多个特点并且分析(来自传感器系统1324的)传感器信息和(来自测量系统1360的)测量信息并且基于气体放电台108的经调整特点来确定对致动器处理模块1383的指令。

量测套件1380是模块化的，使得它被配置为与一个或多个气体放电台108可操作地连接和断开连接。每个气体放电台108包括相应三维本体102，该三维本体102限定空腔112，该空腔112生成相应光束102。因此，当需要优化本体102的位置时，量测套件1380可以安装到气体放电腔室108。例如，传感器1324a、1324b、……1324i可以相对于本体102的其相应区域安装在相应位置处。测量设备1360a、1360b、……1360j可以放置在各个位置处以测量光束110的性能参数。致动器1354a、1354b、……1354k可以物理耦合到主体102的相应区域。并且，传感器系统1324、测量系统1360和致动系统1354可以连接到控制装置1328或置于与其通信。在本体102已经被优化了之后，则可以执行相反的断开连接步骤。

在一些实现方式中，代替测量设备中的一个或多个测量设备，测量系统1360包括一个或多个测量接口。每个测量接口能够连接到固定在气体放电台108内的测量设备，并且还能够连接到套件1380中的控制装置128。

参考图14，程序1487通过装置900执行。在气体放电台108的部件的移动或更换的任何时间或在气体放电台108的效率下降到可接受范围以下的任何时间，可以执行程序1487。通常在气体放电台108与光刻曝光装置脱机的同时，执行程序1487。

气体放电台108的效率可以由光束110的一个或多个性能参数来表示。而且，一组多个性能参数可以被视为参数空间。因此，参数空间包括多个性能参数。程序1487努力优化参数空间。参数空间的优化并不一定意味着优化了特定性能参数或优化了每个性能参数。相反，确定提供气体放电台108的最有效操作的一组或多个性能参数。如上文所讨论的，性能参数的示例包括光束110的能量E、诸如光束110的带宽或波长之类的光谱特征、光束110在装置(诸如光刻曝光装置)处的剂量、产生光束110的脉冲的重复率、以及光束110的占空比。

程序1487包括：在气体放电台108的本体102的多个不同区域126a、126b等的每个区域处，测量本体102在该区域处的物理方面(1488)。例如，传感器系统124(特别是，传感器124a、124b等)可以测量每个不同区域126a、126b等处的物理方面。

程序1487包括：测量从气体放电台108生成的光束110的一个或多个性能参数(1489)。例如，测量系统960可以测量光束110的一个或多个性能参数。测量系统960可以仅测量一个性能参数作为气体放电台108的效率的表示。测量系统960还可以测量多个性能参数以便表示气体放电台108的效率。可以测量的性能参数的示例包括脉冲光束110的重复率、脉冲光束110的能量、脉冲光束110的占空比、和/或脉冲光束110的光谱特征。

程序1487包括：分析所测量的物理方面(1490)，从而确定本体在X轴106所限定的XYZ坐标系104中的位置，该X轴106由气体放电台108的多个光学元件140、142所确定的多个孔限定(1491)。程序1487还包括：分析气体放电台108的本体102的所确定的位置(1492)并且分析一个或多个所测量的性能参数(1493)。在接收到来自测量1488和1489的输出并且确定了本体1491的位置之后，控制装置128执行分析1490、1492、1493。

程序1487包括：确定对气体放电台108的本体102的位置的修改是否将改善所测量的性能参数中的一个或多个所测量的性能参数(1494)，并且如果确定对气体放电台108的本体102的位置将改善所测量的性能参数中的一个或多个所测量的性能参数，则修改气体放电台108的本体102的位置(1495)。对于其中性能参数是光束110的能量E的示例，控制装置128可以使用诸如图11所示的反馈控制之类的反馈控制，并且对本体102的位置进行增量调整，然后在1489处重新测量性能参数以确定该调整是否改善了性能参数(1494)。

