CN112695272B - 一种掩模制作装置及制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种掩模制作装置，包括：张网模块，用于拉伸掩模，并将所述掩模传送至掩模框架上；掩模检测模块，用于检测所述掩模条在所述掩模框架上的位置信息；掩模固定模块，用于将所述掩模固定在所述掩模框架上；第一位移测量模块，用于测量所述张网模块和所述掩模固定模块的位置信息。通过第一位移测量模块精确确定掩模检测模块的位置信息，进而可以更精确的获取掩模的实际位置，从而通过调整张网模块的拉伸和位移，使掩模更精确的移动到预设的位置，从而提高掩模相对掩模框架放置的位置精度；以及通过第一位移测量模块精确确定掩模固定模块的位置信息，提高掩模固定模块对掩模和掩膜框架的固定精度，从而提高了金属掩模版的制作精度。

Description

一种掩模制作装置及制作方法

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种掩模制作装置及制作方法。

背景技术

目前，所有OLED量产机台上所使用的蒸镀方式均为水平蒸镀，在OLED蒸镀过程中，必须用到掩模版。制造掩模版的方法大致可以分为两类，分别为分条张网而成和整张一起张网而成。分条张网即对掩模条施加一定的张紧力，然后将掩模条逐条安装到掩模框架上，最终形成掩模版。

高精度金属掩模版(Fine Metal Mask，FMM)由于具有较高的张网精度，得到大量应用。在现有FMM制作设备中，由于设备结构与测量手段的限制，FMM的制作精度停留在2μm-3μm以上的级别，很难进一步提高金属掩模版的制作精度。

发明内容

本发明实施例提供了一种掩模制作装置及制作方法，通过第一位移测量模块测量掩模固定模块和掩模检测模块的位置信息，能够提高金属掩模版的制作精度。

第一方面，本发明实施例提供了一种掩模制作装置，包括：

张网模块，用于拉伸掩模，并将所述掩模传送至掩模框架上；

掩模检测模块，用于检测所述掩模在所述掩模框架上的位置信息；

掩模固定模块，用于将所述掩模固定在所述掩模框架上；

第一位移测量模块，用于测量所述掩模固定模块和所述掩模检测模块的位置信息。

可选的，所述第一位移测量模块包括多个测量组件，所述测量组件包括测量头和反馈头，所述测量头用于发送测量信号并接收由所述反馈头返回的反馈信号，根据所述测量信号和所述反馈信号测量所述位置信息。

可选的，所述测量头为干涉仪，所述反馈头为反射镜。

可选的，掩模制作装置还包括底座、龙门架和至少一个运动台，所述龙门架沿X方向延伸，所述龙门架可沿龙门导轨运动，所述龙门导轨沿Y方向设置在所述底座上；所述运动台设置于所述龙门架上，且可沿所述龙门架延伸方向运动，所述掩模检测模块和所述掩模固定模块设置于所述运动台上，所述X方向和Y方向相互垂直。

可选的，所述运动台的数量为两个。

可选的，所述第一位移测量模块包括第一测量单元，所述第一测量单元包括至少一个第一测量组件，所述第一测量组件包括第一干涉仪和第一反射镜；

所述第一干涉仪设置于所述龙门架上，所述第一反射镜对应设置于所述运动台上。

可选的，所述第一位移测量模块包括第二测量单元，所述第二测量单元包括至少一个第二测量组件，所述第二测量组件包括第二干涉仪和第二反射镜；

所述第二干涉仪设置于所述底座上，所述第二反射镜对应设置于所述龙门架上。

可选的，所述第一位移测量模块包括第三测量单元，所述第三测量单元包括第三反射镜和至少一个第三干涉仪；

所述第三干涉仪设置于所述运动台上，所述第三反射镜呈长条形，沿所述Y方向设置于所述底座上，所述至少一个第三干涉仪共用所述第三反射镜。

可选的，所述第一位移测量模块包括第四测量单元，所述第四测量单元包括第四反射镜和至少一个第四干涉仪；

所述第四干涉仪设置于所述运动台上，所述第四反射镜呈长条形，沿所述X方向设置于所述底座上，所述至少一个第四干涉仪共用所述第四反射镜。

可选的，所述张网模块包括夹爪组件和夹爪平台，所述夹爪平台设置于张网导轨上，所述张网导轨沿所述Y方向设置于所述底座上，所述张网模块可沿所述张网导轨运动。

可选的，掩模制作装置还包括第二位移测量模块，所述第二位移测量模块包括第五测量单元，所述第五测量单元包括至少一个第三测量组件，所述第三测量组件包括第五干涉仪和第五反射镜；

所述第五干涉仪设置于所述底座上，所述第五反射镜对应设置于所述夹爪平台上。

可选的，掩模制作装置还包括：

掩模框架对准组件，用于对所述掩模框架进行位置对准，将所述掩模框架固定于预设工位。

可选的，掩模制作装置还包括：

Z轴运动模组，所述Z轴运动模组安装在所述运动台上，所述掩模固定模块和所述掩模检测模块安装在所述Z轴运动模组上，所述Z轴运动模组用于驱动所述掩模固定模块和所述掩模检测模块沿Z方向运动，所述Z方向垂直于所述X方向和Y方向。

可选的，所述第一位移测量模块还包括第六测量单元，所述第六测量单元包括至少一个第四测量组件，所述第四测量组件包括第六干涉仪和第六反射镜，所述第六干涉仪设置于所述Z轴运动模组的动子上，所述第六反射镜对应设置于所述运动台上。

可选的，掩模检测模块包括检测镜头和第一距离测量单元；

所述掩模上设置有特征位置标记，所述检测镜头用于采集所述掩模的图像信息，以根据所述特征位置标记确定所述掩模在所述掩模框架上的位置信息；

所述第一距离测量单元设置于所述Z轴运动模组上，用于测量所述Z轴运动模组相对于所述掩模在Z方向的距离。

可选的，所述掩模固定模块包括激光焊接头，用于将所述掩模焊接在所述掩模框架上，所述掩模检测模块还用于检测所述掩模与所述掩模框架的焊点的质量。

可选的，掩模制作装置还包括第二距离测量单元，所述第二距离测量单元设置于所述龙门架的两端，用于测量所述龙门架相对于所述龙门导轨在X方向的位置偏移、绕Y方向的偏转以及绕Z方向的偏转。

