CN112654587A - 用于制造玻璃带的装置和方法 - Google Patents

Abstract

装置可以包括：容纳设备，所述容纳设备包括表面，所述表面限定在所述容纳设备的流动方向上延伸的区域。定位为支撑所述容纳设备的重量的支撑构件可以包括支撑材料，所述支撑材料在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下具有从1x10^‑121/s到1x10^‑141/s的蠕变速率。在一些实施例中，所述支撑材料可以包括陶瓷材料。在一些实施例中，所述支撑材料可以包括碳化硅。在一些实施例中，铂壁可以被隔开，以免物理地接触所述支撑构件的任何部分。在一些实施例中，方法可以包括：使所述区域内的熔融材料在流动方向上流动，同时用所述支撑构件支撑所述容纳设备的重量。

Description

用于制造玻璃带的装置和方法

相关申请的交叉引用

本申请依据35U.S.C.§119要求2018年8月10日提交的美国临时专利申请第62/717170号的优先权权益，该申请的内容是本申请的基础并且全文以引用的方式并入本文。

背景技术

已知用形成装置将熔融材料处理成玻璃带。已知操作常规的形成装置来将一定量的熔融材料从形成装置下拉为玻璃带。

发明内容

下文呈现了本公开内容的简化概要，以提供详细描述中所述的一些示例性实施例的基本理解。

本公开内容大体涉及用于制造玻璃带的装置和方法，并且更具体地是涉及用于容纳熔融材料的容纳设备和用来支撑容纳设备的重量的支撑构件，以及用于用容纳设备容纳熔融材料同时由支撑构件支撑容纳设备和容纳设备内的熔融材料的重量的方法。

根据一些实施例，一种装置可以包括导管，该导管包括周边壁，该周边壁限定在导管的流动方向上延伸的区域。导管的周边壁的第一部分可以包括延伸穿过周边壁的外周表面的狭槽。狭槽可以与区域连通。该装置可以进一步包括支撑构件，该支撑构件包括支撑表面，该支撑表面限定接收周边壁的第二部分的区域。支撑构件可以包括支撑材料，该支撑材料在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下包括从1x 10^-121/s到1x 10^-141/s的蠕变速率。该装置可以又进一步包括定位在导管的狭槽下游的形成楔。形成楔可以包括第一楔表面和第二楔表面，该第一楔表面和该第二楔表面在下游方向上收敛以形成该形成楔的根部。

在一个实施例中，支撑材料包括陶瓷材料。

在另一个实施例中，陶瓷材料可以包括碳化硅。

根据其他实施例，一种装置可以包括导管，该导管包括周边壁，该周边壁限定在导管的流动方向上延伸的区域。导管的周边壁的第一部分可以包括延伸穿过周边壁的外周表面的狭槽。狭槽可以与区域连通。该装置可以进一步包括碳化硅支撑构件，该支撑构件包括支撑表面，该支撑表面限定接收周边壁的第二部分的区域。该装置可以又进一步包括定位在导管的狭槽下游的形成楔。形成楔可以包括第一楔表面和第二楔表面，该第一楔表面和该第二楔表面在下游方向上收敛以形成该形成楔的根部。

在一个实施例中，支撑表面可以环绕从周边壁的外周表面的约25％到约60％。

在另一个实施例中，接收周边壁的第二部分的区域的深度沿着狭槽的长度变化。

在另一个实施例中，接收周边壁的第二部分的区域的深度可以在小于在导管的流动方向上测量到的狭槽的长度的约33％的位置处最大。

在另一个实施例中，导管可以包括第一导管，该第一导管在接合点处与第二导管串联连接。接收周边壁的第二部分的区域的深度可以在接合点的侧向位置处比在第一导管的中间侧向位置和第二导管的中间侧向位置处更大。

在另一个实施例中，周边壁的第一部分可以与周边壁的第二部分相对。

在另一个实施例中，狭槽的宽度可以在导管的流动方向上增加。

在另一个实施例中，区域的与导管的流动方向垂直地截取的横截面积可以在导管的流动方向上减少。

在另一个实施例中，周边壁的外周表面可以沿着与导管的流动方向垂直地截取的横截面包括圆形形状。

在另一个实施例中，导管的周边壁的厚度可以为从约3mm到约7mm。

在另一个实施例中，导管的周边壁可以包括铂。

在另一个实施例中，该装置可以进一步包括限定第一楔表面的第一侧壁和限定第二楔表面的第二侧壁。

在另一个实施例中，第一侧壁可以包括铂，并且第二侧壁可以包括铂。

在另一个实施例中，支撑构件可以定位在第一侧壁与第二侧壁之间。

在另一个实施例中，第一侧壁和第二侧壁不物理地接触支撑构件的任何部分。

在另一个实施例中，第一侧壁的上游部分的上游端可以在第一接口处附接到导管的周边壁。此外，第二侧壁的上游部分的上游端可以在第二接口处附接到导管的周边壁。

在另一个实施例中，第一接口和第二接口可以各自位于导管的狭槽下游。

在另一个实施例中，第一侧壁的上游部分和第二侧壁的上游部分可以在下游方向上彼此背向张开。

在另一个实施例中，一种用装置由一定量的熔融材料制造玻璃带的方法可以包括：使区域内的熔融材料在导管的流动方向上流动。该方法可以进一步包括：使熔融材料从导管的区域流动通过狭槽作为第一熔融材料流和第二熔融材料流。

该方法可以进一步包括：使第一熔融材料流沿着下游方向在第一楔表面上流动；和使第二熔融材料流沿着下游方向在第二楔表面上流动。该方法可以进一步包括：从形成楔的根部熔融拉出第一熔融材料流和第二熔融材料流作为玻璃带。

根据其他实施例，一种装置可以包括支撑构件，该支撑构件包括支撑流槽、第一支撑堰和第二支撑堰。支撑流槽可以侧向定位在第一支撑堰与第二支撑堰之间。支撑构件可以包括支撑材料，该支撑材料在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下包括从1x 10^{- 12}1/s到1x 10^-141/s的蠕变速率。该装置可以进一步包括上壁，该上壁至少部分地限定熔融材料流槽，该熔融材料流槽定位在支撑流槽内并由支撑流槽支撑。在一些实施例中，上壁不物理地接触支撑构件的任何部分。该装置可以进一步包括第一侧壁，该第一侧壁包括附接到上壁的第一侧的上部分。在一些实施例中，第一侧壁不物理地接触支撑构件的任何部分。该装置可以进一步包括第二侧壁，该第二侧壁包括附接到上壁的第二侧的上部分。在一些实施例中，第二侧壁不物理地接触支撑构件的任何部分。该装置可以进一步包括形成楔，该形成楔包括由第一侧壁的下部分限定的第一楔表面和由第二侧壁的下部分限定的第二楔表面。第一楔表面和第二楔表面可以在下游方向上收敛以形成该形成楔的根部。

在一个实施例中，支撑材料可以包括陶瓷材料。

在另一个实施例中，陶瓷材料可以包括碳化硅。

根据其他实施例，一种装置可以包括碳化硅支撑构件，该碳化硅支撑构件包括支撑流槽、第一支撑堰和第二支撑堰。支撑流槽可以侧向定位在第一支撑堰与第二支撑堰之间。该装置可以进一步包括上壁，该上壁至少部分地限定熔融材料流槽，该熔融材料流槽定位在支撑流槽内并由支撑流槽支撑。在一些实施例中，上壁不物理地接触碳化硅支撑构件的任何部分。该装置可以进一步包括第一侧壁，所述第一侧壁包括附接到上壁的第一侧的上部分。在一些实施例中，第一侧壁不物理地接触支撑构件的任何部分。该装置可以进一步包括第二侧壁，所述第二侧壁包括附接到上壁的第二侧的上部分。在一些实施例中，第二侧壁不物理地接触支撑构件的任何部分。该装置可以进一步包括形成楔，所述形成楔包括由第一侧壁的下部分限定的第一楔表面和由第二侧壁的下部分限定的第二楔表面。第一楔表面和第二楔表面可以在下游方向上收敛以形成该形成楔的根部。

在一个实施例中，中间材料防止上壁、第一侧壁和第二侧壁物理地接触支撑构件的任何部分。

在另一个实施例中，中间材料可以包括氧化铝。

在另一个实施例中，上壁、第一侧壁和第二侧壁可以各自包括在从约3mm到约7mm的范围内的厚度。

在另一个实施例中，上壁、第一侧壁和第二侧壁可以各自包括铂。

在另一个实施例中，支撑构件可以定位在第一侧壁与第二侧壁之间。

在另一个实施例中，一种用装置由一定量的熔融材料制造玻璃带的方法可以包括：使熔融材料沿着流动方向流动于熔融材料流槽内，同时支撑构件的支撑流槽支撑熔融材料的重量。该方法可以进一步包括：使熔融材料从熔融材料流槽流动成在第一支撑堰上方流动的第一熔融材料流和在第二支撑堰上方流动的第二熔融材料流。该方法可以进一步包括：使第一熔融材料流沿着下游方向在第一楔表面上流动，并且使第二熔融材料流沿着下游方向在第二楔表面上流动。该方法可以进一步包括：从形成楔的根部熔融拉出第一熔融材料流和第二熔融材料流作为玻璃带。