如果确定对本体102的位置的修改不将改善一个或多个所测量的性能参数(1494)，则程序1487结束。特别地，程序1487已经确定了气体放电台108的本体102的位置，该位置优化了多个所测量的性能参数。气体放电台108的本体102的最优位置提供了光束110的性能参数值的最佳集合，并且程序1487操作以将气体放电台108的本体102的位置修改为该最优位置。

气体放电台108的本体102的位置可以基于1492处的对气体放电台108的本体102的所确定的位置的分析来修改(1495)。气体放电台108可以通过确定以下各项中的一项或多项来确定(1491)：气体放电台108的本体102从X轴106的平移和气体放电台108的本体102从X轴106的旋转。上文参考图6对该确定的示例进行了描述。

如上文所讨论的，可以通过测量从对应传感器到本体102的不同区域的距离来测量(1488)本体102在本体102的该区域处的物理方面。

程序1487还可以包括：通过形成由位于本体102的一侧的束耦合器(诸如光学部件142)和位于本体102的另一侧的束转向设备(诸如光学部件140)限定的谐振器来从气体放电台108生成光束110，并且在空腔112中的增益介质内生成能量。束耦合器和束转向设备还可以限定X轴106。

如上文所讨论的并且参考图15，光束110可以用于诸如光刻曝光装置EX的装置以对衬底W进行图案化。在这种情况下，装置100、700或将900并入光源LS中，该光源LS向光刻曝光装置EX提供经放大脉冲光束LB。光束LB可以与从气体放电台108输出的光束110相对应。或者，光束LB可以与由从气体放电台108输出的光束110形成的光束相对应。而且，如上文所讨论的，气体放电台108和装置100、700或900可以并入双台光源LS中。

例如，尽管控制装置128与装置100、700、900的其他部件之间的连接被示出为线，但是控制装置128与其他部件之间的连接可以为有线连接或无线连接。

还可以使用以下条款对这些实现方式进行描述：

1.一种光源装置，包括：

气体放电台，其包括三维本体，该三维本体限定了空腔，该空腔被配置为与能量源交互，该本体包括至少两个端口，该至少两个端口能够透射波长在紫外线范围内的光束；

传感器系统，其包括多个传感器，每个传感器被配置为测量气体放电台的本体的相应不同区域相对于该传感器的物理方面；以及

控制装置，其与传感器系统通信并且被配置为分析从传感器测量的物理方面，从而确定气体放电台的本体在X轴所限定的XYZ坐标系中的位置，其中X轴由气体放电台的几何形状限定。

2.根据条款1所述的光源装置，还包括测量系统，该测量系统被配置为测量从气体放电台生成的光束的一个或多个性能参数。

3.根据条款2所述的光源装置，其中控制装置与测量系统通信并且还被配置为：

分析气体放电台的本体在XYZ坐标系中的位置以及光束的一个或多个所测量的性能参数；以及

确定对气体放电台的本体的位置的修改是否将改善所测量的性能参数中的一个或多个所测量的性能参数。

4.根据条款3所述的光源装置，还包括致动系统，该致动系统物理耦合到气体放电台的本体，并且被配置为调整气体放电台的本体的位置。

5.根据条款4所述的光源装置，其中控制装置与致动系统通信并且被配置为基于关于气体放电台的本体的位置是否应当被修改的确定来向致动系统提供信号。

6.根据条款5所述的光源装置，其中致动系统包括多个致动器，每个致动器被配置为与气体放电台的本体的区域物理通信。

7.根据条款6所述的光源装置，其中每个致动器包括以下各项中的一项或多项：机电设备、伺服机构、电伺服机构、液压伺服机构、和/或气动伺服机构。

8.根据条款1所述的光源装置，其中控制装置被配置为通过确定气体放电台的本体从X轴的平移或气体放电台的本体从X轴的旋转来确定气体放电台的本体在XYZ坐标系中的位置。