可选的，所述龙门架相对于所述龙门导轨在X方向的位置偏移、绕Y方向的偏转以及绕Z方向的偏转，用于在经过坐标变换后，补偿所述龙门架相对于所述龙门导轨发生偏移或偏转时造成的所述掩模固定模块和所述掩模检测模块的偏移或偏转。

可选的，掩模制作装置还包括：

掩模传输单元，所述掩模传输单元包括掩模库、机械手和掩模旋转台。

第二方面，本发明实施例提供了一种掩模制作方法，该方法基于本发明第一方面提供的掩模制作装置，包括：

建立基准坐标系；

将所述第一位移测量模块测得数据统一到所述基准坐标系下，确定所述掩模固定模块和所述掩模检测模块的位置信息；

将掩模传送至掩模框架上；

通过所述掩模检测模块确定所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息；

基于所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息，将所述掩模调整至预设位置；

将所述掩模固定在所述掩模框架上。

可选的，所述掩模上设置有特征位置标记，通过所述掩模检测模块确定所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息，包括：

通过所述掩模检测模块确定所述特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置。

可选的，基于所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息，将所述掩模调整至预设位置，包括：

将所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息输入计算模型，所述计算模型包括所述特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与拉伸力的对应关系，或/和所述特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与拉伸位移的对应关系，或/和所述特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与平移位移的对应关系；

获取所述计算模型根据所述对应关系输出的拉伸力、拉伸位移或/和平移位移；

根据所述拉伸力、拉伸位移或/和平移位移，将所述特征位置标记调整至预设位置。

可选的，在所述将掩模传送至掩模框架上之前，还包括：

建立计算模型。

可选的，所述建立所述计算模型，包括：

将训练用掩模传送至所述掩模框架上；

通过所述掩模检测模块确定所述训练用掩模在所述基准坐标系下的位置信息；

基于所述训练用掩模在所述基准坐标系下的位置信息，对所述训练用掩模施加拉伸力，以将训练用掩模上的特征位置标记拉伸至预设位置；

将所述训练用掩模的特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与拉伸力，或/和所述训练用掩模的特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与拉伸位移，或/和所述训练用掩模的特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与平移位移作为训练数据进行模型训练，建立所述计算模型。

可选的，在所述基于所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息，将所述掩模调整至预设位置，还包括：

将所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息与拉伸力，或所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息与拉伸位移，或所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息与平移位移作为训练数据，以在线更新所述计算模型。

本发明实施例提供的掩模制作装置，通过第一位移测量模块精确确定掩模检测模块的位置信息，进而可以更精确的获取掩模的实际位置，从而通过调整张网模块的拉伸和位移，使掩模更精确的移动到预设的位置，从而提高掩模相对掩模框架放置的位置精度；以及通过第一位移测量模块精确确定掩模固定模块的位置信息，提高掩模固定模块对掩模和掩膜框架的固定精度，从而提高了金属掩模版的制作精度。

附图说明

下面根据附图和实施例对本发明作进一步详细说明。

图1为本发明实施例提供的一种掩模制作装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的另一种掩模制作装置的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的又一种掩模制作装置的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的Z轴运动模组的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种掩模制作方法的流程图。

具体实施方式

为使本发明解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本发明实施例的技术方案作进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

本发明实施例提供了一种掩模制作装置，用于高精度金属掩模版的制作，图1为本发明实施例提供的一种掩模制作装置的结构示意图，如图1所示，该掩模制作装置包括张网模块、掩模检测模块200、掩模固定模块300和第一位移测量模块。

其中，张网模块包括沿X方向相对设置的两个张网单元110，两个张网单元110协同工作，用于夹持掩模，并对掩模施加规定大小的沿X方向的力，以拉伸掩模，使掩模处于绷紧、有一定变形、展开的状态，并将掩模传送至掩模框架500上预设的位置。

掩模检测模块200用于检测掩模在掩模框架500上的位置信息，可选的，掩模检测模块200可以包括检测镜头，用于检测掩模和掩模框架500上的特征位置标记，进而确定掩模在掩模框架500上的位置信息。张网模块对掩模的位置进行调整，直至掩模检测模块200检测的位置信息满足预设位置。可选的，掩模检测模块200也可以对掩模的尺寸、面型等信息进行检测，以确保掩模的尺寸和面型满足预设要求。

掩模固定模块300用于将掩模固定在掩模框架500上，可选的，掩模固定模块300可以包括焊接头，示例性的，可以是激光焊接头，用于将掩模焊接固定在掩模框架500上预定的位置。

第一位移测量模块，用于掩模固定模块300和掩模检测模块200的位置信息，对掩模固定模块300和掩模检测模块200进行精确定位，在张网模块张网过程中，提高张网模块将掩模放置到掩模框架500上的放置位置精度；以及在掩模固定模块300对掩模固定的过程中，提高掩模固定模块300对掩模和掩膜框架500的固定精度，从而提高金属掩模版的制作精度。

需要说明的是，上述实施例中的掩模可以是掩模条，将多条掩模条逐条转移到掩模框架上，并进行固定；上述实施例中的掩模也可以是整张掩模，通过一次转移将整张掩模转移到掩模框架上，并进行固定，本发明实施例在此不做限定。本发明后续的实施例中，以掩模为掩模条为例对本发明进行说明。

本发明实施例提供的掩模制作装置，通过第一位移测量模块精确确定掩模检测模块的位置信息，进而可以更精确的获取掩模的实际位置，从而通过调整张网模块的拉伸和位移，使掩模更精确的移动到预设的位置，从而提高掩模相对掩模框架放置的位置精度；以及通过第一位移测量模块精确确定掩模固定模块的位置信息，提高掩模固定模块对掩模和掩膜框架的固定精度，从而提高了金属掩模版的制作精度。