根据其他实施例，一种装置可以包括容纳设备，该容纳设备包括表面，该表面限定在容纳设备的流动方向上延伸的区域。该装置可以进一步包括支撑构件，该支撑构件定位为支撑容纳设备的重量。支撑构件可以包括支撑材料，该支撑材料在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下包括从1x 10^-121/s到1x 10^-141/s的蠕变速率。该装置可以进一步包括铂壁，该铂壁在一些实施例中不物理地接触支撑构件的任何部分。

在一个实施例中，支撑材料可以包括陶瓷材料。

在另一个实施例中，陶瓷材料可以包括碳化硅。

根据其他实施例，一种装置可以包括容纳设备，该容纳设备包括表面，该表面限定在容纳设备的流动方向上延伸的区域。该装置可以进一步包括：碳化硅支撑构件，定位为支撑容纳设备的重量。该装置可以进一步包括铂壁，该铂壁在一些实施例中不物理地接触支撑构件的任何部分。

在一个实施例中，容纳设备可以包括铂导管，该铂导管包括限定区域的周边壁。周边壁的第一部分可以包括延伸穿过周边壁的外周表面的狭槽。狭槽可以与区域连通。

在另一个实施例中，支撑构件可以包括：支撑表面，该支撑表面限定接收周边壁的第二部分的区域。

在另一个实施例中，支撑表面可以环绕从周边壁的外周表面的约25％到约60％。

在另一个实施例中，接收周边壁的第二部分的区域的深度沿着狭槽的长度变化。

在另一个实施例中，接收周边壁的第二部分的区域的深度可以在小于在容纳设备的流动方向上测量到的狭槽的长度的约33％的位置处最大。

在另一个实施例中，铂导管可以包括第一铂导管，该第一铂导管在接合点处与第二铂导管串联连接。接收周边壁的第二部分的区域的深度可以在接合点的侧向位置处比在第一铂导管的中间侧向位置和第二铂导管的中间侧向位置处更大。

在另一个实施例中，周边壁的第一部分可以与周边壁的第二部分相对。

在另一个实施例中，狭槽的宽度可以在流动方向上增加。

在另一个实施例中，区域的与流动方向垂直地截取的横截面积可以在流动方向上减少。

在另一个实施例中，周边壁的外周表面可以沿着与流动方向垂直地截取的横截面包括圆形形状。

在另一个实施例中，铂导管的周边壁的厚度可以为从约3mm到约7mm。

在另一个实施例中，该装置可以进一步包括形成楔，该形成楔定位在导管的狭槽下游。形成楔可以包括第一楔表面和第二楔表面，该第一楔表面和该第二楔表面在下游方向上收敛以形成该形成楔的根部。

在另一个实施例中，铂壁可以进一步包括限定第一楔表面的第一铂侧壁和限定第二楔表面的第二铂侧壁。

在另一个实施例中，支撑构件可以定位在第一铂侧壁与第二铂侧壁之间。

在另一个实施例中，第一铂侧壁的上游部分的上游端可以在第一接口处附接到铂导管的周边壁。又进一步地，第二铂侧壁的上游部分的上游端可以在第二接口处附接到铂导管的周边壁。

在另一个实施例中，第一接口和第二接口可以各自位在铂导管的狭槽下游。

在另一个实施例中，第一铂侧壁的上游部分和第二铂侧壁的上游部分可以在下游方向上彼此背向张开。

在另一个实施例中，一种用装置使熔融材料流动的方法可以包括：使区域内的熔融材料在流动方向上流动。该方法可以进一步包括：使熔融材料从区域流动通过狭槽作为第一熔融材料流和第二熔融材料流。

在另一个实施例中，支撑构件可以包括支撑流槽、第一支撑堰和第二支撑堰。支撑流槽可以侧向定位在第一支撑堰与第二支撑堰之间。铂壁可以包括上铂壁，该上铂壁至少部分地限定熔融材料流槽，该熔融材料流槽定位在支撑流槽内并由支撑流槽支撑。在一些实施例中，上铂壁不物理地接触支撑构件的任何部分。

在另一个实施例中，铂壁可以包括第一铂侧壁和第二铂侧壁。支撑构件可以定位在第一侧壁与第二侧壁之间。

在另一个实施例中，该装置可以进一步包括形成楔，该形成楔包括由第一铂侧壁的下部分限定的第一楔表面和由第二铂侧壁的下部分限定的第二楔表面。第一楔表面和第二楔表面可以在下游方向上收敛以形成该形成楔的根部。

在另一个实施例中，铂壁可以包括在从约3mm到约7mm的范围内的厚度。

在另一个实施例中，中间材料可以防止铂壁物理地接触支撑构件的任何部分。

在另一个实施例中，中间材料可以包括氧化铝。

在另一个实施例中，一种用装置使熔融材料流动的方法可以包括：使熔融材料在流动方向上流动于熔融材料流槽内，同时支撑构件的支撑流槽支撑熔融材料的重量。该方法可以进一步包括：使熔融材料从熔融材料流槽流动成在第一支撑堰上方流动的第一熔融材料流和在第二支撑堰上方流动的第二熔融材料流。

要理解，前述一般描述和随后详细描述呈现了本公开内容的实施例，并且意图提供用于在描述和要求保护实施例时理解这些实施例的本质和特性的概述或框架。包括了附图以提供对实施例的进一步理解，并且这些附图被并入本说明书且构成本说明书的一部分。这些附图绘示了本公开内容的各种实施例并与说明书一起用来解释本公开内容的原理和操作。

附图说明

在参照附图阅读时，可以进一步理解本公开内容的这些和其他的特征、实施例和优点，在这些附图中：

图1示意性地绘示根据本公开内容的实施例的玻璃制造装置的示例性实施例；

图2图示根据本公开内容的一个实施例沿着图1的线2-2的玻璃制造装置的透视横截面图，该透视横截面图图示形成容器；

图3图示沿着图1的线2-2的玻璃制造装置的横截面图；

图4图示根据本公开内容的另一个实施例的形成容器的正视图；

图5图示沿着图4的线5-5的形成容器的俯视图；

图6图示沿着图5的线6-6的形成容器的横截面图；

图7图示沿着图5的线6-6的形成容器的另一个实施例的横截面图；

图8图示沿着图6和7的线8-8的形成容器的横截面图；

图9图示沿着图6和7的线8-8的形成容器的另外的实施例的横截面图；

图10图示沿着图6的线10-10的形成容器的又另外的实施例的横截面图；

图11图示沿着图6的线10-10的形成容器的又另外的实施例的横截面图；和

图12图示沿着图6的线10-10的形成容器的额外实施例的横截面图。

具体实施方式

现将在下文中参照附图来更全面地描述实施例，这些附图中图示了示例性实施例。尽可能地在所有附图中使用了相同的参考标号来指称相同的或类似的部件。然而，可以用许多不同的形式来实施此公开内容，并且此公开内容不应被视为限于本文中所阐述的实施例。

本公开内容的装置和方法可以提供可以随后分割成玻璃片的玻璃带。在一些实施例中，玻璃片可以装设有形成平行四边形(例如矩形(例如方形))、梯形或其他形状的四个边缘。在另外的实施例中，玻璃片可以是具有一个连续边缘的圆形、长椭圆形或椭圆形的玻璃片。具有两个、三个、五个等等的弯曲和/或笔直的边缘的其他玻璃片也可以被提供，并且预期是在本说明书的范围之内。也考虑各种尺寸(包括变化的长度、高度和厚度)的玻璃片。在一些实施例中，玻璃片的平均厚度可以是玻璃片的背对的主要面之间的各种平均厚度。在一些实施例中，玻璃片的平均厚度可以大于50微米(μm)，例如从约50μm到约1毫米(mm)，例如从约100μm到约300μm，然而也可以在另外的实施例中提供其他的厚度。可以将玻璃片用在范围广泛的显示应用中，例如但不限于液晶显示器(LCD)、电泳显示器(EPD)、有机发光二极管(OLED)和电浆显示面板(PDP)。

如图1中所示意性地绘示，在一些实施例中，示例性玻璃制造装置100可以包括玻璃形成装置101，该玻璃形成装置包括被设计为由一定量的熔融材料121产生玻璃带103的形成容器140。在一些实施例中，玻璃带103可以包括设置在相对的、相对厚的边缘珠缘之间的中心部分152，这些边缘珠缘沿着玻璃带103的第一外缘153和第二外缘155形成。此外，在一些实施例中，可以通过玻璃分离器149(例如划片、划痕轮、金刚石尖端、雷射等等)沿着分离路径151从玻璃带103分离玻璃片104。在一些实施例中，在从玻璃带103分离玻璃片104之前或之后，可以移除沿着第一外缘153和第二外缘155形成的相对厚的边缘珠缘以将中心部分152提供为具有均匀厚度的高质量玻璃片104。

