CN112631010A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

一种显示面板，包括：对盒设置的第一基板和第二基板。显示面板具有显示区域以及位于显示区域至少一侧且与显示区域隔离的至少一个天线区域。在显示区域，第一基板和第二基板之间设置有第一液晶层。在至少一个天线区域，第一基板和第二基板之间设置有第二液晶层。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本文涉及但不限于显示技术领域，尤指一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

液晶显示器(LCD，Liquid Crystal Display)是目前常用的平板显示器，其中，薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD，Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)是液晶显示器中的主流产品。TFT-LCD具有体积薄、重量轻、画面品质优异、功耗低、寿命长、数字化和无辐射等优点，这使其在各种大、中、小尺寸的电子产品都得到广泛应用。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

本公开实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置。

一方面，本公开实施例提供一种显示面板，包括：对盒设置的第一基板和第二基板。显示面板具有显示区域以及位于所述显示区域至少一侧且与所述显示区域隔离的至少一个天线区域。在所述显示区域，所述第一基板和第二基板之间设置有第一液晶层。在所述至少一个天线区域，所述第一基板和第二基板之间设置有第二液晶层。

在一些示例性实施方式中，所述显示面板包括多个天线区域，不同天线区域的第二液晶层的材料不同。

在一些示例性实施方式中，所述第二基板在所述显示区域包括彩膜层。

在一些示例性实施方式中，在所述显示区域，在所述第二基板远离所述第一液晶层的一侧设置有偏光片。

在一些示例性实施方式中，所述显示面板还包括：密封层；所述第一液晶层位于所述密封层、所述第一基板和第二基板形成的第一腔体内；所述第二液晶层位于所述密封层、所述第一基板和第二基板形成的第二腔体内。

在一些示例性实施方式中，所述第一基板在所述显示区域至少包括：依次设置在第一衬底基板上的有源层、栅金属层、源漏金属层和像素电极层。所述第一基板在所述天线区域包括：设置在第一衬底基板上的第一天线电极层；所述第一天线电极层包括：叠设的第一子导电层、第二子导电层和第三子导电层；所述第一子导电层采用透明导电材料；所述第二子导电层与所述栅金属层同层设置，所述第三子导电层与所述源漏金属层同层设置，或者，所述第三子导电层与所述栅金属层同层设置，所述第二子导电层与所述源漏金属层同层设置。

在一些示例性实施方式中，所述第二基板在所述显示区域至少包括：设置在第二衬底基板上的彩膜层和公共电极层；所述第二基板在所述天线区域至少包括：设置在所述第二衬底基板上的第二天线电极层；所述第二天线电极层包括叠设的第四子导电层、第五子导电层和第六子导电层，所述第四子导电层或第六子导电层与所述公共电极层同层设置。

另一方面，本公开实施例提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板。

另一方面，本公开实施例提供一种显示面板的制备方法。所述显示面板具有显示区域以及位于所述显示区域至少一侧且与所述显示区域隔离的至少一个天线区域。所述制备方法包括：形成对盒设置的第一基板和第二基板；在显示区域的所述第一基板和第二基板之间通过灌晶方式制备第一液晶层，在至少一个天线区域的第一基板和第二基板之间通过灌晶方式制备第二液晶层。

在一些示例性实施方式中，所述形成对盒设置的第一基板和第二基板，包括：通过密封胶将所述第一基板和第二基板对盒设置，形成密封层。其中，所述密封层、第一基板和第二基板形成第一腔体和至少一个第二腔体，形成所述第一腔体的密封层具有至少一个第一灌晶口，形成所述第二腔体的密封层具有至少一个第二灌晶口。

在一些示例性实施方式中，所述至少一个第一灌晶口和至少一个第二灌晶口的液晶材料灌入方向一致。

在一些示例性实施方式中，所述制备方法还包括：在所述第二基板远离所述第一液晶层的一侧设置覆盖所述显示区域的偏光片。

在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。

附图说明

附图用来提供对本公开技术方案的理解，并且构成说明书的一部分，与本公开的实施例一起用于解释本公开的技术方案，并不构成对本公开技术方案的限制。附图中一个或多个部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本公开内容。

图1为本公开至少一实施例的显示面板的结构示意图；

图2为图1中沿P-P方向的局部剖面示意图；

图3为图1中沿P-P方向的第一基板的局部剖面示意图；

图4为图1中沿P-P方向的第二基板的局部剖面示意图；

图5为本公开至少一实施例中对盒后的第一基板和第二基板的示意图；

图6为本公开至少一实施例的天线单元的俯视示意图；

图7为本公开至少一实施例中形成偏光片后的显示面板的示意图；

图8为本公开至少一实施例的显示面板的局部剖面示意图；

图9为本公开至少一实施例的显示面板的另一示意图；

图10为本公开至少一实施例的显示装置的示意图。

具体实施方式

下文中将结合附图对本公开的实施例进行详细说明。实施方式可以以多个不同形式来实施。所属技术领域的普通技术人员可以很容易地理解一个事实，就是方式和内容可以在不脱离本公开的宗旨及其范围的条件下被变换为一种或多种形式。因此，本公开不应该被解释为仅限定在下面的实施方式所记载的内容中。在不冲突的情况下，本公开中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