9.根据条款8所述的光源装置，其中气体放电台的本体从X轴的平移包括以下各项中的一项或多项：气体放电台的本体沿着X轴的平移、气体放电台的本体沿着与X轴垂直的Y轴的平移、和/或气体放电台的本体沿着与X轴和Y轴垂直的Z轴的平移。

10.根据条款8所述的光源装置，其中气体放电台的本体从X轴的旋转包括以下各项中的一项或多项：气体放电台的本体围绕X轴的旋转、气体放电台的本体围绕与X轴垂直的Y轴的旋转、和/或气体放电台的本体沿着与X轴和Y轴垂直的Z轴的旋转。

11.根据条款1所述的光源装置，其中每个传感器被配置为测量从传感器到气体放电台的本体的距离作为气体放电台的本体相对于该传感器的物理方面。

12.根据条款1所述的光源装置，其中气体放电台包括位于本体的第一端的束转向设备以及位于本体的第二端的束耦合器，该束转向设备和束耦合器与X轴相交，使得气体放电台中产生的光束与束耦合器和束转向设备交互。

13.根据条款12所述的光源装置，其中当气体放电台的本体在可接受位置范围内时，能量源向本体的空腔供应能量，并且光束转向设备和束耦合器对准，从而生成光束。

14.根据条款13所述的光源装置，其中光束是波长在紫外线范围内的经放大光束。

15.根据条款12所述的光源装置，其中束转向设备是光学模块，其包括用于选择并调整光束的波长的多个光学器件，并且束耦合器包括部分反射镜。

16.根据条款12所述的光源装置，其中束转向设备包括光学器件布置，该光学器件布置被配置为接收通过第一端口离开气体放电台的本体的光束并且改变光束的方向，使得光束通过第一端口重新进入气体放电台的本体。

17.根据条款12所述的光源装置，其中气体放电台还包括扩束器，该扩束器被配置为在光束在束耦合器与空腔之间行进时与该光束交互。

18.根据条款1所述的光源装置，其中每个传感器被配置为相对于气体放电台的本体固定安装。

19.根据条款18所述的光源装置，其中当每个传感器相对于气体放电台的本体固定安装时，每个传感器可以被配置为与另一传感器相距一定距离固定。

20.根据条款1所述的光源装置，还包括：

第二气体放电台，其与气体放电台光学串联，该第二气体放电台具有第二三维本体，该第二三维本体限定第二空腔，该第二空腔被配置为与能量源交互，该第二本体包括至少两个端口，这些端口能够透射波长在紫外范围内的光束；以及

第二多个传感器，该第二多个传感器中的每个传感器被配置为测量第二本体的相应不同区域相对于该传感器的物理方面；

其中控制装置与第二多个传感器通信，并且被配置为分析从第二多个传感器测量的物理方面，从而确定第二本体相对于第二X轴所限定的第二XYZ坐标系的位置，该第二X轴穿过第二本体的至少两个端口。

21.根据条款1所述的光源装置，其中每个传感器包括位移传感器。

22.根据条款21所述的光源装置，其中该位移传感器是光学位移传感器、线性接近传感器、电磁传感器、或超声位移传感器。

23.根据条款1所述的光源装置，其中每个传感器包括非接触式传感器。

24.根据条款1所述的光源装置，其中X轴由束转向设备和束耦合器限定，该束转向设备位于本体的第一端处并且与第一端口光学耦合，并且束耦合器位于本体的第二端处并且与第二端口光学耦合。