在一些实施例中，玻璃制造装置100可以包括定向为从储存料架109接收批料107的熔化容器105。可以由批量递送设备111引入批料107，该批量递送设备由马达113提供动力。在一些实施例中，可以将可选的控制器115操作为启动马达113以将所需量的批料107引入到熔化容器105中，如由箭头117所指示。熔化容器105可以加热批料107以提供熔融材料121。在一些实施例中，可以采用玻璃熔体探具119来测量竖管123内的熔融材料121的水平且通过通讯线路125将测量到的信息传递到控制器115。

此外，在一些实施例中，玻璃制造装置100可以包括第一调理站，该第一调理站包括澄清容器127，该澄清容器位在熔化容器105下游且通过第一连接导管129耦接到熔化容器105。在一些实施例中，可以通过第一连接导管129将熔融材料121从熔化容器105重力馈送到澄清容器127。例如，在一些实施例中，重力可以驱动熔融材料121从熔化容器105通过第一连接导管129的内部路径到澄清容器127。此外，在一些实施例中，可以通过各种技术在澄清容器127内从熔融材料121除去气泡。

在一些实施例中，玻璃制造装置100可以进一步包括第二调理站，该第二调理站包括可以位在澄清容器127下游的混合腔室131。可以采用混合腔室131来提供均一的熔融材料121组成，藉此减少或消除可能原本存在于离开澄清容器127的熔融材料121内的不均匀性。如所示，可以通过第二连接导管135将澄清容器127耦接到混合腔室131。在一些实施例中，可以通过第二连接导管135将熔融材料121从澄清容器127重力馈送到混合腔室131。例如，在一些实施例中，重力可以驱动熔融材料121从澄清容器127通过第二连接导管135的内部路径到混合腔室131。

此外，在一些实施例中，玻璃制造装置100可以包括第三调理站，该第三调理站包括可以位在混合腔室131下游的递送容器133。在一些实施例中，递送容器133可以调节要馈送到入口导管141中的熔融材料121。例如，递送容器133可以充当蓄积器和/或流量控制器以调整和提供一致流量的熔融材料121到入口导管141。如所示，可以通过第三连接导管137将混合腔室131耦接到递送容器133。在一些实施例中，可以通过第三连接导管137将熔融材料121从混合腔室131重力馈送到递送容器133。例如，在一些实施例中，重力可以驱动熔融材料121从混合腔室131通过第三连接导管137的内部路径到递送容器133。如进一步绘示的，在一些实施例中，可以将递送管139(例如下导管)定位为向形成容器140的入口导管141递送熔融材料121。

本公开内容的实施例可以提供具有容纳设备的装置，该容纳设备包括限定在容纳设备的流动方向上延伸的区域的表面。在一些实施例中，可以将容纳设备配置为容纳可以在容纳设备的流动方向上流动的熔融材料。在一些实施例中，容纳设备可以包括根据本公开内容的各种实施例的形成容器。例如，包括形成容器的容纳设备可以包括但不限于用于熔融拉制玻璃带的形成楔、用于槽拉玻璃带的狭槽、流槽、具有上狭槽的管子和/或用于压滚玻璃带的压轧滚筒。

如图1-3中所绘示，本文中所公开的实施例包括容纳设备可以包括玻璃形成装置101的形成容器140的那些实施例。如图2中所示，容纳设备包括表面202，该表面可以限定形成容器140的在容纳设备的流动方向156上延伸的熔融材料流槽201。可以将熔融材料流槽201定向为从入口导管141接收熔融材料121。为了说明的目的，为了明确起见从图2移除了熔融材料121的交叉影线。在一些实施例中，熔融材料流槽201的深度可以在流动方向156上减少，以提供沿着熔融材料流槽201的长度在形成容器140的熔融材料堰203a、203b上方流动的熔融材料121的所需的流量分布。

在一些实施例中，玻璃形成装置可以包括至少一个壁，该至少一个壁可以包括上壁204。上壁204可以至少部分地限定熔融材料流槽201和熔融材料堰203a、203b。该至少一个壁可以进一步包括第一侧壁208a和第二侧壁208b。第一侧壁208a可以包括附接到上壁204的第一侧206a的上部分。第二侧壁208b可以包括附接到上壁204的第二侧206b的上部分。

形成容器140可以包括形成楔209，该形成楔包括由第一侧壁208a的下部分所限定的第一楔表面207a和由第二侧壁208b的下部分所限定的第二楔表面207b。第一楔表面207a和第二楔表面207b可以延伸于相对端210a、210b之间(参照图1)。在一些实施例中，第一楔表面207a和第二楔表面207b可以向下倾斜且在下游拉制方向154上收敛，以形成形成楔209的根部145。玻璃制造装置100的拉制平面213可以沿着拉制方向154延伸穿过根部145。在一些实施例中，可以沿着拉制平面213在拉制方向154上拉出玻璃带103。如所示，拉制平面213可以通过根部145二等分形成楔209，然而，在一些实施例中，拉制平面213也可以相对于根部145用其他的定向延伸。

在一些实施例中，该至少一个壁(例如上壁204、第一侧壁208a和/或第二侧壁208b)可以包括铂(例如铂合金)，或设计为容纳接触壁的熔融材料和/或限定该熔融材料的行进路径的其他耐火材料。为了减少形成容器140的材料成本，在一些实施例中，可以将该至少一个壁的厚度206提供在约3mm到约7mm的范围内，然而在另外的实施例中也可以使用其他的厚度。该至少一个壁可以包括铂壁，该铂壁包括铂或铂合金，然而也可以提供与熔融材料相容且在熔融材料的高温下提供结构完整性的其他材料。在一些实施例中，该至少一个壁的一部分可以包括铂和/或铂合金。在另外的实施例中，整个的该至少一个壁可以包括铂或铂合金或基本上由铂或铂合金组成。

形成容器140的实施例包括支撑构件217以帮助维持上壁204和/或侧壁208a、208b的形状。在一些实施例中，可以将支撑构件217定位在第一侧壁208a与第二侧壁208b之间，以支撑容纳设备和由容纳设备所容纳的熔融材料的重量和帮助维持侧壁之间所需的距离。在另外的实施例中，参照图3，支撑构件217可以包括支撑流槽301、第一支撑堰303a和第二支撑堰303b。如所示，可以将支撑流槽301侧向定位在第一支撑堰303a与第二支撑堰303b之间。

可以将支撑构件217设计为支撑至少上壁204，并且可以进一步支撑第一侧壁208a和第二侧壁208b的一部分。例如，由上壁204所限定的熔融材料流槽201可以定位在支撑流槽301内且由支撑构件217的支撑流槽301所支撑。如此，支撑流槽301可以帮助维持由上壁204所限定的熔融材料流槽201的形状，而抵抗由在没有来自支撑流槽301的支撑的情况下可能原本会发生的蠕变和/或机械应力所引起的变形。

并且，由上壁204所限定的熔融材料堰203a、203b可以进一步由支撑构件217的支撑堰303a、303b所支撑。并且，外表面305a、305b可以支撑第一侧壁208a和第二侧壁208b的一部分。例如，支撑堰303a、303b的外表面305a、305b可以支撑第一侧壁208a和第二侧壁208b的上部分，以维持侧壁208a、208b的上表面205a、205b的定向。虽然未图示，但附加地或替代地，支撑构件217可以支撑侧壁208a、208b的限定楔表面207a、207b的下部分，以帮助正确维持楔表面的定向。然而，可以通过从形成楔209的内部消除支撑构件217来节省材料成本，因为由侧壁的下部分和支撑构件217的基部所提供的三角形配置可以提供足够的结构完整性以维持楔表面207a、207b的正确定向。

在一或更多个实施例中，支撑构件217(例如支撑构件217的限定支撑流槽301、第一支撑堰303a和/或第二支撑堰303b的部分)可以包括在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下具有从1x 10^-121/s到1x 10^-141/s的蠕变速率的支撑材料。此类支撑材料可以在蠕变最小的情况下在高温(例如1400℃)下针对流槽和承载在流槽内的熔融材料提供足够的支撑，以提供最小化铂或对于物理地接触熔融材料而不会污染熔融材料而言是理想的其他昂贵耐火材料的使用的形成容器140，同时提供由可以耐得住壁(例如铂壁)和由壁的表面所承载的熔融材料的重量之下的大量应力的相对不昂贵的材料制造的支撑构件217。同时，由上文所论述的材料制造的支撑构件217可以在高的应力和温度下耐得住蠕变，以允许维持熔融材料堰、熔融材料流槽和侧壁的外表面的位置和形状。

支撑构件217的支撑材料可以包括范围广泛的材料。在一些实施例中，支撑构件217的支撑材料可以包括陶瓷材料，例如在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下具有从1x 10^-121/s到1x 10^-141/s的蠕变速率的陶瓷材料。在另外的实施例中，支撑材料可以包括在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下具有从1x 10^-121/s到1x 10^-141/s的蠕变速率的碳化硅。