在附图中，有时为了明确起见，夸大表示了一个或多个构成要素的大小、层的厚度或区域。因此，本公开的一个方式并不一定限定于该尺寸，附图中各部件的形状和大小不反映真实比例。此外，附图示意性地示出了理想的例子，本公开的一个方式不局限于附图所示的形状或数值等。

本公开中的“第一”、“第二”、“第三”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置，而不是为了在数量方面上进行限定的。本公开中的“多个”表示两个及以上的数量。

在本公开中，为了方便起见，使用“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的词句以参照附图说明构成要素的位置关系，仅是为了便于描述本说明书和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。构成要素的位置关系根据描述构成要素的方向适当地改变。因此，不局限于在说明书中说明的词句，根据情况可以适当地更换。

在本公开中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，或可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或通过中间件间接相连，或两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据情况理解上述术语在本公开中的含义。其中，“电连接”包括构成要素通过具有某种电作用的元件连接在一起的情况。“具有某种电作用的元件”只要可以进行连接的构成要素间的电信号的授受，就对其没有特别的限制。“具有某种电作用的元件”的例子不仅包括电极和布线，而且还包括晶体管等开关元件、电阻器、电感器、电容器、其它具有一种或多种功能的元件等。

在本公开中，晶体管是指至少包括栅电极、漏电极以及源电极这三个端子的元件。晶体管在漏电极(漏电极端子、漏区域或漏电极)与源电极(源电极端子、源区域或源电极)之间具有沟道区域，并且电流能够流过漏电极、沟道区域以及源电极。在本公开中，沟道区域是指电流主要流过的区域。

在本公开中，为区分晶体管除栅极之外的两极，将其中一个电极称为第一极，另一电极称为第二极，第一极可以为源极或者漏极，第二极可以为漏极或源极，另外，将晶体管的栅极称为控制极。在使用极性相反的晶体管的情况或电路工作中的电流方向变化的情况等下，“源电极”及“漏电极”的功能有时互相调换。因此，在本公开中，“源电极”和“漏电极”可以互相调换。

在本公开中，“平行”是指两条直线形成的角度为-10°以上且10°以下的状态，因此，也包括该角度为-5°以上且5°以下的状态。另外，“垂直”是指两条直线形成的角度为80°以上且100°以下的状态，因此，也包括85°以上且95°以下的角度的状态。

在本公开中，“膜”和“层”可以相互调换。例如，有时可以将“导电层”换成为“导电膜”。与此同样，有时可以将“绝缘膜”换成为“绝缘层”。

本公开中的“约”，是指不严格限定界限，允许工艺和测量误差范围内的数值。

本公开至少一实施例提供一种显示面板，包括：对盒设置的第一基板和第二基板。显示面板具有显示区域以及位于显示区域至少一侧且与显示区域隔离的至少一个天线区域。在显示区域，第一基板和第二基板之间设置有第一液晶层；在至少一个天线区域，第一基板和第二基板之间设置有第二液晶层。

本公开实施例提供的显示面板，将液晶天线和液晶显示屏集成在同一显示面板上，可以实现多功能的集成面板。而且，显示区域的第一液晶层和天线区域的第二液晶层相互隔离，可以保证显示区域的光学性能和天线区域的电学性能，并避免显示区域对天线区域的信号产生干扰。

在一些示例性实施方式中，显示面板包括多个天线区域，不同天线区域的第二液晶层的材料不同。本示例性实施方式中通过采用不同液晶材料来制备不同的天线区域，可以使得不同天线区域具有不同频段。然而，本实施例对此并不限定。例如，不同天线区域的第二液晶层的材料可以相同。

在一些示例性实施方式中，第二基板在显示区域包括彩膜层。其中，天线区域可以不设置彩膜层。通过在显示区域的设置彩膜层，可以实现显示区域的彩色显示。

在一些示例性实施方式中，在显示区域，在第二基板远离第一液晶层的一侧设置有偏光片。在一些示例中，天线区域的第二基板远离第二液晶层的一侧可以设置偏光片，或者，可以不设置偏光片。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，显示面板还包括：密封层。第一液晶层位于密封层、第一基板和第二基板形成的第一腔体内；第二液晶层位于密封层、第一基板和第二基板形成的第二腔体内。在本示例中，通过密封层、第一基板和第二基板可以隔离出第一腔体和至少一个第二腔体，从而在第一腔体注入第一液晶材料形成第一液晶层，在第二腔体注入第二液晶材料形成第二液晶层。在本示例性实施方式中，通过密封层可以将显示面板隔离出显示区域和至少一个天线区域，使得显示区域的第一液晶层和天线区域的第二液晶层隔离，从而保证显示区域的光学性能和天线区域的电学性能，并避免显示区域对天线区域的信号产生干扰。