25.一种量测装置，包括：

传感器系统，包括多个传感器，每个传感器被配置为测量气体放电台的本体相对于该传感器的物理方面；

测量系统，被配置为测量从气体放电台生成的光束的一个或多个性能参数；

致动系统，包括多个致动器，每个致动器被配置为物理耦合到气体放电台的本体的不同区域，该多个致动器一起工作以调整气体放电台的本体的位置；以及

控制装置，与传感器系统、测量系统和致动系统通信，并且控制装置被配置为：

分析从传感器测量的物理方面，从而确定气体放电台的本体在气体放电台所限定的X轴所限定的XYZ坐标系中的位置；

分析气体放电台的本体的位置；

分析一个或多个所测量的性能参数；以及

基于对气体放电台的本体的位置和一个或多个所测量的性能参数的分析来向致动系统提供信号以修改气体放电台的本体的位置。

26.根据条款25所述的量测装置，其中传感器彼此分开并且相对于气体放电台的本体定位。

27.根据条款25所述的量测装置，其中控制装置被配置为基于对气体放电台的本体的位置和一个或多个所测量的性能参数的分析、通过确定优化了光束的多个性能参数的气体放电台的本体的位置，来向致动系统提供信号以修改气体放电台的本体的位置。

28.根据条款25所述的量测装置，其中X轴由束转向设备和束耦合器限定，该束转向设备位于本体的第一端处并且与第一端口光学耦合，并且束耦合器位于本体的第二端处并且与第二端口光学耦合。

29.一种方法，包括：

在光源的气体放电台的本体的多个不同区域的每个区域处，测量本体在该区域处的物理方面；

测量从气体放电台生成的光束的一个或多个性能参数；

分析所测量的物理方面，从而确定本体在X轴所限定的XYZ坐标系中的位置，其中X轴由与气体放电台相关联的多个孔限定；

分析气体放电台的本体的所确定的位置；

分析一个或多个所测量的性能参数；

确定对气体放电台的本体的位置的修改是否将改善所测量的性能参数中的一个或多个所测量的性能参数；以及

如果确定对气体放电台的本体的位置的修改将改善所测量的性能参数中的一个或多个所测量的性能参数，则修改气体放电台的本体的位置。

30.根据条款29所述的方法，其中修改气体放电台的本体的位置基于对气体放电台的本体的所确定的位置的分析。

31.根据条款29所述的方法，其中确定气体放电台的本体的位置包括以下各项中的一项或多项：确定气体放电台的本体从X轴的平移和气体放电台的本体从X轴的旋转。

32.根据条款31所述的方法，其中从X轴平移气体放电台的本体包括以下各项中的一项或多项：沿着X轴平移气体放电台的本体、沿着与Y轴垂直的Y轴平移气体放电台的本体、和沿着与X轴和Y轴垂直的Z轴平移气体放电台的本体。

33.根据条款31所述的方法，其中从X轴旋转气体放电台的本体包括以下各种的一项或多项：围绕X轴旋转气体放电台的本体、围绕与X轴垂直的Y轴旋转气体放电台的本体、和/或沿着与X轴和Y轴垂直的Z轴旋转气体放电台的本体。

34.根据条款29所述的方法，其中测量本体在该区域处的物理方面包括：测量从传感器到气体放电台的本体的区域的距离。

35.根据条款29所述的方法，其中确定对气体放电台的本体的位置的修改是否将改善所测量的性能参数中的一个或多个所测量的性能参数包括：确定气体放电台的本体的位置，该位置优化多个所测量的性能参数。

36.根据条款29所述的方法，还包括：从气体放电台生成光束，其包括：形成谐振器，该谐振器由位于本体的一侧的束耦合器以及位于本体的另一侧的束转向设备限定，束耦合器和束转向设备限定X轴并且在本体所限定的空腔中的增益介质内生成能量。

37.根据条款29所述的方法，其中测量光束的一个或多个性能参数包括：测量多个性能参数。

38.根据条款37所述的方法，其中测量多个性能参数包括测量以下各项中的两项或更多项：光源所产生的脉冲光束的重复率、脉冲光束的能量、脉冲光束的占空比、和/或脉冲光束的光谱特征。