在一些实施例中，壁的材料可能对于与支撑构件217的材料物理地接触而言是不相容的。例如，在一些实施例中，壁可以包括铂(例如铂或铂合金)，并且支撑构件217可以包括碳化硅，如果壁物理地接触支撑构件，则碳化硅可能腐蚀或在其他情况下与铂起化学反应。如此，在一些实施例中，为了避免不相容的材料之间的物理地接触，可以防止壁的任何部分(例如上壁204、第一侧壁208a、第二侧壁208b)物理地接触支撑构件217的任何部分。如所示，例如，在图3中，上壁204、第一侧壁208a和第二侧壁208b隔开以免物理地接触支撑构件217的任何部分。可以使用各种技术来将壁与支撑构件隔开。例如，可以提供支柱或肋以提供间隔。

在另外的实施例中，如所示，可以在壁与支撑构件217之间提供中间材料层307以隔开壁以免接触支撑构件217。在一些实施例中，可以在壁的所有部分与支撑构件217的相邻的隔开部分之间连续地提供中间材料层307。提供连续的中间材料层307可以促进通过与壁隔开的支撑构件217的表面跨壁的所有部分进行均匀的支撑。

如所示，在一些实施例中，熔融材料流槽201可以定位在支撑流槽301内且由支撑流槽301所支撑，其中上壁204可以被隔开，以免物理地接触支撑构件217的任何部分。例如，如所示，可以将中间材料层307提供为连续的中间材料层，以隔开上壁204的限定熔融材料流槽201的所有部分以免物理地接触支撑构件217的任何部分(例如支撑构件217的限定支撑流槽301的部分)。如此，中间材料层307可以提供上壁204的限定熔融材料流槽201的部分的连续支撑，以增加熔融材料流槽201的强度和对变形和蠕变的抗性。

如进一步绘示的，可以将中间材料层307提供为连续的中间材料层，以隔开上壁204的限定熔融材料堰203a、203b的所有部分以免物理地接触支撑构件217的任何部分(例如支撑构件217的限定支撑堰303a、303b的部分)。如此，中间材料层307可以提供上壁204的限定熔融材料堰203a、203b的部分的连续支撑，以增加熔融材料堰203a、203b的强度和对变形和蠕变的抗性。

如进一步绘示的，可以将中间材料层307提供为连续的中间材料层，以隔开第一侧壁208a和第二侧壁208b的限定上表面205a、205b和/或楔表面207a、207b的所有部分，以免物理地接触支撑构件217的任何部分(例如支撑构件217的面向侧壁208a、208b的表面)。如此，中间材料层307可以提供侧壁208a、208b的与支撑构件217相关联的部分的连续支撑，以增加侧壁208a、208b的与支撑构件217相关联的强度和对变形和蠕变的抗性。

取决于壁和支撑构件的材料，可以将各种材料用作中间材料。例如，材料可以包括氧化铝或在与用形成容器140容纳和引导熔融材料相关联的高的温度和压力条件下相容于接触铂和碳化硅的其他材料。因此，在一些实施例中，铂或铂合金壁(例如上壁204、第一侧壁208a、第二侧壁208b)可以通过包括氧化铝的中间材料层隔开，以免物理地接触支撑构件217的包括碳化硅的任何部分。

在一些实施例中，用玻璃制造装置100使熔融材料121流动的方法可以包括：使熔融材料121在流动方向156上在熔融材料流槽201内流动，同时支撑构件217的支撑流槽301支撑熔融材料121的重量。熔融材料121可以接着通过同时在对应的熔融材料堰203a、203b上方流动和在侧壁208a、208b的上表面205a、205b上方向下流动，来从熔融材料流槽201溢出。具体而言，第一熔融材料流可以在第一支撑堰303a上方流动，同时接触由第一支撑堰303a所支撑的第一熔融材料堰203a的外表面。并且，第二熔融材料流可以在第二支撑堰303b上方流动，同时接触由第二支撑堰303b所支撑的第二熔融材料堰203b的外表面。第一熔融材料流可以继续沿着形成楔209的向下倾斜的第一楔表面207a流动，并且第二熔融材料流可以继续沿着形成楔209的向下倾斜的楔表面207b流动。第一熔融材料流和第二熔融材料流可以各自因此沿着下游方向154流动，同时在形成楔209的根部145处收敛在一起。收敛的熔融材料流可以接着在根部145处相合，并且拉离形成容器140的根部145，其中熔融材料流收敛和融合成玻璃带103。

可以接着沿着拉制方向154在拉制平面213上将玻璃带103熔融拉离根部145。在一些实施例中，玻璃分离器149(参照图1)可以接着随后沿着分离路径151从玻璃带103分离玻璃片104。如所绘示，在一些实施例中，分离路径151可以沿着玻璃带103在第一外缘153与第二外缘155之间的宽度“W”延伸。此外，在一些实施例中，分离路径151可以与玻璃带103的拉制方向154垂直地延伸。并且，在一些实施例中，拉制方向154可以限定可以沿以从形成容器140熔融拉出玻璃带103的方向。在一些实施例中，在玻璃带103沿着拉制方向154横移时，该玻璃带可以包括以下速率：≥50mm/s、≥100mm/s或≥500mm/s，例如从约50mm/s到约500mm/s，例如从约100mm/s到约500mm/s，和其间的所有范围和子范围。

在本公开内容的所有实施例内，玻璃带103的宽度“W”可以例如大于或等于约20mm，例如大于或等于约50mm，例如大于或等于约100mm，例如大于或等于约500mm，例如大于或等于约1000mm，例如大于或等于约2000mm，例如大于或等于约3000mm，例如大于或等于约4000mm，然而也可以在另外的实施例中提供小于或大于上述宽度的其他宽度。例如，在一些实施例中，玻璃带103的宽度“W”可以从约20mm到约4000mm，例如从约50mm到约4000mm，例如从约100mm到约4000mm，例如从约500mm到约4000mm，例如从约1000mm到约4000mm，例如从约2000mm到约4000mm，例如从约3000mm到约4000mm，例如从约20mm到约3000mm，例如从约50mm到约3000mm，例如从约100mm到约3000mm，例如从约500mm到约3000mm，例如从约1000mm到约3000mm，例如从约2000mm到约3000mm，例如从约2000mm到约2500mm，和其间的所有范围和子范围。

如图2中所示，可以从根部145拉出玻璃带103，其中玻璃带103的第一主要面215a和玻璃带103的第二主要面215b面向相对的方向且限定玻璃带103的厚度“T”(例如平均厚度)。在整篇本公开内容内，在一些实施例中，本公开内容的形成容器可以提供，玻璃带103的厚度“T”可以小于或等于约2毫米(mm)、小于或等于约1毫米、小于或等于约0.5毫米，例如小于或等于约300微米(μm)、小于或等于约200微米，或小于或等于约100微米，然而也可以在另外的实施例中提供其他的厚度。例如，在一些实施例中，玻璃带103的“T”可以从约50μm到约750μm、从约100μm到约700μm、从约200μm到约600μm、从约300μm到约500μm、从约50μm到约500μm、从约50μm到约700μm、从约50μm到约600μm、从约50μm到约500μm、从约50μm到约400μm、从约50μm到约300μm、从约50μm到约200μm、从约50μm到约100μm，包括其间的所有厚度范围和厚度子范围。此外，玻璃带103可以包括各种组成，包括但不限于钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、铝硼硅酸盐玻璃、含碱玻璃或无碱玻璃。

图4-12绘示可以容纳设备的另外的实施例，该容纳设备可以包括可以提供来代替图1的玻璃形成装置101中所示的形成容器140的形成容器401、701、901、1101、1201。形成容器401、701、901、1101、1201可以包括导管403、903，该导管包括周边壁405、905，该周边壁包括限定区域801、902的内表面806、907。区域801、902可以在导管403、903的流动方向803(参照图8-9)上延伸。

周边壁405、905的第一部分404a、904a可以包括狭槽501。如图8中所示，狭槽501包括延伸穿过周边壁405、905的通槽。狭槽501可以打开周边壁405、905的外周表面805、906和内表面806、907，以提供区域801、902与周边壁405、905的外周表面805、906之间的连通。如图5、8和9中所示，本公开内容的实施例中的任一者的狭槽501可以可选地包括连续的狭槽，该狭槽在相对的边缘导向器807a、807b的内接口位置806a、806b与导管403、903的周边壁405、905的外周表面805、906之间延伸达长度804。虽然未图示，但狭槽501也可以可选地包括沿着所绘示的狭槽的路径的复数个间断的狭槽或开口，以帮助增加导管的强度。或者，可以提供连续的狭槽，以帮助提供沿着使用中的狭槽501的长度804通过狭槽501的熔融材料的均匀的体积流量。