示例性的，掩模制作装置还包括驱动模块和控制模块，驱动模块用于驱动张网模块、掩模检测模块200和掩模固定模块300沿预设方向运动，第一位移测量模块和驱动模块与控制模块电连接。在张网模块对掩模条的位置进行调整的过程中，第一位移测量模块用于在掩模固定的过程中，实时监测掩模固定模块300和掩模检测模块200的位置信息，并反馈给控制模块，控制模块根据反馈信息，通过驱动模块实时调整掩模固定模块300的位置，在掩模条上的预设位置进行固定操作，将掩模条固定在掩模框架500上。

可选的，如图1所示，掩模制作装置还包括底座10、龙门架20和至少一个运动台30，其中，龙门架20沿X方向延伸，龙门架可沿龙门导轨21运动，龙门导轨21沿Y方向设置在底座10上；运动台30设置于龙门架20上，且可沿龙门架20延伸方向(即Y方向)运动，运动台30上各设置有掩模检测模块200和掩模固定模块300，其中，X方向和Y方向相互垂直。

其中，运动台30沿龙门架20运动，带动掩模检测模块200和掩模固定模块300沿X方向运动，龙门架20沿Y方向运动，带动掩模检测模块200和掩模固定模块300沿Y方向运动。在本实施例中，在龙门架20上设置两个运动台30，两个运动台30上均设置有掩模检测模块200和掩模固定模块300，两个运动台30可协同工作，提高掩模条检测效率和掩模条固定效率，进而提高金属掩模版制作效率。两个运动台30上的检测镜头，各自检测视场的中心点在沿整机坐标系Y向上的位置距离之差小于视场Y向尺寸的1/4，通过这一特征，可以保证两个运动台上的检测镜头能够同时看到掩模条沿Y向同位置分布的像素孔图案。

需要说明的是，本实施例仅示例性的示出了设置两个运动台的情况，并非对本发明的限定，在其他实施方式中，也可以设置一个或多个运动台。

可选的，第一位移测量模块包括多个测量组件，测量组件包括测量头和反馈头，测量头用于发送测量信号并接收由反馈头返回的反馈信号，根据测量信号和反馈信号测量位置信息。

具体的，测量头可以根据反馈信号的接收时间与测量信号的发送的时间差确定测量头与反馈头之间的距离，测量头还可以根据反馈信号与测量信号的干涉等确定测量头与反馈头之间的距离。

可选的，测量头为干涉仪，用于发射激光信号，反馈头为反射镜，具体可以为角锥反射镜，用于反射测量头发出的激光信号，反射的激光信号被测量头接收。

示例性的，从干涉仪内部发出的激光光束，经扩束准直后由干涉仪内部的分光镜分为两路，并分别从固定的角锥反射镜(位于干涉仪内部)和可动角锥反射镜(可动角锥反射镜设置在待测物上)反射回来会合在分光镜上，并在干涉仪中的接收器上产生干涉条纹。当可动角锥反射镜移动时，干涉条纹的光强变化由接受器中的光电转换元件和电子线路等转换为电脉冲信号，经整形、放大后输入可逆计数器计算出总脉冲数N，再由计算器结合激光波长，算出可动角锥反射镜的位移量L，即待测物的位移量。

可选的，第一位移测量模块包括第一测量单元，第一测量单元包括一个第一测量组件，第一测量组件包括第一干涉仪611和第一反射镜612，第一干涉仪611设置于龙门架20上，第一反射镜612对应设置于运动台30上，第一测量组件用于测量运动台30相对于龙门架20或底座10在X方向的位移，由于掩模固定模块300设置运动台30上，且相对于各自对应的运动台30没有X方向的位置变化，因而可以确定掩模固定模块300和掩模检测模块200在X方向的位置信息，对掩模固定模块300和掩模检测模块200进行精确定位。

可选的，第一位移测量模块包括第二测量单元，第二测量单元包括一个第二测量组件，第二测量组件包括第二干涉仪621和第二反射镜622，第二干涉仪621设置于底座10上，第二反射镜622对应设置于龙门架上。第二测量组件用于测量龙门架20相对于底座10在Y方向的位移，进而确定掩模固定模块300和掩模检测模块200在Y方向的位置信息，对掩模固定模块300和掩模检测模块200进行精确定位。

图2为本发明实施例提供的另一种掩模制作装置的结构示意图，如图2所示，可选的，在本发明另一实施例中，在图1所示实施例的基础上，第一测量单元包括多个第一测量组件，第一测量组件包括第一干涉仪611和第一反射镜612，第一干涉仪611设置于龙门架20上，第一反射镜612对应设置于运动台30上，多个第一测量组件用于测量运动台30相对于龙门架20或底座10在X方向的位移，以及运动台30绕Y方向和Z方向旋转时的偏转位移(即Ry和Rz方向的偏转位移)，进而可以确定掩模固定模块300和掩模检测模块200的位置信息。具体的，3个以上的第一干涉仪611分布不在同一直线上，可构成三角线、四边形等分布，示例性的，使用直角三角形、等腰三角形或矩形的布局。通过多个第一测量组件测量掩模固定模块300在X方向、Ry方向以及Rz方向的位置信息，提高掩模固定模块300和掩模检测模块200的位置精度，进而提高金属掩模版的制作精度。

需要说明的是，图1和图2仅示例性的示出第一测量单元包括一个第一测量组件和多个第一测量组件的情况，并非对本发明的限定，第一测量组件的个数可以根据需要测量的位移数量以及测量精度确定，示例性的，当仅需测量X方向位移和Ry，或仅需测量X方向位移和Rz时，第一测量单元可以包括两个第一测量组件。