39.根据条款37所述的方法，还包括：

确定气体放电台的本体的最优位置，该最优位置提供光束的性能参数值的最优集合；以及

将气体放电台的本体的位置修改为最优位置。

40.一种量测套件，包括：

传感器系统，其包括多个传感器，每个传感器被配置为测量三维本体相对于该传感器的物理方面；

测量系统，其包括多个测量设备，每个测量设备被配置为测量光束的性能参数；

致动系统，其包括多个致动器，该多个致动器被配置为物理耦合到三维本体；以及

控制装置，其被配置为与传感器系统、测量系统和致动系统通信，该控制装置包括：

传感器处理模块，其被配置为与传感器系统接口并且从传感器系统接收传感器信息；

测量处理模块，其被配置为与测量系统接口并且从测量系统接收测量信息；

致动器处理模块，其被配置为与致动系统接口；以及

光源处理模块，其被配置为与具有三维本体的气体放电台接口。

41.根据条款40所述的量测套件，其中控制装置包括分析处理模块，该分析处理模块与传感器处理模块、测量处理模块、致动器处理模块、以及光源处理模块通信，并且被配置为使用时指令光源处理模块调整气体放电台的一个或多个特点，并且基于气体放电台的经调整特点来分析传感器信息和测量信息并确定对致动器处理模块的指令。

42.根据条款40所述的量测套件，其中量测套件是模块化的，使得其被配置为与一个或多个气体放电台可操作地连接和断开连接，每个气体放电台包括限定空腔的相应三维本体，该空腔生成相应光束。

其他实现方式在所附权利要求的范围之内。

Claims (25)

1.一种光源装置，包括：

气体放电台，包括三维本体，所述三维本体限定了空腔，所述空腔被配置为与能量源交互，所述本体包括至少两个端口，所述至少两个端口能够透射波长在紫外线范围内的光束；

传感器系统，包括多个传感器，每个传感器被配置为测量所述气体放电台的所述本体的相应不同区域相对于所述传感器的物理方面；以及

控制装置，与所述传感器系统通信并且被配置为分析从所述传感器测量的所述物理方面，从而确定所述气体放电台的所述本体在X轴所限定的XYZ坐标系中的位置，其中所述X轴由所述气体放电台的几何形状限定。

2.根据权利要求1所述的光源装置，还包括测量系统，所述测量系统被配置为测量从所述气体放电台生成的光束的一个或多个性能参数；

其中所述控制装置与所述测量系统通信并且还被配置为：

分析所述气体放电台的所述本体在所述XYZ坐标系中的所述位置以及所述光束的所测量的所述一个或多个性能参数；以及

确定对所述气体放电台的所述本体的所述位置的修改是否将改善所述所测量的性能参数中的一个或多个性能参数。

3.根据权利要求2所述的光源装置，还包括致动系统，所述致动系统物理耦合到所述气体放电台的所述本体，并且被配置为调整所述气体放电台的所述本体的位置；

其中所述控制装置与所述致动系统通信并且被配置为基于关于所述气体放电台的所述本体的位置是否应当被修改的确定来向所述致动系统提供信号。

4.根据权利要求3所述的光源装置，其中所述致动系统包括多个致动器，每个致动器被配置为与所述气体放电台的所述本体的区域物理通信。

5.根据权利要求1所述的光源装置，其中所述控制装置被配置为通过确定以下各项中的一项或多项来确定所述气体放电台的所述本体在所述XYZ坐标系中的所述位置：所述气体放电台的所述本体从所述X轴的平移和/或所述气体放电台的所述本体从所述X轴的旋转。

6.根据权利要求5所述的光源装置，其中：

所述气体放电台的所述本体从所述X轴的所述平移包括以下各项中的一项或多项：所述气体放电台的所述本体沿着所述X轴的平移、所述气体放电台的所述本体沿着与所述X轴垂直的Y轴的平移、和/或所述气体放电台的所述本体沿着于所述X轴和所述Y轴垂直的Z轴的平移；以及

所述气体放电台的所述本体从所述X轴的所述旋转包括以下各项中的一项或多项：所述气体放电台的所述本体围绕所述X轴的旋转、所述气体放电台的所述本体围绕与所述X轴垂直的Y轴的旋转、和/或所述气体放电台的所述本体沿着与所述X轴和所述Y轴垂直的Z轴的旋转。