虽然未图示，但在本公开内容的任何实施例中，狭槽501的宽度也可以例如沿着狭槽的长度804是相同的。或者，在本公开内容的实施例中的任一者中，狭槽的宽度可以沿着长度804变化。例如，如图5中所示，狭槽501的宽度可以沿着流动方向803从第一宽度W1向第二宽度W2增加(例如间断地或连续地增加)，其中第二宽度W2可以大于第一宽度W1。并且，如果提供为具有宽度的连续增加，则狭槽宽度可以可选地用恒定的速率连续地增加，虽然在另外的实施例中也可以提供用改变的速率进行的连续增加。例如，如图5中所示，狭槽501可以可选地从第一宽度W1向第二宽度W2在流动方向803上用恒定的速率连续地增加。在流动方向803上增加(例如连续地增加)狭槽501的宽度可以帮助提供沿着使用中的狭槽501的长度804通过狭槽501的熔融材料的实质相同的体积流量。

如图6-9中可以理解的，可以在导管403、903的最上顶点处将狭槽501提供在周边壁405、905的第一部分404a、904a中，其中狭槽501沿着二等分导管和狭槽501的垂直面(例如也可以二等分形成楔的根部的拉制平面213)延伸。沿着最上顶点提供狭槽501可以帮助将离开狭槽501的熔融材料均匀地分割成相对的流动流。虽然未图示，但也可以提供复数个狭槽，该复数个狭槽延伸为使得二等分导管的垂直面也可以二等分狭槽或可以与狭槽平行。例如，可以将一或更多个狭槽对对称地设置在二等分导管的垂直面周围，其中狭槽对中的每个狭槽在导管的每个对应侧处提供了专属的熔融材料流。虽然不需要，但对称地将狭槽对设置在垂直面周围可以帮助提供类似的从导管的每个对应侧流动的熔融材料的流量。

导管403、903的周边壁405、905可以包括铂壁，该铂壁包括铂或铂合金，然而也可以提供与熔融材料相容且在高温下提供结构完整性的其他材料。在另外的实施例中，整个的周边壁405、905可以包括铂或铂合金或基本上由铂或铂合金组成。如此，在一些实施例中，容纳设备可以包括铂导管403、903，该铂导管包括限定区域801、902的周边壁405、905。并且，铂导管403、903(如果有提供话)可以包括如上所述的狭槽501，该狭槽可以延伸穿过周边壁405、905的外周表面805、906。如上所述，狭槽501可以包括与区域801、902和周边壁405、905的外周表面805、906连通的通槽。

为了减少导管(例如铂导管403、903)的材料成本，导管的周边壁405、905的厚度601、908可以例如为从约3mm到约7mm，然而在另外的实施例中也可以使用其他的厚度。提供具有从约3mm到约7mm的范围内的厚度601、908的导管可以提供大到足以针对导管提供所需的结构完整性水平的厚度，同时也提供可以最小化以减少用来产生导管(例如铂导管)的材料成本的厚度。

导管403、903的周边壁405、905可以包括范围广泛的尺寸、形状和配置以减少制造和/或组装成本和/或增加导管403、903的功能性。例如，如所示，周边壁405、905的外周表面805、906和/或内表面806、907可以沿着与流动方向803垂直地截取的横截面包括圆形的形状，然而在另外的实施例中也可以提供其他的曲线形状(例如卵形)或多边形形状。提供外周表面和内周表面两者的曲线形状(例如圆形形状)可以提供具有恒定厚度的周边壁，并且可以提供具有相对高的结构强度的壁和帮助防止熔融材料一致地流动通过导管403、903的区域801。

本公开内容的实施例中的任一者的区域的与流动方向垂直地截取的横截面积可以沿着流动方向保持相同。例如，如图8中所示，区域801的与流动方向803垂直地截取的横截面积可以在流动方向803上保持相同。实际上，如图8中所示，区域801的在上游位置处的横截面积A1可以实质等于区域801的在下游位置处的横截面积A2。并且，如将根据图6-8理解的，导管403的外周表面805和/或内表面806可以沿着长度804包括相同的圆形形状(或其他形状)。在此类实施例中，可以通过如上文所论述地在流动方向803上增加狭槽501的宽度，来控制在沿着狭槽的各种位置处通过狭槽501的体积流量。

本公开内容的实施例中的任一者的区域的与流动方向垂直地截取的横截面积可以沿着流动方向替代性地变化。例如，如图9中所示，区域902的与导管903的流动方向803垂直地截取的横截面积可以在导管903的流动方向803上增加。实际上，如图9中所示，区域902的在上游位置处的横截面积A1可以大于区域801的在下游位置处的横截面积A2。在一些实施例中，如所示，横截面积可以沿着流动方向803从A1向A2连续地减少(例如用恒定的速率减少)，然而横截面积也可以用变化的速率减少或提供横截面积的步级减少。沿着流动方向803用恒定的速率提供横截面积的连续减少可以提供更一致的沿着狭槽的长度通过狭槽501的熔融材料的流量。并且，如将根据图9理解的，导管903的外周表面906和/或内表面907可以沿着长度804包括几何形状上类似的横截面圆形形状(或其他形状)。在此类实施例中，可以通过择一独立地或与如上文所论述地在流动方向803上增加狭槽501的宽度的步骤结合地沿着流动方向803减少区域902的横截面积，来控制(例如维持实质相同)在沿着狭槽的各种位置处通过狭槽501的体积流量。

本公开内容的实施例中的任一者的导管403、903(例如铂导管)可以包括连续的导管，然而在另外的实施例中也可以提供分段的导管。例如，如图8-11中所绘示，导管403、903可以包括沿着导管的长度不分段的连续导管。此类连续的导管可以有益于提供具有增加的结构强度的无接缝的导管。在一些实施例中，可以提供分段的导管。例如，如图12中所示，形成容器1201的导管403、903(例如铂导管)可以可选地包括导管节段1203a、1203b、1203c，这些导管节段可以在相邻的导管节段对的邻接端之间的接合点1205a、1205b处串联连接在一起。在一些实施例中，接合点可以包括焊接的接合点以一体地接合导管节段1203a、1203b、1203c作为沿着狭槽501的长度延伸的一体导管。在一些应用中，将导管提供为一系列的导管节段1203a、1203b、1203c可以简化导管的制造。

形成容器401、701、901、1101、1201的实施例包括支撑构件603、703，该支撑构件被定位为支撑导管403、903和位于区域801、902内或用其他方式由形成容器所支撑的熔融材料的重量。如图7中所示，支撑构件可以包括设计为支撑导管403、903和相关联的熔融材料的重量的上表面705。上支撑表面705被示为平坦的表面，然而在另外的实施例中也可以提供其他的表面(例如凹面)。如果提供为凹面，则凹面可以在几何形状上与导管403、903的外周表面805、906的凸面节段类似，以提供支架以帮助相对于支撑表面705定位导管和更均匀地沿着支撑表面705分布导管的重量。

在另外的实施例中，除了支撑导管403、903和与导管相关联的熔融材料的重量以外，也可以将支撑构件配置为帮助维持导管403、903的形状和/或尺度(例如狭槽501的形状和尺度)。例如，形成容器401、901、1101、1201的实施例可以包括支撑构件603，该支撑构件包括限定接收周边壁405、905的第二部分404b、904b的区域609的支撑表面605。如图6、8和9中所示，周边壁405、905的第一部分404a、904a可以与周边壁405、905的第二部分404b、904b相对。从而，可以将导管403、903的与周边壁405、905的第二部分404b、904b相关联的最下部分接收和安置在由支撑构件603的支撑表面605所限定的区域609内。在一些实施例中，如图6中所示，支撑构件603的支撑表面605可以环绕导管403、903的周边壁405、905的外周表面805、906的从约25％到约60％。提供环绕外周表面805、906的从约25％到约60％的支撑表面可以帮助防止导管403、903的周边壁405、905的相对部分侧向变形，该侧向变形原本可能不合需要地增加狭槽501的宽度。环绕外周表面805、906的至少一部分可以帮助防止变形，以沿着狭槽的长度804维持狭槽501的宽度的尺度，藉此提供了一致的通过使用中的狭槽501的熔融材料的流量特性。并且，也可以将导管403、903的横截面形状维持在所需的预定形状下，以帮助维持所需的沿着流动方向803行进的熔融材料的属性。

如图6和8-10中所示，接收周边壁405、905的第二部分404b、904b的区域609的深度“D”可以沿着狭槽501的长度804保持实质相同。或者，如图11-12中所示，接收周边壁405、905的第二部分404b、904b的区域609的深度可以沿着狭槽501的长度804变化。此类实施例可以在需要较小的侧向支撑的区域处最小化用来形成支撑构件的材料量，同时进一步地在可能需要进一步侧向支撑的位置处为了额外的侧向支撑提供增加的深度。例如，如图11中所示，接收周边壁的第二部分404b、904b的区域609的深度可以在小于或等于在导管403、903的流动方向803上测量到的狭槽501的长度804的约33％的位置处的深度“D2”处最大。在一些实施例中，周边壁的深度可以在相对于入口导管141(参照图1)的上端的对称中心线小于或等于导管403、903在流动方向803上的轴向长度的约33％的位置处最大。在小于导管403、903的轴向长度的约33％(如上文所论述，例如小于狭槽501的长度804的约33％)的位置处提供增加的深度“D2”可以在应力最大化的位置处最大化导管403、903的侧向支撑，同时减少在需要较小的侧向支撑的其他位置处的深度(例如在深度“D1”处)以维持导管403、903的尺度(例如狭槽501的宽度)。