可选的，如图2所示，第二测量单元包括多个第二测量组件，第二测量组件包括第二干涉仪621和第二反射镜622，第二干涉仪621设置于底座10上，第二反射镜622对应设置于龙门架上。多个第二测量组件用于测量龙门架20相对于底座10在Y方向的位移，以及龙门架20绕X方向和Z方向旋转时的偏转位移(即Rx和Rz方向的偏转位移)，进而确定掩模固定模块300和掩模检测模块200的位置信息。具体的，3个以上的第二干涉仪621分布不在同一直线上，可构成三角线、四边形等分布，示例性的，使用直角三角形、等腰三角形或矩形的布局。通过多个第二测量组件测量掩模固定模块300在Y方向、Rx方向以及Rz方向的位置信息，提高掩模固定模块300和掩模检测模块200的位置精度，进而提高金属掩模版的制作精度。

需要说明的是，图1和图2仅示例性的示出第二测量单元包括一个第二测量组件和多个第二测量组件的情况，并非对本发明的限定，第二测量组件的个数可以根据需要测量的位移数量以及测量精度确定，示例性的，当仅需测量Y方向位移和Rx，或仅需测量Y方向位移和Rz时，第二测量单元可以包括两个第二测量组件。

在上述实施例中，干涉仪位于底座10上，反射镜位于运动台30或龙门架20上，在其他实施例中，干涉仪和反射镜的位置也可以交换。图3为本发明实施例提供的又一种掩模制作装置的结构示意图，如图3所示，可选的，位移测量模块包括第三测量单元，第三测量单元包括第三反射镜632和至少一个第三干涉仪631，第三干涉仪631设置于运动台30上，第三反射镜632呈长条形沿Y方向延伸，设置于底座10上，至少一个第三干涉仪631共用第三反射镜632。第三测量单元用于测量运动台30相对于底座10在X方向的位移，以及运动台30绕Y方向和Z方向旋转时的偏转位移(即Ry和Rz方向的偏转位移)，进而可以确定掩模固定模块300和掩模检测模块200的位置信息。

需要说明的是，图3仅示例性的示出了两个第三干涉仪631，并非对本发明的限定，在其他实施方式中，第三干涉仪631的个数可以根据需要测量的位移数量以及测量精度确定，示例性的，当仅需测量X方向位移时，可以设置一个第三干涉仪631，当需要测量X方向位移、Ry以及Rz中的两个时，可以设置两个第三干涉仪631，当需要测量X方向位移、Ry以及Rz时，可以设置三个第三干涉仪631。

此外，图3仅示例性的示出了一个运动台30，并非对本发明的限定，在其他实施方式中还可以包括两个或多个运动台。

可选的，如图3所示，位移测量模块包括第四测量单元，第四测量单元包括第四反射镜642和至少一个第四干涉仪641，第四干涉仪641设置于运动台30上，第四反射镜642呈长条形沿X方向延伸，设置于底座10上，至少一个第四干涉仪641共用第四反射镜642。第四测量单元用于测量运动台30相对于底座10在Y方向的位移，以及运动台30绕X方向和Z方向旋转时的偏转位移(即Rx和Rz方向的偏转位移)，进而可以确定掩模固定模块300和掩模检测模块200的位置信息。

需要说明的是，图3仅示例性的示出了两个第四干涉仪641，并非对本发明的限定，在其他实施方式中，第四干涉仪641的个数可以根据需要测量的位移数量以及测量精度确定，示例性的，当仅需测量Y方向位移时，可以设置一个第四干涉仪641，当需要测量Y方向位移、Rx以及Rz中的两个时，可以设置两个第四干涉仪641，当需要测量Y方向位移、Rx以及Rz时，可以设置三个第四干涉仪641。

可选的，在上述实施例的基础上，如图1-3所示，可选的，底座10上沿Y方向设置有张网导轨41，张网单元110设置在张网导轨41上，可沿张网导轨41运动。张网模块的张网单元110包括夹爪组件111和夹爪平台112，夹爪组件111设置在夹爪平台112上，用于夹持掩模条，并对掩模条施加规定大小的沿X方向的力。夹爪平台112设置于张网导轨41上，张网导轨41沿Y方向设置于底座10上，张网单元110可沿张网导轨41运动。夹爪组件111由N组成对分布的夹爪组成，每个夹爪具备X向位移自动度、Y向位移自由度、拉伸力测量及控制功能。示例性的，任意单个夹爪拉力调整的控制分辨率应满足≤0.02N，拉力控制在拉力调整至稳定阶段时，其稳定性应满足≤0.02N。任意夹爪其X向位移分辨率应≤200nm，Y向位移分辨率应≤5μm。夹爪平台112具备Y、Z向运动自动度，特殊的，其Y向运动重复性应满足≤150nm，Z向运动重复性应满足≤5μm。

可选的，如图1-3所示，掩模制作装置还包括第二位移测量模块，用于实时监测张网模块的位置信息，并反馈给控制模块，控制模块根据反馈信息，通过驱动模块实时调整张网模块的位置，确保张网模块将掩模条放置至掩模框架500上预设的位置，进而提高金属掩模版的制作精度。第二位移测量模块包括第五测量单元，第五测量单元包括至少一个第三测量组件，第三测量组件包括第五干涉仪651和第五反射镜652，第五干涉仪651设置于底座10上，第五反射镜652对应设置于夹爪平台112上。第五测量单元用于测量张网单元110相对于底座在Y方向的位移，以及张网单元110绕X方向和Z方向旋转时的偏转位移，以对测量张网单元110进行精确定位，将掩模条精确地放置在掩模框架500的预设位置上，提高掩模制作精度。

需要说明的是，图1-3仅示例性的示出了每个张网单元110配置一个第三测量组件的情况，并非对本发明的限定，在其他实施方式中，每个张网单元110配置的第三测量组件的个数可以根据需要测量的位移数量以及测量精度确定，示例性的，当仅需测量Y方向位移时，可以配置一个第三测量组件，当需要测量Y方向位移、Rx以及Rz中的两个时，可以配置两个第三测量组件，当需要测量Y方向位移、Rx以及Rz时，可以配置三个第三测量组件。

