CN112582576A - 柔性基板制备方法及显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种柔性基板的制备方法及显示面板，所述柔性基板的制备方法中包括以下步骤：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板的一表面上形成无定形层；在所述无定形层远离所述玻璃基板的一表面上形成柔性基板；通过激光剥离工艺将所述柔性基板从所述无定形层上分离。

Description

柔性基板制备方法及显示面板
技术领域
本发明涉及显示设备领域，特别是一种柔性基板制备方法及显示面板。
背景技术
有机电致发光器件(Organic Light-Emitting Diodes，简称OLED)是自发光器件，它具有质量轻薄、功耗低、响应速度快、发光效率高及可实现柔性显示等优点，成为近年来应用较广的显示器件之一。其中，柔性OLED显示面板成为目前显示领域的主流产品。
柔性基板作为柔性OLED显示面板最为重要的组成部分之一，柔性基板的主要材料为耐高温的聚酰亚胺(PI)薄膜。在现有技术中，主要是通过机械剥离(MLO)或激光剥离(LLO)等工艺将玻璃基板与柔性基板的分离，进而实现面板由刚性转变为柔性。
在MLO工艺中，PI柔性基板会受到较大的力的拉扯，导致PI柔性基板会发生褶皱和受损。而LLO工艺主要是通过激光的高能量使柔性基板与玻璃基板接触界面的PI炭化分解，导致柔性基板和玻璃基板的粘结性下降，从而实现柔性基板与刚性支撑基板的分离。但高能量的激光会使PI灼伤和受损，导致PI柔性基板破片。此外，PI柔性基板与刚性支撑基板交界处因激光烧灼而产生的气体而带来的压力会使柔性基板产生褶皱。
发明内容
本发明的目的是提供一种柔性基板制备方法及显示面板，以解决现有技术的剥离技术中会使柔性基地破损、发生褶皱等问题。
为实现上述目的，本发明提供一种柔性基板的制备方法，所述制备方法中包括以下步骤：
提供一玻璃基板；在所述玻璃基板的一表面上形成无定形层；在所述无定形层远离所述玻璃基板的一表面上形成柔性基板；通过激光剥离工艺将所述柔性基板从所述无定形层上分离。其中，所述无定形层采用高分子材料或无机材料。
进一步地，所述通过激光剥离工艺将所述柔性基板从所述无定形层上分离步骤中包括：激光透过所述玻璃基板照射在所述无定形层上，将所述无定形层转化为结晶层；将所述柔性基板从所述结晶层上剥离。
进一步地，所述结晶层与所述柔性基板之间的黏结力小于0.05N/cm。
进一步地，当所述无定形层采用高分子材料时，其通过涂布法形成在所述玻璃基板上；当所述无定形层采用无机材料时，其通过化学气相沉积法或原子沉积法形成在所述玻璃基板上。
进一步地，所述无定形层的厚度小于1微米；所述柔性基板的厚度为5-20微米。
进一步地，所述高分子材料和所述无机材料的耐热温度为400-1000℃。
进一步地，所述激光剥离工艺中的激光能量密度为50-100mJ/cm2；激光波长大于500纳米，且小于或等于1064纳米。
进一步地，在所述形成柔性基板步骤中包括以下步骤：
在所述无定形层远离所述玻璃基板的一表面上形成第一柔性层；在所述第一柔性层远离所述无定形层的一表面上形成缓冲层；在所述缓冲层远离所述第一柔性层的一表面上形成第二柔性层。
进一步地，所述通过激光剥离工艺将所述柔性基板从所述无定形层上分离步骤中包括：激光透过所述玻璃基板照射在所述无定形层上，将所述无定形层转化为结晶层；将所述第一柔性层从所述结晶层上剥离。
本发明中提供一种显示面板，所述显示面板中具有采用如上所述的柔性基板制备方法所制备出的柔性基板。
本发明的优点是：本发明的一种所提供的柔性基板的制备方法，在柔性基板和玻璃基板之间引入无定形层，所述无定形层在吸收激光能量后能够转化为结晶层，从而减小其与柔性基板之间的黏结力，进而实现柔性基板与玻璃基板的自动分离，避免了现有剥离工艺中柔性基板产生褶皱以及发生破损的问题，提高产品良率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例1-2中柔性基板制备方法的流程示意图；
图2为本发明实施例1中步骤S30中的层状结构示意图；
图3为本发明实施例1中步骤S40中的层状结构示意图；
图4为本发明实施例2中步骤S30中的层状结构示意图；
图5为本发明实施例2中步骤S40中的层状结构示意图。