在一些示例性实施方式中，第一基板在显示区域至少包括：依次设置在第一衬底基板上的有源层、栅金属层、源漏金属层和像素电极层。第一基板在天线区域包括：设置在第一衬底基板上的第一天线电极层。第一天线电极层包括：叠设的第一子导电层、第二子导电层和第三子导电层。第一子导电层采用透明导电材料。第二子导电层与栅金属层同层设置，第三子导电层与源漏金属层同层设置；或者，第三子导电层与栅金属层同层设置，第二子导电层与源漏金属层同层设置。在一些示例中，第一子导电层、第二子导电层和第三子导电层可以沿着远离第一衬底基板的方向依次叠设，其中，第二子导电层与栅金属层同层设置，第三子导电层与源漏金属层同层设置。或者，在一些示例中，第三子导电层、第二子导电层和第一子导电层可以沿着远离第一衬底基板的方向依次设置，其中，第三子导电层与栅金属层同层设置，第二子导电层与源漏金属层同层设置。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，第二基板在显示区域至少包括：设置在第二衬底基板上的彩膜层和公共电极层。第二基板在天线区域至少包括：设置在第二衬底基板上的第二天线电极层。第二天线电极层包括叠设的第四子导电层、第五子导电层和第六子导电层，第四子导电层或第六子导电层与公共电极层同层设置。在一些示例中，第四子导电层、第五子导电层和第六子导电层沿着远离第二衬底基板的方向依次叠设，第四子导电层与公共电极层同层设置，且采用透明导电材料。或者，在一些示例中，第六子导电层、第五子导电层和第四子导电层沿着远离第二衬底基板的方向依次叠设，第六子导电层与公共电极层同层设置。或者，在一些示例中，第四子导电层、第五子导电层和第六子导电层沿着远离第二衬底基板的方向依次叠设，第六子导电层与公共电极层同层设置。然而，本实施例对此并不限定。

下面通过多个示例对本实施例的显示面板进行举例说明。

图1为本公开至少一实施例的显示面板的结构示意图。在一些示例性实施方式中，如图1所示，在平行于显示面板的平面内，本示例性实施例提供的显示面板包括：显示区域100、位于显示区域100相对两侧的天线区域200a和200b、以及显示区域100和天线区域200a和200b外围的周边区域300。在本示例中，显示区域100位于天线区域200a和200b之间，周边区域300可以包括：显示面板上除了显示区域100和天线区域200a和200b以外的区域。在一些示例中，显示区域100的面积可以大于天线区域200a和天线区域200b的总面积，以避免影响显示面板的显示效果。其中，天线区域200a和200b的尺寸可以相同。在一些示例中，显示区域100可以为第一尺寸的矩形、天线区域200a和200b可以均为第二尺寸的矩形，且第一尺寸大于第二尺寸。然而，本实施例对此并不限定。例如，显示区域可以为正方形、圆形、或多边形等其他形状，天线区域可以为梯形、平行四边形、多边形等其他形状。

在一些示例性实施方式中，显示区域100内设置有多条栅线和多条数据线，多条栅线和多条数据线可以交叉限定出多个子像素区域，每个子像素区域内设置有像素电极、公共电极、第一液晶层、以及与像素电极连接的驱动电路。驱动电路可以包括至少一个薄膜晶体管。例如，薄膜晶体管的漏电极可以与像素电极电连接，源电极可以与数据线电连接，栅电极与栅线电连接。通过栅线传输的扫描信号来控制薄膜晶体管的通断，数据线上传输的像素电压通过驱动电路输出至像素电极。公共电极与公共电压线连接。像素电极和公共电极之间形成用于驱动第一液晶层的液晶分子偏转的电场，从而实现特定灰阶的显示。

在一些示例性实施方式中，天线区域200a和200b内均设置有规则排布的多个天线单元。每个天线单元可以包括第一天线电极层、第二天线电极层以及位于第一天线电极层和第二天线电极层之间的第二液晶层。第一天线电极层可以包括接地电极，第二天线电极层可以包括贴片电极。在向接地电极和贴片电极施加电压时，贴片电极和接地电极之间形成驱动第二液晶层的液晶分子偏转的电场，从而对天线单元的谐振频率进行调节。

在一些示例性实施方式中，周边区域300内可以设置栅极驱动电路、源极驱动电路、驱动控制芯片以及天线控制电路。栅极驱动电路可以给显示区域100内的栅线提供扫描信号。源极驱动电路可以给显示区域100内的数据线提供像素电压。驱动控制芯片可以给源极驱动电路和栅极驱动电路提供控制信号。天线控制电路可以与天线区域内的天线单元连接。在一些示例中，如图1所示，周边区域300可以包括：第一子区域301、第二子区域302和第三子区域303。第一子区域301位于显示区域100的一侧，例如显示区域100的下侧。源极驱动电路和驱动控制芯片可以设置在第一子区域301。第二子区域302位于天线区域200a的一侧，例如天线区域200a的下侧。第一天线控制电路可以设置在第二子区域302，用于与天线区域200a内的天线单元连接。第三子区域303位于天线区域200b的一侧，例如天线区域200b的下侧。第二天线控制电路可以设置在第三子区域303，用于与天线区域200b内的天线单元连接。栅极驱动电路可以设置在显示区域100与两侧天线区域之间的周边区域内(即显示区域100左侧和右侧的周边区域300内)。然而，本实施例对此并不限定。

图2为图1中沿P-P方向的局部剖面示意图。如图2所示，在垂直于显示面板的平面内，本示例性实施例的显示面板包括：相对设置的第一基板1和第二基板2、夹设在第一基板1和第二基板2之间的密封层50和液晶层。其中，液晶层包括：位于显示区域100的第一液晶层41和位于天线区域(例如天线区域200b)的第二液晶层42。第一液晶层41和第二液晶层42之间通过密封层50隔离。在本示例中，显示区域100的第一液晶层41位于由密封层50、第一基板1和第二基板2形成的第一腔体内。天线区域200b的第二液晶层42位于由密封层50、第一基板1和第二基板2形成的第二腔体内。天线区域200a的第二液晶层位于由密封层50、第一基板1和第二基板2形成的另一第二腔体内。