可选的，如图1-3所示，掩模制作装置还包括掩模框架对准组件60，掩模框架500置于工作台上，掩模框架对准组件60用于对掩模框架500进行位置对准，将掩模框架500固定于工作台上的预设工位。工作台实现承载掩模框架500的功能，工作台的两侧设置有掩模框架对准组件60。通过掩模框架对准组件60，可以实现掩模框架500的X向和Rz向自由度的精确调整。示例性的，对准组件60可以包括沿X方向伸缩的顶针，顶针端部抵住掩模框架500，通过调整各顶针的伸缩量，实现掩模框架500的X向和Rz向自由度的精确调整。示例性的，通过掩模框架对准组件60可实现掩模框架500在X方向的定位重复性≤5μm，Rz方向重复性≤5μrad。

可选的，第一位移测量模块还包括第六测量单元，第六测量单元包括至少一个第四测量组件，第四测量组件包括第六干涉仪661和第六反射镜(图中未示出)，第六干涉仪661设置于Z轴运动模组50的动子上，第六反射镜对应设置于运动台上。第六测量单元用于测量掩模固定模块300和掩模检测模块200相对于运动台在Y方向的初始距离，以及绕X方向和Z方向旋转时的偏转位移，进一步提高掩模固定模块300和掩模检测模块200的位置精度，进而提高金属掩模版的制造精度。

可选的，掩模制作装置内部，例如底座10上，在不同位置布置有至少一个标定版，标记版上设置有标定图案，至少一个标记版可由两个掩模检测模块200中的镜头视场可达区域覆盖，掩模检测模块200采集包括标定图案的图像，用于定期标定两个掩模检测模块200的位置和相互间的差异，确保掩模检测模块200的初始位置不会发生变化。

图4为本发明实施例提供的Z轴运动模组的结构示意图，如图1-4所示，可选的，掩模制作装置还包括Z轴运动模组50，Z轴运动模组50安装在运动台30上，掩模固定模块300和掩模检测模块200安装在Z轴运动模组50上，Z轴运动模组50用于驱动掩模固定模块300和掩模检测模块200沿Z方向运动，其中Z方向垂直于X和Y方向。

具体的，通过运动台30、龙门架20和Z轴模组50，可以实现掩模固定模块300和掩模检测模块200沿X、Y和Z方向的自由运动。

可选的，掩模检测模块200包括检测镜头和第一距离测量单元，掩模上设置有特征位置标记，具体的，在张网模块拉伸掩模条的过程中，需要将特征位置标记拉伸至预设位置，从而确保掩模条的位置准确性。检测镜头用于采集掩模的图像信息，以根据特征位置标记确定掩模条在掩模框架上的位置信息。第一距离测量单元设置于Z轴运动模组上，用于测量Z轴运动模组相对于掩模在Z方向的距离，进而确定掩模检测模块200和掩模固定模块300相对于掩模在Z方向的距离。示例性的，第一距离测量单元可以是激光测距仪、电容距离感应器等非接触式的距离测量仪。以第一距离测量单元为激光测距仪为例，激光测距仪在掩模条上形成特定大小、形状的测量光斑，测量光斑可以具备以下特征：1、其包含1个或多个子光斑；2、其光斑的尺寸可以大于被测掩模条中最小像素孔的尺寸。通过激光往返的时间可以确定Z轴运动模组相对于掩模在Z方向的距离。可选的，第一距离测量单元包括多个不在同一直线上的激光测距仪，基于多个激光测距仪测得距离，可以测量被测掩模条沿高度方向的整体形貌。

可选的，掩模检测模块200的检测镜头还可以用于采集掩模条与掩模框架500连接的焊点的图像，通过图像中焊点的圆度、直径等信息确定焊点的质量。

可选的，第一距离测量单元还可以用于测量焊点沿高度方向的形貌，具体的，第一距离测量单元包括多个不在同一直线上的激光测距仪，激光测距仪的光斑尺寸可以小于被测焊点直径的1/10，多个激光测距仪的光斑透射到焊点上，基于多个激光测距仪测得距离，可以确定焊点沿高度方向的形貌。

可选的，如图1-3所示，掩模制作装置还包括第二距离测量单元，示例性的，第二距离测量单元可以是激光测距仪、电容距离感应器等非接触式的距离测量仪，本发明实施例以第一距离测量单元为激光测距仪为例进行说明。如图1-3所示，激光测距仪671设置于龙门架20的两端，用于测量龙门架20相对于龙门导轨21在X方向的位置偏移、绕Y方向的偏转(即Ry向的偏转)以及绕Z方向的偏转(即Rz向的偏转)。龙门架20相对于龙门导轨21在X方向的位置偏移、绕Y方向的偏转以及绕Z方向的偏转会导致运动台30相应的发生偏移或偏转，进而导致掩模固定模块300和掩模检测模块200发生偏移或偏转。在生产过程中，可以对龙门架20相对于龙门导轨21在X方向的位置偏移、绕Y方向的偏转位移以及绕Z方向的偏转位移进行坐标变换，以补偿掩模固定模块300和掩模检测模块200的实时姿态中，进一步提高掩模固定模块300的位置精度和掩模检测模块200对待测标记位置的测量精度，进而提高金属掩模版的制造精度。

需要说明的是，第二距离测量单元中激光测距仪的个数可以根据需要测量的位移数量以及测量精度确定，示例性的，当仅需测量X方向位移时，可以配置一个激光测距仪，当需要测量X方向位移、Ry以及Rz中的两个时，可以配置两个激光测距仪，当需要测量X方向位移、Ry以及Rz时，可以配置三个激光测距仪。

可选的，如图1-3所示，掩模制作装置还包括掩模传输单元，掩模传输单元包括掩模库70、机械手80和掩模旋转台90。掩模库70用于存放掩模条，机械手80用于从掩模库70中取出掩模条，并将其传送至掩模旋转台90，掩模旋转台90通过旋转对掩模条的位姿进行调整。