如先前所述，如图12中所示，形成容器1201的导管403、903(例如铂导管)可以可选地包括导管节段1203a、1203b、1203c，这些导管节段可以在相邻的导管节段对的邻接端之间的接合点1205a、1205b处串联连接在一起。在此类实施例中，如图12中所示，接收周边壁405、905的第二部分404b、904b的区域609的深度“D2”可以在接合点1205a、1205b的侧向位置1207a处比导管节段1203a、1203b、1203c的中间位置1207b更大。如上文所论述地在接合点1205a、1205b的侧向位置1207a处提供增加的深度“D2”可以最大化导管403、903的在由于接合点处的任何不连续而发生应力集中的位置处的侧向支撑，同时减少在一些实施例中需要较小侧向支撑的中间位置1207b处的深度。

可以例如将本公开内容的支撑构件217、603、703提供为单个整块的支撑构件(例如单个整块的支撑梁)。在一些替代性实施例中，如图2、3、6和7中所示意性地图示，支撑构件217、603、703可以可选地包括第一支撑梁218a、604a、704a和支撑第一支撑梁的第二支撑梁218b、604b、704b。如所示，第一支撑梁218a、604a、704a和第二支撑梁218b、604b、704b可以包括支撑梁堆栈，在该支撑梁堆栈处，第一支撑梁218a、604a、704a堆栈在第二支撑梁218b、604b、704b的顶部上。提供支撑梁的堆栈可以简化和/或减少制造成本。例如，在一些实施例中，第二支撑梁218b、604b、704b可以比第一支撑梁218a、604a、704a更长，使得第二支撑梁218b、604b、704b的相对端部可以侧向延伸到根部145的宽度之外以在如图1和4中所示的相对位置158a、158b处被支撑(例如单纯被支撑)。如此，第二支撑梁218b、604b、704b可以比形成的玻璃带103的宽度“W”更长，并且可以延伸穿过侧向延伸穿过形成容器140、401、701、901的空心区域219以沿着形成容器的长度完全支撑形成容器。并且，第二支撑梁218b、604b、704b可以包括例如所绘示的矩形形状的形状，然而也可以提供空心的形状、I形梁形状或其他的形状，以减少材料成本同时针对支撑梁提供相对高的弯曲惯性矩。并且，可以将第一支撑梁218a、604a、704a制造为具有一定形状以支撑容纳设备以帮助如上文所论述地维持容纳设备的形状和尺度。

在一些实施例中，第一支撑梁218a、604a、704a和第二支撑梁218b、604b、704b可以由实质相同或相等的材料制造，然而在另外的实施例中也可以提供替代的材料。在一些实施例中，与上文所论述的支撑构件217类似，支撑构件603、703可以由在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下具有从1x 10^-121/s到1x 10^-141/s的蠕变速率的支撑材料制造。在一些实施例中，定位为支撑容纳设备的重量的支撑构件可以由陶瓷材料(例如碳化硅)制造，该陶瓷材料在一些实施例中在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下可以包括从1x10^-121/s到1x 10^-141/s的蠕变速率。此类支撑材料可以在蠕变最小的情况下在高温(例如1400℃)下针对容纳设备和由容纳设备所承载的熔融材料提供足够的支撑，以提供最小化铂或对于物理地接触熔融材料而不会污染熔融材料而言是理想的其他昂贵耐火材料的使用的形成容器401、701、901，同时提供由可以耐得住形成容器和由形成容器所承载的熔融材料的重量之下的大量应力的相对不昂贵的材料制造的支撑构件603、703。同时，由上文所论述的材料制造的支撑构件603、703可以在高的应力和温度下耐得住蠕变，以允许维持容纳设备和与容纳设备相关联的壁(例如铂壁)的位置和形状。

本公开内容的实施例的形成容器401、701、901中的任一者可以包括形成楔。例如，如图4和6中所示，形成容器401包括在拉制方向154上定位在导管403、903的狭槽501下游的形成楔407。如图6中所示，形成楔407可以包括限定第一楔表面613a的第一侧壁611a和限定第二楔表面613b的第二侧壁611b。如图6中所示，第一楔表面613a和第二楔表面613b可以在下游拉制方向154上收敛，以形成形成楔407的根部615。

在一些实施例中，侧壁611a、611b可以包括与导管的组成类似或相同的铂和/或铂合金，然而在另外的实施例中也可以采用不同的组成。如此，在一些实施例中，第一侧壁611a和第二侧壁611b可以各自包括铂侧壁。为了减少材料成本，侧壁611a、611b(例如铂侧壁)的厚度可以例如是在从约3mm到约7mm的范围内。减少厚度可以使得整体的材料成本减少。同时，尽管厚度相对小，侧壁的配置和/或支撑构件的安置可以提供侧壁足够的结构完整性以抵抗使用时的变形。例如，如图6和7中所示，可以将支撑构件603、703定位在第一侧壁611a的上游部分617a与第二侧壁611b的上游部分617b之间。如此，上游部分617a、617b之间的间隔可以通过定位在其间的支撑构件603、703来维持。并且，可以可选地提供空心区域219，该空心区域可以进一步减少材料成本和允许支撑构件延伸穿过空心区域以在位置158a、158b处支撑导管。并且，第一侧壁611a和第二侧壁611b在下游拉制方向154上收敛以形成根部615，其中可以通过支撑构件603、703的侧壁和基部来形成强力的三角形构造。如此，可以用在从约3mm到约7mm的范围内的相对薄的侧壁实现结构上刚性的配置。

如图6和7中所示，在一些实施例中，可以在第一接口621a处将第一侧壁611a(例如铂侧壁)的上游部分617a的上游端619a附接到导管403(例如铂导管)的周边壁405。同样地，可以在第二接口621b处将第二侧壁611b(例如铂侧壁)的上游部分617b的上游端619b附接到导管403(例如铂导管)的周边壁405。如所示，第一接口621a和第二接口621b可以各自位在导管403的狭槽501下游。在一些实施例中，可以将侧壁611a、611b的上游端619a、619b焊接到导管403的周边壁405，并且机械加工为在导管的上部分的外表面与侧壁的外表面之间具有平滑的对应接口621a、621b。

在一些实施例中，第一侧壁和第二侧壁的上游部分可以如图7中所示地彼此平行。或者，如图6中所示，第一侧壁611a的上游部分617a和第二侧壁611b的上游部分617b起初从对应的接口621a、621b在下游方向154上背向彼此而张开。背向彼此张开侧壁可以促进熔融材料沿着下游方向154向下流动，同时在一些实施例中也允许增加用于支撑构件603的空间。例如，如图6中所示，支撑构件603的支撑表面605可以由基壁608和从基壁608向上延伸的相对的通道壁606a、606b的相对的面向内的通道壁表面所限定。相对的通道壁606a、606b的面向内的通道壁表面和基壁608的面向内的底面可以形成限定区域609的支架，该区域可以包括所绘示的用来接收周边壁405的第二部分404b的信道区域。

在一些实施例中，壁的材料可能对于与支撑构件603、703的材料物理地接触而言是不相容的。例如，在一些实施例中，壁可以包括铂(例如铂或铂合金)，并且支撑构件603、703可以包括碳化硅，如果壁接触支撑构件，则碳化硅可能腐蚀或在其他情况下与铂起化学反应。如此，在一些实施例中，为了避免不相容的材料之间的接触，可以防止壁的任何部分(例如第一侧壁611a、第二侧壁611b)和导管403、903的任何部分物理地接触支撑构件603、703的任何部分。如所示，例如，在图6和7中，第一侧壁611a和第二侧壁611b各自隔开以免物理地接触支撑构件603、703的任何部分。并且，导管403、903可以隔开以免物理地接触支撑构件603、703的任何部分。可以使用各种技术来将壁与支撑构件隔开。例如，可以提供支柱或肋以提供间隔。

在另外的实施例中，如所示，可以在侧壁611a、611b与支撑构件603、703之间提供中间材料层623，以隔开侧壁611a、611b和导管403、903以免接触支撑构件603、703。在一些实施例中，可以在侧壁611a、611b的所有部分与支撑构件603、703的相邻的隔开部分之间连续地提供中间材料层623。提供连续的中间材料层623可以促进通过与侧壁隔开的支撑构件603、703的表面跨侧壁的所有部分进行均匀的支撑。

如所示，在一些实施例中，导管403、903的周边壁405、905的第二部分404b、904b可以定位在支撑构件603、703的区域609内且由支撑构件603、703所支撑，其中导管403、903(例如导管的所有部分)可以被隔开，以免物理地接触支撑构件603、703的任何部分。例如，如所示，可以将中间材料层623提供为连续的中间材料层，以隔开导管403、903的所有部分以免物理地接触支撑构件603、703的任何部分。如此，中间材料层923可以提供导管403、903的部分的连续支撑，以增加导管403、903的强度和对变形和蠕变的抗性。