7.根据权利要求1所述的光源装置，其中每个传感器被配置为测量从所述传感器到所述气体放电台的所述本体的距离作为所述气体放电台的所述本体相对于所述传感器的所述物理方面。

8.根据权利要求1所述的光源装置，其中：

所述气体放电台包括位于所述本体的第一端的束转向设备以及位于所述本体的第二端的束耦合器，所述束转向设备和所述束耦合器与所述X轴相交，使得所述气体放电台中产生的光束与所述束耦合器和所述束转向设备交互；以及

当所述气体放电台的所述本体在可接受位置范围内时，所述能量源向所述本体的所述空腔供应能量，并且所述束转向设备和所述束耦合器对准，生成所述光束。

9.根据权利要求8所述的光源装置，其中所述光束是波长在所述紫外线范围内的经放大光束。

10.根据权利要求8所述的光源装置，其中：

所述束转向设备是光学模块，所述光学模块包括用于选择并调整所述光束的波长的多个光学器件，并且所述束耦合器包括部分反射镜；和/或

所述束转向设备包括光学器件布置，所述光学器件布置被配置为接收通过第一端口离开所述气体放电台的所述本体的所述光束并且改变所述光束的方向，以使所述光束通过所述第一端口重新进入所述气体放电台的所述本体。

11.根据权利要求1所述的光源装置，其中每个传感器被配置为相对于所述气体放电台的所述本体固定安装；并且当每个传感器相对于所述气体放电台的所述本体固定安装时，所述传感器被配置为与另一传感器相距一距离固定。

12.根据权利要求1所述的光源装置，还包括：

第二气体放电台，与所述气体放电台光学串联；所述第二气体放电台具有第二三维本体，所述第二三维本体限定第二空腔，所述第二空腔被配置为与能量源交互，所述第二本体包括至少两个端口，所述至少两个端口能够透射波长在所述紫外范围内的光束；以及

第二多个传感器，所述第二多个传感器中的每个传感器被配置为测量所述第二本体的相应不同区域相对于所述传感器的物理方面；

其中所述控制装置与所述第二多个传感器通信，并且被配置为分析从所述第二多个传感器测量的所述物理方面，从而确定所述第二本体相对于第二X轴所限定的第二XYZ坐标系的位置，所述第二X轴穿过所述第二本体的所述至少两个端口。

13.根据权利要求1所述的光源装置，其中每个传感器包括接触式传感器非接触式传感器。

14.根据权利要求1所述的光源装置，其中所述X轴由束转向设备和束耦合器限定，所述束转向设备位于所述本体的第一端处并且与第一端口光学耦合，并且所述束耦合器位于所述本体的第二端处并且与第二端口光学耦合。

15.一种量测装置，包括：

传感器系统，包括多个传感器，每个传感器被配置为测量气体放电台的本体相对于所述传感器的物理方面；

测量系统，被配置为测量从所述气体放电台生成的光束的一个或多个性能参数；

致动系统，包括多个致动器，每个致动器被配置为物理耦合到所述气体放电台的所述本体的不同区域，所述多个致动器一起工作以调整所述气体放电台的所述本体的位置；以及

控制装置，与所述传感器系统、所述测量系统和所述致动系统通信，并且被配置为：

分析从所述传感器测量的所述物理方面，从而确定所述气体放电台的所述本体在所述气体放电台所限定的X轴所限定的XYZ坐标系中的位置；

分析所述气体放电台的所述本体的所述位置；

分析所测量的所述一个或多个性能参数；以及

基于对所述气体放电台的所述本体的所述位置和所测量的所述一个或多个性能参数的所述分析来向所述致动系统提供信号以修改所述气体放电台的所述本体的所述位置。

16.根据权利要求15所述的量测装置，其中所述传感器彼此分开并且相对于所述气体放电台的所述本体定位。

17.根据权利要求15所述的量测装置，其中所述控制装置被配置为基于对所述气体放电台的所述本体的所述位置和所测量的所述一个或多个性能参数的所述分析、通过确定优化了所述光束的多个所述性能参数的所述气体放电台的所述本体的位置，来向所述致动系统提供所述信号以修改所述气体放电台的所述本体的所述位置。