实施例二

本发明实施例提供了一种掩模制作方法，该方法基于本发明上述实施例提供的掩模制作装置，图5为本发明实施例提供的一种掩模制作方法的流程图，如图5所示，掩模制作方法包括：

S101、建立基准坐标系。

示例性的，首先选定基准面，该基准面与Z方向垂直，该基准面可以是底座表面所在的平面、运动台表面所在的平面、龙门横梁表面所在的平面等，本发明实施例在此不做限定，只要基准面与Z方向垂直即可。然后，在该基准面内建立基准坐标系，示例性，以掩模框架的几何中心作为坐标原点，以平行于龙门架20的X方向作为X轴，以垂直于龙门架的Y方向作为Y轴建立基准坐标系。

S102、将第一位移测量模块测得数据统一到基准坐标系下，确定掩模固定模块和掩模检测模块的位置信息。

在运动台移动的过程中，将第一位移测量模块测得的位移数据转换至该基准坐标系下，并确定掩模固定模块和掩模检测模块的位置信息。

在本发明的一实施例中，底座上不同位置布置有至少一个标定版，标记版上设置有标定图案，至少一个标记版可由两个掩模检测模块中的镜头视场可达区域覆盖，掩模检测模块采集包括标定图案的图像，可以通过标记版对基准坐标系进行坐标轴方向及非正交性能的修正，以补偿基准坐标系与产线其他设备的坐标系间的微小差异。

S103、将掩模传送至掩模框架上。

在确定掩模固定模块和掩模检测模块的位置信息后，张网模块夹持掩模条，并对掩模条施加规定大小的沿X方向的力，以拉伸掩模条，使掩模条处于绷紧、有一定变形、展开的状态，并将掩模条传送至掩模框架上预设的位置。

S104、通过掩模检测模块确定掩模在基准坐标系下的位置信息。

示例性的，掩模条上设置有特征位置标记，在后续张网模块对掩模条拉伸张网的过程中，需要对掩模条进行拉伸，将特征位置标记拉伸至预设位置。在拉伸张网前，检测模块确定特征位置标记的实际位置。

S105、基于掩模在基准坐标系下的位置信息，将所述掩模调整至预设位置。

示例性的，可以预先建立特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸力的对应关系，或/和特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸位移的对应关系，或/和特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与平移位移的对应关系。其中，拉伸力用于表示张网模块的夹爪组件执行张网时对掩模条施加的力，拉伸位移用于表示张网模块的夹爪组件在拉伸掩模条，且使掩模条发生形变时，夹爪组件的拉伸变化量，平移位移用于表示张网模块的夹爪组件在维持拉伸力不变的情况下，移动掩模时的位置变化量。在确定掩模条的特征位置标记在基准坐标系下的实际位置后，基于预先建立特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸力、拉伸位移或/和平移位移的对应关系，确定所需的拉伸力、拉伸位移或/和平移位移的大小，张网模块执行拉伸张网动作，夹爪组件对掩模条施加相应的拉伸力、或/和控制夹爪组件拉伸掩模条，在拉伸方向上的拉伸量的变化满足拉伸位移，或/和控制夹爪组件在维持拉伸力不变的情况下整体平移满足平移位移，将特征位置标记拉伸至预设位置。

S106、将掩模固定在掩模框架上。

示例性的，在张网模块对掩模条施加拉伸力后，掩模固定模块将掩模条固定在掩模框架，具体的，掩模固定模块将掩模条焊接在掩模框架上。

本发明实施例提供的掩模制作方法，通过第一位移测量模块精确确定掩模检测模块的位置信息，进而可以更精确的获取掩模的实际位置，从而通过调整张网模块的拉伸和位移，使掩模更精确的移动到预设的位置，从而提高掩模相对掩模框架放置的位置精度；以及通过第一位移测量模块精确确定掩模固定模块的位置信息，提高掩模固定模块对掩模和掩膜框架的固定精度，从而提高了金属掩模版的制作精度。

可选的，在一些实施例中，上述实施例中，步骤S105可以包括如下过程：

将掩模在基准坐标系下的位置信息输入预先建立的计算模型，计算模型包括掩模检测模块确定特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸力的对应关系，或/和特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸位移的对应关系，或/和特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与平移位移的对应关系。计算模型根据特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸力的对应关系，或/和特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸位移的对应关系，或/和特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与平移位移的对应关系，输出所需的拉伸力、拉伸位移或/和平移位移。张网模块在获取计算模型根据所述对应关系输出的拉伸力、拉伸位移或/和平移位移后，根据输出的拉伸力、拉伸位移或/和平移位移执行张网操作，将特征位置标记拉伸至预设位置。

可选的，在步骤S103之前，可以对张网模块施加的拉伸力进行训练，建立计算模型，确定特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸力、拉伸位移或/和平移位移的对应关系。具体的，通过张网模块将训练用掩模传送至掩模框架上；通过掩模检测模块确定训练用掩模在基准坐标系下的位置信息，即特征位置标记在基准坐标系下的实际位置；基于训练用掩模在基准坐标系下的位置信息，对训练用掩模施加拉伸力，以将训练用掩模上的特征位置标记拉伸至预设位置，记录上述拉伸力，或/和夹爪组件在拉伸方向上的拉伸位移，或/和夹爪组件在维持拉伸力不变的情况下的整体平移位移；重复上述过程，得到多组训练用掩模的特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸力、拉伸位移或/和平移位移的数据，将多组训练用掩模的特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸力、拉伸位移或/和平移位移的数据作为训练数据进行模型训练，建立上述计算模型。在后续的拉伸张网过程中，只需要测得特征位置标记的实际位置，并输入计算模型，计算模型即可根据特征位置标记的实际位置与拉伸力、拉伸位移或/和平移位移的对应关系计算出所需的拉伸力、拉伸位移或/和平移位移。