图3为图1中沿P-P方向的第一基板的局部剖面示意图。图4为图1中沿P-P方向的第二基板的局部剖面示意图。在一些示例性实施方式中，如图3所示，显示区域100的第一基板可以包括：第一衬底基板10、依次设置在第一衬底基板10上的驱动电路层、像素电极层和第一配向层15。驱动电路层包括：依次设置在第一衬底基板10上的第一绝缘层11、有源层、第二绝缘层12、栅金属层、第三绝缘层13、源漏金属层和第四绝缘层14。像素电极层至少包括多个像素电极31。像素电极31与源漏金属层中的漏电极24电连接。如图4所示，显示区域100的第二基板可以包括：第二衬底基板60、依次设置在第二衬底基板60上的彩膜层62、公共电极层和第二配向层64。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，如图3所示，天线区域200b的第一基板可以包括：第一衬底基板10、设置在第一衬底基板10上的第一绝缘层11和第一天线电极层71。第一天线电极层71包括沿着远离第一衬底基板10的方向依次叠设的第一子导电层711、第二子导电层712和第三子导电层713。在一些示例中，第二子导电层712与显示区域100的栅金属层同层设置，第三子导电层713与显示区域100的源漏金属层同层设置。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，如图4所示，天线区域200b的第二基板可以包括：第二衬底基板60、设置在第二衬底基板60上的第二天线电极层72。第二天线电极层72包括沿着远离第二衬底基板60的方向依次叠设的第四子导电层721、第五子导电层722和第六子导电层723。在一些示例中，第四子导电层721与显示区域100的公共电极层同层设置。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，如图2至图4所示，在显示区域100，第一基板1和第二基板2之间夹设第一液晶层41。第一基板1的第一配向层15与第二基板2的第二配向层64面对第一液晶层41。在天线区域200b，第一基板1和第二基板2之间夹设第二液晶层42。第一基板1的第一天线电极层71和第二基板2的第二天线电极层72面对第二液晶层42。天线区域200a的结构与天线区域200b的结构类似，故于此不再赘述。

下面通过本示例性实施例的显示面板的制备过程进一步说明本实施例的技术方案。本实施例中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀和剥离光刻胶等处理。沉积可以采用选自溅射、蒸镀、化学气相沉积中的任意一种或多种，涂覆可以采用选自喷涂和旋涂中的任意一种或多种，刻蚀可以采用选自干刻和湿刻中的任意一种或多种。“薄膜”是指将某一种材料在基底上利用沉积或涂覆工艺制作出的一层薄膜。若在整个制作过程当中该“薄膜”无需构图工艺或光刻工艺，则该“薄膜”还可以称为“层”。若在整个制作过程当中该“薄膜”还需构图工艺或光刻工艺，则在构图工艺前称为“薄膜”，构图工艺后称为“层”。经过构图工艺或光刻工艺后的“层”中包含至少一个“图案”。

本公开中所说的“A和B同层设置”是指，A和B通过同一次构图工艺同时形成。“相同层”不总是意味着层的厚度或层的高度在截面图中是相同的。“A的正投影包含B的正投影”是指，B的正投影落入A的正投影范围内，或者A的正投影覆盖B的正投影。

在一些示例性实施方式中，本实施例的显示面板的制备过程包括以下步骤。本示例性实施例的显示面板可以为扭曲向列(TN，Twisted Nematic)型LCD。

(1)、制备第一基板。

在一些示例性实施方式中，如图3所示，第一基板的制备过程包括以下步骤。

提供第一衬底基板10，在显示区域100的第一衬底基板10上形成驱动电路层。显示区域100的驱动电路层包括多个驱动电路，每个驱动电路包括至少一个薄膜晶体管(TFT，Thin Film Transistor)。在一些示例中，第一衬底基板10可以为透明基底，例如，石英基底、玻璃基底或有机树脂基底。然而，本实施例对此并不限定。

在第一衬底基板10上依次沉积第一绝缘薄膜和有源层薄膜，通过构图工艺对有源层薄膜进行构图，形成覆盖整个第一衬底基板10的第一绝缘层11，以及设置在第一绝缘层11上的有源层图案。有源层图案形成在显示区域100，至少包括：第一有源层21。

随后，沉积第一透明导电薄膜，通过构图工艺对第一透明导电薄膜进行构图，形成第一子导电层711图案。第一子导电层711形成在天线区域200a和200b。在一些示例中，第一透明导电薄膜的材料可以为氧化铟锡(ITO，Indium Tin Oxide)或者氧化铟锌(IZO，IndiumZinc Oxide)等透明导电材料。在一些示例中，在形成第一子导电层后可以对第一子导电层进行退火处理，以便降低第一子导电层的阻抗，确保信号传输性能。在一些示例中，第一子导电层711的厚度可以约为135纳米(nm)。然而，本实施例对此并不限定。

随后，依次沉积第二绝缘薄膜和第一金属薄膜，通过构图工艺对第一金属薄膜进行构图，形成覆盖有源层图案的第二绝缘层12，以及设置在第二绝缘层12上的栅金属层和第二子导电层712图案。栅金属层图案形成在显示区域100，至少包括第一栅电极22。第二子导电层712形成在天线区域200a和200b，第二子导电层712叠设在第一子导电层711上。