取决于壁和支撑构件的材料，可以将各种材料用作中间材料923。例如，材料可以包括氧化铝或在与用形成容器401、701、901、1101、1201容纳和引导熔融材料相关联的高的温度和压力条件下相容于接触铂和碳化硅的其他材料。因此，在一些实施例中，铂或铂合金侧壁和铂导管可以通过包括氧化铝的中间材料层被隔开，以免物理地接触包括碳化硅的支撑构件603、703的任何部分。

用上文所论述的形成容器401、701、901、1101、1201中的任一者由定量熔融材料121制造玻璃带103的方法可以包括：使熔融材料121在导管403、903的流动方向803上流动于区域801内。参照图6和7，该方法可以进一步包括：使熔融材料121从导管403、903的区域801流动通过狭槽501作为第一熔融材料流625a和第二熔融材料流625b。该方法可以又进一步包括：使第一熔融材料流625a沿着下游方向154流动于第一楔表面613a上，并且使第二熔融材料流625b沿着下游方向154流动于第二楔表面613b上。该方法可以接着包括：从形成楔407的根部615熔融拉出第一熔融材料流625a和第二熔融材料流625b作为玻璃带103。

将理解到，各种公开的实施例可以涉及与该特定实施例结合描述的特定特征、构件或步骤。也将理解，虽然是关于一个特定的实施例来描述，但也可以将特定的特征、构件或步骤用各种未说明的组合或排列与替代性实施例互换或组合。

也要理解，如本文中所使用的，用语“该”或“一”意指“至少一个”，并且不应限于“只有一个”，除非明确地相反指示。同样地，“多个”是要指示“多于一个”。

在本文中可以将范围表示为从“约”一个特定值和/或到“约”另一个特定值。在表示此类范围时，实施例包括从一个特定的值和/或到另一个特定的值。类似地，在通过使用先行词“约”将值表示为近似值时，将理解，该特定值形成了另一个实施例。将进一步理解，范围中的每一者的端点不管是与另一个端点相关还是与另一个端点无关都是有意义的。

如本文中所使用的用语“实质”、“实质上”和其变化意图指出所述特征等于或几乎等于一个值或描述。

除非另有明确表明，绝不将本文中阐述的任何方法解读为需要用特定的顺序执行其步骤。因此，如果方法权利要求实际上并不记载其步骤要遵循的顺序，或在权利要求或说明书中并未另有具体表明要将步骤限于特定顺序，则绝不推断任何特定顺序。

虽然可以使用传统短语“包括”来公开特定实施例的各种特征、构件或步骤，但要理解，替代性实施例(包括可以使用传统短语“由...组成”或“实质上由...组成”来描述的那些实施例)是隐含的。因此，例如，一个装置的包括A+B+C的隐含的替代性实施例包括其中装置由A+B+C组成的实施例和其中装置基本上由A+B+C组成的实施例。

本领域中的技术人员将理解，可以在不脱离所附权利要求的精神和范围的情况下对本公开内容作出各种修改和变化。因此，本公开内容意图涵盖本文中的实施例的变体和变型，只要这些变体和变型落在所附权利要求书及其等效物的范围内。

Claims (61)

1.一种装置，包括：

导管，所述导管包括周边壁，所述周边壁限定在所述导管的流动方向上延伸的区域，所述周边壁的第一部分包括延伸穿过所述周边壁的外周表面的狭槽，其中所述狭槽与所述区域连通；

支撑构件，所述支撑构件包括支撑表面，所述支撑表面限定接收所述周边壁的第二部分的区域，其中所述支撑构件包括支撑材料，所述支撑材料在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下包括从1x 10^-12 1/s到1x 10^-14 1/s的蠕变速率；和

形成楔，所述形成楔定位在所述导管的所述狭槽下游，所述形成楔包括第一楔表面和第二楔表面，所述第一楔表面和所述第二楔表面在下游方向上收敛以形成所述形成楔的根部。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述支撑材料包括陶瓷材料。

3.如权利要求2所述的装置，其中所述陶瓷材料可以包括碳化硅。

4.一种装置，包括：

导管，所述导管包括周边壁，所述周边壁限定在所述导管的流动方向上延伸的区域，所述周边壁的第一部分包括延伸穿过所述周边壁的外周表面的狭槽，其中所述狭槽与所述区域连通；

碳化硅支撑构件，所述碳化硅支撑构件包括支撑表面，所述支撑表面限定接收所述周边壁的第二部分的区域；和

形成楔，所述形成楔定位在所述导管的所述狭槽下游，所述形成楔包括第一楔表面和第二楔表面，所述第一楔表面和所述第二楔表面在下游方向上收敛以形成所述形成楔的根部。

5.如权利要求1-4中任一项所述的装置，其中所述支撑表面环绕所述周边壁的所述外周表面的约25％到约60％。

6.如权利要求1-5中任一项所述的装置，其中接收所述周边壁的所述第二部分的所述区域的深度沿着所述狭槽的长度变化。

7.如权利要求6所述的装置，其中接收所述周边壁的所述第二部分的所述区域的所述深度在小于在所述导管的所述流动方向上测量到的所述狭槽的所述长度的约33％的位置处最大。

8.如权利要求6所述的装置，其中所述导管包括第一导管，所述第一导管在接合点处与第二导管串联连接，其中接收所述周边壁的所述第二部分的所述区域的所述深度在所述接合点的侧向位置处比在所述第一导管的中间侧向位置和所述第二导管的中间侧向位置处更大。

9.如权利要求1-8中任一项所述的装置，其中所述周边壁的所述第一部分与所述周边壁的所述第二部分相对。

10.如权利要求1-9中任一项所述的装置，其中所述狭槽的宽度在所述导管的所述流动方向上增加。

11.如权利要求1-10中任一项所述的装置，其中所述区域的与所述导管的所述流动方向垂直地截取的横截面积在所述导管的所述流动方向上减少。

12.如权利要求1-11中任一项所述的装置，其中所述周边壁的所述外周表面沿着与所述导管的所述流动方向垂直地截取的横截面包括圆形形状。

13.如权利要求1-12中任一项所述的装置，其中所述导管的所述周边壁的厚度为从约3mm到约7mm。

14.如权利要求1-13中任一项所述的装置，其中所述导管的所述周边壁包括铂。

15.如权利要求1-14中任一项所述的装置，进一步包括限定所述第一楔表面的第一侧壁和限定所述第二楔表面的第二侧壁。

16.如权利要求15所述的装置，其中所述第一侧壁包括铂并且所述第二侧壁包括铂。

17.如权利要求15-16中任一项所述的装置，其中所述支撑构件定位在所述第一侧壁与所述第二侧壁之间。

18.如权利要求15-17中任一项所述的装置，其中所述第一侧壁和所述第二侧壁不物理地接触所述支撑构件的任何部分。

19.如权利要求15-18中任一项所述的装置，其中所述第一侧壁的上游部分的上游端在第一接口处附接到所述导管的所述周边壁，并且所述第二侧壁的上游部分的上游端在第二接口处附接到所述导管的所述周边壁。

20.如权利要求19所述的装置，其中所述第一接口和所述第二接口各自位于所述导管的所述狭槽下游。

21.如权利要求19-20中任一项所述的装置，其中所述第一侧壁的所述上游部分和所述第二侧壁的所述上游部分在所述下游方向上彼此背向张开。

22.一种用如权利要求1-21中任一项所述的装置从一定量的熔融材料制造玻璃带的方法，所述方法包括：

使所述区域内的所述熔融材料在所述导管的所述流动方向上流动；

使熔融材料从所述导管的所述区域流动通过所述狭槽作为第一熔融材料流和第二熔融材料流；

使所述第一熔融材料流沿着所述下游方向在所述第一楔表面上流动，并且使所述第二熔融材料流沿着所述下游方向在所述第二楔表面上流动；和

从所述形成楔的所述根部熔融拉出所述第一熔融材料流和所述第二熔融材料流作为玻璃带。

23.一种装置，包括：

支撑构件，所述支撑构件包括支撑流槽、第一支撑堰和第二支撑堰，并且所述支撑流槽侧向定位在所述第一支撑堰与所述第二支撑堰之间，其中所述支撑构件包括支撑材料，所述支撑材料在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下包括从1x10^-121/s到1x10^-141/s的蠕变速率；

上壁，所述上壁至少部分地限定熔融材料流槽，所述熔融材料流槽定位在所述支撑流槽内并由所述支撑流槽支撑，其中所述上壁不物理地接触所述支撑构件的任何部分；

第一侧壁，所述第一侧壁包括附接到所述上壁的第一侧的上部分，所述第一侧壁不物理地接触所述支撑构件的任何部分；

第二侧壁，所述第二侧壁包括附接到所述上壁的第二侧的上部分，所述第二侧壁不物理地接触所述支撑构件的任何部分；和

形成楔，所述形成楔包括由所述第一侧壁的下部分限定的第一楔表面和由所述第二侧壁的下部分限定的第二楔表面，其中所述第一楔表面和所述第二楔表面在下游方向上收敛以形成所述形成楔的根部。