需要说明的是，上述模型训练的步骤，对于结构特征相同的掩模条，一般的仅需要进行首次训练得到训练模型，后续结构特征相同掩模条在张网过程中可直接使用同一训练模型进行张网。对于不同结构特征的掩模条，如果检测模块确定的其特征位置标记与已有的训练模型中预存的预设位置的位置相近，即拉伸量较小，拉伸误差较小，也可使用同一模型，否则可针对该金属掩模重新进行训练，得到该金属掩模对应的训练模型。

可选的，在步骤S105之后，可将每一掩模条的特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸力，或/和实际位置与拉伸位移，或/和实际位置与平移位移作为训练数据，输入到上述计算模型中，在线更新计算模型，从而进一步提高张网的精度。

为使本领域技术人员更好地理解本发明实施例，以下通过具体的示例来说明本实施例中的掩模制作方法，具体的，掩模制作过程如下：

1、建立整机基准坐标系，整机基准坐标系的基准可以是大理石底座、运动台、龙门横梁形成的基准面。运动台、掩模框架、张网单元、掩模旋转台、掩模检测模块等的位置都建立在整机基准坐标系下。所有位移测量模块得到的位置信息，均建立在整机基准坐标系下。

2、上载训练用的掩模条，通过特定的程序，完成设备中特殊的掩模拉伸数学计算模型的初步训练，得到计算模型，计算模型包括特征位置标记在基准坐标系下的实际位置与拉伸力，实际位置与拉伸位移或/和实际位置与平移位移的对应关系。

3、下载训练用掩模条。

4、上载掩模框架，利用掩模检测模块对掩模框架上的特征位置标记进行对准，通过掩模框架对准组件，调整掩模框架的位置，使掩模框架调整至整机基准坐标系下的预期位置。掩模框架处于预期位置时，其中心点坐标与整机基准坐标系的零点完全重合。通过掩模框架上特征点对准后，可以得到掩模框架的(局部)坐标系，掩模框架的(局部)坐标系与整机的基准坐标系之间，仅存在极其小的平移和旋转偏差；示例性的，上述及其小的平移和旋转，可以指1um、1urad或更小的数值。

5、机械手自掩模条库中取出掩模条，并传送至旋转台上，利用掩模检测模块对掩模条上的特征位置标记进行检测，通过旋转台，将掩模条旋转至整机基准坐标系下的预期值。掩模条处于预期位置时，其坐标系旋转方向与整机的基准坐标系旋转方向完全重合；通过掩模条上特征位置标记对准后，可以计算得到掩模条的(局部)坐标系，掩模条的坐标系与整机的基准坐标系之间，最终仅存在极其小的平移和旋转偏差；示例性的，上述及其小的平移和旋转，可以指1um、1urad或更小的数值。

6、夹爪组件自旋转台上夹持掩模条，将掩模条传送至掩模框架上，利用掩模检测模块检测掩模条上的特征位置标记在基准坐标系下的位置信息。需要说明的是，所述预设位置，是由其设计位置直接映射至整机的基准坐标系中的，并不需要补偿掩模框架或基准掩模条的对准残差，因为前面的步骤已经将掩模框架和掩模条的位置偏差，控制在非常小的范围内。

7、将测量到的特征位置标记在基准坐标系下的位置信息输入设备中的计算模型，通过计算模型计算输出所需拉伸力、拉伸位移或/和平移位移。通过对夹爪组件施加并调整拉伸力，或/和控制夹爪组件拉伸掩模条，在拉伸方向上的位置变化满足拉伸位移，或/和控制夹爪组件在维持拉伸力不变的情况下整体平移满足平移位移，将掩模条上的特征位置标记调整至预设位置。

8、计算模型在上述测量-拉伸的迭代过程中进行在线更新。

9、通过掩模固定模块将掩模条焊接至掩模框架上。

10、重复上述步骤5-9，完成所有掩模条的定位与焊接。

11、下载掩模框架，完成金属掩模版的制作。

于本文的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”，仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。

在本说明书的描述中，参考术语“一实施例”、“示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (22)

1.一种掩模制作装置，其特征在于，包括：

张网模块，用于拉伸掩模，并将所述掩模传送至掩模框架上；

掩模检测模块，用于检测所述掩模在所述掩模框架上的位置信息；

掩模固定模块，用于将所述掩模固定在所述掩模框架上；

第一位移测量模块，用于测量所述掩模固定模块和所述掩模检测模块的位置信息；

所述第一位移测量模块包括多个测量组件，所述测量组件包括测量头和反馈头，所述测量头用于发送测量信号并接收由所述反馈头返回的反馈信号，根据所述测量信号和所述反馈信号测量所述位置信息；

所述测量头为干涉仪，所述反馈头为反射镜；

底座、龙门架和至少一个运动台，所述龙门架沿X方向延伸，所述龙门架可沿龙门导轨运动，所述龙门导轨沿Y方向设置在所述底座上；所述运动台设置于所述龙门架上，且可沿所述龙门架延伸方向运动，所述掩模检测模块和所述掩模固定模块设置于所述运动台上，所述X方向和Y方向相互垂直。