随后，沉积第三绝缘薄膜，通过构图工艺对第三绝缘薄膜进行构图，形成覆盖栅金属层的第三绝缘层图案。显示区域100的第三绝缘层13上开设有至少两个第一过孔，第一过孔内的第三绝缘层13和第二绝缘层12被刻蚀掉，暴露出第一有源层11的表面。

随后，沉积第二金属薄膜，通过构图工艺对第二金属薄膜进行构图，在第三绝缘层13上形成源漏金属层和第三子导电层713图案。源漏金属层形成在显示区域100，至少包括位于显示区域100的第一源电极23和第一漏电极24。第一源电极23和第一漏电极24可以通过第一过孔与第一有源层21连接。第三子导电层713形成在天线区域200a和200b，第三子导电层713叠设在第二子导电层712上。

至此，在第一衬底基板10上制备完成显示区域100的驱动电路层。在显示区域100的驱动电路层中，第一有源层21、第一栅电极22、第一源电极23和第一漏电极24可以组成第一薄膜晶体管。在一些示例中，显示区域100的栅线可以与栅金属层同层设置，数据线可以与源漏金属层同层设置。然而，本实施例对此并不限定。

在本示例性实施方式中，在天线区域200a和200b内，第一子导电层711、第二子导电层712和第三子导电层713叠设形成第一天线电极层71。第一天线电极层包括天线单元的接地电极。换言之，天线区域内的接地电极可以为三层导电层叠设的结构。然而，本实施例对此并不限定。例如，天线区域的接地电极可以采用单层导电结构，或者双层导电结构。

随后，在形成前述图案的第一衬底基板10上涂覆有机材料的平坦薄膜，形成覆盖显示区域100的第一衬底基板10的第四绝缘层14。显示区域100的第四绝缘层14上设置有多个第二过孔，第二过孔内的第四绝缘层14被刻蚀掉，暴露出第一漏电极24的表面。第四绝缘层24又称之为平坦层。

随后，在形成前述图案的第一衬底基板10上沉积第二透明导电薄膜，通过构图工艺对第二透明导电薄膜进行构图，在显示区域100形成像素电极层图案。像素电极层包括：位于显示区域100的多个像素电极31。像素电极31通过第二过孔与第一薄膜晶体管的第一漏电极24电连接。在一些示例中，第二透明导电薄膜可以采用ITO或IZO等透明导电材料。

随后，在形成前述图案的第一衬底基板10的显示区域100涂覆透明的第一配向膜，将第一配向膜固化，并采用配向技术对固化的第一配向膜进行配向，得到透明的第一配向层15。第一配向层15覆盖第一衬底基板10的显示区域100。

在一些示例中，配向技术可以包括：摩擦配向技术和紫外光照配向技术，通过配向技术可以使第一配向层15的表面形成沟槽，用于对液晶分子进行配向，使液晶分子顺着一定方向排列。其中，第一配向膜的材质可以为聚酰亚胺、聚酰胺、聚乙烯、聚苯乙烯或聚乙烯醇。然而，本实施例对此并不限定。

在本示例中，第一衬底基板10的天线区域200a和200b依次设置有第一绝缘层11、第一子导电层711、第二子导电层712和第三子导电层713。其中，第二子导电层712与显示区域100的栅金属层为同层结构，通过同一次构图工艺形成，第三子导电层713与显示区域100的源漏金属层为同层结构，通过同一次构图工艺形成。在一些示例中，第二子导电层和第三子导电层的厚度相同，例如均约为600nm。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，在围绕显示区域100的周边可以设置接地信号走线。接地信号走线可以与显示区域100的源漏金属层为同层结构，且通过同一次构图工艺形成。天线区域200a和200b内的接地电极可以通过第一子导电层711与周边区域的接地信号走线电连接。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，第一绝缘层11、第二绝缘层12和第三绝缘层13采用硅氧化物(SiOx)、硅氮化物(SiNx)和氮氧化硅(SiON)中的任意一种或多种，可以是单层、多层或复合层。第一绝缘层11称之为缓冲(Buffer)层，用于提高第一衬底基板10的抗水氧能力；第二绝缘层12称之为栅绝缘(GI，Gate Insulator)层；第三绝缘层13称之为层间介质(ILD，Inter Layer Dielectric)层。第一金属薄膜和第二金属薄膜采用金属材料，如银(Ag)、铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)和钼(Mo)中的任意一种或更多种，或上述金属的合金材料，如铝钕合金(AlNd)或钼铌合金(MoNb)，可以是单层结构，或者多层复合结构，如Ti/Al/Ti等。有源层薄膜采用非晶态氧化铟镓锌材料(a-IGZO)、氮氧化锌(ZnON)、氧化铟锌锡(IZTO)、非晶硅(a-Si)、多晶硅(p-Si)、六噻吩、聚噻吩等一种或多种材料，即本公开适用于基于氧化物(Oxide)技术、硅技术以及有机物技术制造的晶体管。

(2)、制备第二基板。

在一些示例性实施方式中，如图4所示，第二基板的制备过程包括以下步骤。

提供第二衬底基板60，在第二衬底基板60上涂覆黑色颜料或沉积黑铬(Cr)薄膜，通过构图工艺对黑色颜料或黑铬薄膜进行构图，形成黑矩阵620图案，然后，在黑矩阵620限定出的子像素区域内依次形成不同颜色的彩膜单元。