24.如权利要求23所述的装置，其中所述支撑材料包括陶瓷材料。

25.如权利要求24所述的装置，其中所述陶瓷材料可以包括碳化硅。

26.一种装置，包括：

碳化硅支撑构件，所述碳化硅支撑构件包括支撑流槽、第一支撑堰和第二支撑堰，并且所述支撑流槽侧向定位在所述第一支撑堰与所述第二支撑堰之间；

上壁，所述上壁至少部分地限定熔融材料流槽，所述熔融材料流槽定位在所述支撑流槽内并由所述支撑流槽支撑，其中所述上壁不物理地接触所述碳化硅支撑构件的任何部分；

第一侧壁，所述第一侧壁包括附接到所述上壁的第一侧的上部分，所述第一侧壁不物理地接触所述支撑构件的任何部分；

第二侧壁，所述第二侧壁包括附接到所述上壁的第二侧的上部分，所述第二侧壁不物理地接触所述支撑构件的任何部分；和

形成楔，所述形成楔包括由所述第一侧壁的下部分所限定的第一楔表面和由所述第二侧壁的下部分所限定的第二楔表面，其中所述第一楔表面和所述第二楔表面在下游方向上收敛以形成所述形成楔的根部。

27.如权利要求23-26中任一项所述的装置，其中中间材料防止所述上壁、所述第一侧壁和所述第二侧壁物理地接触所述支撑构件的任何部分。

28.如权利要求27所述的装置，其中所述中间材料包括氧化铝。

29.如权利要求23-28中任一项所述的装置，其中所述上壁、所述第一侧壁和所述第二侧壁各自包括在从约3mm到约7mm的范围内的厚度。

30.如权利要求23-29所述的装置，其中所述上壁、所述第一侧壁和所述第二侧壁各自包括铂。

31.如权利要求23-30中任一项所述的装置，其中所述支撑构件定位在所述第一侧壁与所述第二侧壁之间。

32.一种用如权利要求23-31中任一项所述的装置从一定量的熔融材料制造玻璃带的方法，所述方法包括：

使所述熔融材料流槽内的所述熔融材料沿着流动方向流动，同时所述支撑构件的所述支撑流槽支撑所述熔融材料的重量；

使所述熔融材料从所述熔融材料流槽流动成在所述第一支撑堰上方流动的第一熔融材料流和在所述第二支撑堰上方流动的第二熔融材料流；

使所述第一熔融材料流沿着所述下游方向在所述第一楔表面上流动，并且使所述第二熔融材料流沿着所述下游方向在所述第二楔表面上流动；和

从所述形成楔的所述根部熔融拉出所述第一熔融材料流和所述第二熔融材料流作为玻璃带。

33.一种装置，包括：

容纳设备，所述容纳设备包括表面，所述表面限定在所述容纳设备的流动方向上延伸的区域；

支撑构件，所述支撑构件定位为支撑所述容纳设备的重量，其中所述支撑构件包括支撑材料，所述支撑材料在1400℃的温度下在从1MPa到5MPa的压力下包括从1x10^-121/s到1x10^-141/s的蠕变速率；和

铂壁，所述铂壁不物理地接触所述支撑构件的任何部分。

34.如权利要求33所述的装置，其中所述支撑材料包括陶瓷材料。

35.如权利要求34所述的装置，其中所述陶瓷材料包括碳化硅。

36.一种装置，包括：

容纳设备，所述容纳设备包括表面，所述表面限定在所述容纳设备的流动方向上延伸的区域；

碳化硅支撑构件，所述碳化硅支撑构件定位为支撑所述容纳设备的重量；和

铂壁，所述铂壁不物理地接触所述支撑构件的任何部分。

37.如权利要求33-36中任一项所述的装置，其中所述容纳设备包括铂导管，所述铂导管包括限定所述区域的周边壁，所述周边壁的第一部分包括延伸穿过所述周边壁的外周表面的狭槽，其中所述狭槽与所述区域连通。

38.如权利要求37所述的装置，其中所述支撑构件包括支撑表面，所述支撑表面限定接收所述周边壁的第二部分的区域。

39.如权利要求38所述的装置，其中所述支撑表面环绕所述周边壁的所述外周表面的约25％到约60％。

40.如权利要求37-39中任一项所述的装置，其中接收所述周边壁的所述第二部分的所述区域的深度沿着所述狭槽的长度变化。

41.如权利要求40所述的装置，其中接收所述周边壁的所述第二部分的所述区域的所述深度在小于在所述容纳设备的所述流动方向上测量到的所述狭槽的所述长度的约33％的位置处最大。

42.如权利要求40所述的装置，其中所述铂导管包括第一铂导管，所述第一铂导管在接合点处与第二铂导管串联连接，其中接收所述周边壁的所述第二部分的所述区域的所述深度在所述接合点的侧向位置处比在所述第一铂导管的中间侧向位置和所述第二铂导管的中间侧向位置处更大。

43.如权利要求38-42中任一项所述的装置，其中所述周边壁的所述第一部分与所述周边壁的所述第二部分相对。

44.如权利要求37-43中任一项所述的装置，其中所述狭槽的宽度在所述流动方向上增加。

45.如权利要求37-44中任一项所述的装置，其中所述区域的与所述流动方向垂直地截取的横截面积在所述流动方向上减少。

46.如权利要求37-45中任一项所述的装置，其中所述周边壁的所述外周表面沿着与所述流动方向垂直地截取的横截面包括圆形形状。

47.如权利要求37-46中任一项所述的装置，其中所述铂导管的所述周边壁的厚度为从约3mm到约7mm。

48.如权利要求37-47中任一项所述的装置，进一步包括定位在所述导管的所述狭槽下游的形成楔，所述形成楔包括第一楔表面和第二楔表面，所述第一楔表面和所述第二楔表面在下游方向上收敛以形成所述形成楔的根部。

49.如权利要求48所述的装置，其中所述铂壁包括限定所述第一楔表面的第一铂侧壁和限定所述第二楔表面的第二铂侧壁。

50.如权利要求49所述的装置，其中所述支撑构件定位在所述第一铂侧壁与所述第二铂侧壁之间。

51.如权利要求49-50中任一项所述的装置，其中所述第一铂侧壁的上游部分的上游端在第一接口处附接到所述铂导管的所述周边壁，并且所述第二铂侧壁的上游部分的上游端在第二接口处附接到所述铂导管的所述周边壁。

52.如权利要求51所述的装置，其中所述第一接口和所述第二接口各自位于所述铂导管的所述狭槽下游。

53.如权利要求51-52中任一项所述的装置，其中所述第一铂侧壁的所述上游部分和所述第二铂侧壁的所述上游部分在所述下游方向上彼此背向张开。

54.一种用如权利要求37-53中任一项所述的装置使熔融材料流动的方法，所述方法包括：

使所述区域内的所述熔融材料在所述流动方向上流动；和

使熔融材料从所述区域流动通过所述狭槽作为第一熔融材料流和第二熔融材料流。

55.如权利要求33-36中任一项所述的装置，其中所述支撑构件包括支撑流槽、第一支撑堰和第二支撑堰，并且所述支撑流槽侧向定位在所述第一支撑堰与所述第二支撑堰之间，并且所述铂壁包括至少部分地限定定位在所述支撑流槽内并由所述支撑流槽支撑的熔融材料流槽的上铂壁，其中所述上铂壁不物理地接触所述支撑构件的任何部分。

56.如权利要求33-36和55中任一项所述的装置，其中所述铂壁包括第一铂侧壁和第二铂侧壁，其中所述支撑构件定位在所述第一侧壁与所述第二侧壁之间。

57.如权利要求56所述的装置，进一步包括形成楔，所述形成楔包括由所述第一铂侧壁的下部分限定的第一楔表面和由所述第二铂侧壁的下部分限定的第二楔表面，其中所述第一楔表面和所述第二楔表面在下游方向上收敛以形成所述形成楔的根部。

58.如权利要求33-57中任一项所述的装置，其中所述铂壁包括在从约3mm到约7mm的范围内的厚度。

59.如权利要求33-58中任一项所述的装置，其中中间材料防止所述铂壁物理地接触所述支撑构件的任何部分。

60.如权利要求59所述的装置，其中所述中间材料包括氧化铝。

61.一种用如权利要求55-60中任一项所述的装置使熔融材料流动的方法，所述方法包括：

使所述熔融材料流槽内的所述熔融材料在所述流动方向上流动，同时所述支撑构件的所述支撑流槽支撑所述熔融材料的重量；和

使熔融材料从所述熔融材料流槽流动成在所述第一支撑堰上方流动的第一熔融材料流和在所述第二支撑堰上方流动的第二熔融材料流。

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