2.根据权利要求1所述的掩模制作装置，其特征在于，所述运动台的数量为两个。

3.根据权利要求1所述的掩模制作装置，其特征在于：

所述第一位移测量模块包括第一测量单元，所述第一测量单元包括至少一个第一测量组件，所述第一测量组件包括第一干涉仪和第一反射镜；

所述第一干涉仪设置于所述龙门架上，所述第一反射镜对应设置于所述运动台上。

4.根据权利要求1所述的掩模制作装置，其特征在于：

所述第一位移测量模块包括第二测量单元，所述第二测量单元包括至少一个第二测量组件，所述第二测量组件包括第二干涉仪和第二反射镜；

所述第二干涉仪设置于所述底座上，所述第二反射镜对应设置于所述龙门架上。

5.根据权利要求1所述的掩模制作装置，其特征在于：

所述第一位移测量模块包括第三测量单元，所述第三测量单元包括第三反射镜和至少一个第三干涉仪；

所述第三干涉仪设置于所述运动台上，所述第三反射镜呈长条形，沿所述Y方向设置于所述底座上，所述至少一个第三干涉仪共用所述第三反射镜。

6.根据权利要求1所述的掩模制作装置，其特征在于：

所述第一位移测量模块包括第四测量单元，所述第四测量单元包括第四反射镜和至少一个第四干涉仪；

所述第四干涉仪设置于所述运动台上，所述第四反射镜呈长条形，沿所述X方向设置于所述底座上，所述至少一个第四干涉仪共用所述第四反射镜。

7.根据权利要求1-6任一所述的掩模制作装置，其特征在于：

所述张网模块包括夹爪组件和夹爪平台，所述夹爪平台设置于张网导轨上，所述张网导轨沿所述Y方向设置于所述底座上，所述张网模块可沿所述张网导轨运动。

8.根据权利要求7所述的掩模制作装置，其特征在于：

还包括第二位移测量模块，所述第二位移测量模块包括第五测量单元，所述第五测量单元包括至少一个第三测量组件，所述第三测量组件包括第五干涉仪和第五反射镜；

所述第五干涉仪设置于所述底座上，所述第五反射镜对应设置于所述夹爪平台上。

9.根据权利要求1所述的掩模制作装置，其特征在于，还包括：

掩模框架对准组件，用于对所述掩模框架进行位置对准，将所述掩模框架固定于预设工位。

10.根据权利要求1所述的掩模制作装置，其特征在于，还包括：

Z轴运动模组，所述Z轴运动模组安装在所述运动台上，所述掩模固定模块和所述掩模检测模块安装在所述Z轴运动模组上，所述Z轴运动模组用于驱动所述掩模固定模块和所述掩模检测模块沿Z方向运动，所述Z方向垂直于所述X方向和Y方向。

11.根据权利要求10所述的掩模制作装置，其特征在于：

所述第一位移测量模块还包括第六测量单元，所述第六测量单元包括至少一个第四测量组件，所述第四测量组件包括第六干涉仪和第六反射镜，所述第六干涉仪设置于所述Z轴运动模组的动子上，所述第六反射镜对应设置于所述运动台上。

12.根据权利要求10所述的掩模制作装置，其特征在于：

掩模检测模块包括检测镜头和第一距离测量单元；

所述掩模上设置有特征位置标记，所述检测镜头用于采集所述掩模的图像信息，以根据所述特征位置标记确定所述掩模在所述掩模框架上的位置信息；

所述第一距离测量单元设置于所述Z轴运动模组上，用于测量所述Z轴运动模组相对于所述掩模在Z方向的距离。

13.根据权利要求1所述的掩模制作装置，其特征在于：

所述掩模固定模块包括激光焊接头，用于将所述掩模焊接在所述掩模框架上，所述掩模检测模块还用于检测所述掩模与所述掩模框架的焊点的质量。

14.根据权利要求1所述的掩模制作装置，其特征在于：

还包括第二距离测量单元，所述第二距离测量单元设置于所述龙门架的两端，用于测量所述龙门架相对于所述龙门导轨在X方向的位置偏移、绕Y方向的偏转以及绕Z方向的偏转。

15.根据权利要求14所述的掩模制作装置，其特征在于：

所述龙门架相对于所述龙门导轨在X方向的位置偏移、绕Y方向的偏转以及绕Z方向的偏转，用于在经过坐标变换后，补偿所述龙门架相对于所述龙门导轨发生偏移或偏转时造成的所述掩模固定模块和所述掩模检测模块的偏移或偏转。

16.根据权利要求1所述的掩模制作装置，其特征在于，还包括：

掩模传输单元，所述掩模传输单元包括掩模库、机械手和掩模旋转台。

17.一种掩模制作方法，其特征在于，基于权利要求1-16任一所述的掩模制作装置，包括：

建立基准坐标系；

将所述第一位移测量模块测得数据统一到所述基准坐标系下，确定所述掩模固定模块和所述掩模检测模块的位置信息；

将掩模传送至掩模框架上；

通过所述掩模检测模块确定所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息；

基于所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息，将所述掩模调整至预设位置；

将所述掩模固定在所述掩模框架上。

18.根据权利要求17所述的掩模制作方法，其特征在于，所述掩模上设置有特征位置标记，通过所述掩模检测模块确定所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息，包括：

通过所述掩模检测模块确定所述特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置。

19.根据权利要求18所述的掩模制作方法，其特征在于，基于所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息，将所述掩模调整至预设位置，包括：

将所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息输入计算模型，所述计算模型包括所述特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与拉伸力的对应关系，或/和所述特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与拉伸位移的对应关系，或/和所述特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与平移位移的对应关系；

获取所述计算模型根据所述对应关系输出的拉伸力、拉伸位移或/和平移位移；

根据所述拉伸力、拉伸位移或/和平移位移，将所述特征位置标记调整至预设位置。

20.根据权利要求17所述的掩模制作方法，其特征在于，在所述将掩模传送至掩模框架上之前，还包括：

建立计算模型。

21.根据权利要求20所述的掩模制作方法，其特征在于，所述建立计算模型，包括：

将训练用掩模传送至所述掩模框架上；

通过所述掩模检测模块确定所述训练用掩模在所述基准坐标系下的位置信息；

基于所述训练用掩模在所述基准坐标系下的位置信息，对所述训练用掩模施加拉伸力，以将训练用掩模上的特征位置标记拉伸至预设位置；

将所述训练用掩模的特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与拉伸力，或/和所述训练用掩模的特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与拉伸位移，或/和所述训练用掩模的特征位置标记在所述基准坐标系下的实际位置与平移位移作为训练数据进行模型训练，建立所述计算模型。

22.根据权利要求21所述的掩模制作方法，其特征在于，在所述基于所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息，将所述掩模调整至预设位置，还包括：

将所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息与拉伸力，或/和所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息与拉伸位移，或/和所述掩模在所述基准坐标系下的位置信息与平移位移作为训练数据，以在线更新所述计算模型。

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