图中部件表示如下：
玻璃基板10；无定形层20；
结晶层21；柔性基板30；
第一柔性层31；缓冲层32；
第二柔性层33。
具体实施方式
以下参考说明书附图介绍本发明的优选实施例，证明本发明可以实施，所述发明实施例可以向本领域中的技术人员完整介绍本发明，使其技术内容更加清楚和便于理解。本发明可以通过许多不同形式的发明实施例来得以体现，本发明的保护范围并非仅限于文中提到的实施例。
实施例1
本发明实施例中提供了一种柔性基板30的制备方法，其制备流程如图1所示，其具体制备步骤如下：
步骤S10)提供一玻璃基板10作为刚性支撑基板。
步骤S20)形成无定形层20：在所述玻璃基板10的表面上涂布或沉积一层无定形材料，形成所述无定形层20。所述无定形层20的厚度小于1微米。所述无定形材料指处于玻璃态的材料，所述玻璃态指组成原子不存在结构上的长程有序或平移对称性的一种无定型固体状态。所述无定形材料可以为高分子材料或无机材料，例如无定形碳、无定形硅、无定形二氧化硅等，其耐热温度大于400-1000℃。当采用的是高分子材料时，可以通过过涂布法将无定形高分子材料涂布在所述玻璃基板10上，形成所述无定形层20。当采用的是无机材料时，可以通过化学气相沉积法或原子沉积法沉积在所述玻璃基板10上，形成所述无定形层20。
步骤S30)形成柔性基板30：在所述无定形层20远离所述玻璃基板10的一表面上涂布一层聚酰亚胺(PI)，固化后形成如图2所示的柔性基板30。所述柔性基板30的厚度为5-20微米。此时，所述无定形层20与所述柔性基板30和所述玻璃基板10之间的黏结力均大于10N/cm，使柔性基板30与玻璃基板10之间贴合牢固，便于制作其他显示面板膜层结构。
步骤S40)剥离：利用激光剥离工艺将激光穿过所述玻璃基板10照射在所述无定形层20上，并对无定形层20照射低通量的多道次激光，使所述无定形层20中的材料吸收激光能量。如图3所示，在吸收激光能量后，所述无定形材料的分子链发生运动和重排，从而产生结晶，使所述无定形层20转化为结晶层21。所述结晶层21与所述柔性基板30之间的黏结力0.05N/cm，无需使用外力所述柔性基板30与所述结晶层21之间便会自动分离，从而轻松将所述柔性基板30从所述玻璃基板10上剥离。其中，所述激光剥离工艺中的激光能量密度为50-100mJ/cm2，激光波长为500-1064纳米。
本发明实施例中还提供一种显示面板，所述显示面板中包括采用上述制备方法所制备的柔性基板30。所述显示面板为柔性OLED显示面板，其可实现弯折显示，提供更好的显示效果。
本发明实施例中所提供的柔性基板30的制备方法，在柔性基板30和玻璃基板10之间引入无定形层20，所述无定形层20在吸收激光能量后发生分子链移动和重排形成结晶层21而其与柔性基板30之间的黏结力，从而实现柔性基板30与玻璃基板10的自动分离，既可以避免剥离工艺中柔性基板30产生褶皱，也降低了柔性显示面板的破片风险，显著提高产品良率。
实施例2
本发明实施例中提供了一种柔性基板30的制备方法，其制备流程如图1所示，其具体制备步骤如下：
步骤S10)提供一玻璃基板10作为刚性支撑基板。
步骤S20)形成无定形层20：在所述玻璃基板10的表面上涂布或沉积一层无定形材料，形成所述无定形层20。所述无定形层20的厚度小于1微米。所述无定形材料指处于玻璃态的材料，所述玻璃态指组成原子不存在结构上的长程有序或平移对称性的一种无定型固体状态。所述无定形材料可以为高分子材料或无机材料，例如无定形碳、无定形硅、无定形二氧化硅、无定形塑料等，其耐热温度大于400-1000℃。当采用的是高分子材料时，可以通过过涂布法将无定形高分子材料涂布在所述玻璃基板10上，形成所述无定形层20。当采用的是无机材料时，可以通过化学气相沉积法或原子沉积法沉积在所述玻璃基板10上，形成所述无定形层20。
步骤S30)形成柔性基板30：在所述无定形层20远离所述玻璃基板10的一表面上涂布一层聚酰亚胺(PI)，固化后形成第一柔性层31。在所述第一柔性层31远离所述无定形层20的一表面上沉积一层硅氮化物或硅氧化物，形成一缓冲层32，所述缓冲层32用于抵抗外界冲击力，保护所述柔性基板30的结构。在所述缓冲层32远离所述第一柔性层31的一表面上涂布一层聚酰亚胺，固化后形成第二柔性层33。如图4所示，所述第一柔性层31、所述缓冲层32和所述第二柔性层33组合形成所述柔性基板30。所述柔性基板30的厚度为5-20微米。此时，所述无定形层20与所述第一柔性层31和所述玻璃基板10之间的黏结力均大于10N/cm，使柔性基板30与玻璃基板10之间贴合牢固，便于制作其他显示面板膜层结构。