在一些示例中，如图4所示，彩膜层62可以包括周期性排布的红色彩膜单元621、绿色彩膜单元622和蓝色彩膜单元623。以形成红色彩膜单元为例，可以先在已形成黑矩阵620的第二衬底基板60上涂覆红色树脂，经烘烤固化后，通过掩模、曝光、显影，形成红色彩膜单元621。绿色彩膜单元和蓝色彩膜单元的形成过程类似，故于此不再赘述。

随后，在形成前述图案的第二衬底基板60上沉积第三透明导电薄膜，通过构图工艺对第三透明导电薄膜进行构图，形成公共电极层63和第四子导电层721图案。公共电极层63形成在显示区域100，至少包括公共电极。在一些示例中，公共电极可以为片状结构。公共电极在第一基板上的投影可以覆盖多个像素电极。第四子导电层721形成在天线区域200a和200b。在一些示例中，在形成第四子导电层后可以对第四子导电层进行退火处理，以便降低第四子导电层的阻抗，确保信号传输性能。

随后，在形成前述图案的第二衬底基板60上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺对第三金属薄膜进行构图，形成第五子导电层722图案。第五子导电层722形成在天线区域200a和200b。

随后，在形成前述图案的第二衬底基板60上沉积第四金属薄膜，通过构图工艺对第四金属薄膜进行构图，形成第六子导电层723图案。第六子导电层723形成在天线区域200a和200b。

随后，在形成前述图案的第二衬底基板60的显示区域100涂覆透明的第二配向膜，将第二配向膜固化，并采用配向技术对固化的第二配向膜进行配向，得到透明的第二配向层64。第二配向层64覆盖第二衬底基板60的显示区域100。

在本示例性实施方式中，在天线区域200a和200b内，第四子导电层721、第五子导电层722和第六子导电层723叠设形成第二天线电极层。第二天线电极层包括天线单元的贴片电极。换言之，天线区域内的贴片电极可以为三层导电层叠设的结构。在一些示例中，第四子导电层721的厚度约为135nm，第五子导电层722的厚度约为600nm，第六子导电层723的厚度约为600nm。然而，本实施例对此并不限定。例如，天线区域的贴片电极可以采用单层导电结构，或者双层导电结构。

在一些示例性实施方式中，第三金属薄膜和第四金属薄膜采用金属材料，如银(Ag)、铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)和钼(Mo)中的任意一种或更多种，或上述金属的合金材料，如铝钕合金(AlNd)或钼铌合金(MoNb)，可以是单层结构，或者多层复合结构，如Ti/Al/Ti等。

(3)、将第一基板和第二基板对盒设置并注入液晶材料。

在一些示例性实施方式中，在第一基板的显示区域的周边、天线区域的周边涂覆密封胶，形成密封胶层。然后，将第一基板和第二基板对盒设置，形成第一腔体和第二腔体。其中，第一基板的显示区域的第一配向层面对第二基板的显示区域的第二配向层，第一基板的天线区域的第一天线电极层面对第二基板的天线区域的第二天线电极层。如图3和图4所示，天线区域200a和200b的第三子导电层713面对第六子导电层723。

在一些示例性实施方式中，在第一基板和第二基板对盒设置的过程中，第二基板的天线区域的第二天线电极层可以通过周边区域设置的导电银胶与第一基板的周边区域内设置的第二天线电极引线实现电连接，以实现与周边区域的天线控制电路的电连接。

图5为本公开至少一实施例中对盒后的第一基板和第二基板的示意图。如图2和图5所示，第一基板1、第二基板2和密封胶层50形成第一腔体101、第二腔体201a和201b。第一腔体101周边的密封层50具有四个依次排布的第一灌晶口501。第二腔体201a周边的密封层50具有一个第二灌晶口502。第二腔体201b周边的密封层50具有一个第二灌晶口503。第一腔体101与显示区域100对应，第二腔体201a与天线区域200a对应，第二腔体201b与天线区域200b对应。第一灌晶口101和第二灌晶口502和503的液晶材料灌入方向一致。例如，第一灌晶口和第二灌晶口均排布在显示面板的上侧。然而，本实施例对此并不限定。在一些示例中，第一灌晶口和第二灌晶口的液晶材料灌入方向可以部分相同或均不同。而且，本实施例对于第一灌晶口和第二灌晶口的数目并不限定。

在一些示例性实施方式中，多个第一灌晶口101的尺寸可以相同。第二灌晶口502和503的尺寸可以相同或不同。第一灌晶口101与第二灌晶口502的尺寸可以相同或不同。第二灌晶口101与第二灌晶口503的尺寸可以相同或不同。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，通过第一灌晶口501向第一腔体101注入第一液晶材料，以在显示区域100形成第一液晶层41。通过第二灌晶口502向第二腔体201a注入第二液晶材料，以在天线区域200a形成第二液晶层42。通过第二灌晶口503向第二腔体201b注入第二液晶材料，以在天线区域200b形成第二液晶层42。第一液晶材料不同于第二液晶材料。例如，第一液晶材料可以为K15型液晶或者E7型液晶，第二液晶材料可以为高可调范围液晶GT7-29001。第一液晶层具有更好的光学性能，第二液晶层具有更好的电学性能。然而，本实施例对此并不限定。