18.根据权利要求15所述的量测装置，其中所述X轴由束转向设备和束耦合器限定，所述束转向设备位于所述本体的第一端处并且与第一端口光学耦合，并且所述束耦合器位于所述本体的第二端处并且与第二端口光学耦合。

19.一种方法，包括：

在光源的气体放电台的本体的多个不同区域的每个区域处，测量所述本体在所述区域处的物理方面；

测量从所述气体放电台生成的光束的一个或多个性能参数；

分析所测量的物理方面，从而确定所述本体在X轴所限定的XYZ坐标系中的位置，其中所述X轴由与所述气体放电台相关联的多个孔限定；

分析所述气体放电台的所述本体的所确定的位置；

分析所测量的所述一个或多个性能参数；

确定对所述气体放电台的所述本体的所述位置的修改是否将改善所述所测量的性能参数中的一个或多个性能参数；以及

如果确定对所述气体放电台的所述本体的所述位置的修改将改善所述所测量的性能参数中的一个或多个性能参数，则修改所述气体放电台的所述本体的所述位置。

20.根据权利要求19所述的方法，其中修改所述气体放电台的所述本体的所述位置基于对所述气体放电台的所述本体的所确定的位置的所述分析。

21.根据权利要求19所述的方法，其中：

确定所述气体放电台的所述本体的所述位置包括确定以下各项中的一项或多项：所述气体放电台的所述本体从所述X轴的平移和/或所述气体放电台的所述本体从所述X轴的旋转；

从所述X轴平移所述气体放电台的所述本体包括以下各项中的一项或多项：沿着所述X轴平移所述气体放电台的所述本体、沿着与所述Y轴垂直的Y轴平移所述气体放电台的所述本体、和/或沿着与所述X轴和所述Y轴垂直的Z轴平移所述气体放电台的所述本体；以及

从所述X轴旋转所述气体放电台的所述本体包括以下各种的一项或多项：围绕所述X轴旋转所述气体放电台的所述本体、围绕与所述X轴垂直的Y轴旋转所述气体放电台的所述本体、和/或沿着与所述X轴和所述Y轴垂直的Z轴旋转所述气体放电台的所述本体。

22.根据权利要求19所述的方法，其中在所述区域测量所述本体的物理方面包括：测量从所述传感器到所述气体放电台的所述本体的所述区域的距离。

23.根据权利要求19所述的方法，其中确定对所述气体放电台的所述本体的所述位置的所述修改是否将改善所述所测量的性能参数中的一个或多个性能参数包括：确定优化了多个所测量的性能参数的所述气体放电台的所述本体的位置。

24.根据权利要求19所述的方法，还包括：

确定所述气体放电台的所述本体的最优位置，所述最优位置提供所述光束的一个或多个性能参数值的最优集合；以及

将所述气体放电台的所述本体的所述位置修改为所述最优位置。

25.一种量测套件，包括：

传感器系统，包括多个传感器，每个传感器被配置为测量三维本体相对于所述传感器的物理方面；

测量系统，包括多个测量设备，每个测量设备被配置为测量光束的性能参数；

致动系统，包括多个致动器，所述多个致动器被配置为物理耦合到所述三维本体；以及

控制装置，被配置为与所述传感器系统、所述测量系统和所述致动系统通信，所述控制装置包括：

传感器处理模块，被配置为与所述传感器系统接口并且从所述传感器系统接收传感器信息；

测量处理模块，被配置为与所述测量系统接口并且从所述测量系统接收测量信息；

致动器处理模块，被配置为与所述致动系统接口；以及

光源处理模块，被配置为与具有三维本体的气体放电台接口。

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