步骤S40)剥离：利用激光剥离工艺将激光穿过所述玻璃基板10照射在所述无定形层20上，并对无定形层20照射低通量的多道次激光，使所述无定形层20中的材料吸收激光能量。如图5所示，在吸收激光能量后，所述无定形材料的分子链发生运动和重排，从而产生结晶，使所述无定形层20转化为结晶层21。所述结晶层21与所述柔性基板30之间的黏结力0.05N/cm，无需使用外力所述柔性基板30中的第一柔性层31与所述结晶层21之间便会自动分离，从而轻松将所述柔性基板30从所述玻璃基板10上剥离。其中，所述激光剥离工艺中的激光能量密度为50-100mJ/cm2，激光波长为500-1064纳米。
本发明实施例中还提供一种显示面板，所述显示面板中包括采用上述制备方法所制备的柔性基板30。所述显示面板为柔性OLED显示面板，其可实现弯折显示，提供更好的显示效果。
本发明实施例中所提供的柔性基板30的制备方法，在柔性基板30和玻璃基板10之间引入无定形层20，所述无定形层20在吸收激光能量后发生分子链移动和重排形成结晶层21而其与柔性基板30之间的黏结力，从而实现柔性基板30与玻璃基板10的自动分离，既可以避免剥离工艺中柔性基板30产生褶皱，也降低了柔性显示面板的破片风险，显著提高产品良率。
虽然在本文中参照了特定的实施方式来描述本发明，但是应该理解的是，这些实施例仅仅是本发明的原理和应用的示例。因此应该理解的是，可以对示例性的实施例进行许多修改，并且可以设计出其他的布置，只要不偏离所附权利要求所限定的本发明的精神和范围。应该理解的是，可以通过不同于原始权利要求所描述的方式来结合不同的从属权利要求和本文中所述的特征。还可以理解的是，结合单独实施例所描述的特征可以使用在其他所述实施例中。

Claims (10)

1.一种柔性基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一玻璃基板；
在所述玻璃基板的一表面上形成无定形层；
在所述无定形层远离所述玻璃基板的一表面上形成柔性基板；
通过激光剥离工艺将所述柔性基板从所述无定形层上分离；
其中，所述无定形层采用高分子材料或无机材料。
2.如权利要求1所述的柔性基板制备方法，其特征在于，所述通过激光剥离工艺将所述柔性基板从所述无定形层上分离步骤中包括：激光透过所述玻璃基板照射在所述无定形层上，将所述无定形层转化为结晶层；将所述柔性基板从所述结晶层上剥离。
3.如权利要求2所述的柔性基板制备方法，其特征在于，所述结晶层与所述柔性基板之间的黏结力小于0.05N/cm。
4.如权利要求1所述的柔性基板制备方法，其特征在于，
当所述无定形层采用高分子材料时，其通过涂布法形成在所述玻璃基板上；
当所述无定形层采用无机材料时，其通过化学气相沉积法或原子沉积法形成在所述玻璃基板上。
5.如权利要求1所述的柔性基板制备方法，其特征在于，所述无定形层的厚度小于1微米；所述柔性基板的厚度为5-20微米。
6.如权利要求1所述的柔性基板制备方法，其特征在于，所述高分子材料和所述无机材料的耐热温度为400-1000℃。
7.如权利要求1所述的柔性基板制备方法，其特征在于，所述激光剥离工艺中的激光能量密度为50-100mJ/cm2；激光波长大于500纳米，且小于或等于1064纳米。
8.如权利要求1所述的柔性基板制备方法，其特征在于，在所述形成柔性基板步骤中包括以下步骤：
在所述无定形层远离所述玻璃基板的一表面上形成第一柔性层；
在所述第一柔性层远离所述无定形层的一表面上形成缓冲层；
在所述缓冲层远离所述第一柔性层的一表面上形成第二柔性层。
9.如权利要求8所述的柔性基板制备方法，其特征在于，所述通过激光剥离工艺将所述柔性基板从所述无定形层上分离步骤中包括：激光透过所述玻璃基板照射在所述无定形层上，将所述无定形层转化为结晶层；将所述第一柔性层从所述结晶层上剥离。
10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-9中任意一项所述的柔性基板制备方法所制备出的柔性基板。
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