在一些示例性实施方式中，通过第二灌晶口502向第二腔体201a注入的第二液晶材料，以及通过第二灌晶口503向第二腔体201b注入的第二液晶材料可以不同。通过采用两种不同的第二液晶材料，可以对两个天线区域200a和200b的异性介电常数进行差异化设计，从而实现不同频段的液晶天线。然而，本实施例对此并不限定。

图6为本公开至少一实施例的天线单元的俯视示意图。如图6所示，在一些示例性实施方式中，第一基板上的第一天线电极层71的接地电极具有缝隙710，第二基板上的第二天线电极层72的贴片电极在第一基板上的正投影与缝隙710部分交叠。例如，缝隙710呈条形，贴片电极也呈条形，贴片电极的延伸方向与缝隙710的延伸方向相互垂直。

在一些示例中，当天线区域的第一基板和第二基板之间的第二液晶层的液晶介电常数为ε1时，贴片电极从缝隙耦合的能量最小，设定天线单元的工作状态为0；当第二液晶层的液晶介电常数为ε2时，贴片电极从缝隙耦合的能量最大，设定天线单元的工作状态为1。根据波束指向角度和天线区域内的多个天线单元的位置，可以确定不同天线单元的工作状态。其中，当天线单元的位置符合预期角度时，将其设置在工作状态1，当天线单元的位置不符合预期的指向角度时，将其设置在工作状态0。然后，经过波束形成算法的计算即可得到预期波束指向。

(4)、在显示区域100贴设偏光片(POL，Polarizer)80，偏光片80可以覆盖彩膜层62，如图7所示。在显示区域100两侧的天线区域200a和200b没有设置偏光片。然而，本实施例对此并不限定。例如，偏光片可以覆盖显示区域和天线区域。

本示例性实施例的显示面板的结构及其制备过程仅仅是一种示例性说明。在一些示例性实施方式中，可以根据实际需要变更相应结构以及增加或减少构图工艺。例如，在第一基板的天线区域的第一天线电极层包括沿着远离第一衬底基板的方向依次叠设的第一导电层、第二子导电层和第三子导电层，其中，第一子导电层可以与显示区域的栅金属层为同层结构，并通过同一次构图工艺形成，第二子导电层可以与显示区域的源漏金属层为同层结构，并通过同一次构图工艺形成，第三子导电层可以与显示区域的像素电极层为同层结构，并通过同一次构图工艺形成。又如，天线区域的第一天线电极层和第二天线电极层可以为单层导电结构，例如第一基板的第一天线电极层可以与显示区域的像素电极层为同层结构，并通过同一次构图工艺形成，第二基板的第二天线电极层可以与显示区域的公共电极层为同层结构，并通过同一次构图工艺形成。然而，本实施例对此并不限定。

本示例性实施例的显示面板的制备工艺利用现有成熟的制备设备即可实现，可以很好地与现有制备工艺兼容，工艺实现简单，易于实施，生产效率高，生产成本低，良品率高。

本示例性实施例提供的显示面板，通过集成显示功能和天线功能，实现多功能的集成面板。而且，显示区域的第一液晶层和天线区域的第二液晶层相互隔离，可以保证显示区域的光学性能和天线区域的电学性能，并避免显示区域对天线区域的信号产生干扰。而且，通过在显示面板的制备过程中，同步制备天线区域的第一天线电极层和显示区域的驱动结构层，同步制备天线区域的第二天线电极层和显示区域的公共电极层，可以简化制备过程，降低成本。

图8为本公开至少一实施例的显示面板的另一剖面示意图。在一些示例性实施方式中，本示例性实施例提供的显示面板可以为边缘场切换开关(FFS，Fringe FieldSwitching)型或高级超维场开关(AD-SDS，Advanced-Super Dimension Switching)型LCD。如图8所示，显示区域100的第一基板可以包括：第一衬底基板10、依次设置在第一衬底基板10上的驱动电路层110、公共电极层、像素电极层和第一配向层。驱动电路层101包括：依次设置在第一衬底基板10上的第一绝缘层、有源层、第二绝缘层、栅金属层、第三绝缘层、源漏金属层和第四绝缘层。公共电极层包括多个公共电极32，像素电极层至少包括多个像素电极31。公共电极层和像素电极层之间设置有第五绝缘层。像素电极31与源漏金属层中的漏电极电连接。显示区域100的第二基板可以包括：第二衬底基板60、依次设置在第二衬底基板60上的彩膜层62和第二配向层64。天线区域200a和200b的第一基板可以包括：第一衬底基板10、设置在第一衬底基板10上的第一绝缘层和第一天线电极层71。天线区域200a和200b的第二基板可以包括：第二衬底基板60、设置在第二衬底基板60上的第二天线电极层72。第一天线电极层71可以包括接地电极，第二天线电极层72可以包括贴片电极。第一天线电极层71和第二天线电极层72可以为三层导电结构。在一些示例中，第一天线电极层71包括沿远离第一衬底基板10的方向依次叠设的第一子导电层、第二子导电层和第三子导电层，其中，第一子导电层可以采用透明导电材料，第二子导电层可以与显示区域100的栅金属层同层设置，第三子导电层可以与显示区域100的源漏金属层同层设置。然而，本实施例对此并不限定。

在本示例性实施方式中，像素电极和公共电极均设置在第一基板上且异层设置。然而，本实施例对此并不限定。例如，显示面板可以为平面转换(IPS，In-Plane Switching)型LCD，其中，显示区域的像素电极和公共电极均设置在第一基板上且同层设置。

关于本示例性实施例的显示面板的显示区域、天线区域和周边区域的结构可以参照前述实施例的说明，故于此不再赘述。

本实施方式所示的结构(或方法)可以与其它实施方式所示的结构(或方法)适当地组合。

图9为本公开至少一实施例的显示面板的另一结构示意图。如图9所示，本示例性实施例的显示面板包括：显示区域100、位于显示区域100一侧(例如左侧)的天线区域200、以及周边区域300。

关于本示例性实施例的显示面板的显示区域、天线区域和周边区域的结构可以参照前述实施例的说明，故于此不再赘述。

本实施方式所示的结构(或方法)可以与其它实施方式所示的结构(或方法)适当地组合。

本公开至少一实施例还提供一种显示面板的制备方法。显示面板具有显示区域以及位于显示区域至少一侧且与显示区域隔离的至少一个天线区域。本实施例的制备方法包括：形成对盒设置的第一基板和第二基板；在显示区域的第一基板和第二基板之间通过灌晶方式制备第一液晶层，在至少一个天线区域的第一基板和第二基板之间通过灌晶方式制备第二液晶层。

在一些示例性实施方式中，形成对盒设置的第一基板和第二基板，包括：通过密封胶将第一基板和第二基板对盒设置，形成密封层；其中，密封层、第一基板和第二基板形成第一腔体和至少一个第二腔体，形成第一腔体的密封层具有至少一个第一灌晶口，形成第二密封层的密封层具有至少一个第二灌晶口。

在一些示例性实施方式中，至少一个第一灌晶口和至少一个第二灌晶口的液晶材料灌入方向一致。

在一些示例性实施方式中，本实施例的制备方法还包括：在第二基板远离第一液晶层的一侧设置覆盖显示区域的偏光片。

关于本实施例的制备方法可以参照前述实施例的说明，故于此不再赘述。

图10为本公开至少一实施例的显示装置的示意图。如图10所示，本实施例提供一种显示装置900，包括：显示面板910。显示面板910为前述实施例提供的显示面板。在一些示例中，显示面板910可以为LCD。显示装置900可以为：LCD显示装置、电子相框、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪、车载显示器、手表、手环等任何具有显示功能的产品或部件。然而，本实施例对此并不限定。

本公开中的附图只涉及本公开涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。

本领域的普通技术人员应当理解，可以对本公开的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本公开技术方案的精神和范围，均应涵盖在本公开的权利要求的范围当中。

Claims (12)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

对盒设置的第一基板和第二基板；

所述显示面板具有显示区域以及位于所述显示区域至少一侧且与所述显示区域隔离的至少一个天线区域；

在所述显示区域，所述第一基板和第二基板之间设置有第一液晶层；在所述至少一个天线区域，所述第一基板和第二基板之间设置有第二液晶层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括多个天线区域，不同天线区域的第二液晶层的材料不同。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板在所述显示区域包括彩膜层。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述显示区域，在所述第二基板远离所述第一液晶层的一侧设置有偏光片。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：密封层；所述第一液晶层位于所述密封层、所述第一基板和第二基板形成的第一腔体内；所述第二液晶层位于所述密封层、所述第一基板和第二基板形成的第二腔体内。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一基板在所述显示区域至少包括：依次设置在第一衬底基板上的有源层、栅金属层、源漏金属层和像素电极层；

所述第一基板在所述天线区域包括：设置在第一衬底基板上的第一天线电极层；所述第一天线电极层包括：叠设的第一子导电层、第二子导电层和第三子导电层；所述第一子导电层采用透明导电材料；所述第二子导电层与所述栅金属层同层设置，所述第三子导电层与所述源漏金属层同层设置，或者，所述第三子导电层与所述栅金属层同层设置，所述第二子导电层与所述源漏金属层同层设置。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板在所述显示区域至少包括：设置在第二衬底基板上的彩膜层和公共电极层；所述第二基板在所述天线区域至少包括：设置在所述第二衬底基板上的第二天线电极层；所述第二天线电极层包括叠设的第四子导电层、第五子导电层和第六子导电层，所述第四子导电层或第六子导电层与所述公共电极层同层设置。

8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至7中任一项所述的显示面板。

9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板具有显示区域以及位于所述显示区域至少一侧且与所述显示区域隔离的至少一个天线区域；

所述制备方法包括：

形成对盒设置的第一基板和第二基板；

在所述显示区域的第一基板和第二基板之间通过灌晶方式制备第一液晶层，在至少一个天线区域的第一基板和第二基板之间通过灌晶方式制备第二液晶层。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述形成对盒设置的第一基板和第二基板，包括：

通过密封胶将所述第一基板和第二基板对盒设置，形成密封层；其中，所述密封层、第一基板和第二基板形成第一腔体和至少一个第二腔体，形成所述第一腔体的密封层具有至少一个第一灌晶口，形成所述第二腔体的密封层具有至少一个第二灌晶口。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述至少一个第一灌晶口和至少一个第二灌晶口的液晶材料灌入方向一致。

12.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：在所述第二基板远离所述第一液晶层的一侧设置覆盖所述显示区域的偏光片。

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